JPH082619B2 - Release sheet - Google Patents

Release sheet

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JPH082619B2
JPH082619B2 JP62239422A JP23942287A JPH082619B2 JP H082619 B2 JPH082619 B2 JP H082619B2 JP 62239422 A JP62239422 A JP 62239422A JP 23942287 A JP23942287 A JP 23942287A JP H082619 B2 JPH082619 B2 JP H082619B2
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JP
Japan
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electron beam
aronix
paper
substrate
sheet
Prior art date
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JP62239422A
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Japanese (ja)
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JPS6480525A (en
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純二 原田
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Mitsubishi Paper Mills Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Paper Mills Ltd
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Publication date
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  • Laminated Bodies (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔A〕産業上の利用分野 本発明は、紙、ラミネート紙、合成紙、プラスチック
フィルムなどのシート状基体の上に耐ブロッキング性に
すぐれ内部剥離防止性に優れた層を設けた剥離用シート
に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [A] Field of Industrial Application The present invention provides a layer on a sheet-like substrate such as paper, laminated paper, synthetic paper, and plastic film, which has excellent blocking resistance and excellent internal peeling prevention property. The present invention relates to a peeling sheet provided with.

〔B〕従来の技術 紙、ラミネート紙、合成紙、プラスチックフィルムな
どのシート状基体の上に有機ポリシロキサンからなる剥
離層を設けたシリコーン剥離用シートは近年多くの用途
に使用されている。剥離層の形成方法としては有機すず
化合物やその他の重金属塩、および白金系の触媒を含む
縮合型もしくは付加型シリコーン系樹脂の溶液、または
エマルジョンを塗布した後、熱風オーブン中で120℃か
ら180℃で加熱し硬化被覆を形成する方法が一般的であ
る。
[B] Conventional Technology Silicone release sheets having a release layer made of an organic polysiloxane provided on a sheet-like substrate such as paper, laminated paper, synthetic paper, and plastic film have been used in many applications in recent years. As a method for forming the release layer, a solution of a condensation-type or addition-type silicone resin containing an organic tin compound or other heavy metal salt, and a platinum catalyst, or an emulsion is applied, and then 120 ° C to 180 ° C in a hot air oven. Generally, a method of forming a cured coating by heating at 1.

〔C〕発明が解決しようとする問題点 紙を基体に用いた剥離用シートにおいてこのような高
温加熱処理を行なうと紙基体に耐熱性が必要なことは勿
論の上、紙基体内部の水分蒸発によりしわやカールが発
生しやすく、また剥離層に水分蒸発に伴うピンホールが
生じ易いという欠点を有していた。このような欠点を克
服する目的と剥離層を形成するシリコーン樹脂の紙への
吸収を低減させる目的で紙表面をポリエチレンや塩化ビ
ニリデン等でラミネートした基体を用いることがよく使
われる方法であるが、やはりシリコーン樹脂の硬化時に
おいてラミネート層の軟化、溶融、収縮等が起こり結果
としてラミネート基体表面の不均一化により剥離性能を
阻害することや紙中の水分蒸発による気泡発生のために
ピンホールが生じ易いという欠点を有していた。このよ
うな欠点を克服するひとつの手段として無溶剤型シリコ
ーン樹脂、その中でも特に紫外線(UV)および電子線
(EB)照射により重合可能な官能基を有するシリコーン
樹脂を用いてUVまたはEB硬化を行なう低温キュアリング
型の剥離紙製造技術が開発された。これらの方法によれ
ば剥離紙製造工程中における高温処理に由来するカー
ル、しわ、ピンホール等の発生は比較的妨げるものの、
紙基体を用いる剥離紙製造においては紙基体へのシリコ
ーン樹脂のしみこみを防止し、塗布量のバラツキを少な
くするために高粘度の樹脂を使用しなければならないと
いった問題や、フィルム基体の剥離用シート製造におい
てはUVまたはEB硬化を行なう低温キュアリング型方法で
作成したシリコーン膜はフィルム基体との密着性に劣る
という問題点を有する。
[C] Problems to be Solved by the Invention It is needless to say that heat resistance of a paper base is required when such a high-temperature heat treatment is applied to a release sheet using a paper base, and in addition, evaporation of water inside the paper base Therefore, there are drawbacks that wrinkles and curls are easily generated, and pinholes are easily generated in the release layer due to water evaporation. It is a commonly used method to use a substrate laminated with polyethylene or vinylidene chloride on the paper surface for the purpose of overcoming such drawbacks and for reducing the absorption of a release layer-forming silicone resin into paper. When the silicone resin is cured, softening, melting, and shrinkage of the laminate layer occur, resulting in non-uniformity of the surface of the laminate substrate, which hinders peeling performance, and pinholes are generated due to the generation of bubbles due to water evaporation in the paper. It had the drawback of being easy. As one means for overcoming such drawbacks, a solventless silicone resin, particularly a silicone resin having a functional group capable of being polymerized by irradiation with ultraviolet (UV) and electron beam (EB), is used for UV or EB curing. A low-temperature curing type release paper manufacturing technology has been developed. According to these methods, the occurrence of curls, wrinkles, pinholes, etc. due to high temperature treatment during the release paper manufacturing process is relatively prevented, but
In the production of release paper using a paper substrate, the problem that a high-viscosity resin must be used in order to prevent the silicone resin from seeping into the paper substrate and reduce variations in coating amount, and a film-based release sheet In the production, a silicone film prepared by a low temperature curing type method of performing UV or EB curing has a problem that it has poor adhesion to a film substrate.

〔D〕問題点を解決するための手段 本発明者は、上記のような問題点を解決する手段を鋭
意研究した結果以下のような方法を見いだすに至った。
すなわち、紙またはフィルム基体の少なくとも片面に該
基体と接着性の良い電子線重合性組成物層を塗布し、さ
らにその上に電子線重合性であり、かつ硬化後に剥離性
を有する組成物層を塗布した後、電子線照射により両層
を同時に硬化させた層を設けることにより上記問題を解
決した剥離用シートが得られることを見いだし本発明を
完成させるに至った。以下本発明を詳細に説明する、即
ち本発明は基体の上に基体と接着性の良い電子線硬化樹
脂層と、粘着剤と剥離性の良い電子線硬化樹脂層を順次
設け電子性照射することによって作成した剥離用シート
を提供するものである。ここでいう基体と接着性の良い
電子線重合性組成物(以下、単に電子線重合性組成物と
略する)とは、アクロイル基またはメタクリロイル基を
有する化合物である。
[D] Means for Solving Problems The inventors of the present invention have found the following methods as a result of earnest research on means for solving the above problems.
That is, an electron beam polymerizable composition layer having good adhesiveness to the substrate is coated on at least one surface of a paper or film substrate, and a composition layer that is electron beam polymerizable and has releasability after curing is further applied thereon. It has been found that a release sheet that solves the above problems can be obtained by providing a layer in which both layers are simultaneously cured by electron beam irradiation after application, and completed the present invention. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail. In the present invention, an electron beam curable resin layer having good adhesiveness to a substrate and an electron beam curable resin layer having good adhesiveness and releasability are sequentially provided on a substrate for electronic irradiation. The release sheet prepared by the above is provided. The electron beam polymerizable composition having good adhesion to the substrate (hereinafter simply referred to as electron beam polymerizable composition) is a compound having an acroyl group or a methacryloyl group.

本発明に用いられる電子線重合性組成物としては、分
子末端にまたは分子側鎖に反応基を有する不飽和ポリエ
ステル、変性不飽和ポリエステル、アクリル系ポリマー
および不飽和結合を有する単量体などが単体でまたは他
の溶剤とともに使用できるが、基体と電子線重合性組成
物との親和性、および電子線重合性組成物と電子線重合
性シリコーン組成物との親和性に考慮して選ばれる。以
下、電子線重合性組成物を構成する化合物のうち代表的
なものを例示する。
As the electron beam polymerizable composition used in the present invention, unsaturated polyester having a reactive group at a molecular end or in a molecular side chain, modified unsaturated polyester, an acrylic polymer and a monomer having an unsaturated bond are simple substances. Although it can be used together with other solvents, it is selected in consideration of the affinity between the substrate and the electron beam polymerizable composition, and the affinity between the electron beam polymerizable composition and the electron beam polymerizable silicone composition. Hereinafter, typical compounds among the compounds constituting the electron beam polymerizable composition will be exemplified.

(a)ポリエステルアクリレート、ポリエステルメタク
リレート 例えば、アロニックスM−5300、アロニックスM−54
00、アロニックスM−5500、アロニックスM−5600、ア
ロニックスM−5700、アロニックスM−6100、アロニッ
クスM−6200、アロニックスM−6300、アロニックスM
−6500、アロニックスM−7100、アロニックスM−803
0、アロニックスM−8060、アロニックスM−8100(以
上、東亜合成化学工業(株)商品名)、ビスコート70
0、ビスコート3700(以上、大阪有機化学工業(株)商
品名)、カヤラッドHX−220、カヤラッドHX−620(以
上、日本化薬(株)商品名) (b)エポキシアクリレート、エポキシメタクリレート 例えば、NKエステル、EA−800、NKエステル、EPM−80
0(以上、新中村化学(株)商品名)、ビスコート600、
ビスコート540(以上、大阪有機化学工業(株)商品
名)、フオトマー3016、フオトマー3082(以上、サンノ
プコ(株)商品名) (c)ウレタンアクリレート、ウレタメタクリレート 例えば、アロニックスM−1100、アロニックスM−12
00、アロニックスM−1210、アロニックスM−1250、ア
ロニックスM−1260、アロニックスM−1300、アロニッ
クスM−1310(以上、東亜合成化学工業(株)商品
名)、ビスコート812、ビスコート823、ビスコート823
(以上、大阪有機化学工業(株)商品名)、NKエステ
ル、U−108−A、NKエステル、U−4HA(以上、新中村
化学(株)商品名) (d)単官能アクリレート、単官能メタクリレート 例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、
ブチルアクリレート、2−エチルヘキシルアクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアク
リレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェ
ノキシエチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレー
ト、シクロヘキシルメタクリレート、ベンジルアクリレ
ート、グリシジルメタクリレート、N、N−ジメチルア
ミノエチルアクリレート、N、N−ジメチルアミノエチ
ルメタクリレート、N、N−ジエチルアミノエチルメタ
クリレート、ブトキシエチルアクリレートなど、エチレ
ンオキシド変性フェノキシ化りん酸アクリレートエチレ
ンオキシド変性ブトキシ化りん酸アクリレート、この他
に東亜合成化学工業(株)の商品名でいえばアロニック
スM−101、アロニックスM−102、アロニックスM−11
1、アロニックスM−113、アロニックスM−114、アロ
ニックスM−117、アロニックスM−152、アロニックス
M−154などが挙げられる。
(A) Polyester acrylate, polyester methacrylate For example, Aronix M-5300, Aronix M-54
00, Aronix M-5500, Aronix M-5600, Aronix M-5700, Aronix M-6100, Aronix M-6200, Aronix M-6300, Aronix M
-6500, Aronix M-7100, Aronix M-803
0, Aronix M-8060, Aronix M-8100 (Trade name of Toagosei Chemical Industry Co., Ltd.), Viscort 70
0, Viscoat 3700 (Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd. product name), Kayarad HX-220, Kayarad HX-620 (Nippon Kayaku Co., Ltd. product name) (b) Epoxy acrylate, epoxy methacrylate For example, NK Ester, EA-800, NK ester, EPM-80
0 (above, trade name of Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), Viscoat 600,
Viscoat 540 (Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd. product name), Photomer 3016, Photomer 3082 (or San Nopco Ltd. product name) (c) Urethane acrylate, ureta methacrylate For example, Aronix M-1100, Aronix M-12
00, Aronix M-1210, Aronix M-1250, Aronix M-1260, Aronix M-1300, Aronix M-1310 (above, trade name of Toagosei Chemical Industry Co., Ltd.), Viscoat 812, Viscoat 823, Viscoat 823.
(Above, trade name of Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), NK ester, U-108-A, NK ester, U-4HA (above, trade name of Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.) (d) monofunctional acrylate, monofunctional Methacrylate For example, methyl acrylate, ethyl acrylate,
Butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, phenoxyethyl acrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl acrylate, glycidyl methacrylate, N, N -Dimethylaminoethyl acrylate, N, N-dimethylaminoethyl methacrylate, N, N-diethylaminoethyl methacrylate, butoxyethyl acrylate, etc. Ethylene oxide modified phenoxyphosphoric acid acrylate Ethylene oxide modified butoxylated phosphoric acid acrylate, etc. The product name of Aronix M-101, Aronit Scan M-102, Aronix M-11
1, Aronix M-113, Aronix M-114, Aronix M-117, Aronix M-152, Aronix M-154 and the like.

(e)多官能アクリレート、多官能メタクリレート 例えば、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,6
−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグ
リコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアク
リレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポ
リエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレ
ングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジメタクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、イ
ソシアヌル酸ジアクリレート、ペンタエリスリトールト
リアクリレート、イソシアヌル酸トリアクリレート、ト
リメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロー
ルプロパントリメタクリレート、エチレンオキシド変性
ペンタエリスリトールテトラアクリレート、プロピレン
オキシド変性ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、プロピレンオキシド変性ジペンタエリスリトールポ
リアクリレート、エチレンオキシド変性ジペンタエリス
リトールポリアクリレートなどが挙げられる。東亜合成
化学工業(株)の商品名でいえばアロニックスM−21
0、アロニックスM−215、アロニックスM−220、アロ
ニックスM−230、アロニックスM−233、アロニックス
M−240、アロニックスM−245、アロニックスM−30
5、アロニックスM−309、アロニックスM−310、アロ
ニックスM−315、アロニックスM−320、アロニックス
M−325、アロニックスM−330、アロニックスM−40
0、TO−458、TO−747、TO−755、THIC.TA2などが挙げら
れる。
(E) Polyfunctional acrylate, polyfunctional methacrylate For example, 1,6-hexanediol diacrylate, 1,6
-Hexanediol dimethacrylate, neopentyl glycol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol diacrylate, polyethylene glycol dimethacrylate, polypropylene glycol diacrylate, polypropylene glycol dimethacrylate, pentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, isocyanuric acid diester Acrylate, pentaerythritol triacrylate, isocyanuric acid triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, ethylene oxide-modified pentaerythritol tetraacrylate, propylene oxide-modified pentaerythritol tetraacrylate, propylene oxide De-modified dipentaerythritol polyacrylate, such ethylene oxide-modified dipentaerythritol polyacrylate. The product name of Toagosei Kagaku Kogyo Co., Ltd. is Aronix M-21.
0, Aronix M-215, Aronix M-220, Aronix M-230, Aronix M-233, Aronix M-240, Aronix M-245, Aronix M-30
5, Aronix M-309, Aronix M-310, Aronix M-315, Aronix M-320, Aronix M-325, Aronix M-330, Aronix M-40
0, TO-458, TO-747, TO-755, THIC.TA2, etc.

硬化後に剥離性を有する組成物とは、分子末端、また
は側鎖に電子線重合性官能基を有する有機ポリシロキサ
ン(以下、単に電子線重合性シリコーン組成物と略す
る)である。本発明に用いられる電子線重合性シリコー
ン組成物としては分子末端、または側鎖にアクリロイル
基、メタクリロイル基、ビニル基の中から選択される官
能基を有するシリコーン樹脂であり具体的には特許出願
公告 昭51−42961、昭54−6512、昭57−57096、昭58−
53656号公報等に開示されているような化合物である。
The composition having releasability after curing is an organic polysiloxane having an electron beam polymerizable functional group at a molecular end or a side chain (hereinafter, simply referred to as an electron beam polymerizable silicone composition). The electron beam polymerizable silicone composition used in the present invention is a silicone resin having a functional group selected from an acryloyl group, a methacryloyl group and a vinyl group at a molecular end or a side chain. Specifically, the patent application publication 51-42961, 54-1652, 57-57096, 58-
The compounds are disclosed in, for example, Japanese Patent No. 53656.

本発明に用いられる基体としてはグラシン紙、上質
紙、コーテッド紙、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リエチレンテレフタレート、ポリアミド等の合成樹脂フ
ィルム、またはこれらの合成樹脂を紙に片面、または両
面にラミネートしたラミネート紙、金属箔、または金属
箔と紙、合成樹脂フィルムとの貼り合わせ品をさす。
As the substrate used in the present invention, synthetic resin film such as glassine paper, high-quality paper, coated paper, polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, polyamide, or laminated paper in which these synthetic resins are laminated on one side or both sides, metal This refers to a laminated product of foil or metal foil and paper or synthetic resin film.

なお、紙基体の坪量は40〜250g/m2、より好ましくは5
0〜200g/m2であり、その表面は平滑であることが好まし
いが、剥離性能のコントロール上粗面であってもかまわ
ない。
The basis weight of the paper substrate is 40 to 250 g / m 2 , more preferably 5
It is 0 to 200 g / m 2 , and its surface is preferably smooth, but it may be a rough surface for the control of peeling performance.

基体上に電子線重合性組成物を塗布する前に基体表面
にコロナ放電等の表面処理を行なっても良い。
Before applying the electron beam polymerizable composition onto the substrate, the substrate surface may be subjected to surface treatment such as corona discharge.

本発明による剥離用シートを図を用いて説明する。 The peeling sheet according to the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図は本発明方法により製造した剥離用シートの一
例を示す側面概略図である。
FIG. 1 is a schematic side view showing an example of a peeling sheet manufactured by the method of the present invention.

基体シート1上において電子線重合性組成物2が目止
め層となり電子線重合性シリコーン組成物3の基体シー
ト1へのしみこみを防止している。
The electron beam polymerizable composition 2 serves as a sealing layer on the base sheet 1 to prevent the electron beam polymerizable silicone composition 3 from seeping into the base sheet 1.

第2図は本発明の実施に使用する剥離用シート製造装
置の一例を示す側面概略図である。
FIG. 2 is a schematic side view showing an example of a peeling sheet manufacturing apparatus used for carrying out the present invention.

基体シート1を供給ロール4から繰り出し、コーター
5により電子線重合性組成物2を塗布し、コーター6に
より電子線重合性シリコーン組成物3を塗布した後、電
子線照射装置7において電子線照射により電子線重合性
組成物2と電子線重合性シリコーン組成物3の硬化を行
なう。このようにして製造した剥離用シート8は巻き取
りロール9によって巻き取られる。なお、基体シート1
の表面はコロナ発生装置10によりコロナ処理しても良
い。
The substrate sheet 1 is unrolled from the supply roll 4, the electron beam polymerizable composition 2 is applied by the coater 5, the electron beam polymerizable silicone composition 3 is applied by the coater 6, and then the electron beam is irradiated by the electron beam irradiation device 7. The electron beam polymerizable composition 2 and the electron beam polymerizable silicone composition 3 are cured. The peeling sheet 8 manufactured in this manner is wound up by the winding roll 9. The base sheet 1
The surface of may be subjected to corona treatment by the corona generating device 10.

本発明による方法によれば剥離紙製造工程中において
シリコーン樹脂は常に電子線重合性組成物上に塗布され
紙基体上に直接塗布されることがないため紙基体中への
シリコーン樹脂のしみこみが起こらない。従って高価な
シリコーン樹脂量の低減が図れる。更に低濃度のシリコ
ーン樹脂が使用できるという利点も有する。
According to the method of the present invention, the silicone resin is always coated on the electron beam polymerizable composition and not directly on the paper substrate during the release paper manufacturing process, so that the silicone resin is not soaked into the paper substrate. Absent. Therefore, the amount of expensive silicone resin can be reduced. It also has the advantage that a low concentration of silicone resin can be used.

本発明で示すように電子線重合性組成物と電子線重合
性シリコーン組成物とを重ねて同時に電子線照射により
硬化せしめると、界面で共重合がおこり電子線重合性シ
リコーン組成物層と電子線重合性組成物層との接着は非
常に強固なものとなる。紙基体等と各種アクリレートな
どの電子線重合性組成物との接着は一般に非常に強いの
で、結果として本発明による方法を用いればシリコーン
剥離のない剥離用シートが得られる。
As shown in the present invention, when the electron beam polymerizable composition and the electron beam polymerizable silicone composition are overlapped and simultaneously cured by electron beam irradiation, copolymerization occurs at the interface, resulting in the electron beam polymerizable silicone composition layer and the electron beam. The adhesion with the polymerizable composition layer becomes very strong. Since the adhesion between the paper substrate and the electron beam polymerizable composition such as various acrylates is generally very strong, as a result, the release sheet free from silicone release can be obtained by using the method of the present invention.

基体上に電子線重合性組成物および電子線重合性シリ
コーン組成物を塗布する方法としては、例えば、ブレー
ドコート、エアードクターコート、スクイズコート、エ
アーナイフコート、リバースロールコート、グラビアロ
ールおよびトランスファーロールコート、Eバーコート
等の方法が用いられる。
Examples of the method for applying the electron beam polymerizable composition and the electron beam polymerizable silicone composition on the substrate include blade coating, air doctor coating, squeeze coating, air knife coating, reverse roll coating, gravure roll and transfer roll coating. , E-bar coat, etc. are used.

基体上に塗布する電子線重合性組成物量は基体の種類
により異なるが0.1〜10g/m2、より好ましくは0.2〜5g/m
2であり、電子線重合性シリコーン組成物量は0.1g/m2
5g/m2、より好ましくは0.5〜5g/m2である。シリコーン
組成物の量が0.1g/m2以下と極端に少ないと電子線重合
性組成物上に均一に塗布する事が困難であり、また剥離
を悪くする、またシリコーン量を5g/m2以上と多くして
も特性状変わらず、コストのみ向上するし、さらに、極
端に多くなると硬化後摩耗などによりシリコーンが脱落
しやすい。
The amount of the electron beam polymerizable composition applied on the substrate varies depending on the type of the substrate, but 0.1 to 10 g / m 2 , more preferably 0.2 to 5 g / m 2 .
2 and the amount of electron beam polymerizable silicone composition is 0.1 g / m 2 ~
5 g / m 2, more preferably from 0.5 to 5 g / m 2. If the amount of the silicone composition is extremely small as 0.1 g / m 2 or less, it is difficult to apply it uniformly on the electron beam polymerizable composition, and peeling is deteriorated, and the amount of silicone is 5 g / m 2 or more. Even if the amount is increased, the property does not change, and only the cost is improved. Further, if the amount is extremely increased, the silicone is likely to fall off due to abrasion after curing.

剥離紙の表面をさらに鏡面仕上げにする場合には、処
理したい面を鏡面ロールと接触させその背面から電子線
を照射して硬化し、鏡面仕上げを施すことができる。一
度の照射で完全硬化させる方法に比べると著しく経済性
が劣るが、予め予備電子線照射を行い表面を一部硬化さ
せた後、鏡面ロールと接触させ、剥離した後、二次照射
を行い完全に硬化させる方法、および、基体上に電子線
重合性組成物を塗布した後最初の電子線照射を行い電子
線重合性組成物の硬化を行なった後、電子線重合性シリ
コーン組成物を塗布し二次照射を行い剥離層を形成させ
る方法もある。
When the surface of the release paper is further mirror-finished, the surface to be treated can be brought into contact with a mirror-finish roll and irradiated with an electron beam from the back side of the roll for curing to effect mirror-finish. Although it is significantly less economical than the method of completely curing with one-time irradiation, preliminary electron beam irradiation is performed in advance to partially cure the surface, contact with a mirror surface roll, peeling, and secondary irradiation to complete And a method of curing the electron beam polymerizable composition on the substrate, and after the first electron beam irradiation to cure the electron beam polymerizable composition, the electron beam polymerizable silicone composition is applied. There is also a method of forming a release layer by performing secondary irradiation.

型付けを施す場合には鏡面ロールに代えて型付けロー
ルを使用して微粗面等の所望の型付け面を得ることがで
きる。
When applying a mold, a desired mold surface such as a finely roughened surface can be obtained by using a mold roll instead of the mirror surface roll.

電子線特性として、透過力、硬化力の面から加速電圧
が50〜750Kvであり、より好ましくは100〜300Kvの電子
線加速器を用い、ワンパスの吸収線量が0.1〜20Mradに
なるようにすることが好ましい。
As the electron beam characteristics, the accelerating voltage is 50 to 750 Kv in terms of penetrating power and curing power, more preferably using an electron beam accelerator of 100 to 300 Kv, and the absorbed dose in one pass can be set to 0.1 to 20 Mrad. preferable.

電子線加速器としては例えば、エレクトロカーテンシ
ステム、スキャンニングタイプ、ダブルスキャンニング
タイプ等の何れでも良い。
The electron beam accelerator may be, for example, an electro curtain system, a scanning type, a double scanning type, or the like.

なお、電子線照射に際しては酸素濃度が高いと電子線
重合性組成物の硬化が妨げられるため、窒素、ヘリウ
ム、二酸化炭素等の不活性ガスによる置換を行い、酸素
濃度を600ppm以下、好ましくは400ppm以下に抑制した雰
囲気中で照射することが好ましい。
In addition, when irradiating with an electron beam, if the oxygen concentration is high, the curing of the electron beam polymerizable composition is hindered, so nitrogen, helium, substitution with an inert gas such as carbon dioxide is performed, and the oxygen concentration is 600 ppm or less, preferably 400 ppm. The irradiation is preferably performed in an atmosphere controlled as follows.

〔E〕作用 本発明は、剥離用シートの製造において剥離用基体上
に基体と接着性の良い電子線重合性組成物を塗布した
後、電式線重合性シリコーン組成物を塗布し、電子線照
射により硬化せしめて剥離用シートを製造するもので、
電子線重合性組成物により基体の目止めを行なうためシ
リコーン樹脂が基体にしみこまない。また、基体と接着
性の良い電子線重合性組成物を基体と電子線重合性シリ
コーン樹脂層の中間に用いることにより電子線重合性組
成物と電子線重合性シリコーン組成物との間で重合が行
なわれる。従って、シリコーン樹脂層と基体との密着性
が格段に向上する。また、製造工程におい高温処理を行
なわないため、高温処理に由来するカール、しわ、シリ
コーン樹脂層のピンホール等の発生を抑制する事ができ
る。
[E] Action In the present invention, in the production of a release sheet, an electron beam polymerizable silicone composition having good adhesion to a substrate is applied onto a release substrate, and then an electron beam polymerizable silicone composition is applied to the electron beam polymerizable silicone composition. It is cured by irradiation to produce a release sheet,
Since the substrate is sealed with the electron beam polymerizable composition, the silicone resin does not penetrate into the substrate. Further, by using an electron beam polymerizable composition having good adhesiveness to the substrate between the substrate and the electron beam polymerizable silicone resin layer, polymerization between the electron beam polymerizable composition and the electron beam polymerizable silicone composition is achieved. Done. Therefore, the adhesion between the silicone resin layer and the substrate is remarkably improved. Further, since the high temperature treatment is not performed in the manufacturing process, it is possible to suppress the occurrence of curls, wrinkles, pinholes, etc. in the silicone resin layer, which are caused by the high temperature treatment.

〔F〕実施例 以下、実施例により本発明を詳しく説明するが、本発
明の内容は実施例に限られるものではない。
[F] Examples Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to Examples, but the contents of the present invention are not limited to the Examples.

実施例−1 基体にサイズ剤としてアルキルケテンダイマーを使用
した坪量90g/m2の上質紙の片面にコロナ処理を施しグラ
ビアコーターを用いて電子線重合性組成物としてイソシ
アヌル酸ジアクリレート(東亜合成化学工業(株)製
品、商品名アロニックスM−215)を2g/m2の塗布量で塗
布した後、グラビアコーターを用いて電子線硬化性シリ
コーン樹脂(信越化学工業(株)、商品名X−62−716
8)を0.6g/m2の塗布量で塗布した。このようにして得ら
れたシートを電子線照射室内の酸素濃度を窒素ガス置換
により200ppm以下にした電子線照射装置(ESI社製、商
品名エレクトロカーテン、TYPE:CB200/45/300)内に導
き、電子線加速電圧175Kv、照射電流20mAの条件で吸収
線量4Mradになるように電子線照射した。得られた剥離
用シートについて粘着剤に対する剥離抵抗値、残留接着
率、ラブオフ、カール、しわ、ピンホールの有無の結果
を第1表に示す。
Example 1 Corona treatment was performed on one surface of a high-quality paper having a basis weight of 90 g / m 2 using an alkyl ketene dimer as a sizing agent for a substrate, and isocyanuric acid diacrylate was used as an electron beam polymerizable composition using a gravure coater (Toagosei Co., Ltd.). Chemical Industry Co., Ltd. product, trade name Aronix M-215, was applied at a coating amount of 2 g / m 2 and then electron beam curable silicone resin (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. trade name, X-) using a gravure coater. 62-716
8) was applied at a coating amount of 0.6 g / m 2 . The thus obtained sheet is introduced into an electron beam irradiation device (made by ESI, trade name Electro Curtain, TYPE: CB200 / 45/300) in which the oxygen concentration in the electron beam irradiation chamber has been reduced to 200 ppm or less by nitrogen gas substitution. The electron beam irradiation was performed so that the absorbed dose was 4 Mrad under the conditions of an electron beam acceleration voltage of 175 Kv and an irradiation current of 20 mA. Table 1 shows the results of the peeling resistance value with respect to the adhesive, the residual adhesion ratio, the rub-off, the curl, the wrinkles, and the presence of pinholes of the obtained release sheet.

実施例−2 実施例−1と同様にして、電子線重合性組成物のみを
2−ヒドロキシルエチルアクリルフォスフェート(共栄
社油脂化学工業(株)、商品名ライトエステルP−A)
を1.5g/m2の塗布量に変えて、他の条件を同じにして剥
離用シートを製造した。
Example-2 In the same manner as in Example-1, only the electron beam polymerizable composition was treated with 2-hydroxylethyl acrylic phosphate (Kyoeisha Oil and Fat Chemical Co., Ltd., trade name Light Ester PA).
Was changed to a coating amount of 1.5 g / m 2 and the other conditions were the same to produce a release sheet.

得られた剥離用シートについて粘着剤に対する剥離抵
抗値、残留接着率、ラブオフ、カール、しわ、ピンホー
ルの有無の結果を第1表に示す。
Table 1 shows the results of the peeling resistance value with respect to the adhesive, the residual adhesion ratio, the rub-off, the curl, the wrinkles, and the presence of pinholes of the obtained release sheet.

実施例−3 基体として坪量100g/m2のポリエチレンテレフタレー
トフィルム(三菱樹脂(株)、商品名ダイアホイル#10
0)を用い、片面にコロナ処理を施しグラビアコーター
を用いて以下に示すような電子線重合性組成物を2g/m2
の塗布量で塗布した。
Example-3 A polyethylene terephthalate film having a basis weight of 100 g / m 2 as a substrate (Mitsubishi Resins Co., Ltd., trade name Diafoil # 10)
0), corona treatment was applied to one side, and 2 g / m 2 of electron beam polymerizable composition as shown below was obtained using a gravure coater.
Was applied at the application amount.

エポキシ変性アクリレート TO−458 30部、 アクリレートモノマー M−5700 70部 (両方とも東亜合成化学工業(株)製品) 次に、グラビアコーターを用いて実施例−1と同様な
電子線硬化性シリコーン樹脂を0.6g/m2の塗布量で塗布
した後、実施例−1と同様な条件で電子線照射を行い硬
化して剥離用シートを得た。
Epoxy-modified acrylate TO-458 30 parts, acrylate monomer M-5700 70 parts (both are products of Toa Gosei Kagaku Kogyo Co., Ltd.) Next, an electron beam curable silicone resin similar to that of Example-1 was prepared using a gravure coater. After coating with a coating amount of 0.6 g / m 2 , electron beam irradiation was performed under the same conditions as in Example-1 to cure, and a release sheet was obtained.

得られた剥離用シートについて粘着剤に対する剥離抵
抗値、残留接着率、ラブオフ、カール、しわ、ピンホー
ルの有無の結果を第1表に示す。
Table 1 shows the results of the peeling resistance value with respect to the adhesive, the residual adhesion ratio, the rub-off, the curl, the wrinkles, and the presence of pinholes of the obtained release sheet.

比較例−1 実施例−1と同様な上質紙にコロナ処理を施し、電子
線重合性組成物を塗布することなく直接実施例−1と同
様な電子線重合性シリコーン組成物を塗布し、実施例−
1と同様な電子線照射により硬化を行なった。得られた
剥離用シートはシリコーン樹脂のほとんどが紙にしみこ
んだ物であった。この剥離用シートについて粘着剤に対
する剥離抵抗値、残留接着率、ラブオフ、カール、し
わ、ピンホールの有無の結果を第1表に示す。
Comparative Example-1 The same high-quality paper as in Example-1 was subjected to corona treatment, and the same electron beam-polymerizable silicone composition as in Example-1 was directly applied without applying the electron beam-polymerizable composition. Example-
Curing was performed by the same electron beam irradiation as in 1. The resulting release sheet was a paper in which most of the silicone resin had soaked into the paper. Table 1 shows the results of the peeling resistance with respect to the pressure-sensitive adhesive, the residual adhesion ratio, the rub-off, the curl, the wrinkle, and the presence or absence of pinholes for this release sheet.

比較例−2 実施例−3と同様なポリエチレンテレフタレートフィ
ルムを用い、片面にコロナ処理を施した後、電子線重合
性組成物を塗布することなくグラビアコーターを用いて
実施例−1と同様な電子線重合性シリコーン組成物を塗
布し、実施例−1と同様な電子線照射により硬化を行な
った。得られた剥離用シートについて粘着剤に対する剥
離抵抗値、残留接着率、ラブオフ、カール、しわ、ピン
ホールの有無の結果を第1表に示す。
Comparative Example-2 The same polyethylene terephthalate film as in Example-3 was used, and after corona treatment was applied to one side, the same electron as in Example-1 was obtained using a gravure coater without applying the electron beam polymerizable composition. A ray-polymerizable silicone composition was applied and cured by the same electron beam irradiation as in Example-1. Table 1 shows the results of the peeling resistance value with respect to the adhesive, the residual adhesion ratio, the rub-off, the curl, the wrinkles, and the presence of pinholes of the obtained release sheet.

比較例−3 実施例−1と同様な上質紙にコロナ処理を施し、熱硬
化型シリコーン樹脂(信越化学工業(株)、商品名KN
S、白金系触媒 CAT PL−8含有)をシリコーン重量が
乾燥状態で0.6g/m2の塗布量になるように塗布した。こ
のようにして得られたシートを140℃の乾燥器中で50秒
間加熱し硬化させた。得られた剥離用シートはシリコー
ン樹脂のほとんどが紙にしみこんだ物であった。この剥
離用シートについて粘着剤に対する剥離抵抗値、残留接
着率、ラブオフ、カール、しわ、ピンホールの有無の結
果を第1表に示す。
Comparative Example-3 The same high-quality paper as in Example-1 was subjected to corona treatment, and thermosetting silicone resin (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name KN
S, platinum catalyst CAT PL-8 included) was applied so that the silicone weight would be 0.6 g / m 2 in the dry state. The sheet thus obtained was heated and cured in a drier at 140 ° C. for 50 seconds. The resulting release sheet was a paper in which most of the silicone resin had soaked into the paper. Table 1 shows the results of the peeling resistance with respect to the pressure-sensitive adhesive, the residual adhesion ratio, the rub-off, the curl, the wrinkle, and the presence or absence of pinholes for this release sheet.

試験方法は以下の通りである。 The test method is as follows.

[剥離強度] 上質紙上に粘着剤(東洋インキ(株)製、製品名BP
S)を塗布し標準粘着シートとして使用した。得られた
剥離紙および剥離用シート(幅25mm)を20℃、湿度65%
の恒温恒湿器内で24時間放置した後、重量2000gの圧着
ローラーで標準粘着シートに圧着し20℃、湿度65%の恒
温恒湿器内で2時間放置後、テンシロン(東洋ボールド
ウィン(株)社製)で剥離角180゜、剥離速度30cm/分の
条件で連続して引き剥したときの荷重を剥離強度とす
る。
[Peel strength] Adhesive on high-quality paper (manufactured by Toyo Ink Co., Ltd., product name BP
S) was applied and used as a standard adhesive sheet. Obtain the release paper and release sheet (width 25 mm) at 20 ° C and humidity 65%
After being left in a constant temperature and humidity chamber for 24 hours, pressure-bonded to a standard adhesive sheet with a pressure roller of 2000 g and left in a constant temperature and humidity chamber at 20 ° C and a humidity of 65% for 2 hours, then Tensilon (Toyo Baldwin Co., Ltd.) The peel strength is defined as the load when peeled continuously under the conditions of a peel angle of 180 ° and a peel speed of 30 cm / min.

[残留接着率] 得られた剥離用シート(幅25mm)を20℃、湿度65%の
恒温恒湿器内で24時間放置した後、重量2000gの圧着ロ
ーラーで標準粘着シートに圧着し20℃、湿度65%、圧力
0.1kg/cm2の条件下で24時間加圧した。標準粘着シート
を剥離用シートより剥した後、表面を良く磨いた厚さ1.
5mmのステンレス鋼板にはりつけ、重量2000gの圧着ロー
ラーで圧着し20℃、湿度65%の恒温恒湿器内で1時間放
置後、テンシロンで剥離角180゜、剥離速度30cm/分の条
件で連続して引き剥したときの荷重を剥離強度として求
める。次に、表面を良く磨いた厚さ1.5mmのステンレス
鋼板に標準粘着シートをはりつけ、20℃、湿度65%、圧
力0.1kg/cm2の条件下で24時間加圧した。常圧に戻して
から、重量2000gの圧着ローラーで圧着し20℃、湿度65
%の恒温恒湿器内で1時間放置後、テンシロンで、剥離
角180゜、剥離速度30cm/分の条件で連続して引き剥した
ときの荷重を剥離強度として求める。残留接着率R
(%)は次の式により求められる。剥離用シートへ接触
後の粘着シートの剥離強度=Aとし、剥離用シート紙へ
未接触の粘着シートの剥離強度=Bとすると、R=(A/
B)×100 [ラブオフ] 剥離用シートのシリコーン面を指で強く擦り、シリコ
ーン面の剥離を目視により判定した。
[Residual Adhesion Rate] The obtained release sheet (width 25 mm) was left in a thermo-hygrostat at 20 ° C and a humidity of 65% for 24 hours, and then pressure-bonded to a standard pressure-sensitive adhesive sheet with a pressure-bonding roller weighing 2000 g at 20 ° C. Humidity 65%, pressure
Pressure was applied for 24 hours under the condition of 0.1 kg / cm 2 . After peeling the standard adhesive sheet from the release sheet, the surface is well polished to a thickness 1.
It is attached to a 5 mm stainless steel plate, pressure-bonded with a pressure roller of 2000 g, and left for 1 hour in a thermo-hygrostat at 20 ° C and a humidity of 65%. Then, it is continuously peeled off with a tensilon at a peeling angle of 180 ° and a peeling speed of 30 cm / min. The load when peeled off is obtained as the peel strength. Next, a standard pressure-sensitive adhesive sheet was attached to a stainless steel plate having a well-polished surface and a thickness of 1.5 mm, and pressure was applied for 24 hours under the conditions of 20 ° C., humidity 65%, and pressure 0.1 kg / cm 2 . After returning the pressure to normal pressure, press it with a pressure roller with a weight of 2000g and press it at 20 ℃ and humidity of 65.
% After being left for 1 hour in a thermo-hygrostat, the load when continuously peeling with Tensilon at a peeling angle of 180 ° and a peeling speed of 30 cm / min is obtained as the peeling strength. Residual adhesion rate R
(%) Is calculated by the following formula. If the peel strength of the pressure-sensitive adhesive sheet after contacting the release sheet = A and the peel strength of the pressure-sensitive adhesive sheet not in contact with the release sheet = B, then R = (A /
B) × 100 [lab-off] The silicone surface of the release sheet was rubbed strongly with a finger, and the release of the silicone surface was visually determined.

[ピンホール] 剥離用シートのシリコーン面を染料を溶かしたトルエ
ンで濡らし、裏面より染み込み具合いを観察した。
[Pinhole] The silicone surface of the release sheet was wetted with toluene in which a dye was dissolved, and the penetration condition was observed from the back surface.

[カールおよびしわ] 20℃、湿度65%の条件における相対比較により判定し
た。
[Curl and wrinkle] It was judged by relative comparison under the conditions of 20 ° C and humidity of 65%.

〔G〕発明の効果 実施例および比較例で作成した剥離用シートについて
粘着剤に対する剥離抵抗値、残留接着率、ラブオフ、カ
ール、しわ、ピンホールの有無の結果を第1表に示す。
第1表より明らかなように実施例1,2,3により得られた
剥離用シートは剥離強度が小さく残留接着率が大きい。
さらに高温加熱処理を施していないためカール、しわ、
ピンホールのない優れた特性を有している。これに対し
て同じ電子線重合性シリコーン組成物を用いても比較例
1のごとく電子線重合性組成物による下塗り層がないも
のはシリコーン樹脂が紙基体にしみこみ、結果として剥
離強度が大きくなり、シリコーン樹脂の成膜性が悪いた
めにピンホールも極めて多い。比較例3により得られた
剥離用シートも比較例2の剥離用シートとほぼ同じ欠点
を有し、かつ高温加熱処理に由来するカール、しわも著
しい。比較例2により得られた剥離用シートに関しては
シリコーン樹脂とポリエチレンテレフタレートフィルム
との接着性が悪く、シリコーン樹脂が摩擦により剥離す
るいわゆるラブオフの現象を起こすという欠点を有して
いた。
[G] Effect of the Invention Table 1 shows the results of the peeling resistance values with respect to the pressure-sensitive adhesive, the residual adhesion ratio, the rub-off, curl, wrinkles and pinholes of the peeling sheets prepared in Examples and Comparative Examples.
As is clear from Table 1, the peeling sheets obtained in Examples 1, 2 and 3 have a small peel strength and a high residual adhesion rate.
Curling, wrinkling, and
It has excellent characteristics without pinholes. On the other hand, even if the same electron beam-polymerizable silicone composition was used, as in Comparative Example 1, in the case where the electron beam-polymerizable composition was not used as the undercoat layer, the silicone resin soaked into the paper substrate, resulting in increased peel strength. There are very many pinholes because the film forming property of the silicone resin is poor. The peeling sheet obtained in Comparative Example 3 has almost the same drawbacks as the peeling sheet in Comparative Example 2, and the curls and wrinkles due to the high-temperature heat treatment are remarkable. The peeling sheet obtained in Comparative Example 2 had a drawback that the adhesion between the silicone resin and the polyethylene terephthalate film was poor and the silicone resin caused a so-called "lab-off" phenomenon of peeling due to friction.

以上記載したごとく本発明による方法により、カー
ル、しわ、ピンホール等の発生がなく、各種基体との接
着性に優れ、ラブオフの現象の起きない剥離用シートを
少ない工程で作成できる。
As described above, according to the method of the present invention, it is possible to produce a peeling sheet that does not cause curling, wrinkling, pinholes, etc., has excellent adhesiveness to various substrates, and does not cause a rub-off phenomenon in a small number of steps.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の剥離用シートの一例を示す側面概略図
である。 第2図は本発明の剥離用シート製造装置の一例を示す側
面概略図である。 1:基体シート、2:電子線重合性組成物、3:電子線重合性
シリコーン組成物、4:供給ロール、5:コーター、6:コー
ター、7:電子線照射装置、8:剥離用シート、9:巻き取り
ロール、10:コロナ発生装置。
FIG. 1 is a schematic side view showing an example of the peeling sheet of the present invention. FIG. 2 is a schematic side view showing an example of the release sheet manufacturing apparatus of the present invention. 1: base sheet, 2: electron beam polymerizable composition, 3: electron beam polymerizable silicone composition, 4: supply roll, 5: coater, 6: coater, 7: electron beam irradiation device, 8: release sheet, 9: Take-up roll, 10: Corona generator.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B32B 27/16 8413−4F ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI technical display location B32B 27/16 8413-4F

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】紙またはフィルム基体の少なくとも片面に
アクリロイル基またはメタクリロイル基を有し且つ有機
ポリシロキサンを含有しない電子線重合性組成物層を塗
布し、さらにその上に電子線重合性であり、かつ硬化後
に剥離性を有する組成物層を塗布した後、電子線照射に
より両層を同時に硬化させることにより作成したことを
特徴とする剥離用シート。
1. An electron beam polymerizable composition layer having an acryloyl group or a methacryloyl group and containing no organic polysiloxane is coated on at least one surface of a paper or film substrate, and further electron beam polymerizable, A peeling sheet, which is produced by applying a composition layer having releasability after curing and then simultaneously curing both layers by electron beam irradiation.
【請求項2】該電子線重合性であり、かつ硬化後に剥離
性を有する組成物が、分子末端、または側鎖にアクリロ
イル基、メタクリロイル基、ビニル基の中から選択され
る官能基を有する有機ポリシロキサンからなることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載の剥離用シート。
2. A composition which is polymerizable by electron beam and has releasability after curing has an organic group having a functional group selected from an acryloyl group, a methacryloyl group and a vinyl group at a molecular end or a side chain. The release sheet according to claim 1, which is made of polysiloxane.
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