JPH08153306A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ギャップデプスエンドが正確に一致し記録再
生能力の優れた磁気ヘッドを提供する。 【構成】 非磁性基板上に形成された金属磁性膜によっ
てギャップ材を狭持して磁気ギャップを形成する磁気ヘ
ッドびおいて前記磁気ギャップのギャップデプスが４μ
ｍ以下で、かつ、この磁気ギャップのギャップデプスエ
ンド部近傍の前記非磁性基板の表面粗度が前記ギャップ
デプスの１０分の１以下であることを特徴とする磁気ヘ
ッド。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、高密度記録用の磁気
ヘッドに係り、特にインダクタンが小さく，録再能力が
高い磁気ヘッドに関する。

【０００２】

【従来の技術】近年磁気記録分野においては高記録密度
化の要請が高まり，又，データの高速性も求められるよ
うになってきている。この点から、特に高透磁率，高飽
和磁束密度の磁性材料を用いて磁気コアを形成し、又、
インダクタンスの小さい磁気ヘッドが求められるように
なった。このような要請から、薄膜磁気ヘッドが開発さ
れているが、真空プロセスや薄膜プロセスを多く用いる
ので歩留りが悪く、コストが高くつくと言う問題があっ
た。

【０００３】そこで最近では従来のいわゆるバルク型磁
気ヘッドの製法を流用しつつ上記の性能を満足できる磁
気ヘッドとしてコア薄膜磁気ヘッドが注目されている。
コア薄膜磁気ヘッドは，非磁性基板上に磁性薄膜で磁気
コアを形成するもので各種のタイプが提案されているが
インダクタンスを小さくすると言う観点から特に、特公
平６−５４５２８号公報に記載のものが注目されてい
る。この磁気ヘッドは図６示すように一対の非磁性基板
の対向面に設けられ巻線窓に沿って磁性薄膜を形成し、
この磁性薄膜でギャップ材を狭持して磁気ギャップとし
磁気ヘッドを形成するものである。この種の磁気ヘッド
の製法は，図５示すように、一対の非磁性体ブロックの
対向面にダイサー等を用いて巻線窓４を形成し（ａ）、
この面にＦｅＡｌＳｉ，ＦｅＴａＮ，ＦｅＮｉ等の金属
磁性薄膜２を形成し（ｂ）、不要な磁性薄膜を除去し
（ｃ）、ガラスボンディング等によって一体化し摺動面
加工をして（ｄ）、磁気ヘッドを形成している。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところで上記のコア薄
膜磁気ヘッドは、最近の磁気記録技術の動向によりギャ
ップデプスを小さくする必要性が高まったが以下のよう
な問題を生ずるにいたった。即ち前述のように最近では
ギャップデプスを小さくする必要が大きくなったが特に
ギャップデプスの小さな磁気ヘッドの特性がばらつくと
いう問題が表面化してきた。

【０００５】たとえ、ギャップデプスが小さくても、磁
性薄膜の磁気特性が均一で，ギャップデプスが同一であ
れば理論的には同一の磁気特性を有するはずであるが、
他のばらつき要因を排除した電磁気的測定によっても磁
気特性のばらつきを排除できなかった。特に発明者は，
ギャップデプスの大きさに着目してこれを完全に合致さ
せるように工夫したがギャップデプスが同一としても磁
気ヘッドの特性にばらつきが生じ特に実験結果はギャッ
プデプスが尚ばらついていることを示していた。

【０００６】

【課題を解決するための手段】この発明は上記課題を解
決するために、一対の非磁性基板上に形成された磁性膜
によってギャップ材を狭持して磁気ギャップを形成する
磁気ヘッドにおいて前記磁気ギャップのギャップデプス
が４μｍ以下で、この磁気ギャップのギャップデプスエ
ンド部近傍の前記非磁性基板の表面粗度が前記ギャップ
デプスの１０分の１以下であることを特徴とする磁気ヘ
ッドを提供する。

【０００７】また、非磁性部材とフェライト部材とを接
合して一対の複合基板を形成する工程と、この一対の複
合基板の前記非磁性部材とフェライト部材との接合面の
うちフェライト部材部分にフェライトの薄肉部分を残し
て巻線窓を形成する工程と、この一対の複合基板対向面
のこの巻線窓形成面を含む部分に磁性膜およびギャップ
材を配し、この両基板を一体化する工程と、からなる磁
気ヘッドの製造方法を提供する。

【０００８】さらにまた、一対の非磁性基板の一部に荒
切削をして巻線窓を形成する工程と、前記荒切削によっ
て形成される巻線窓のうちギャップデプスエンドとなる
部分のみを細切削する工程と、前記一対の非磁性基板の
巻線窓形成面を含む対向面上に磁性膜を形成する工程
と、前記磁性膜によりギャップ材を狭持して磁気ギャッ
プを形成する工程と、を含む磁気ヘッドの製造方法の製
造方法を提供する。

【０００９】

【作用】発明者は、かかるばらつきを生じる原因につい
て鋭意検討を重ね調査した結果、このようにギャップデ
プスの電磁気的測定にばらつきが生ずるのはギャップデ
プスエンド部近傍のの磁性薄膜の特性及びその性状、特
に、その表面粗度に起因していることを見いだした。即
ち，ギャップデプスが４μｍ程度以下の磁気ヘッドにお
いては，上記構成をとることにより非磁性基板上に形成
される磁性薄膜の特性は均一化すると共に、ギャップデ
プスエンドも真に一致して正確なギャップデプスを得ら
れるので所望の特性を得ることができる。

【００１０】さらに、上記構成の磁気ヘッドを得る最適
の方法として、非磁性部材とフェライト部材との複合基
板を用いる上記構成の製造方法によれば、巻線窓のギャ
ップデプスエンド部分の切削が切削性の優れるフェライ
トに対して行うことができるのでそのギャップデプスエ
ンド部近傍の表面粗度非常に良好にすることが出来る。

【００１１】又さらには、ギャップデプスエンド部分が
非磁性材料のみからなる場合であってもギャップデプス
エンド部分についてのみ細切削をすることとしたのでダ
イサーの刃のめづまりがなく非常に表面粗度の良いギャ
ップデプスエンド部近傍を得ることが出来る。

【００１２】

【実施例】以下この発明について図面を参照して説明す
る。なお，従来例と同一部分には同一符号を付してその
説明を省略する。図１は、本発明にかかる磁気ヘッドの
斜視図であってこの磁気ヘッドはフェライト部材５で形
成されるバックコア部と、その磁気ギャップ３よりの上
方に配される非磁性基板１及びこの非磁性基板１上に形
成される磁性薄膜２とから成るトップコア部と、からな
る。このようにバックコア部にフェライト５を採用する
のは金属磁性膜２だけでバックコアを形成するとこの部
分の磁気抵抗が大きくなり過ぎる場合があるからであ
る。ここで，フェライト５はＭｎＺｎフェライト，Ｎｉ
Ｚｎフェライトのいずれであっても良い。

【００１３】さらに本発明の要旨部分について具体的に
説明すると、フェライト部材５とその上部に配される非
磁性基板１のうちこの非磁性基板部分の巻き線窓４の対
向面にＦｅＡｌＳｉ，ＦｅＴａＮ，ＮｉＦｅ等からなる
磁性薄膜２を形成し、これを一体化する。この磁性薄膜
２が形成される非磁性基板１の面の表面粗度は少なくと
もギャップデプスの１０分の１以下であることが望まし
いことが判明している。特に、ギャップデプスが２μｍ
以下の場合には、ギャップデプスエンド部近傍の表面粗
度は、０．２μｍ以下、好ましくは５００オングストロ
ーム程度が良い。この非磁性基板１の表面粗度が直接磁
性薄膜の特性に影響を与えるからである。

【００１４】この発明にかかる磁気ヘッドの製造方法と
しては，予め，フェライト基板にガラス，結晶化ガラ
ス、セラミクス等からなる非磁性部分を一体化し複合基
板を形成し、この非磁性基板１の非磁性材部分に巻線窓
４を形成すべくダイサー等で切削加工を行う。通常この
ような非磁性材料に対するダイサーでの切削は、めずま
りを起こし易く切削面の表面粗度は非常に悪い状態とな
る。そこで、たとえば図４に示すように一旦荒切削をし
て巻線窓を形成した後に番定の大きい目の細かい刃を用
いそのギャップデプスエンド部分（図４の斜線部分）に
ついてのみ細切削をすることによってギャップデプスエ
ンド部分の表面粗度を充分に小さく出来る。これは、細
切削がギャップデプスエンド部分についてのみ行われる
ためダイサーの目ずまりが生じないためである。

【００１５】また、ダイサーを用いない場合であっても
極めて小さな砥石等を用いてこの部分のみを局所的に研
磨することも考えられる。このようにすれば非磁性基板
１がガラスやセラミクス等であっても非常に表面粗度の
小さなギャップデプスエンド６を得ることが出来る。な
を、この部分の表面粗度が５０オングストローム以下に
なるとギャップデプスエンド部分の基板材料とその上に
配される磁性膜との密着性が悪くなるためこの部分の表
面粗度は５０オングストローム以上でなければならな
い。

【００１６】次に、第二の実施例として図３に示すもの
について説明する。この磁気ヘッドの製法は前述の第一
の実施例の磁気ヘッドのギャップデプスエンド６の近傍
にフェライト部材５を配してダイサーによってめずまり
なくギャップデプスエンド６の研削を可能としたもので
ある。具体的に説明すると、図３に示すようにまずフェ
ライト等の切削性の良い材料を用意しその一部に溝１１
を形成し（ａ）非磁性基板１等を配置するして複合基板
を形成する（ｂ）。

【００１７】そして上記フェライト部分に一部フェライ
ト５の薄肉部分が残存するように非磁性部材とフェライ
ト部材との境界に沿ってダイサー等で巻線窓４を形成す
る（ｃ）。この際巻き線窓４の形成即ちギャップデプス
エンド部近傍の形成は、フェライト５等の切削性の良い
ものに対して行われるため非常に表面粗度の良い状態が
実現できる。その後この両基板の対向面に磁性膜を形成
し（ｄ）、不要な磁性膜を削除して（ｅ）、ギャップ材
を挟んで一対の複合基板を一体化する（ｆ）。なお、ギ
ャップデプスエンド部近傍以外の大部分は非磁性材料か
ら成っているので余分なインダクタンスを生ずるおそれ
がなく、充分小さいインダクタンスを実現できる。

【００１８】以上のようにして巻線窓が形成されたら第
一の実施例と同様に両磁気コアの対向面にＦｅＴａＮ，
ＦｅＡｌＳｉ，ＮｉＦｅ等の磁性薄膜を形成しギャップ
材を介して両基板を一体化し磁気ヘッドを完成すること
が出来る。

【００１９】

【発明の効果】以上の磁気ヘッドの構成によればギャッ
プデプスエンド部分の磁性薄膜の磁気特性を非常に良好
に保つことができ、さらに、正確に磁気ギャップデプス
を決定することができるので特にギャップデプスの小さ
い磁気ヘッドにおいては録再能力が強く、データ転送速
度の早い優れた磁気ヘッドを実現することが出来る。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明による磁気ヘッドの斜視図

【図２】 本発明による磁気ヘッドの他の実施例の平面
図

【図３】 本発明による磁気ヘッドの製造工程での平面
図

【図４】 本発明による磁気ヘッドのギャップデプスエ
ンド部分の拡大図

【図５】 従来技術による磁気ヘッドの製造工程図

【図６】 従来技術による磁気ヘッドの斜視図

【符号の説明】

１ 非磁性基板 ２ 磁性薄膜 ３ 磁気ギャップ ４ 巻線窓 ５ フェライト部材 ６ ギャップデプスエンド

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一対の非磁性基板上に形成された磁性膜に
   よってギャップ材を狭持して磁気ギャップを形成する磁
   気ヘッドにおいて前記磁気ギャップのギャップデプスが
   ４μｍ以下で、この磁気ギャップのギャップデプスエン
   ド部近傍の前記非磁性基板の表面粗度が前記ギャップデ
   プスの１０分の１以下であることを特徴とする磁気ヘッ
   ド。
2. 【請求項２】非磁性部材とフェライト部材とを接合して
   一対の複合基板を形成する工程と、 この一対の複合基板の前記非磁性部材とフェライト部材
   との接合面のうちフェライト部材部分にフェライトの薄
   肉部分を残して巻線窓を形成する工程と、 この一対の複合基板対向面のこの巻線窓形成面を含む部
   分に磁性膜およびギャップ材を配し、この両基板を一体
   化する工程と、 からなる磁気ヘッドの製造方法。
3. 【請求項３】一対の非磁性基板の一部に荒切削をして巻
   線窓を形成する工程と、 前記荒切削によって形成される巻線窓のうちギャップデ
   プスエンドとなる部分のみを細切削する工程と、 前記一対の非磁性基板の巻線窓形成面を含む対向面上に
   磁性膜を形成する工程と、 前記磁性膜によりギャップ材を狭持して磁気ギャップを
   形成する工程と、を含む磁気ヘッドの製造方法。