JPH08259528A - アリールアルキルヒドロペルオキシド類の製造方法 - Google Patents
アリールアルキルヒドロペルオキシド類の製造方法Info
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- JPH08259528A JPH08259528A JP6659495A JP6659495A JPH08259528A JP H08259528 A JPH08259528 A JP H08259528A JP 6659495 A JP6659495 A JP 6659495A JP 6659495 A JP6659495 A JP 6659495A JP H08259528 A JPH08259528 A JP H08259528A
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- C07C409/04—Peroxy compounds the —O—O— group being bound between a carbon atom, not further substituted by oxygen atoms, and hydrogen, i.e. hydroperoxides the carbon atom being acyclic
- C07C409/08—Compounds containing six-membered aromatic rings
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Abstract
(57)【要約】
【目的】遷移金属錯体を触媒として用い、アリールアル
キル炭化水素を酸素含有気体にて酸化して、対応するア
リールアルキルヒドロペルオキシド類を製造する方法に
おいて、反応速度及び選択率を高めることにある。 【構成】本発明によるアリールアルキルヒドロペルオキ
シド類の製造方法は、配位構造 【化１】 （式中、Ｍは遷移金属イオンを示す。）を形成する配位
子と遷移金属イオンとからなる遷移金属錯体を触媒とし
て用いて、酸素含有気体にて酸化して、対応するアリー
ルアルキルヒドロペルオキシド類に選択的に転化するこ
とを特徴とする。
キル炭化水素を酸素含有気体にて酸化して、対応するア
リールアルキルヒドロペルオキシド類を製造する方法に
おいて、反応速度及び選択率を高めることにある。 【構成】本発明によるアリールアルキルヒドロペルオキ
シド類の製造方法は、配位構造 【化１】 （式中、Ｍは遷移金属イオンを示す。）を形成する配位
子と遷移金属イオンとからなる遷移金属錯体を触媒とし
て用いて、酸素含有気体にて酸化して、対応するアリー
ルアルキルヒドロペルオキシド類に選択的に転化するこ
とを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、窒素原子及び酸素原子
を電子供与原子とするある種の遷移金属錯体を触媒とし
て用いて、アリールアルキル炭化水素を酸素含有気体に
て酸化して、対応するアリールアルキルヒドロペルオキ
シド類に選択的に且つ高濃度に転化することによるアリ
ールアルキルヒドロペルオキシド類の製造方法に関す
る。
を電子供与原子とするある種の遷移金属錯体を触媒とし
て用いて、アリールアルキル炭化水素を酸素含有気体に
て酸化して、対応するアリールアルキルヒドロペルオキ
シド類に選択的に且つ高濃度に転化することによるアリ
ールアルキルヒドロペルオキシド類の製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】触媒の存在下にアリールアルキル基を有
する炭化水素を酸素含有気体にて酸化して、対応するア
リールアルキルヒドロペルオキシド類を製造する方法
は、従来、種々知られている。例えば、特公昭５５−５
００２０号公報には、エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴ
Ａ）等のポリアミノカルボン酸類を配位子とするコバル
ト、ニッケル、マンガン、銅又は鉄の水溶性錯体（キレ
ート化合物）を触媒として用いて、水の存在下に、3,５
−ジメチルクメン等のような第２級アルキル基を有する
アリールアルキル炭化水素を酸素含有気体にて酸化し
て、対応するヒドロペルオキシド類に転化する方法が記
載されている。
する炭化水素を酸素含有気体にて酸化して、対応するア
リールアルキルヒドロペルオキシド類を製造する方法
は、従来、種々知られている。例えば、特公昭５５−５
００２０号公報には、エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴ
Ａ）等のポリアミノカルボン酸類を配位子とするコバル
ト、ニッケル、マンガン、銅又は鉄の水溶性錯体（キレ
ート化合物）を触媒として用いて、水の存在下に、3,５
−ジメチルクメン等のような第２級アルキル基を有する
アリールアルキル炭化水素を酸素含有気体にて酸化し
て、対応するヒドロペルオキシド類に転化する方法が記
載されている。
【０００３】しかし、この方法によれば、ヒドロペルオ
キシド類の熱分解が無視できる８０℃程度の比較的低い
温度領域においては、酸化反応を実用的な反応速度で進
行させることができない。他方、特開昭５１−３４１３
８号公報には、α, α−（エチレンジニトリロ）ジ−ｏ
−クレゾールのニッケル錯化合物がβ−イソプロピルナ
フタレンの酸化触媒として提案されているが、触媒性能
は十分ではない。
キシド類の熱分解が無視できる８０℃程度の比較的低い
温度領域においては、酸化反応を実用的な反応速度で進
行させることができない。他方、特開昭５１−３４１３
８号公報には、α, α−（エチレンジニトリロ）ジ−ｏ
−クレゾールのニッケル錯化合物がβ−イソプロピルナ
フタレンの酸化触媒として提案されているが、触媒性能
は十分ではない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、アリールア
ルキル炭化水素を酸素含有気体にて酸化して、対応する
アリールアルキルヒドロペルオキシド類を製造する従来
の方法における上述したような問題を解決するためにな
されたものであって、ある種の遷移金属錯体がアリール
アルキル炭化水素を酸素含有気体にて酸化して、対応す
るアリールアルキルヒドロペルオキシド類に転化するの
に有用な触媒であることを見出して、本発明に至ったも
のである。
ルキル炭化水素を酸素含有気体にて酸化して、対応する
アリールアルキルヒドロペルオキシド類を製造する従来
の方法における上述したような問題を解決するためにな
されたものであって、ある種の遷移金属錯体がアリール
アルキル炭化水素を酸素含有気体にて酸化して、対応す
るアリールアルキルヒドロペルオキシド類に転化するの
に有用な触媒であることを見出して、本発明に至ったも
のである。
【０００５】即ち、本発明は、窒素原子及び酸素原子を
電子供与原子とするある種の遷移金属錯体を触媒として
用いて、アリールアルキル炭化水素を酸素含有気体にて
酸化して、対応するアリールアルキルヒドロペルオキシ
ド類を製造する方法を提供することを目的とする。
電子供与原子とするある種の遷移金属錯体を触媒として
用いて、アリールアルキル炭化水素を酸素含有気体にて
酸化して、対応するアリールアルキルヒドロペルオキシ
ド類を製造する方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明によるアリールア
ルキルヒドロペルオキシド類の製造方法は、一般式
（Ｉ）
ルキルヒドロペルオキシド類の製造方法は、一般式
（Ｉ）
【０００７】
【化４】
【０００８】（式中、Ｐ及びＱは、水素又はアルキル基
を示し、相互に同じであってもよく、異なっていてもよ
く、ｘは１〜３の整数を示し、Ａｒはｘ価の芳香族炭化
水素基を示す。）で表わされるアリールアルキル炭化水
素を、配位構造（II）
を示し、相互に同じであってもよく、異なっていてもよ
く、ｘは１〜３の整数を示し、Ａｒはｘ価の芳香族炭化
水素基を示す。）で表わされるアリールアルキル炭化水
素を、配位構造（II）
【０００９】
【化５】
【００１０】（式中、Ｍは遷移金属イオンを示す。）を
形成する配位子と遷移金属イオンとからなる遷移金属錯
体を触媒として用いて、酸素含有気体にて酸化して、対
応するアリールアルキルヒドロペルオキシド類に選択的
に転化することを特徴とする。
形成する配位子と遷移金属イオンとからなる遷移金属錯
体を触媒として用いて、酸素含有気体にて酸化して、対
応するアリールアルキルヒドロペルオキシド類に選択的
に転化することを特徴とする。
【００１１】本発明による方法において、原料として用
いるアリールアルキル炭化水素は、一般式（Ｉ）
いるアリールアルキル炭化水素は、一般式（Ｉ）
【００１２】
【化６】
【００１３】（式中、Ｐ及びＱは、水素又はアルキル基
を示し、相互に同じであってもよく、異なっていてもよ
く、ｘは１〜３の整数を示し、Ａｒはｘ価の芳香族炭化
水素基を示す。）で表わされる。
を示し、相互に同じであってもよく、異なっていてもよ
く、ｘは１〜３の整数を示し、Ａｒはｘ価の芳香族炭化
水素基を示す。）で表わされる。
【００１４】本発明によれば、上記一般式（Ｉ）で表わ
されるアリールアルキル炭化水素は、α水素を有するこ
とが必要であり、特に、第３級水素を有することが好ま
しい。従って、本発明によれば、上記一般式（Ｉ）にお
いて、Ｐ及びＱの少なくともいずれかがアルキル基であ
ることが好ましく、特に、いずれもがアルキル基である
ことが好ましい。上記アルキル基としては、特に、メチ
ル基が好ましい。芳香族炭化水素基として、例えば、ベ
ンゼン、ナフタレン、ビフェニル、ジフェニルエーテル
等から導かれるｘ価の炭化水素基を挙げることができる
が、好ましくは、ベンゼン又はナフタレンから導かれる
ｘ価の炭化水素基である。
されるアリールアルキル炭化水素は、α水素を有するこ
とが必要であり、特に、第３級水素を有することが好ま
しい。従って、本発明によれば、上記一般式（Ｉ）にお
いて、Ｐ及びＱの少なくともいずれかがアルキル基であ
ることが好ましく、特に、いずれもがアルキル基である
ことが好ましい。上記アルキル基としては、特に、メチ
ル基が好ましい。芳香族炭化水素基として、例えば、ベ
ンゼン、ナフタレン、ビフェニル、ジフェニルエーテル
等から導かれるｘ価の炭化水素基を挙げることができる
が、好ましくは、ベンゼン又はナフタレンから導かれる
ｘ価の炭化水素基である。
【００１５】従って、本発明において、アリールアルキ
ル炭化水素の好ましい具体例としては、例えば、クメ
ン、サイメン、ｍ−ジイソプロピルベンゼン、ｐ−ジイ
ソプロピルベンゼン等のジイソプロピルベンゼン類、1,
3,５−トリイソプロピルベンゼン等のトリイソプロピル
ベンゼン類、エチルベンゼン、ｓｅｃ−ブチルベンゼ
ン、ｓｅｃ−ブチルエチルベンゼン、イソプロピルナフ
タレン類、2,６−ジイソプロピルナフタレン等のジイソ
プロピルナフタレン類、イソプロピルビフェニル類、4,
4'−ジイソプロピルビフェニル等のジイソプロピルビフ
ェニル類や、これらの２種以上の混合物を挙げることが
できる。しかし、これらに限定されるものではない。
ル炭化水素の好ましい具体例としては、例えば、クメ
ン、サイメン、ｍ−ジイソプロピルベンゼン、ｐ−ジイ
ソプロピルベンゼン等のジイソプロピルベンゼン類、1,
3,５−トリイソプロピルベンゼン等のトリイソプロピル
ベンゼン類、エチルベンゼン、ｓｅｃ−ブチルベンゼ
ン、ｓｅｃ−ブチルエチルベンゼン、イソプロピルナフ
タレン類、2,６−ジイソプロピルナフタレン等のジイソ
プロピルナフタレン類、イソプロピルビフェニル類、4,
4'−ジイソプロピルビフェニル等のジイソプロピルビフ
ェニル類や、これらの２種以上の混合物を挙げることが
できる。しかし、これらに限定されるものではない。
【００１６】本発明によれば、窒素原子及び酸素原子を
電子供与原子とし、中心金属イオンである遷移金属イオ
ンに窒素原子及び酸素原子が窒素原子／酸素原子の比１
／１にて配位している錯体、即ち、下記配位構造（II）
電子供与原子とし、中心金属イオンである遷移金属イオ
ンに窒素原子及び酸素原子が窒素原子／酸素原子の比１
／１にて配位している錯体、即ち、下記配位構造（II）
【００１７】
【化７】
【００１８】（式中、Ｍは遷移金属イオンを示す。）を
形成する配位子と遷移金属イオンとからなる遷移金属錯
体を触媒として用いて上述したようなアリールアルキル
炭化水素を酸素含有気体にて酸化して、対応するアリー
ルアルキルヒドロペルオキシド類に選択的に転化する。
特に、本発明によれば、上記遷移金属錯体は、好ましく
は、一般式（III)
形成する配位子と遷移金属イオンとからなる遷移金属錯
体を触媒として用いて上述したようなアリールアルキル
炭化水素を酸素含有気体にて酸化して、対応するアリー
ルアルキルヒドロペルオキシド類に選択的に転化する。
特に、本発明によれば、上記遷移金属錯体は、好ましく
は、一般式（III)
【００１９】
【化８】
【００２０】（式中、Ｍは遷移金属イオンを示し、Ｒ1
からＲ8 は水素又は有機基であり、それぞれ同一であっ
ても、異なっていてもよく、また、隣接する有機基と共
に環を形成していてもよい。）で表わされる。
からＲ8 は水素又は有機基であり、それぞれ同一であっ
ても、異なっていてもよく、また、隣接する有機基と共
に環を形成していてもよい。）で表わされる。
【００２１】上記一般式（III)で表わされる遷移金属錯
体において、Ｒ1 からＲ8 は、水素のほか、特に、限定
されるものではなく、種々の有機基であってよく、例え
ば、そのような有機基として、アルキル基、アリール
基、アリールアルキル基等を例示することができ、それ
ぞれ同一であっても、異なっていてもよい。また、Ｒ1
からＲ8 は、隣接する有機基と結合していてもよく、ま
た、隣接する有機基と共に環を形成していてもよい。例
えば、Ｒ1 とＲ5 は相互に結合して、アルキレン基、特
に、エチレン基やトリメチレン基を形成してもよく、ま
た、Ｒ3 とＲ4 は相互に結合して芳香環（代表的にはベ
ンゼン環）を形成してもよく、同様に、Ｒ 7 とＲ8 も相
互に結合して芳香環（代表的にはベンゼン環）を形成し
てもよい。また、Ｒ2 やＲ6 は、例えば、メチル基のよ
うなアルキル基や、フェニル基のようなアリール基であ
ってもよい。
体において、Ｒ1 からＲ8 は、水素のほか、特に、限定
されるものではなく、種々の有機基であってよく、例え
ば、そのような有機基として、アルキル基、アリール
基、アリールアルキル基等を例示することができ、それ
ぞれ同一であっても、異なっていてもよい。また、Ｒ1
からＲ8 は、隣接する有機基と結合していてもよく、ま
た、隣接する有機基と共に環を形成していてもよい。例
えば、Ｒ1 とＲ5 は相互に結合して、アルキレン基、特
に、エチレン基やトリメチレン基を形成してもよく、ま
た、Ｒ3 とＲ4 は相互に結合して芳香環（代表的にはベ
ンゼン環）を形成してもよく、同様に、Ｒ 7 とＲ8 も相
互に結合して芳香環（代表的にはベンゼン環）を形成し
てもよい。また、Ｒ2 やＲ6 は、例えば、メチル基のよ
うなアルキル基や、フェニル基のようなアリール基であ
ってもよい。
【００２２】従って、前記遷移金属錯体を形成する配位
子の好ましい具体例としては、例えば、N,N'−ビス（１
−メチル−３−オキソブチリデン）エチレンジアミン、
N,N'−ビス（１−フェニル−３−オキソブチリデン）エ
チレンジアミン、N,N'−ジサリチラルエチレンジアミ
ン、N,N'−ジサリチラルトリメチレンジアミン、N,N'−
ジサリチラル−（ｏ−フェニレン）ジアミン等を挙げる
ことができる。
子の好ましい具体例としては、例えば、N,N'−ビス（１
−メチル−３−オキソブチリデン）エチレンジアミン、
N,N'−ビス（１−フェニル−３−オキソブチリデン）エ
チレンジアミン、N,N'−ジサリチラルエチレンジアミ
ン、N,N'−ジサリチラルトリメチレンジアミン、N,N'−
ジサリチラル−（ｏ−フェニレン）ジアミン等を挙げる
ことができる。
【００２３】他方、前記一般式（III)で表わされる遷移
金属錯体において、上記遷移金属イオンは、マンガン、
コバルト、鉄、銅、ロジウム、クロム又はルテニウムの
イオンであり、特に、コバルト、マンガン又はルテニウ
ムのイオンであることが好ましい。
金属錯体において、上記遷移金属イオンは、マンガン、
コバルト、鉄、銅、ロジウム、クロム又はルテニウムの
イオンであり、特に、コバルト、マンガン又はルテニウ
ムのイオンであることが好ましい。
【００２４】本発明の方法において、遷移金属錯体は、
通常、出発物質である前記アリールアルキル炭化水素１
００重量部に対して、0.００００１〜5.０重量部の範囲
で用いられ、好ましくは、0.０００１〜0.１重量部の範
囲で用いられる。
通常、出発物質である前記アリールアルキル炭化水素１
００重量部に対して、0.００００１〜5.０重量部の範囲
で用いられ、好ましくは、0.０００１〜0.１重量部の範
囲で用いられる。
【００２５】酸化剤としての酸素含有気体としては、通
常、空気が用いられるが、酸素や、酸素と窒素の任意の
混合ガスを用いてもよい。反応は、通常、常圧下で行な
えばよいが、必要に応じて、加圧下に行なってもよい。
反応温度は、通常、４０〜１２０℃の範囲であるが、好
ましくは、５０〜１００℃の範囲である。
常、空気が用いられるが、酸素や、酸素と窒素の任意の
混合ガスを用いてもよい。反応は、通常、常圧下で行な
えばよいが、必要に応じて、加圧下に行なってもよい。
反応温度は、通常、４０〜１２０℃の範囲であるが、好
ましくは、５０〜１００℃の範囲である。
【００２６】また、本発明によれば、反応は、固体の塩
基性化合物又は塩基性化合物の水溶液共存下に行なって
もよい。上記塩基性化合物の具体例としては、例えば、
炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、水酸化カリウ
ム、酸化バリウム、酸化マグネシウム等を挙げることが
できる。このような塩基性化合物は、通常、出発物質で
ある前記アリールアルキル炭化水素１００重量部に対し
て、0.０００１〜１0.０重量部の範囲で用いられ、好ま
しくは、0.００１〜5.０重量部の範囲で用いられる。
基性化合物又は塩基性化合物の水溶液共存下に行なって
もよい。上記塩基性化合物の具体例としては、例えば、
炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、水酸化カリウ
ム、酸化バリウム、酸化マグネシウム等を挙げることが
できる。このような塩基性化合物は、通常、出発物質で
ある前記アリールアルキル炭化水素１００重量部に対し
て、0.０００１〜１0.０重量部の範囲で用いられ、好ま
しくは、0.００１〜5.０重量部の範囲で用いられる。
【００２７】本発明においては、反応は、回分式、連続
式のいずれでも行なうことができる。回分式で反応を行
なう場合は、出発物質であるアリールアルキル炭化水素
が反応温度で液体であれば、それに触媒を加え、加熱攪
拌下に、通常、空気を吹き込むことによって、酸化反応
を行なう。必要であれば、反応に不活性な有機溶剤や水
を反応溶剤として用いてもよい。他方、出発物質である
アリールアルキル炭化水素が反応温度で固体であれば、
反応に不活性な有機溶剤に溶解させて、溶液とし、それ
に触媒を加え、加熱攪拌下に、空気を吹き込んで、酸化
反応を行なえばよい。
式のいずれでも行なうことができる。回分式で反応を行
なう場合は、出発物質であるアリールアルキル炭化水素
が反応温度で液体であれば、それに触媒を加え、加熱攪
拌下に、通常、空気を吹き込むことによって、酸化反応
を行なう。必要であれば、反応に不活性な有機溶剤や水
を反応溶剤として用いてもよい。他方、出発物質である
アリールアルキル炭化水素が反応温度で固体であれば、
反応に不活性な有機溶剤に溶解させて、溶液とし、それ
に触媒を加え、加熱攪拌下に、空気を吹き込んで、酸化
反応を行なえばよい。
【００２８】更に、本発明においては、必要に応じて、
反応の開始に際して、アリールアルキル炭化水素に、こ
れに対応する少量のアリールアルキルヒドロペルオキシ
ド等を開始剤として存在させてもよい。また、触媒を固
定床に形成し、出発物質であるアリールアルキル炭化水
素又はその溶液と空気を混合しつつ、この固定床を通過
させてもよい。
反応の開始に際して、アリールアルキル炭化水素に、こ
れに対応する少量のアリールアルキルヒドロペルオキシ
ド等を開始剤として存在させてもよい。また、触媒を固
定床に形成し、出発物質であるアリールアルキル炭化水
素又はその溶液と空気を混合しつつ、この固定床を通過
させてもよい。
【００２９】本発明の方法によれば、目的とするアリー
ルアルキルヒドロペルオキシドは、反応終了後、得られ
た反応混合物を蒸留する等の通常の手段によって、反応
混合物から容易に回収することができる。
ルアルキルヒドロペルオキシドは、反応終了後、得られ
た反応混合物を蒸留する等の通常の手段によって、反応
混合物から容易に回収することができる。
【００３０】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではな
い。以下において、反応混合物中のクメンヒドロペルオ
キシドの濃度は、ヨードメトリー及びガスクロマトグラ
フィーにより求めた。また、生成したクメンヒドロペル
オキシドの選択率は、ガスクロマトグラフィーにより求
めた。
本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではな
い。以下において、反応混合物中のクメンヒドロペルオ
キシドの濃度は、ヨードメトリー及びガスクロマトグラ
フィーにより求めた。また、生成したクメンヒドロペル
オキシドの選択率は、ガスクロマトグラフィーにより求
めた。
【００３１】実施例１ クメン９０ｇとクメンヒドロペルオキシド１０ｇの混合
物にN,N'−ビス（１−メチル−３−オキソブチリデン）
エチレンジアミン−コバルト錯体２ｍｇを加えて、全量
を溶解させた。これを８０℃に加熱し、強攪拌下、空気
を６０ｍｌ／分の割合にて吹き込み、８時間、クメンを
空気酸化した。この間のクメンヒドロペルオキシド蓄積
速度は1.８重量％／時であった。また、生成したクメン
ヒドロペルオキシドの選択率は８６モル％であった。
物にN,N'−ビス（１−メチル−３−オキソブチリデン）
エチレンジアミン−コバルト錯体２ｍｇを加えて、全量
を溶解させた。これを８０℃に加熱し、強攪拌下、空気
を６０ｍｌ／分の割合にて吹き込み、８時間、クメンを
空気酸化した。この間のクメンヒドロペルオキシド蓄積
速度は1.８重量％／時であった。また、生成したクメン
ヒドロペルオキシドの選択率は８６モル％であった。
【００３２】実施例２ N,N'−ジサリチラルエチレンジアミン−銅錯体を触媒と
して用いた以外は、実施例１と同様にして反応を行なっ
た。クメンヒドロペルオキシド蓄積速度は0.７重量％／
時であり、生成したクメンヒドロペルオキシドの選択率
は９２モル％であった。
して用いた以外は、実施例１と同様にして反応を行なっ
た。クメンヒドロペルオキシド蓄積速度は0.７重量％／
時であり、生成したクメンヒドロペルオキシドの選択率
は９２モル％であった。
【００３３】実施例３ N,N'−ジサリチラルエチレンジアミン−マンガン錯体を
触媒として用いた以外は、実施例１と同様にして反応を
行なった。反応開始から１時間の間は、クメンヒドロペ
ルオキシドの分解が認められたが、反応開始から２〜８
時間の間のクメンヒドロペルオキシドの蓄積速度は1.６
重量％／時であり、その間に生成したクメンヒドロペル
オキシドの選択率は８７モル％であった。
触媒として用いた以外は、実施例１と同様にして反応を
行なった。反応開始から１時間の間は、クメンヒドロペ
ルオキシドの分解が認められたが、反応開始から２〜８
時間の間のクメンヒドロペルオキシドの蓄積速度は1.６
重量％／時であり、その間に生成したクメンヒドロペル
オキシドの選択率は８７モル％であった。
【００３４】実施例４ N,N'−ジサリチラルエチレンジアミン−ニッケル錯体を
触媒として用いた以外は、実施例１と同様にして反応を
行なった。クメンヒドロペルオキシドの蓄積速度は1.５
重量％／時であり、生成したクメンヒドロペルオキシド
の選択率は７２モル％であった。
触媒として用いた以外は、実施例１と同様にして反応を
行なった。クメンヒドロペルオキシドの蓄積速度は1.５
重量％／時であり、生成したクメンヒドロペルオキシド
の選択率は７２モル％であった。
【００３５】比較例１ 触媒として、Ｎａ2 〔Ｃｏ（ＥＤＴＡ）〕２００ｍｇを
用いた以外は、実施例１と同様にして反応を行なった。
クメンヒドロペルオキシドの蓄積速度は0.１３重量％／
時であり、生成したクメンヒドロペルオキシドの選択率
は６４モル％であった。
用いた以外は、実施例１と同様にして反応を行なった。
クメンヒドロペルオキシドの蓄積速度は0.１３重量％／
時であり、生成したクメンヒドロペルオキシドの選択率
は６４モル％であった。
【００３６】実施例５ クメン１００ｇにN,N'−ジサリチラルエチレンジアミン
−コバルト錯体２ｍｇを加えて、全量を溶解させた。こ
れを８０℃に加熱し、強攪拌下、空気を６０ｍｌ／分の
割合にて吹き込み、２時間、クメンを空気酸化した。こ
の間のクメンヒドロペルオキシド蓄積速度は3.２重量％
／時であり、その間に生成したクメンヒドロペルオキシ
ドの選択率は８０モル％であった。
−コバルト錯体２ｍｇを加えて、全量を溶解させた。こ
れを８０℃に加熱し、強攪拌下、空気を６０ｍｌ／分の
割合にて吹き込み、２時間、クメンを空気酸化した。こ
の間のクメンヒドロペルオキシド蓄積速度は3.２重量％
／時であり、その間に生成したクメンヒドロペルオキシ
ドの選択率は８０モル％であった。
【００３７】比較例２ 実施例５において、N,N'−ジサリチラルエチレンジアミ
ン−コバルト錯体に代えて、Ｎａ2 〔Ｃｏ（ＥＤＴ
Ａ）〕２００ｍｇを触媒として用いた以外は、実施例５
と同様にして反応を試みたが、反応は進行しなかった。
ン−コバルト錯体に代えて、Ｎａ2 〔Ｃｏ（ＥＤＴ
Ａ）〕２００ｍｇを触媒として用いた以外は、実施例５
と同様にして反応を試みたが、反応は進行しなかった。
【００３８】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、窒素原
子及び酸素原子を電子供与原子とする遷移金属錯体を触
媒として用いて、アリールアルキル炭化水素を酸素含有
気体にて酸化することによって、少量の触媒量で、高い
反応速度で対応するヒドロペルオキシド類を高選択率に
て得ることができる。
子及び酸素原子を電子供与原子とする遷移金属錯体を触
媒として用いて、アリールアルキル炭化水素を酸素含有
気体にて酸化することによって、少量の触媒量で、高い
反応速度で対応するヒドロペルオキシド類を高選択率に
て得ることができる。
Claims (7)
- 【請求項１】一般式（Ｉ） 【化１】 （式中、Ｐ及びＱは、水素又はアルキル基を示し、相互
に同じであってもよく、異なっていてもよく、ｘは１〜
３の整数を示し、Ａｒはｘ価の芳香族炭化水素基を示
す。）で表わされるアリールアルキル炭化水素を、配位
構造（II） 【化２】 （式中、Ｍは遷移金属イオンを示す。）を形成する配位
子と遷移金属イオンとからなる遷移金属錯体を触媒とし
て用いて、酸素含有気体にて酸化して、対応するアリー
ルアルキルヒドロペルオキシド類に選択的に転化するこ
とを特徴とするアリールアルキルヒドロペルオキシド類
の製造方法。 - 【請求項２】遷移金属錯体が一般式（III) 【化３】 （式中、Ｍは遷移金属イオンを示し、Ｒ1 からＲ8 は水
素又は有機基であり、それぞれ同一であっても、異なっ
ていてもよく、また、隣接する有機基と結合していても
よく、また、隣接する有機基と共に環を形成していても
よい。）で表わされる請求項１記載の方法。 - 【請求項３】遷移金属イオンがマンガン、コバルト、
鉄、銅、ロジウム、クロム又はルテニウムのイオンであ
る請求項１又は２記載の方法。 - 【請求項４】配位子がN,N'−ビス（１−メチル−３−オ
キソブチリデン）エチレンジアミン、N,N'−ビス（１−
フェニル−３−オキソブチリデン）エチレンジアミン、
N,N'−ジサリチラルエチレンジアミン、N,N'−ジサリチ
ラルトリメチレンジアミン又はN,N'−ジサリチラル−
（ｏ−フェニレン）ジアミンである請求項１記載の方
法。 - 【請求項５】アリールアルキル炭化水素がクメンである
請求項１記載の方法。 - 【請求項６】遷移金属イオンがコバルト又はマンガンの
イオンである請求項１記載の方法。 - 【請求項７】アリールアルキル炭化水素を塩基性化合物
の存在下に酸化する請求項１記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6659495A JPH08259528A (ja) | 1995-03-24 | 1995-03-24 | アリールアルキルヒドロペルオキシド類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6659495A JPH08259528A (ja) | 1995-03-24 | 1995-03-24 | アリールアルキルヒドロペルオキシド類の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08259528A true JPH08259528A (ja) | 1996-10-08 |
Family
ID=13320423
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6659495A Pending JPH08259528A (ja) | 1995-03-24 | 1995-03-24 | アリールアルキルヒドロペルオキシド類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08259528A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007302656A (ja) * | 2006-04-25 | 2007-11-22 | Air Products & Chemicals Inc | 多座配位β−ケトイミナート金属錯体 |
| US8617305B2 (en) | 2011-01-25 | 2013-12-31 | Air Products And Chemicals, Inc. | Metal complexes for metal-containing film deposition |
| US9079923B2 (en) | 2010-08-05 | 2015-07-14 | Air Products And Chemicals, Inc. | Multidentate ketoimine ligands for metal complexes |
-
1995
- 1995-03-24 JP JP6659495A patent/JPH08259528A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007302656A (ja) * | 2006-04-25 | 2007-11-22 | Air Products & Chemicals Inc | 多座配位β−ケトイミナート金属錯体 |
| US7947814B2 (en) | 2006-04-25 | 2011-05-24 | Air Products And Chemicals, Inc. | Metal complexes of polydentate beta-ketoiminates |
| US9079923B2 (en) | 2010-08-05 | 2015-07-14 | Air Products And Chemicals, Inc. | Multidentate ketoimine ligands for metal complexes |
| US8617305B2 (en) | 2011-01-25 | 2013-12-31 | Air Products And Chemicals, Inc. | Metal complexes for metal-containing film deposition |
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