JPH0888158A - 電子ビーム描画装置 - Google Patents

電子ビーム描画装置

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JPH0888158A
JPH0888158A JP6220731A JP22073194A JPH0888158A JP H0888158 A JPH0888158 A JP H0888158A JP 6220731 A JP6220731 A JP 6220731A JP 22073194 A JP22073194 A JP 22073194A JP H0888158 A JPH0888158 A JP H0888158A
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JP
Japan
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electron beam
tables
aperture
axis
drawing apparatus
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JP6220731A
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English (en)
Inventor
Shigeru Wakayama
茂 若山
Satoshi Yasuda
聡 安田
Takashi Haraguchi
貴史 原口
Yoshiaki Tsukumo
嘉明 津久茂
Hideo Nagai
秀雄 永井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】位置決め精度の向上を図ることを可能とし、も
って描画精度及び描画効率の向上が可能な電子ビーム描
画装置を提供することにある。 【構成】第2アパーチャを載置するテーブルを含む複数
のテーブルを備え且つ該複数のテーブル毎に実質的に独
立した異なる仮想移動軸を有する多軸テーブル機構と、
この多軸テーブル機構の前記複数のテーブル夫々を仮想
移動軸毎に多軸移動制御する移動制御部とから構成され
た位置決め機構を具備する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、LSI回路パターンの
如きパターンを描画するための電子ビーム描画装置に関
し、特に、第2アパーチャの位置決め機構を改良した電
子ビーム描画装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から、電子ビーム描画装置の描画方
式には、可変成形描画(Variable Shaped Beam Lithogra
phy:VSB)方式とキャラクター描画(Cell Projection Lit
hography:CP)方式とがあるが、いずれの方式において
も、第1アパーチャ像に対する第2アパーチャ孔の位置
決め機構としては、すべり軸受けにより回転座が回転ス
トローク±10(deg) 程度の範囲で回転移動するようにし
てθ方向のみを調整するような機構(θ方向位置決め機
構)が採用されていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、回転座を用い
たθ方向位置決め機構によりアパーチャ像に対する第2
アパーチャ孔の位置決めを行っていたため、該位置決め
機構の回転中心に対する中心軸のズレ量が大きく位置精
度の向上は望めなく、θ方向だけの調整だけでは描画精
度のみならずスループットの如き効率の点においても十
分なものは望めなかった。そこで本発明の目的は、位置
決め精度の向上を図ることを可能とし、もって描画精度
及び描画効率の向上が可能な電子ビーム描画装置を提供
することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の電子ビーム描画装置においては、第2アパ
ーチャを載置するテーブルを含む複数のテーブルを備え
且つ該複数のテーブル毎に実質的に独立した異なる仮想
移動軸を有する多軸テーブル機構と、この多軸テーブル
機構の前記複数のテーブル夫々を仮想移動軸毎に多軸移
動制御する移動制御部とから構成された位置決め機構を
具備する。
【0005】
【作用】本発明の電子ビーム描画装置によれば、多軸テ
ーブル機構及び移動制御部からなる位置決め機構を具備
しているから、第2アパーチャをθ方向のみならずX方
向及びY方向についても位置の調整が行え、位置決め精
度の向上を図ることが可能となり、もって描画精度及び
描画効率の向上が図られる。
【0006】
【実施例】本発明に係る電子ビーム描画装置は電子光学
系を有する。この電子光学系は、図1に示すように、電
子銃1と、照明系2と、第1アパーチャ3と、位置決め
機構100内に設けられる第2アパーチャ4と、第1ア
パーチャ3による第1アパーチャ像を第2アパーチャ4
上へ投影結像するための投影レンズ系5と、結像された
第1アパーチャ像を第2アパーチャ4の孔に対して位置
決めする第1偏向系6と、第1,第2アパーチャ像から
合成された合成アパーチャ像を縮小するための縮小レン
ズ系7と、この縮小アパーチャ像を試料面8上へ結像す
るための対物レンズ9と、縮小アパーチャ像を試料面上
8に位置決めするための第2偏向系10とを具備する。
【0007】この電子光学系は、本発明に係る位置決め
機構を具備する。この位置決め機構は、図2以降に各種
の実施例として示されており、いずれも第1アパーチャ
像に対して第2アパーチャの孔位置をθ,X,Y方向に
機械的に調整できる構成となっており、多軸テーブル機
構と移動制御部とからなる。
【0008】本発明における電子光学系は次のように作
用する。すなわち、電子銃1からの電子ビームを照明系
2によって第1アパーチャ3を照明し、投影レンズ系5
により第1アパーチャ像を、位置決め機構100により
θ,X,Y方向に位置決めされた第2アパーチャ4上へ
投影結像する。この像は、第1偏向系6により結像され
た第1アパーチャ像及び第2アパーチャの透孔に対し
て、VSB方式であれば、四角形又は三角形を選択し、
CP方式であれば所望の描画パターン上に位置決めす
る。
【0009】上記第1,第2アパーチャ像を合成して得
られた合成アパーチャ像を縮小するため、縮小レンズ系
7を介して対物レンズ9によりアパーチャ像を試料面上
へ結像させる。また、第2偏向系10により該結像され
たアパーチャ像を、マスクやウエハの如き試料面8上に
て位置決めし、描画することができる。
【0010】上記における位置決め機構100を、図2
以降において詳細に説明する。先ず、本発明に係る位置
決め機構の第1実施例を図2を参照して説明する。図2
に示すように、外容器101の内側に真空容器102が
配置されている。真空容器102の内側に、多軸テーブ
ル機構110が組込まれている。外容器101の外側に
は、移動制御部を構成する駆動部120,130,14
0が配置されている。
【0011】多軸テーブル機構110は、真空容器10
2の内側に十字形状の弾性ヒンジ111で支持されたθ
テーブル112と、このθテーブル112の内側に平行
板バネ113で支持されたXテーブル114と、このX
テーブル114の内側に平行板バネ115で支持された
Yテーブル116とからなる。弾性ヒンジ111は、θ
テーブル112と真空容器102との間に設けられてお
り、十字形状(放射状)の配置構成となっている。
【0012】平行板バネ113は、θテーブル112の
X方向に沿う一内辺とXテーブル114のX方向に沿う
一外辺との間であってY方向に伸長して設けられてい
る。平行板バネ115は、Xテーブル114のY方向に
沿う一内辺とXテーブル114のY方向に沿う一外辺と
の間であってX方向に伸長して設けられている。
【0013】駆動部120,130,140には、2本
のθ駆動ロッド121,X駆動ロッド131,Y駆動ロ
ッド141の夫々の一端部が連結されている。θ駆動ロ
ッド121の他端部はθテーブル112のX方向端部に
当接するように連結されている。X駆動ロッド131の
他端部はXテーブル114のX方向端部に当接するよう
に連結されている。Y駆動ロッド141の他端部はYテ
ーブル116のY方向端部に当接するように連結されて
いる。
【0014】また、外容器101、真空容器102及び
多軸テーブル機構110の各テーブル112,114,
116と、θ駆動ロッド121,X駆動ロッド131及
びY駆動ロッド141との間には、真空気密等のために
ベローズ122,132,142が設けられている。駆
動部120,130,140を駆動することにより、θ
駆動ロッド121,X駆動ロッド131及びY駆動ロッ
ド141がその伸長方向に伸縮され、これにより各テー
ブル112,114,116は夫々θ,X,Y方向に移
動される。なお、θテーブル112のθ方向への移動
は、2本のθ駆動ロッド121の伸縮量の差分によって
実現される。
【0015】以上の構成の下で、θテーブル112は弾
性ヒンジ111の弾性によって真空容器101の中心周
りに回転できる。Xテーブル114は平行板バネ113
の弾性によって、X方向の移動が可能である。Xテーブ
ル114は平行板バネ113を中心として、平行リンク
に類似する動きを呈し、X方向への移動に伴ってY方向
へもわずかに動く。Yテーブル116は平行板バネ11
5の弾性によって、Y方向の移動が可能なテーブルとな
っている。このYテーブル116は平行板バネ115を
中心として、平行リンクに類似する動きを呈し、Y方向
への移動に伴ってX方向へもわずかに動く。Yテーブル
116上にはアパーチャ(第2アパーチャ)4が固定さ
れる。ここで、以上の構成によれば、多軸テーブル機構
110及び移動制御部からなる位置決め機構100を具
備しているから、各テーブル112,114,116に
仮想される移動軸としてのθ軸,X軸及びY軸について
テーブル112,114,116夫々を独立して移動す
ることができるようになる。よって、第2アパーチャ4
をθ方向のみならずX方向及びY方向についても位置の
調整が行え、位置決め精度の向上を図ることが可能とな
り、もって電子ビーム描画装置として描画精度及び描画
効率の向上が図られる。
【0016】また、アパーチャ移動機構である位置決め
機構100におけるθ,X,Yテーブル112,11
4,116の支持機構を、弾性部材(十字型形状の弾性
ヒンジ111,平行板バネ113,平行板バネ115)
で構成することにより、θ,X,Yテーブル112,1
14,116相互間の移動に際してバックラッシュの防
止が図られる。なお、多軸テーブル機構110を構成す
るテーブル段数は3段に限らず、2段としてX,θテー
ブル又はX,Yテーブルとすることも可能である。 図
3は位置決め機構のうち多軸テーブル機構150だけを
示した斜視図である。この多軸テーブル機構150は、
θ,X,Yテーブル151,152,153及び各テー
ブル151,152,153間を連結する弾性部材15
4,155,156を、削り出し加工等により一体加工
で製作した実施例である。このような一体加工の多軸テ
ーブル機構150であれば、多軸テーブル機構150に
置かれる図示しないアパーチャの位置決め精度は高めら
れる。
【0017】図3に示すように、θテーブル151の回
転中心は、中心線157,158の交点であり、図示し
ない真空容器の中心にある電子ビームの光路と一致して
いる。中心線157,159の交点はXテーブル152
の回転中心であり、電子ビームの光路からY方向に偏心
している。中心線159,160の交点はYテーブル1
53の回転中心であり、電子ビームの光路からX方向に
偏心している。なお、弾性部材としての十字型形状の弾
性ヒンジ111に代えて、軸受け機構の如き回転機構を
用いることにより本発明のθ,X,Yテーブルを持つ多
軸テーブル機構を構成することができる。
【0018】次に移動制御部を構成する駆動部、駆動ロ
ッド及びベローズの動作について、移動制御部の要部を
示した図4を参照して説明する。図4に示す位置決め機
構においては、真空容器160の外部にX,Y駆動部1
61,162を設け、ベローズ163を介して十分な剛
性を持つ駆動ロッド164,165を真空容器160の
内部に導入し、中央テーブル166に駆動ロッド16
4,165をピン支持したものである。中央テーブル1
66は図2及び図3ではYテーブル116,153に相
当する。
【0019】以上の構成の下で、駆動部161,162
を矢印167,171の方向に動かすと、中央テーブル
166はX方向へ移動できる。駆動部161,162を
矢印167,168の方向に動かすと、中央テーブル1
66はY方向へ移動できる。駆動部161,162を矢
印167,169の方向に動かすと、中央テーブル16
6はθ方向へ移動できる。なお、駆動ロッド164をX
方向及びY方向の剛性を高く、駆動ロッド165をX方
向には柔構造としY方向だけ剛性を高くすることによ
り、θ方向の回転量を大きくすることができる。
【0020】以上のように中央テーブル166を直接駆
動することにより、図示しない周辺テーブル(θテーブ
ル,Xテーブル)の動きを中央テーブル166の動きに
従属させて動かすことができ、これによりアパーチャを
保持する中央テーブル166の高精度な位置決めが実現
できる。
【0021】なお、本実施例のように、駆動部分を真空
容器の外に設置することで、真空域内での駆動部の大き
さ、潤滑などの油、構成材料に制限されない駆動機構が
実現できる。さらに、駆動部分を真空域外に設置するこ
とで、駆動部分から発生する塵を真空域に入れることが
なく、クリーンなアパーチャ移動機構を構成することが
できる。
【0022】上述した各実施例における多軸テーブル機
構における各デーブルは略環状体であり、且つ各環状テ
ーブルは、真空容器の中心にある電子ビームの光路に対
して同心配置されていた。しかし、図5に示すように各
テーブルを電子ビームの光路に対して偏心配置すること
ができる。
【0023】図5に示す多軸テーブル機構においては、
真空容器180内において、十字型弾性ヒンジ181に
よる3段のテーブル182,183,184を組み合わ
せ、θ,X,Yテーブル182,183,184を実現
したものである。θテーブル182は図示しない真空容
器の中心周りに回転させることができ、またXテーブル
183は回転中心をY方向に偏心させることにより、ア
パーチャ185を主としてX方向へ移動でき、さらにY
テーブル184は回転中心をX方向へ偏心させることに
より、アパーチャ185を主としてY方向へ移動できる
ものである。
【0024】次に、図6及び図7を参照して第1実施例
の変形例である本発明に係る位置決め機構の第3実施例
について説明する。すなわち、θテーブルに相当する第
1テーブル190は、ベース191からボールベアリン
グの如き軸受け192により支持されている。Xテーブ
ルに相当する第2テーブル193は、第1テーブル19
0に対しボールベアリングの如き軸受け194により支
持されている。Yテーブルに相当する第3のテーブル1
95は、第2テーブル193に対してボールベアリング
の如き軸受け196により支持されている。
【0025】さらにアパーチャー196は、第3のテー
ブル195の中心195Aから偏心した位置に配置され
ている。ここに、第2テーブル193の中心193A
は、第1テーブル190の中心190Aから偏心した位
置に設定されている。第3のテーブル195の中心19
5Aは、第2テーブル193の中心193Aから偏心し
た位置に設定される。
【0026】このように構成されたテーブル190,1
93,195はそれぞれ回転自由であるため、ベース1
91又はベース191の外部に設けた駆動部によりそれ
ぞれ独立して駆動することにより、電子ビームの光路に
対してアパーチャー197を微小範囲内で任意の位置に
持っていくことができる。第1テーブル190がθ方向
に、第2、第3のテーブル193,195がX,Y方向
に移動することができる。
【0027】次に本発明の第4実施例について図8を参
照して説明する。すなわち、真空容器200の内側に、
駆動ロッド201,202、テーブル203及びピン2
04を配置し、多軸テーブル機構を構成する。このテー
ブル203は、円形ガイド205とY方向に長穴の長穴
ガイド206とが設けてある。駆動ロッド201,20
2の一端部にはピン204が設けてあり、円形ガイド2
05及び長穴ガイド206に嵌込まれている。駆動ロッ
ド201,202の他端部には駆動部207,208が
設けられている。駆動ロッド201,202は、ベロー
ズ209により真空容器200を介して設けられてい
る。
【0028】ここで、駆動ロッド201,202をXY
方向に移動させることによりテーブル203は、θ,
X,Y方向に移動される。駆動部207により駆動ロッ
ド201を、図示符号210,211又は212,21
3方向に移動させると、テーブル203は円形ガイド2
05と長穴ガイド206とでガイドされているため、θ
方向に回転できる。
【0029】またテーブル203をX方向へ移動させる
には、駆動ロッド201,202を、図示符号210,
212又は211,213方向へ移動させる。同様にテ
ーブル203をY方向へ移動させるには、駆動部20
7,208により駆動ロッド201,202を図示符号
214方向へ移動させる。
【0030】次に本発明の第5実施例を図9及び図10
を参照して説明する。すなわち、本実施例におけるテー
ブル220は、真空容器221の内部に配置されてい
る。テーブル220には、X方向に長穴であり且つX方
向に離間した2つの長穴カイド222及びY方向に半径
Rで円弧長穴ガイド223が設けてある。
【0031】テーブル220のガイド222,223に
その一端部が連結し、その他端部が真空容器221の外
側に配置された駆動部224,225,226に連結さ
れた駆動ロッド227,228,229が設けられてい
る。駆動ロッド227,228,229の一端部には段
付きピン230が設けてあり、長穴ガイド222及び円
弧ガイド223に嵌込まれている。なお、符号231は
電子ビームの透過穴、符号232はベローズ、符号23
4はアパーチャである。
【0032】また図10に示すように、駆動ロッド22
7の一端部に設けた段付きピン230及び止めリング2
35により、テーブル220は、Z方向に支持されてい
る。テーブル220は段付きピン230の段部でZ方向
に支持され、止めリング235が設けられているので、
テーブル220は段付きピン230から外れない。駆動
ロッド227,228をZ方向に移動させると、テーブ
ル220はZ方向に移動可能である。
【0033】このテーブル220は、駆動ロッド22
7,228,229を移動させることにり、θ,X,Y
方向に移動できる。駆動ロッド227,228を図示符
号236,239又は237,238の方向に移動させ
ると、テーブル220は長穴ガイド222でガイドされ
ているためθ方向に回転できる。このときX方向の駆動
ロッド238に接続されているピン230が円弧ガイド
223に嵌込まれているため、テーブル220はX方向
に移動しない。テーブル220をY方向へ移動させるに
は、駆動ロッド227,238を236,237又は2
38,239の方向へ移動させる。同様にテーブル22
0をX方向へ移動させるには、駆動ロッド229を24
0の方向へ移動させる。
【0034】駆動ロッド227,228,229は、
X,Y方向に配置されているが1方向に全て配置するこ
とも可能であり、全ての方向から配置が可能である。テ
ーブル220に設けた長穴は、テーブル220がθ,
X,Y方向に移動が可能であれば長穴の数及び形状は何
等限定されるものではない。
【0035】次に、本発明の第6の実施例について図1
1を参照して説明する。電子ビームを成形するアパーチ
ャ241はステージ242上に支持される。長さが同一
のリンク243,244により、一対の平行リンクを形
成する。リンク243,244の一方の連結部243
a,244aは、ステージ242の一辺の中央と端に連
結される。またリンク243,244の他方の連結部2
43b,244bは、直進駆動機構246,247に連
結される。
【0036】ここで連結部243a,244aは、平面
運動が可能なように水平方向に回転可能、かつ上下方向
には回転を拘束した自由度1の回り対偶である。また連
結部243b,244bは、連結部243a,244a
と同様の回り対偶と軸方向にのみ動くことが可能な滑り
対偶を組み合わせた自由度2スライダ・クランク機構で
ある。
【0037】リンク245は、単リンクであり、一方の
連結部245aは、ステージ242におけるリンク24
3,244が連結されている辺と90°異なる辺の中央
に連結される。またリンク245の他方の連結部245
bは、直進駆動機構248に連結される。
【0038】ここで連結部245aは、リンク243,
244の連結部243a,244aと同様の回り対偶で
ある。また連結部245bは、リンク243,244の
連結部243b,244bと同様の回り対偶と、滑り対
偶とを組み合わせた機構である。
【0039】なお、真空容器250の内側の真空領域に
ステージ242を配置し、また真空容器250の外側に
直進駆動部246,247,248を配置し、直進駆動
部の駆動を妨げずにベローズ251,252,253に
てシールしている。
【0040】図11で示すX方向にステージ242を移
動するには、直進駆動機構248によりリンク245を
移動させる。これによりステージ242は、リンク24
3,244によって水平面内を並進かつ円弧運動をする
ことになる。この場合、直進駆動機構246,247に
よりリンク243,244の移動量を補正することによ
り、ステージ242は直進することができる。
【0041】同様にY方向にステージ242を移動する
には、直進駆動機構246,247によりリンク24
3,244を同時に同じ移動量を移動させる。これによ
りステージ242はリンク245によって水平面内を並
進かつ円弧運動をすることになる。この場合、直進駆動
機構248によりリンク245の移動量を補正すること
により、ステージ242は直進することができる。θ方
向回転の1例としてステージ242を連結部243aを
中心に回転させる方法を示す。このとき、連結部243
aはステージ242の中央辺に設けられる場合である。
すなわち、直進駆動機構246を停止し、直進駆動機構
247によりリンク244を移動し、ステージ242を
回転させる。このときリンク245がステージ242の
回転を妨げないように直進駆動機構248にて補正した
量を動かすことにより、ステージ242は連結部243
aを中心として回転することができる。符号249は直
進駆動機構の制御系である。またステージ中心で回転さ
せる場合は上記回転方法にさらにX,Y各々の方向のオ
フセット分を補正すればよい。
【0042】
【発明の効果】以上のように本発明では、多軸テーブル
機構及び移動制御部からなる位置決め機構を具備してい
るから、θ方向のみならずX方向及びY方向についての
第2アパーチャの位置調整が可能となり、位置決め精度
の向上を図ることが可能となり、もって描画精度及び描
画効率の向上が図られるようにした電子ビーム描画装置
を提供できるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る電子ビーム描画装置の電子光学系
を示す概略図。
【図2】本発明に係る電子ビーム描画装置の位置決め機
構の第1実施例を示す横断面図。
【図3】図2における多軸テーブル機構の斜視図。
【図4】図2における移動機構の他の実施例を示す構成
図。
【図5】本発明に係る電子ビーム描画装置の位置決め機
構の第2実施例を示す多軸テーブル機構の横断面図。
【図6】本発明に係る電子ビーム描画装置の位置決め機
構の第3実施例を示す横断面図。
【図7】図6の縦断面図。
【図8】本発明に係る電子ビーム描画装置の位置決め機
構の第5実施例を示す横断面図。
【図9】本発明に係る電子ビーム描画装置の位置決め機
構の第4実施例を示す横断面図。
【図10】図9におけるA−A断面図。
【第11図】本発明に係る電子ビーム描画装置の位置決
め機構の第6実施例を示す横断面図。
【符号の説明】
100…位置決め機構、101…外容器、102…真空
容器、110…多軸テーブル機構、120,130,1
40…駆動部、111…十字形状の弾性ヒンジ、112
…θテーブル、113…平行板バネ、114…Xテーブ
ル、115…平行板バネ、116…Yテーブル、121
…θ駆動ロッド、131…X駆動ロッド、141…Y駆
動ロッド、122,132,142…ベローズ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 津久茂 嘉明 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株 式会社東芝研究開発センター内 (72)発明者 永井 秀雄 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株 式会社東芝研究開発センター内

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1アパーチャ像に対する第2アパーチ
    ャ孔の位置決め機構を真空容器内に配置してなる電子ビ
    ーム描画装置において、 前記位置決め機構は、 前記第2アパーチャを載置するテーブルを含む複数のテ
    ーブルを備え且つ該複数のテーブル毎に実質的に独立し
    た異なる仮想移動軸を有する多軸テーブル機構と、 この多軸テーブル機構の前記複数のテーブル夫々を仮想
    移動軸毎に多軸移動制御する移動制御部とから構成され
    ていることを特徴とする電子ビーム描画装置。
  2. 【請求項2】 前記多軸テーブル機構の複数のテーブル
    相互間を連結する弾性部材を具備することを特徴する請
    求項1に記載の電子ビーム描画装置。
  3. 【請求項3】 前記多軸テーブル機構の複数のテーブル
    夫々は略環状体からなり、当該略環状体は同心状又は偏
    心状に配置されてなることを特徴とする請求項1に記載
    の電子ビーム描画装置。
  4. 【請求項4】 前記多軸テーブル機構の複数のテーブル
    には取付溝が形成されてなり、当該取付溝に一端が当接
    可能に配置される駆動ロッドを設け、当該駆動ロッドの
    他端部を前記真空容器の外部に設けた駆動源により駆動
    するようにしたことを特徴とする請求項1に記載の電子
    ビーム描画装置。
  5. 【請求項5】 前記多軸テーブル機構の複数のテーブル
    相互間に介在された軸受け機構を具備することを特徴す
    る請求項1に記載の電子ビーム描画装置。
  6. 【請求項6】 前記移動制御部は、前記多軸テーブル機
    構の複数のテーブルを並進及び円弧運動させるための手
    段を具備することを特徴とする請求項1に記載の電子ビ
    ーム描画装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003188094A (ja) * 2001-10-19 2003-07-04 Asml Us Inc リソグラフィのパターニングにおいて用いるウェハ処理のシステムおよび方法
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