JPH08168756A - 脱気装置 - Google Patents
脱気装置Info
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- JPH08168756A JPH08168756A JP31320694A JP31320694A JPH08168756A JP H08168756 A JPH08168756 A JP H08168756A JP 31320694 A JP31320694 A JP 31320694A JP 31320694 A JP31320694 A JP 31320694A JP H08168756 A JPH08168756 A JP H08168756A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 水中の溶存酸素をパラジウム触媒により化学
的に除去するに当り、還元剤を注入することなく、効率
的な脱酸素を行う。 【構成】 紫外線照射装置３とパラジウム担持触媒樹脂
塔５とを備え、被処理水に紫外線を照射した後、パラジ
ウム触媒と接触させ、還元剤を注入することなしに溶存
酸素を還元除去する脱気装置。 【効果】 還元剤の注入設備が不要となり、処理コスト
の低減が図れる。溶存酸素を効率的に除去することがで
きることから、パラジウム触媒との接触時間の短縮、即
ち、パラジウム担持触媒樹脂塔の通水速度の増大が可能
となり、触媒使用量の低減、装置コストの低減と共に、
ＴＯＣの溶出を防止して、処理水水質の向上を図ること
ができる。
的に除去するに当り、還元剤を注入することなく、効率
的な脱酸素を行う。 【構成】 紫外線照射装置３とパラジウム担持触媒樹脂
塔５とを備え、被処理水に紫外線を照射した後、パラジ
ウム触媒と接触させ、還元剤を注入することなしに溶存
酸素を還元除去する脱気装置。 【効果】 還元剤の注入設備が不要となり、処理コスト
の低減が図れる。溶存酸素を効率的に除去することがで
きることから、パラジウム触媒との接触時間の短縮、即
ち、パラジウム担持触媒樹脂塔の通水速度の増大が可能
となり、触媒使用量の低減、装置コストの低減と共に、
ＴＯＣの溶出を防止して、処理水水質の向上を図ること
ができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、水中の溶存酸素を効率
的に除去するための脱気装置に関する。
的に除去するための脱気装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】今日、大量の水がボイラー用水や冷却水
として用いられているが、これらの水中に酸素が溶存し
ていると、その水が通るボイラー水系や冷却水系におい
て、溶存酸素を原因とする腐食の問題が生じる。このた
め、これらの用水中の溶存酸素は、除去する必要があ
る。
として用いられているが、これらの水中に酸素が溶存し
ていると、その水が通るボイラー水系や冷却水系におい
て、溶存酸素を原因とする腐食の問題が生じる。このた
め、これらの用水中の溶存酸素は、除去する必要があ
る。
【０００３】また、半導体工業向けの超純水について
も、溶存酸素量を極低濃度にする必要があり、例えば、
半導体工業向けの超純水製造システムにおいては、溶存
酸素を１００ｐｐｂ以下、好ましくは２０ｐｐｂ以下に
低減する必要がある。
も、溶存酸素量を極低濃度にする必要があり、例えば、
半導体工業向けの超純水製造システムにおいては、溶存
酸素を１００ｐｐｂ以下、好ましくは２０ｐｐｂ以下に
低減する必要がある。
【０００４】従来、水中の溶存酸素を除去する方法とし
ては、真空脱気装置や窒素脱気装置、疎水性膜を利用し
た膜脱気装置、真空脱気装置の下部より窒素ガス等の不
活性ガスを注入する不活性ガス併用型真空脱気装置など
を用いる物理的脱気法、或いは、還元剤を注入した被処
理水をパラジウム等の触媒塔に通水する、又は、還元剤
を注入した被処理水に紫外線を照射して、溶存酸素を還
元処理する化学的脱気法がある。
ては、真空脱気装置や窒素脱気装置、疎水性膜を利用し
た膜脱気装置、真空脱気装置の下部より窒素ガス等の不
活性ガスを注入する不活性ガス併用型真空脱気装置など
を用いる物理的脱気法、或いは、還元剤を注入した被処
理水をパラジウム等の触媒塔に通水する、又は、還元剤
を注入した被処理水に紫外線を照射して、溶存酸素を還
元処理する化学的脱気法がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記従来法のうち、溶
存酸素の選択的な除去のためには、化学的脱気法が有効
であるが、化学的脱気法は被処理水中に水素（特開平５
−２６９３０６号公報）やヒドラジン等（特公昭５９−
３２１９５号公報）の還元剤を注入する設備が必要であ
るため、これらの設備のための十分なコスト及びスペー
スが必要となるという問題がある。また、還元剤として
用いられる水素は爆発の危険があり、一方、ヒドラジン
は発ガン性が懸念されるため、取扱いには非常に注意を
要するという問題もある。
存酸素の選択的な除去のためには、化学的脱気法が有効
であるが、化学的脱気法は被処理水中に水素（特開平５
−２６９３０６号公報）やヒドラジン等（特公昭５９−
３２１９５号公報）の還元剤を注入する設備が必要であ
るため、これらの設備のための十分なコスト及びスペー
スが必要となるという問題がある。また、還元剤として
用いられる水素は爆発の危険があり、一方、ヒドラジン
は発ガン性が懸念されるため、取扱いには非常に注意を
要するという問題もある。
【０００６】更に、パラジウム触媒は、通常、アニオン
交換樹脂の表面にパラジウムを担持させて使用される
が、十分な脱酸素効果を得るためには、通水速度を低く
し、使用する触媒量を多くする必要がある。しかし、低
通水速度域（例えば、ＳＶ＝１００ｈｒ-1程度）では、
樹脂から溶出する不純物が処理水中の全有機炭素（ＴＯ
Ｃ）として検出され、このことが、半導体製造プロセス
用超純水の場合には大きな問題となっている。また、パ
ラジウム触媒は高価であるため、使用する触媒量が多い
と、他の脱気装置に比べ非常にコストが高くつくという
問題もある。
交換樹脂の表面にパラジウムを担持させて使用される
が、十分な脱酸素効果を得るためには、通水速度を低く
し、使用する触媒量を多くする必要がある。しかし、低
通水速度域（例えば、ＳＶ＝１００ｈｒ-1程度）では、
樹脂から溶出する不純物が処理水中の全有機炭素（ＴＯ
Ｃ）として検出され、このことが、半導体製造プロセス
用超純水の場合には大きな問題となっている。また、パ
ラジウム触媒は高価であるため、使用する触媒量が多い
と、他の脱気装置に比べ非常にコストが高くつくという
問題もある。
【０００７】本発明は上記従来の問題点を解決し、水中
の溶存酸素をパラジウム触媒により化学的に除去するに
当り、還元剤を注入することなく効率的な脱酸素を行え
る脱気装置を提供することを目的とする。
の溶存酸素をパラジウム触媒により化学的に除去するに
当り、還元剤を注入することなく効率的な脱酸素を行え
る脱気装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の脱気装置は、紫
外線照射装置とパラジウム触媒とを備え、被処理水に紫
外線を照射した後、パラジウム触媒と接触させ、還元剤
を注入することなしに該被処理水中の溶存酸素を還元除
去することを特徴とする。
外線照射装置とパラジウム触媒とを備え、被処理水に紫
外線を照射した後、パラジウム触媒と接触させ、還元剤
を注入することなしに該被処理水中の溶存酸素を還元除
去することを特徴とする。
【０００９】なお、本発明において、パラジウム触媒と
しては、金属パラジウム、酸化パラジウム、水酸化パラ
ジウムなどのパラジウム化合物の他、イオン交換樹脂や
アルミナ、活性炭、ゼオライトなどの担体にパラジウム
を担持させた触媒を用いることができる。パラジウム担
持触媒を用いる場合、パラジウムの担持量は、通常、
０．１〜１０重量％程度であり、特に、担体としてアニ
オン交換樹脂を用いた場合には、少ないパラジウム担持
量で優れた効果を発揮することができ、好ましい。
しては、金属パラジウム、酸化パラジウム、水酸化パラ
ジウムなどのパラジウム化合物の他、イオン交換樹脂や
アルミナ、活性炭、ゼオライトなどの担体にパラジウム
を担持させた触媒を用いることができる。パラジウム担
持触媒を用いる場合、パラジウムの担持量は、通常、
０．１〜１０重量％程度であり、特に、担体としてアニ
オン交換樹脂を用いた場合には、少ないパラジウム担持
量で優れた効果を発揮することができ、好ましい。
【００１０】なお、アニオン交換樹脂にパラジウムを担
持させるには、アニオン交換樹脂をカラムに充填し、次
いで塩化パラジウムの酸性溶液を通水すれば良い。金属
パラジウムとして担持する場合には、これを更にホルマ
リンなどを加えて還元すれば良い。
持させるには、アニオン交換樹脂をカラムに充填し、次
いで塩化パラジウムの酸性溶液を通水すれば良い。金属
パラジウムとして担持する場合には、これを更にホルマ
リンなどを加えて還元すれば良い。
【００１１】パラジウム触媒の形状は粉末状、粒状、ペ
レット状などいずれの形状でも使用できる。粉末状のも
のを使用するときには反応槽を設けて、この反応槽に適
当量添加する。粒状、ペレット状のものを使用する場合
には、カラムなどに充填し、連続的に被処理液を通水す
る。もちろん、粉末状のものでもカラムに充填し、流動
床で通水することもできる。
レット状などいずれの形状でも使用できる。粉末状のも
のを使用するときには反応槽を設けて、この反応槽に適
当量添加する。粒状、ペレット状のものを使用する場合
には、カラムなどに充填し、連続的に被処理液を通水す
る。もちろん、粉末状のものでもカラムに充填し、流動
床で通水することもできる。
【００１２】
【作用】本発明により、被処理水に紫外線を照射した後
パラジウム触媒と接触させることにより、還元剤の注入
を行うことなく、溶存酸素を効率的に除去することがで
きる。
パラジウム触媒と接触させることにより、還元剤の注入
を行うことなく、溶存酸素を効率的に除去することがで
きる。
【００１３】紫外線照射及びパラジウム触媒による脱酸
素機構の詳細は不明であるが、紫外線の照射により、被
処理水中の有機物等が分解されて水素等の還元物質が発
生し、その後、パラジウム触媒の存在下に溶存酸素が還
元されることによるものと推定される。
素機構の詳細は不明であるが、紫外線の照射により、被
処理水中の有機物等が分解されて水素等の還元物質が発
生し、その後、パラジウム触媒の存在下に溶存酸素が還
元されることによるものと推定される。
【００１４】本発明によれば、還元剤の注入が不要であ
ることから、還元剤の注入設備が不要となり、処理コス
トの低減が図れる。また、溶存酸素を効率的に除去する
ことができることから、パラジウム触媒との接触時間の
短縮、即ち、パラジウム担持触媒樹脂塔の通水速度の増
大が可能となり、触媒使用量の低減、装置コストの低減
と共に、ＴＯＣの溶出を防止して、処理水水質の向上を
図ることができる。
ることから、還元剤の注入設備が不要となり、処理コス
トの低減が図れる。また、溶存酸素を効率的に除去する
ことができることから、パラジウム触媒との接触時間の
短縮、即ち、パラジウム担持触媒樹脂塔の通水速度の増
大が可能となり、触媒使用量の低減、装置コストの低減
と共に、ＴＯＣの溶出を防止して、処理水水質の向上を
図ることができる。
【００１５】
【実施例】以下に図面を参照して本発明の実施例につき
詳細に説明する。
詳細に説明する。
【００１６】図１は本発明の脱気装置の一実施例を示す
系統図である。本実施例は、本発明の脱気装置を、超純
水製造装置におけるサブシステムに適用した例である。
この装置において、サブタンク１よりポンプ２を用いて
送り出された被処理水は、紫外線照射装置３によって紫
外線が照射された後、主にアニオン交換樹脂を含むイオ
ン交換樹脂塔４で紫外線照射装置３で発生した二酸化炭
素、有機酸が除去され、次いで、パラジウム担持触媒樹
脂塔５に通水される。
系統図である。本実施例は、本発明の脱気装置を、超純
水製造装置におけるサブシステムに適用した例である。
この装置において、サブタンク１よりポンプ２を用いて
送り出された被処理水は、紫外線照射装置３によって紫
外線が照射された後、主にアニオン交換樹脂を含むイオ
ン交換樹脂塔４で紫外線照射装置３で発生した二酸化炭
素、有機酸が除去され、次いで、パラジウム担持触媒樹
脂塔５に通水される。
【００１７】このパラジウム担持触媒樹脂塔５におい
て、被処理水中の溶存酸素は、紫外線照射装置で発生し
た水素等の還元剤により、接触還元されて、水として効
果的に除去される。
て、被処理水中の溶存酸素は、紫外線照射装置で発生し
た水素等の還元剤により、接触還元されて、水として効
果的に除去される。
【００１８】紫外線照射装置５の流出水は、イオン交換
樹脂塔６に通水されて残存するイオン性不純物が取り除
かれた後、限外濾過膜分離装置７を経て超純水として使
用される。
樹脂塔６に通水されて残存するイオン性不純物が取り除
かれた後、限外濾過膜分離装置７を経て超純水として使
用される。
【００１９】本発明において、紫外線照射装置における
紫外線の照射条件は、被処理水の溶存酸素量や通水量等
によっても異なるが、通常の場合、１０ｍ3 ／ｈｒの通
水速度に対して、０．１〜１０ｋｗの割合で紫外線照射
を行うのが好ましい。なお、紫外線ランプには流通型、
浸漬型、照射型の３種があるが、このいずれを用いても
よい。
紫外線の照射条件は、被処理水の溶存酸素量や通水量等
によっても異なるが、通常の場合、１０ｍ3 ／ｈｒの通
水速度に対して、０．１〜１０ｋｗの割合で紫外線照射
を行うのが好ましい。なお、紫外線ランプには流通型、
浸漬型、照射型の３種があるが、このいずれを用いても
よい。
【００２０】また、本発明において、パラジウム担持触
媒樹脂塔の通水速度は比較的大きくすることができ、通
常の場合、空間速度（ＳＶ）＝２０００ｈｒ-1以下、好
ましくはＳＶ＝５００〜１５００ｈｒ-1とされる。
媒樹脂塔の通水速度は比較的大きくすることができ、通
常の場合、空間速度（ＳＶ）＝２０００ｈｒ-1以下、好
ましくはＳＶ＝５００〜１５００ｈｒ-1とされる。
【００２１】なお、図１においては、本発明の脱気装置
を超純水製造装置におけるサブシステムに適用した実施
例を示したが、本発明の脱気装置は、紫外線を照射した
被処理水をパラジウム触媒に接触させるものであれば良
く、触媒の設置位置や触媒前後のイオン交換樹脂の有無
などに何ら左右されるものではない。従って、サブシス
テム等のように系内を水が循環しているシステムに適用
する場合は、触媒の設置位置は系内のどの位置でも良
い。更に、本発明は、何ら図１のサブシステムや超純水
装置への適用に限定されるものではない。
を超純水製造装置におけるサブシステムに適用した実施
例を示したが、本発明の脱気装置は、紫外線を照射した
被処理水をパラジウム触媒に接触させるものであれば良
く、触媒の設置位置や触媒前後のイオン交換樹脂の有無
などに何ら左右されるものではない。従って、サブシス
テム等のように系内を水が循環しているシステムに適用
する場合は、触媒の設置位置は系内のどの位置でも良
い。更に、本発明は、何ら図１のサブシステムや超純水
装置への適用に限定されるものではない。
【００２２】以下に具体的な実施例及び比較例を挙げ
て、本発明をより詳細に説明する。
て、本発明をより詳細に説明する。
【００２３】実施例１ 図１に示すシステムにより、溶存酸素の除去を行った。
【００２４】被処理水としては、超純水を真空脱気して
溶存酸素濃度を１０ｐｐｂに下げたものを用い、紫外線
照射装置においては、紫外線ランプとして２ｋｗの流通
型低圧紫外線ランプを用いて紫外線の照射を行い、被処
理水を１０ｍ3 ／ｈｒの速度で通水した。また、パラジ
ウム担持触媒樹脂塔には、アニオン交換樹脂にパラジウ
ムを担持させたものを充填し、ＳＶ＝１０００ｈｒ-1で
通水した。溶存酸素濃度は市販されているポーラログラ
フ式溶存酸素計で測定した。
溶存酸素濃度を１０ｐｐｂに下げたものを用い、紫外線
照射装置においては、紫外線ランプとして２ｋｗの流通
型低圧紫外線ランプを用いて紫外線の照射を行い、被処
理水を１０ｍ3 ／ｈｒの速度で通水した。また、パラジ
ウム担持触媒樹脂塔には、アニオン交換樹脂にパラジウ
ムを担持させたものを充填し、ＳＶ＝１０００ｈｒ-1で
通水した。溶存酸素濃度は市販されているポーラログラ
フ式溶存酸素計で測定した。
【００２５】その結果、パラジウム担持触媒樹脂塔の流
出水の溶存酸素濃度は３ｐｐｂと、著しく低減された。
出水の溶存酸素濃度は３ｐｐｂと、著しく低減された。
【００２６】比較例１ 図２に示すシステムに従って、被処理水の処理を行っ
た。図２に示すシステムは、パラジウム担持触媒樹脂塔
が設けられていない点のみが図１に示すシステムと異な
る。即ち、本比較例においては、紫外線照射後の被処理
水をパラジウム担持触媒樹脂塔に通水しなかったこと以
外は、実施例１と同様の条件で処理を行った。
た。図２に示すシステムは、パラジウム担持触媒樹脂塔
が設けられていない点のみが図１に示すシステムと異な
る。即ち、本比較例においては、紫外線照射後の被処理
水をパラジウム担持触媒樹脂塔に通水しなかったこと以
外は、実施例１と同様の条件で処理を行った。
【００２７】その結果、処理水の溶存酸素濃度は１０ｐ
ｐｂで、溶存酸素の除去はなされなかった。
ｐｂで、溶存酸素の除去はなされなかった。
【００２８】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の脱気装置に
よれば、水中の溶存酸素をパラジウム触媒により化学的
に除去するに当り、還元剤を注入することなく、効率的
な脱酸素を行えるため、 還元剤注入設備の不要化 パラジウム触媒使用量の低減 触媒からのＴＯＣの溶出防止 等により、溶存酸素の除去コストの低減及び処理水質の
向上が図れる。
よれば、水中の溶存酸素をパラジウム触媒により化学的
に除去するに当り、還元剤を注入することなく、効率的
な脱酸素を行えるため、 還元剤注入設備の不要化 パラジウム触媒使用量の低減 触媒からのＴＯＣの溶出防止 等により、溶存酸素の除去コストの低減及び処理水質の
向上が図れる。
【図１】本発明の脱気装置の一実施例を示す系統図であ
る。
る。
【図２】比較例装置の系統図である。
１ サブタンク ２ ポンプ ３ 紫外線照射装置 ４ イオン交換樹脂塔 ５ パラジウム担持触媒樹脂塔 ６ イオン交換樹脂塔 ７ 限外濾過膜分離装置
Claims (1)
- 【請求項１】 紫外線照射装置とパラジウム触媒とを備
え、被処理水に紫外線を照射した後、パラジウム触媒と
接触させ、還元剤を注入することなしに該被処理水中の
溶存酸素を還元除去することを特徴とする脱気装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6313206A JP2988290B2 (ja) | 1994-12-16 | 1994-12-16 | 超純水用脱気装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6313206A JP2988290B2 (ja) | 1994-12-16 | 1994-12-16 | 超純水用脱気装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08168756A true JPH08168756A (ja) | 1996-07-02 |
| JP2988290B2 JP2988290B2 (ja) | 1999-12-13 |
Family
ID=18038389
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6313206A Expired - Lifetime JP2988290B2 (ja) | 1994-12-16 | 1994-12-16 | 超純水用脱気装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2988290B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006192354A (ja) * | 2005-01-12 | 2006-07-27 | Kurita Water Ind Ltd | 非再生型イオン交換容器及び超純水製造装置 |
| JP2011167633A (ja) * | 2010-02-18 | 2011-09-01 | Kurita Water Ind Ltd | 水処理方法及び装置 |
| CN102464261A (zh) * | 2010-11-11 | 2012-05-23 | 株式会社日立建筑系统 | 乘客输送机的清扫装置以及清扫方法 |
| WO2013152268A1 (en) * | 2012-04-05 | 2013-10-10 | Posa Richard Paul | System and method for treating water |
| US11156041B2 (en) | 2012-02-22 | 2021-10-26 | Richard Paul Posa | System and method for treating water |
-
1994
- 1994-12-16 JP JP6313206A patent/JP2988290B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006192354A (ja) * | 2005-01-12 | 2006-07-27 | Kurita Water Ind Ltd | 非再生型イオン交換容器及び超純水製造装置 |
| JP2011167633A (ja) * | 2010-02-18 | 2011-09-01 | Kurita Water Ind Ltd | 水処理方法及び装置 |
| CN102464261A (zh) * | 2010-11-11 | 2012-05-23 | 株式会社日立建筑系统 | 乘客输送机的清扫装置以及清扫方法 |
| US11156041B2 (en) | 2012-02-22 | 2021-10-26 | Richard Paul Posa | System and method for treating water |
| WO2013152268A1 (en) * | 2012-04-05 | 2013-10-10 | Posa Richard Paul | System and method for treating water |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2988290B2 (ja) | 1999-12-13 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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