JPH08236904A - 新しい高密度回路基板 - Google Patents

新しい高密度回路基板

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JPH08236904A
JPH08236904A JP6347095A JP6347095A JPH08236904A JP H08236904 A JPH08236904 A JP H08236904A JP 6347095 A JP6347095 A JP 6347095A JP 6347095 A JP6347095 A JP 6347095A JP H08236904 A JPH08236904 A JP H08236904A
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JP
Japan
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weight
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polyphenylene ether
component
sum
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Withdrawn
Application number
JP6347095A
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English (en)
Inventor
Teruo Katayose
照雄 片寄
Yoshiyuki Ishii
義行 石井
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Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 線間絶縁剤がポリフェニレンエーテルの優れ
た誘電特性を保有し、硬化後に優れた耐薬品性と耐熱性
を示す新規な硬化性ポリフェニレンエーテル樹脂組成物
からなる高密度回路基板を提供するを提供する。 【構成】 (a)ポリフェニレンエーテル樹脂と不飽和
カルボン酸または酸無水物との反応生成物、(b)トリ
アリルイソシアヌレートおよび/またはトリアリルシア
ヌレート、(c)エポキシ樹脂および(d)特定の過酸
化物からなる硬化性樹脂組成物を含む線間絶縁剤からな
る高密度回路基板。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は各種電気機器に使用され
る高密度回路基板の線間絶縁材に関するものである。よ
り詳細には、本発明は、優れた耐薬品性、耐熱性、寸法
安定性を示す線間絶縁材を構成材の1つとする高密度回
路基板に関するものである。さらに、本発明は、上記の
ような機能を持つ特定の線関絶縁材を使用したので、よ
り薄型の高密度回路基板を提供するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、通信用、民生用、産業用等の電子
機器の分野における実装方法の小型化、高密度化への指
向は著しいものがあり、それに伴って材料面でもより優
れた耐熱性、寸法安定性、電気特性が要求されつつあ
る。例えば、プリント配線基板としては、従来からフェ
ノール樹脂やエポキシ樹脂などの熱硬化性樹脂を材料と
する銅張り積層板が用いられてきた。これらは各種の性
能をバランス良く有するものの、電気特性、特に高周波
領域での誘電特性が悪いという問題を持っている。ま
た、寸法安定性が悪く、高周波回路の設計時に問題を生
じている。
【0003】この問題を解決する新しい材料としてポリ
フェニレンエーテルが近年注目をあび、銅張り積層板へ
の応用が試みられている。しかし、高周波回路の設計に
は、特定の誘電率の制御、高寸法安定性が求められ、ま
た、近年機器の薄型化により多層回路も薄型化が要求さ
れて来ており、耐熱・耐湿絶縁に関する信頼性の問題が
生じており、これらをすべて満足する材料はなかった。
【0004】また、硬化性ポリフェニレンエーテル樹脂
組成物を過酸化物を用いて硬化する場合、その性状はそ
の過酸化物自身の性状に大きく左右される場合がある。
例えば液状で沸点の低い過酸化物を用いた場合、その配
合量は樹脂組成物の取扱い時或いは溶剤に溶解して基材
に含浸した後の乾燥工程で揮発してしまう可能性があ
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上述のような
課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、過酸化物
の揮発の課題、及び高密度回路基板の耐熱・耐湿絶縁性
の課題が解決され、かつポリフェニレンエーテルの優れ
た誘電特性を損なうことなく、誘電率を制御し、かつ硬
化体において優れた寸法安定性及び耐薬品性と耐熱性と
を示す硬化性ポリフェニレンエーテル樹脂組成物を提供
するものであり、特に、線間が100μm以下、さらに
は50μm以下の高密度回路基板での課題を解決を図る
ものである。
【0006】
【課題が解決するための手段】本発明者は上記課題を解
決するために種々検討した結果、高密度回路基板の線間
絶縁材として特定の硬化性ポリフェニレンエーテル樹脂
組成物の硬化体を使用することにより、優れた耐熱・耐
湿絶縁性を有し、配合した過酸化物の揮発の恐れがない
高集積化、高信頼性の薄型の実装用高密度回路基板が得
られることを見出し、本発明を完成するに至った。
【0007】すなわち、本発明は;絶縁基板上に形成さ
れた導体の線間絶縁材が、(a)ポリフェニレンエーテ
ルと不飽和カルボン酸または酸無水物との反応生成物、
(b)トリアリルイソシアヌレートおよび/またはトリ
アリルシアヌレート、(c)エポキシ樹脂および、
(d)ジクミルパーオキサイド及び/またはα、α’−
ビス(t−ブチルパーオキシ−m−イソプロピル)ベン
ゼンを含む硬化性ポリフェニレンエーテル樹脂組成物で
あって、(a)成分と(b)成分の和100重量部を基
準として(a)成分が98〜40重量部、(b)成分が
2〜60重量部であり、かつ、(a)〜(c)成分の和
100重量部を基準として、(a)+(b)成分が99
〜1重量部、(c)成分が1〜99重量部であり、か
つ、(a)成分と(b)成分の和100重量部を基準と
して(d)成分が0.1〜10重量部からなる硬化性ポ
リフェニレンエーテル樹脂組成物の硬化体である高密度
回路基板を提供する。
【0008】以下に本発明を詳細に説明する。本発明に
おいて使用されるポリフェニレンエーテルは次の一般式
(1) で表される。
【化1】 〔式中、mは1〜6の整数であり、Jは次式(A)で表
される単位から実質的に構成されるポリフェニレンエー
テル鎖であり、
【化2】 (ここで、R1 〜R4 は各々独立に低級アルキル基、ア
リール基、ハロアルキル基、ハロゲン原子、水素原子を
表す。) Qはmが1のときに水素を表し、mが2以上のときは一
分子中に2〜6個のフェノール性水酸基を持ち、フェノ
ール性水酸基のオルト位及びパラ位に重合不活性な置換
基を有する多官能フェノールの残基を表す。〕
【0009】一般式AにおけるR1 〜R4 の低級アルキ
ル基の例としてはメチル基、エチル基、nープロピル
基、イソプロピル基、nーブチル基、イソブチル基等が
挙げられ、アリール基の例としてはフェニル基等が挙げ
られ、ハロアルキル基の例としてはブロモメチル基、ク
ロロメチル基等が挙げられ、ハロゲン原子の例としては
臭素、塩素等が挙げられる。
【0010】一般式(1) 中のQ基の代表的な例として
は、つぎの4種の一般式化3で表される化合物群が挙げ
られる。
【化3】
【0011】(式中、A1 、A2 は同一又は異なる炭素
数1〜4の直鎖状アルキル基を表し、Xは脂肪族炭化水
素残基及びそれらの置換誘導体、アラルキル基及びそれ
らの置換誘導体、酸素、硫黄、スルホニル基、カルボニ
ル基を表し、Yは脂肪族炭化水素残基及びそれらの置換
誘導体、芳香族炭化水素残基及びそれらの置換誘導体、
アラルキル基及びそれらの置換誘導体を表し、Zは酸
素、硫黄、スルホニル基、カルボニル基を表し、かつA
2 と結合した2つのフェニル基、A2 とX、A2 とY、
2 とZの結合位置はすべてフェノール性水酸基のオル
ト位及びパラ位を示し、rは0〜4の整数であり、sは
2〜6の整数を表す。)
【0012】具体例として、下記化4〜化5等が挙げら
れる。
【化4】
【0013】
【化5】 一般式(1) 中のJで表されるポリフェニレンエーテル鎖
中には、一般式(A)で表される単位の他、次の一般式
(B)で表される単位が含まれていてもよい。
【0014】
【化6】 (式中、R5 〜R9 は各々独立に水素原子、ハロゲン原
子、低級アルキル基、アリール基。ハロアルキル基を表
し、R10、R11が同時に水素であることはない。) 一般式(B)の単位の例としては、下記式(2) :
【化7】 等が挙げられる。
【0015】本発明に用いられる一般式(1) のポリフェ
ニレンエーテル樹脂の好ましい例としては、2,6ージ
メチルフェノールの単独重合で得られるポリ(2,6ー
ジメチルー1,4ーフェニレンエーテル)、ポリ(2,
6ージメチルー1,4ーフェニレンエーテル)のスチレ
ングラフト重合体、2,6ージメチルフェノールと2,
3,6ートリメチルフェノールの共重合体、2,6ージ
メチルフェノールと2ーメチルー6ーフェニルフェノー
ルの共重合体、2,6ージメチルフェノールと多官能フ
ェノール化合物:
【0016】一般式(3)、
【化8】 (式中、mは1〜6の整数であり、Qはmが1のときに
水素を表し、mが2以上のときは一分子中に2〜6個の
フェノール性水酸基を持ち、フェノール性水酸基のオル
ト位及びパラ位に重合不活性な置換基を有する多官能フ
ェノールの残基を表す。)の存在下で重合して得られた
多官能性ポリフェニレンエーテル樹脂、例えば特開昭6
3ー301222号公報、特開平1ー297428号公
報に開示されているような下記一般式(A)および
(B)の単位を含む共重合体等が挙げられる。
【0017】
【化9】 (ここで、R1 〜R4 は各々独立に低級アルキル基、ア
リール基、ハロアルキル基、ハロゲン原子、水素原子を
表す。)
【化10】 (式中、R5 〜R9 は各々独立に水素原子、ハロゲン原
子、低級アルキル基、アリール基。ハロアルキル基を表
し、R10、R11が同時に水素であることはない。)
【0018】以上述べたポリフェニレンエーテル樹脂の
分子量については、30℃、0.5g/dlのクロロホ
ルム溶液で測定した粘度数ηsp/cが0.1〜1.0
の範囲にあるものが良好に使用できる。本発明に用いら
れる(a)成分は、上記のポリフェニレンエーテル樹脂
を不飽和カルボン酸または酸無水物と反応させることに
よって製造される、実質的に酸または酸無水物に起因す
る重合性の二重結合を含まない反応生成物である。該反
応生成物は、おそらく種々の化学構造を持つ色々な生成
物からなる混合物であって、それらの化学構造は全てが
明らかにされているわけではなく、例えば、J.H.G
lans,M.K.Akkapeddi,Macrom
olecules,vol 1991,24,383〜
386に記載されている下記の化学構造式化11が例と
して挙げられる。
【0019】
【化11】
【0020】適当な酸および酸無水物の例としては、ア
クリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、フマル酸、
イタコン酸、無水イタコン酸、無水グルタコン酸、無水
シトラコン酸等が挙げられる。特に無水マレイン酸、フ
マル酸が最も良好に使用できる。反応はポリフェニレン
エーテル樹脂と不飽和カルボン酸または酸無水物を10
0℃〜390℃の温度範囲で加熱することによって行わ
れる。この際ラジカル開始剤を共存させてもよい。
【0021】反応方法としては、溶液法と溶融混合法の
両方が使用できるが、押出し機等を用いる溶融混合法の
方が簡便に行うことができ、本発明の目的に適してい
る。不飽和カルボン酸または酸無水物の割合はポリフェ
ニレンエーテル樹脂100重量部に対し、0.01〜
5.0重量部、好ましくは0.1〜3.0重量部であ
る。
【0022】本発明の(b)成分として用いられるトリ
アリルイソシアヌレートおよび/またはトリアリルシア
ヌレートとは、それぞれ次の構造式化12で表される3
官能性モノマーである。
【化12】
【0023】本発明を実施するに際し、トリアリルイソ
シアヌレートおよびトリアリルシアヌレート(b)はそ
れぞれ単独で用いられるだけでなく、両者を任意の割合
で混合して用いることが可能である。本発明において、
トリアリルイソシアヌレートおよびトリアリルシアヌレ
ートは可塑剤ならびに架橋剤としての効果を発揮する。
すなわち、プレス時の樹脂流れの向上と架橋密度の向上
をもたらす。本発明の(c)成分として用いられるエポ
キシ樹脂としては一分子中に2個以上のエポキシ基を含
有するものであればよく、一種若しくは二種以上組み合
わせて用いられる。
【0024】代表的な例としては、フェノール類または
アルコール類とエピクロルヒドリンとの反応によって得
られるグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、カルボン酸
類とエピクロルヒドリンとの反応によって得られるグリ
シジルエステル型エポキシ樹脂、アミン類またはシアヌ
ル酸とエピクロルヒドリンとの反応によって得られるグ
リシジルアミン型エポキシ樹脂、二重結合の酸化によっ
て得られる内部エポキシ樹脂等が挙げられる(これらの
詳細については、例えば新保正樹編、「エポキシ樹脂ハ
ンドブック」(日刊工業新聞社、1987)を参照のこ
と)。
【0025】また硬化剤としては、通常のエポキシ樹脂
の硬化剤、例えばポリアミン系硬化剤、酸無水物系硬化
剤、ポリフェノール系硬化剤、ポリメルカプタン系硬化
剤、アニオン重合型触媒型硬化剤、カチオン重合型触媒
型硬化剤、潜在型硬化剤等が使用できる(詳細は、例え
ば新保正樹編、「エポキシ樹脂ハンドブック」(日刊工
業新聞社、1987)、室井宗一、石村秀一著、「入門
エポキシ樹脂」(高分子刊行会、1988)等を参照の
こと)。
【0026】本発明の(d)成分として用いられる過酸
化物は、ジクミルパーオキサイドおよび/またはα、
α’−ビス(t−ブチルオキシ−m−イソプロピル)ベ
ンゼンである。以上説明した(a)〜(d)の4成分の
うち(a)成分と(b)成分の配合割合は、両者の和1
00重量部を基準として(a)成分が98〜40重量
部、(b)成分が2〜60重量部であり、より好ましく
は(a)成分が95〜50重量部、(b)成分が5〜5
0重量部の範囲である。
【0027】(b)成分が2重量部以下では耐薬品性の
改善が不十分であり好ましくない。逆に60重量部を越
えると誘電特性、難燃性、吸湿特性が低下し、また硬化
後において非常に脆い材料になるので好ましくない。
【0028】また(c)成分の配合割合は、(a)〜
(c)成分の和100重量部を基準として(a)+
(b)成分が99〜1重量部、(c)成分が1〜99重
量部の範囲であり、より好ましくは(a)+(b)成分
が90〜10重量部、(c)成分10〜90重量部の範
囲である。(c)成分が1重量部未満では金属箔との接
着性が向上しない、あるいは難燃性を付与する場合その
効果が不十分であるので好ましくない。逆に(c)成分
が99重量部を越えると耐薬品性が不十分であったり、
金属箔と接着させた場合に接着強度が得られず、また誘
電特性が低下するので好ましくない。
【0029】本発明では(c)成分として臭素化エポキ
シ樹脂を用いると、難燃性の樹脂組成物を得ることがで
きる。難燃性を付与するための好ましいハロゲン含量は
(a)から(c)成分の和を基準として5重量%以上、
より好ましくは10重量%以上である。また(d)成分
の配合割合は、(a)成分と(b)成分の和100重量
部を基準として(d)成分が0.1〜10重量部の範
囲、好ましくは0.5〜8重量部、更に好ましくは1〜
6重量部の範囲である。(d)成分が10重量部を越え
ると電気的特性が劣り好ましくない。逆に(d)成分が
0.1重量部未満の場合には過酸化物による硬化を十分
効果的に行うことができず好ましくない。
【0030】本発明で用いられる硬化性樹脂組成物に
は、機械的強度を高め、寸法安定性を増大させるために
基材を加えることができる。本発明に用いられる基材と
しては、ロービングクロス、クロス、チョップドマッ
ト、サーフェシングマットなどの各種ガラス布、アスベ
スト布、金属繊維布およびその他合成もしくは天然の無
機繊維布;ポリビニルアルコール繊維、ポリエステル繊
維、アクリル繊維、全芳香族ポリアミド繊維、ポリテト
ラフルオロエチレン繊維などの合成繊維から得られる織
布または不織布;綿布、麻布、フェルトなどの天然繊維
布;カーボン繊維布;クラフト紙、コットン紙、紙ーガ
ラス混繊紙などの天然セルロース系布などがそれぞれ単
独で、あるいは2種以上併せて用いられる。
【0031】上記の硬化性複合材料における基材の占め
る割合は、硬化性複合材料100重量部を基準として5
〜90重量%、より好ましくは10〜80重量%さらに
好ましくは20〜70重量%である。基材が5重量%よ
り少なくなると複合材料の硬化後の寸法安定性や強度が
不十分であり、また基材が90重量%より多くなると複
合材料の誘電特性や難燃性が劣り好ましくない。
【0032】本発明の(a)〜(d)成分を混合する方
法としては、4者を溶媒中に均一に溶解または分散させ
る溶液混合法、あるいは押し出し機等により加熱して行
う溶融ブレンド法等が利用できる。溶液混合に用いられ
る溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム、トリ
クロロエチレンなどのハロゲン系溶媒;ベンゼン、トル
エン、キシレンなどの芳香族系溶媒;アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系
溶媒;テトラヒドロフランが単独であるいは二種以上を
組み合わせて用いられる。
【0033】本発明で用いられる樹脂組成物は予めその
用途に応じて成形、硬化させてもよい。成形方法は特に
限定されない。通常は、樹脂組成物を上述した溶媒に溶
解させ好みの形に成形するキャスト法、または樹脂組成
物を加熱溶融し好みの形に成形する加熱溶融法が用いら
れる。上述したキャスト法と加熱溶融法は単独で行って
もよい。またそれぞれを組み合わせて行ってもよい。例
えば、キャスト法で作成された本樹脂組成物のフィルム
を数〜数十枚積層し、加熱溶融法、例えばプレス成形機
で加熱溶融し、本樹脂組成物のシートを得ることができ
る。
【0034】複合材料には、必要に応じて樹脂と基材の
界面における接着性を改善する目的でカップリング剤を
用いることができる。カップリング剤としては、シラン
カップリング剤、チタネートカップリング剤、アルミニ
ウム系カップリング剤、ジルコアルミネートカップリン
グ剤等一般のものが使用できる。
【0035】本発明に使用する過酸化物(d)には、本
来の性能を損なわない範囲で上述した過酸化物のほかに
過酸化物を配合しても良い。代表的な例を挙げると、ベ
ンゾイルパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイ
ド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパ
ーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブ
チルパーオキシ)ヘキシン−3、ジ−t−ブチルパーオ
キサイド、t−ブチルクミルパーオキサイド、2,5−
ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサ
ン、ジ−t−ブチルパーオキシイソフタレート、t−ブ
チルパーオキシベンゾエート、2,2−ビス(t−ブチ
ルパーオキシ)ブタン、2,2−ビス(t−ブチルパー
オキシ)オクタン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベ
ンゾイルパーオキシ)ヘキサン、ジ(トリメチルシリ
ル)パーオキサイド、トリメチルシリルトリフェニルシ
リルパーオキサイド等の過酸化物があるがこれらに限定
されない。また過酸化物ではないが、2,3−ジメチル
−2,3−ジフェニルブタンもラジカル開始剤として使
用できる。
【0036】本発明で用いられる樹脂組成物は、その用
途に応じて所望の性能を付与させる目的で本来の性質を
損なわない範囲の量の充填剤や添加剤を配合して用いる
ことができる。 充填剤は繊維状であっても粉末状であ
ってもよい。添加剤としては、酸化防止剤、熱安定剤、
帯電防止剤、可塑剤、顔料、染料、着色剤等が挙げられ
る。また難燃性の一層の向上を図る目的で塩素系、臭素
系、リン系の難燃剤や、Sb2 3、Sb2 5 、Nb
SbO3 ・1/4H2O等の難燃助剤を併用することも
できる。
【0037】基材を含む複合材料では、臭素化ジフェニ
ルエーテル類と酸化アンチモンの組み合わせ、あるいは
臭素化ジフェニルエタン類と酸化アンチモンの組み合わ
せが好ましく用いられる。さらには、他の熱可塑性樹
脂、あるいは熱硬化性樹脂を一種または二種以上配合す
ることも可能である。
【0038】本発明における高密度回路は基板の片面で
もよく、また両面でもよい。更に多層化されていてもよ
い。本発明を更に図面に基づいて説明する。図1は本発
明の高密度回路基板の構成を示す断面の模式図である。
図1において、本発明の実装用回路基板は絶縁基板1の
上に導体2を形成し、その導体間を線間絶縁材3で埋め
たものである。絶縁基板1としては硬化性ポリフェニレ
ンエーテル基板、または紙・フェノール、ガラス・エポ
キシ、ガラス・ポリイミド、ガラス・フッ素、シアネー
トエステル、BT基板等の有機絶縁材料あるいはセラミ
ック基板等の絶縁材料が挙げられる。
【0039】導体2としては、金、銀、ニッケル、銅、
スズ、及びそれらの合金、半田等なんでもよいが、特に
導電率および経済的な理由で銅及びその合金が好まし
い。硬化性ポリフェニレンエーテル樹脂組成物を線間絶
縁材としてのみ使用してもよいが一般的には、線間絶縁
材及びオーバーコート材両方に使用される。
【0040】本発明の硬化性ポリフェニレンエーテル樹
脂組成物を線間絶縁材として使用する場合、本発明の樹
脂組成物を溶剤に溶解或いは分散させて導体線間に塗布
する方法、加熱溶融して塗布する方法等が挙げられる
が、必ずしもこれらに限定されない。また、線間絶縁材
として、少なくとも本発明の硬化性ポリフェニレンエー
テル樹脂組成物が使用されていればよく、他の絶縁材と
組み合わせて使用してもよい。
【0041】
【実施例】以下、本発明を一層明確にするために実施例
を挙げて説明するが、本発明の範囲をこれらの実施例に
限定するものではない。 インシュレーションテスト:1000個の回路基板を8
0℃、85%相対湿度下で1000時間放置した後、6
00Vの電圧を線間に印加し、その絶縁性を試験し、不
良率を求めた。 (参考例1)30℃、0.5g/dlのクロロホルム溶
液で測定した粘度数ηsp/cが0/54のポリ(2,
6ージメチルー1,4ーフェニレンエーテル)100重
量部と、無水マレイン酸1.5重量部、および2,5ー
ジメチルー2,5ージ(tーブチルパーオキシ)ヘキサ
ン〔日本油脂(株)製、「パーヘキサ25B」〕1.0
重量部を室温でドライブレンドした後、シリンダー温度
300℃、スクリュー回転数230rpmの条件で2軸
押出機により押出した。この反応生成物をAとする。
【0042】(参考例2)参考例1と同様の方法で測定
した粘度数ηsp/cが0.40のポリ(2,6ージメ
チルー1,4ーフェニレンエーテル)100重量部と、
無水マレイン酸1.5重量部を室温でドライブレンドし
た後、シリンダー温度300℃、スクリュー回転数23
0rpmの条件で2軸押出機により押出した。この反応
生成物をBとする。
【0043】以下に述べる実施例においては、各成分と
して次のようなものを用いた。 エポキシ樹脂: ・ビスフェノールAグリシジルエーテルエポキシ樹脂:
旭化成(株)製「AER331」(エポキシ当量 18
9) ・低臭素化ビスフェノールAグリシジルエーテルエポキ
シ樹脂:旭化成(株)製「AER711」(エポキシ当
量 475,臭素含量20重量%) ・高臭素化ビスフェノールAグリシジルエーテルエポキ
シ樹脂:旭化成(株)製「AER735」(エポキシ当
量 350,臭素含量48重量%) ・クレゾールノボラックエポキシ樹脂:旭化成(株)製
「ECN273」(エポキシ当量 217)
【0044】 開始剤: ・ジクミルパーオキサイド(日本油脂(株)製「パーク
ミルD」) ・α、α’−ビス(t−ブチルパーオキシ−m−イソプ
ロピル)ベンゼン(日本油脂(株)製「パーブチル
P」) 硬化剤: 2E4MZ; 2−エチル−4−メチルイミダゾール 2MZ ; 2−メチルイミダゾール DDM ; 4、4’−ジアミノジフェニルメタン
【0045】(実施例1〜4)表1に示すような組成で
配合した硬化性ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物か
らなる線間絶縁材を使用した結果を表1にまとめた。な
お、絶縁基板はガラエポ基板をすべて使用した。 (比較例1、2)本発明の線間絶縁材の代わりに、表1
に示した線間絶縁材を用いた以外は実施例1、2と同じ
条件で実装回路基板を作成した。本発明の線間絶縁材を
用いないものは、インシュレーションテストでの不良率
が増加した。
【0046】
【表1】 (注) 過酸化物 PBP:パーブチルP、PCD:パ
ークミルD
【0047】
【発明の効果】本発明の硬化性ポリフェニレンエーテル
樹脂組成物を回路基板の線間絶縁材として用いることに
より、線間が100μm以下、さらには50μm以下で
あっても、耐熱・耐湿絶縁特性に優れた高密度基板を作
ることが可能となり、高信頼性の高密度回路基板が得ら
れる。さらに、難燃剤としてデカブロモジフェニルエー
テル類縁化合物を用いていないために環境保護の観点か
らも優秀な材料である。また、本発明に用いられている
樹脂組成物は室温で固体である過酸化物を用いているた
め蒸発等の可能性が少なく、所望の配合量をそのまま維
持することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の高密度回路基板の構成を示す断面の模
式図である。
【符号の説明】
1 絶縁基板 2 導体 3 線間絶縁材
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08L 71/12 LQP C08L 71/12 LQP

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 絶縁基板上に形成された導体の線間絶縁
    材が、(a)ポリフェニレンエーテルと不飽和カルボン
    酸または酸無水物との反応生成物、(b)トリアリルイ
    ソシアヌレートおよび/またはトリアリルシアヌレー
    ト、(c)エポキシ樹脂および、(d)ジクミルパーオ
    キサイド及び/またはα、α’−ビス(t−ブチルパー
    オキシ−m−イソプロピル)ベンゼンを含む硬化性ポリ
    フェニレンエーテル樹脂組成物であって、(a)成分と
    (b)成分の和100重量部を基準として(a)成分が
    98〜40重量部、(b)成分が2〜60重量部であ
    り、かつ(a)〜(c)成分の和100重量部を基準と
    して、(a)+(b)成分が99〜1重量部、(c)成
    分が1〜99重量部であり、かつ、(a)成分と(b)
    成分の和100重量部を基準として(d)成分が0.1
    〜10重量部からなる硬化性ポリフェニレンエーテル樹
    脂組成物の硬化体であることを特徴とする高密度回路基
    板。
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