JPH09101493A - Manufacturing method of liquid crystal display element - Google Patents
Manufacturing method of liquid crystal display elementInfo
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- JPH09101493A JPH09101493A JP25791195A JP25791195A JPH09101493A JP H09101493 A JPH09101493 A JP H09101493A JP 25791195 A JP25791195 A JP 25791195A JP 25791195 A JP25791195 A JP 25791195A JP H09101493 A JPH09101493 A JP H09101493A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 表示むらが生じるのを可及的に防止する。
【解決手段】 透明な基板2上に電極3及び配向膜4を
形成する工程と、配向膜が形成された基板1上にスペー
サ6とフォトレジスト7の混合層を形成する工程と、フ
ォトレジストの膜厚がスペーサの径にほぼ等しくなるよ
うに前記混合層を加圧し、露光する工程と、混合層を現
像する工程と、を備えていることを特徴とする。
(57) [Abstract] [Problem] To prevent display unevenness as much as possible. SOLUTION: A step of forming an electrode 3 and an alignment film 4 on a transparent substrate 2, a step of forming a mixed layer of a spacer 6 and a photoresist 7 on a substrate 1 on which the alignment film is formed, The method is characterized by comprising a step of pressurizing and exposing the mixed layer so that the film thickness becomes substantially equal to the diameter of the spacer, and a step of developing the mixed layer.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示素子の製造
方法に関する。TECHNICAL FIELD The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display device.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、薄型軽量、低消費電力という利点
を持つ液晶表示素子は、日本語ワードプロセッサやデス
クトップパーソナルコンピュータ等のパーソナルOA機
器の表示装置として積極的に用いられている。用途が広
がるとともに液晶表示素子の大画面化、高精細化、高コ
ントラスト化、高表示品位等の要求性は高くなってきて
いる。液晶表示素子は大画面、高精細になるほど、高コ
ントラスト化、高表示品位化を実現するのは困難にな
る。この原因の一つとして、大面積になるほど全面に渡
って液晶層の厚さを均一に保つことが困難になり、液晶
層の厚さのむらが増大することが挙げられる。2. Description of the Related Art In recent years, liquid crystal display elements, which have the advantages of thinness, light weight, and low power consumption, have been actively used as display devices for personal OA equipment such as Japanese word processors and desktop personal computers. Along with the widespread use of the liquid crystal display devices, the demands for large screens, high definition, high contrast and high display quality of liquid crystal display devices are increasing. As the liquid crystal display device has a larger screen and higher definition, it becomes more difficult to realize high contrast and high display quality. One of the causes for this is that it becomes difficult to keep the thickness of the liquid crystal layer uniform over the entire surface as the area increases, and the unevenness of the thickness of the liquid crystal layer increases.
【0003】図5に従来の液晶表示素子の一般的な構造
を示す。この図5に示す液晶表示素子は単純マトリス駆
動方式の液晶表示素子であって走査電極基板1と、信号
電極基板11と、これらの基板間に封入された液晶組成
物24と、基板間の間隙を一定に保つスペーサ6とを備
えている。FIG. 5 shows a general structure of a conventional liquid crystal display device. The liquid crystal display element shown in FIG. 5 is a liquid crystal display element of a simple Matrices driving system, and includes a scanning electrode substrate 1, a signal electrode substrate 11, a liquid crystal composition 24 sealed between these substrates, and a gap between the substrates. And a spacer 6 for keeping the above constant.
【0004】走査電極基板1は次のように形成される。
まず透明なガラス基板2上にITO(Indium Tin Oxid
e)膜を堆積し、パターニングすることにより帯状の走
査電極3を形成する。続いてガラス基板2の主面(走査
電極3が形成された面)に配向膜4を堆積し、ラビング
処理を行うことによって走査電極基板1を完成する。The scanning electrode substrate 1 is formed as follows.
First, ITO (Indium Tin Oxid) is formed on the transparent glass substrate 2.
e) A film-shaped scanning electrode 3 is formed by depositing and patterning a film. Then, the alignment film 4 is deposited on the main surface of the glass substrate 2 (the surface on which the scanning electrodes 3 are formed), and a rubbing process is performed to complete the scanning electrode substrate 1.
【0005】一方信号電極基板11は次のように形成さ
れる。まず透明なガラス基板12上にITO膜を堆積
し、パターニングすることによって帯状の信号電極13
を形成し、続いてガラス基板12の主面(信号電極13
が形成された面)に配向膜14を堆積し、ラビング処理
を行うことによって信号電極基板11を完成する。On the other hand, the signal electrode substrate 11 is formed as follows. First, an ITO film is deposited on a transparent glass substrate 12 and patterned to form a strip-shaped signal electrode 13.
Then, the main surface of the glass substrate 12 (the signal electrode 13
The alignment film 14 is deposited on the surface on which the signal electrodes are formed, and a rubbing process is performed to complete the signal electrode substrate 11.
【0006】そして上記2枚の基板1,11のうち一方
の基板、例えば走査電極基板1上に球状のスペーサ6を
複数個散布し、他方の基板11上に熱硬化性のシール剤
21を印刷する。このとき、後で液晶が注入できるよう
に印刷されたシール剤に注入口(図示せず)を設けてお
く。A plurality of spherical spacers 6 are dispersed on one of the two substrates 1 and 11, for example, the scanning electrode substrate 1, and a thermosetting sealant 21 is printed on the other substrate 11. To do. At this time, an injection port (not shown) is provided in the printed sealant so that liquid crystal can be injected later.
【0007】続いて基板1と基板11を、走査電極3と
信号電極13が直交するように張り合わせて加圧すると
ともに加熱し、シール剤21を硬化させることによって
基板1と基板11を固定する。Subsequently, the substrate 1 and the substrate 11 are attached to each other so that the scanning electrode 3 and the signal electrode 13 are orthogonal to each other, pressed and heated, and the sealant 21 is hardened to fix the substrate 1 and the substrate 11.
【0008】次に上記注入口より基板1と基板11の間
隙に液晶組成物24を注入し、注入後、上記注入口を紫
外線硬化樹脂を用いて封止する。これにより液晶表示素
子を完成する。Next, the liquid crystal composition 24 is injected into the gap between the substrate 1 and the substrate 11 through the injection port, and after the injection, the injection port is sealed with an ultraviolet curable resin. Thereby, the liquid crystal display element is completed.
【0009】このようにして製造された液晶表示素子に
おいては、スペーサ6が均一に散布できず、むらが生じ
たり、スペーサ6により表示画面のコントラストが低下
したり、スペーサ6の凝集による微小な斑点が表示画面
に生じたりして表示性能を著しく低下させるという問題
があった。In the liquid crystal display device manufactured as described above, the spacers 6 cannot be evenly dispersed to cause unevenness, the spacer 6 reduces the contrast of the display screen, and minute spots due to aggregation of the spacers 6. Has occurred on the display screen, resulting in a significant decrease in display performance.
【0010】この問題を解決するためにスペーサ6の散
布前又は散布後にフォトレジスト等の樹脂を塗布するこ
とによってスペーサ6を所望の位置に必要な密度で選択
的に固定する方法が提案されている。In order to solve this problem, a method has been proposed in which a resin such as a photoresist is applied before or after the spacers 6 are scattered to selectively fix the spacers 6 at desired positions at a required density. .
【0011】[0011]
【発明が解決しようとする課題】上述のようにスペーサ
6を所望の位置に必要な密度で選択的に固定する方法に
よって製造された液晶表示素子には基板間隙の精度が悪
くなるという問題がある。この問題を図6を参照して説
明する。As described above, the liquid crystal display device manufactured by the method of selectively fixing the spacers 6 at a desired position with a required density has a problem that the accuracy of the substrate gap becomes poor. . This problem will be described with reference to FIG.
【0012】基板(図示せず)にフォトレジスト層7を
塗布した後にスペーサ6を散布した場合に起こり得るス
ペーサ6とフォトレジスト層7の状態を図6(a),
(b)に示し、基板にスペーサ6を散布した後にフォト
レジスト層7を塗布した場合もしくはスペーサ6とフォ
トレジスト層7の混合物を基板に塗布した場合に起こり
得るスペーサ6とフォトレジスト層7の状態を図6
(c),(d)に示す。The state of the spacer 6 and the photoresist layer 7 which may occur when the spacer 6 is sprayed after the photoresist layer 7 is applied to the substrate (not shown) is shown in FIG.
The state of the spacer 6 and the photoresist layer 7 shown in (b) which can occur when the photoresist layer 7 is applied after the spacer 6 is sprayed on the substrate or when the mixture of the spacer 6 and the photoresist layer 7 is applied to the substrate. Figure 6
(C) and (d) show.
【0013】ここでスペーサ6の径(所望の基板間隙)
をd1 とし、フォトレジスト層7の膜厚をd2 とする。
図6(a)および図6(c)に示す状態の場合は、所望
の基板間隙d1 を得ることができる。ところが、図6
(b)および図6(d)に示す状態の場合は液晶層の膜
厚、すなわち基板間隙は所望の値d1 よりも大きくな
り、表示むらが生じることになる。Here, the diameter of the spacer 6 (desired substrate gap)
Is d 1 and the film thickness of the photoresist layer 7 is d 2 .
In the case of the state shown in FIGS. 6A and 6C, a desired substrate gap d 1 can be obtained. However, FIG.
In the case of the state shown in (b) and FIG. 6 (d), the film thickness of the liquid crystal layer, that is, the substrate gap becomes larger than the desired value d 1 , resulting in display unevenness.
【0014】本発明は上記事情を考慮してなされたもの
であって、表示むらが生じるのを可及的に防止すること
のできる液晶表示素子を提供することを目的とする。The present invention has been made in consideration of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device capable of preventing display unevenness as much as possible.
【0015】[0015]
【課題を解決するための手段】本発明による液晶表示素
子の製造方法の第1の態様は、透明な基板上に電極及び
配向膜を形成する工程と、前記配向膜が形成された基板
上にスペーサとフォトレジストの混合層を形成する工程
と、前記フォトレジストの膜厚が前記スペーサの径にほ
ぼ等しくなるように前記混合層を加圧し、露光する工程
と、前記混合層を現像する工程と、を備えていることを
特徴とする。A first aspect of a method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention comprises a step of forming an electrode and an alignment film on a transparent substrate, and a step of forming the electrode and the alignment film on the substrate on which the alignment film is formed. A step of forming a mixed layer of spacers and a photoresist; a step of pressurizing and exposing the mixed layer so that a film thickness of the photoresist is approximately equal to a diameter of the spacer; and a step of developing the mixed layer. , Are provided.
【0016】また本発明の製造方法の第2の態様は第1
の態様の液晶表示素子において、前記混合層を加圧し、
露光する工程は、前記混合層上にフォトマスクを設けこ
のフォトマスクを加圧しながら露光することを特徴とす
る。The second aspect of the manufacturing method of the present invention is the first aspect.
In the liquid crystal display element of the aspect, the mixed layer is pressed,
The step of exposing is characterized in that a photomask is provided on the mixed layer, and the photomask is exposed under pressure.
【0017】また本発明の製造方法の第3の態様は第2
の態様の製造方法において、前記混合層と前記フォトマ
スクが接着するのを防止するために前記混合層と前記フ
ォトマスクとの間に、接着防止層を設けることを特徴と
する。The third aspect of the manufacturing method of the present invention is the second aspect.
In the manufacturing method of the above aspect, an adhesion preventive layer is provided between the mixed layer and the photomask to prevent the mixed layer and the photomask from adhering to each other.
【0018】また本発明の製造方法の第4の態様は第1
の態様の製造方法において、前記混合層を加圧し、露光
する工程は、前記混合層を加圧した後にフォトマスクを
用いて露光することを特徴とする。The fourth aspect of the manufacturing method of the present invention is the first aspect.
In the manufacturing method of the aspect, in the step of pressurizing and exposing the mixed layer, the mixed layer is pressed and then exposed using a photomask.
【0019】また本発明の製造方法の第5の態様は第1
の態様の製造方法において、前記混合層を前記基板上に
形成する工程はドライフィルムフォトレジストを用いて
行うことを特徴とする。The fifth aspect of the manufacturing method of the present invention is the first aspect.
In the manufacturing method of the above aspect, the step of forming the mixed layer on the substrate is performed using a dry film photoresist.
【0020】[0020]
【発明の実施の形態】本発明による液晶表示素子の製造
方法の第1の実施の形態を図1及び図2を参照して説明
する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION A first embodiment of a method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention will be described with reference to FIGS.
【0021】この実施の形態の製造方法は単純マトリッ
クス駆動方式のSTN型液晶表示素子の製造方法であっ
てその製造工程を図1に示し、この実施の形態の製造方
法によって製造された液晶表示素子の構成断面図を図2
に示す。The manufacturing method of this embodiment is a manufacturing method of a STN type liquid crystal display element of a simple matrix drive system, and the manufacturing process is shown in FIG. 1, and the liquid crystal display element manufactured by the manufacturing method of this embodiment is shown. Figure 2 is a cross-sectional view of the configuration of
Shown in
【0022】液晶セルを構成する走査電極基板1は次の
ように形成される。まずSiOxを主成分とする青板ガ
ラスからなる厚さが例えば1.1mmの透明基板2の表面
にRGBからなるカラーフィルタ層(図示せず)を形成
した後、このカラーフィルタ層を覆うように例えばアク
リル系の樹脂からなる保護層(図示せず)を形成する。
そしてこの保護層上にITO膜を蒸着し、パターニング
することにより例えば640本の走査線からなる帯状の
走査電極3を形成する。このとき表示領域にかかる帯状
の走査線の幅は例えば0.27mm、走査線間隔は0.0
3mmである。続いて走査電極3を覆うようにポリイミド
からなる膜を堆積した後、ラビング処理を行い、配向膜
4を形成する。The scanning electrode substrate 1 forming the liquid crystal cell is formed as follows. First, a color filter layer (not shown) made of RGB is formed on the surface of a transparent substrate 2 made of soda lime glass having SiO x as a main component and having a thickness of 1.1 mm, for example, and then the color filter layer is covered. For example, a protective layer (not shown) made of acrylic resin is formed.
Then, an ITO film is vapor-deposited on this protective layer and patterned to form a strip-shaped scanning electrode 3 composed of, for example, 640 scanning lines. At this time, the width of the strip-shaped scanning lines in the display area is 0.27 mm, and the scanning line interval is 0.0
It is 3 mm. Then, after depositing a film made of polyimide so as to cover the scanning electrodes 3, a rubbing process is performed to form an alignment film 4.
【0023】一方、信号電極基板11はSiOxを主成
分とした青板ガラスからなる厚さが1.1mmの透明基板
12の表面にITO膜を蒸着し、パターニングすること
により240本の信号線を有する帯状の信号電極13を
形成する。このとき、表示領域にかかる信号線の幅は例
えば0.27mm、信号線間隔は0.03mmである。続い
て、この信号電極13を覆うようにポリイミドからなる
膜を堆積した後、ラビング処理を行うことによって配向
膜14を形成する。On the other hand, in the signal electrode substrate 11, an ITO film is vapor-deposited on the surface of a transparent substrate 12 having a thickness of 1.1 mm, which is made of soda lime glass having SiO x as a main component, and patterned to form 240 signal lines. The strip-shaped signal electrode 13 having the same is formed. At this time, the width of the signal line in the display area is, for example, 0.27 mm, and the signal line interval is 0.03 mm. Subsequently, after depositing a film made of polyimide so as to cover the signal electrode 13, a rubbing process is performed to form an alignment film 14.
【0024】なお、配向膜4と配向膜14のラビング
は、基板1と基板14を対向配置した場合に液晶組成物
が240°ねじれて配向するように行う。The alignment film 4 and the alignment film 14 are rubbed so that the liquid crystal composition is twisted by 240 ° and aligned when the substrates 1 and 14 are opposed to each other.
【0025】次に走査電極基板1に対して以下の処理を
施す。配向膜4の形成された基板1上に粒径5μmの樹
脂スペーサ6を密度が70個/mm2 となるように散布し
た後、フォトレジストを約2000オングストロームの
厚さに塗布し、レジスト層7を形成する(図1(a)参
照)。次に図1(b)に示すようにレジスト層7上に例
えばポリエチレンテレフタラートからなる透明なシート
層8を形成する。このシート層8は加圧時に後述のマス
ク9とレジスト層7が接着するのを防止するために設け
たものであり、レジスト層7とマスク9が接着するおそ
れがない場合は設けなくても良い。Next, the scan electrode substrate 1 is subjected to the following processing. A resin spacer 6 having a particle size of 5 μm was dispersed on the substrate 1 on which the alignment film 4 was formed so that the density was 70 pieces / mm 2, and then a photoresist was applied to a thickness of about 2000 Å to form a resist layer 7 Are formed (see FIG. 1A). Next, as shown in FIG. 1B, a transparent sheet layer 8 made of, for example, polyethylene terephthalate is formed on the resist layer 7. The sheet layer 8 is provided to prevent the mask 9 and the resist layer 7 which will be described later from adhering to each other at the time of pressurization, and may be omitted if there is no risk of the resist layer 7 and the mask 9 adhering to each other. .
【0026】次に図1(c)に示すように上記シート層
8上にフォトマスク9を載せ、レジスト層7の厚さがス
ペーサ6の直径にほぼ等しくなるように加圧しながら露
光処理を行う。続いて図1(d)に示すようにフォトマ
スク9およびシート層8を除去した後、現像し、配向膜
4を露出させる。Next, as shown in FIG. 1C, a photomask 9 is placed on the sheet layer 8 and an exposure process is performed while applying pressure so that the thickness of the resist layer 7 becomes substantially equal to the diameter of the spacer 6. . Subsequently, as shown in FIG. 1D, the photomask 9 and the sheet layer 8 are removed and then developed to expose the alignment film 4.
【0027】次に信号電極基板11の主面(配向膜14
が形成された面)の外周にエポキシ樹脂系の接着剤21
を液晶組成物の注入口となる領域を除いて印刷した後、
この信号電極基板11と走査電極基板1とを貼り合わせ
る。続いて液晶組成物24を真空注入法を用いて上記注
入口より注入し、上記注入口を紫外線硬化樹脂を用いて
封止する。そして走査電極基板1及び信号電極基板11
の外側の面に位相差板及び偏光板(図示せず)を設ける
ことにより液晶表示素子を完成する。Next, the main surface of the signal electrode substrate 11 (alignment film 14
Epoxy resin adhesive 21 on the outer periphery of the
After printing except the area which will be the injection port of the liquid crystal composition,
The signal electrode substrate 11 and the scanning electrode substrate 1 are bonded together. Then, the liquid crystal composition 24 is injected from the injection port by using a vacuum injection method, and the injection port is sealed with an ultraviolet curable resin. Then, the scanning electrode substrate 1 and the signal electrode substrate 11
A liquid crystal display device is completed by providing a retardation plate and a polarizing plate (not shown) on the outer surface of the liquid crystal display device.
【0028】こうして得られた液晶表示素子にデューテ
ィ比が1/240の駆動電圧を用いてマルチプレクス駆
動させ、表示色を観察したところ、表示にむらのない均
一な表示が得られた。The liquid crystal display device thus obtained was subjected to multiplex drive using a drive voltage having a duty ratio of 1/240, and the display color was observed. As a result, a uniform display with no unevenness was obtained.
【0029】以上説明したように本実施の形態の製造方
法によれば、スペーサ6を固定するためのレジスト層7
の露光は加圧しながら行うため、基板間隙をスペーサ6
の径に等しくなるようにすることが可能となり、表示む
らが生じるのを可及的に防止することができる。As described above, according to the manufacturing method of this embodiment, the resist layer 7 for fixing the spacer 6 is fixed.
Exposure is performed while applying pressure, so that the substrate
It becomes possible to make it equal to the diameter of, and it is possible to prevent display unevenness as much as possible.
【0030】なお、上記実施の形態の製造方法において
は、スペーサ6を散布した後にレジスト層7を形成した
が、レジスト層7を形成した後にスペーサ6を散布して
も良い。また、スペーサ6が体積濃度で例えば0.1%
分散したレジストを、配向膜4が形成された基板1上に
塗布した後、図1(b)に示す以降の工程を行っても本
実施の形態の製造方法と同様の効果を奏することは言う
までもない。Although the resist layer 7 is formed after the spacers 6 are dispersed in the manufacturing method of the above embodiment, the spacers 6 may be dispersed after the resist layer 7 is formed. Further, the spacer 6 has a volume concentration of, for example, 0.1%.
Needless to say, even if the dispersed resist is applied onto the substrate 1 on which the alignment film 4 is formed and the subsequent steps shown in FIG. 1B are performed, the same effect as that of the manufacturing method of the present embodiment can be obtained. Yes.
【0031】また、本実施の形態の製造方法において
は、スペーサ6の散布及びレジスト層7の形成は走査電
極基板1上で行ったが、信号電極基板11上で行っても
良い。この場合、接着剤21は走査電極基板1上に印刷
される。Further, in the manufacturing method of the present embodiment, although the spacers 6 and the resist layer 7 are formed on the scanning electrode substrate 1, they may be formed on the signal electrode substrate 11. In this case, the adhesive 21 is printed on the scanning electrode substrate 1.
【0032】また本実施の形態の製造方法においては、
レジスト層7の露光は加圧中に行ったが、レジスト層7
の厚さがスペーサ6の径にほぼ等しくなるように十分に
加圧した後に、フォトマスクを用いて露光を行っても同
様の効果を奏することは言うまでもない。Further, in the manufacturing method of the present embodiment,
Although the exposure of the resist layer 7 was performed during pressurization,
It is needless to say that the same effect can be obtained by performing exposure using a photomask after sufficiently pressurizing so that the thickness is substantially equal to the diameter of the spacer 6.
【0033】次に本発明による液晶表示素子の製造方法
の第2の実施の形態を図3を参照して説明する。図3は
この第2の実施の形態の製造方法によって製造された液
晶表示素子の断面図である。この実施の形態の製造方法
は、図1に示す第1の実施の形態の製造方法において、
非画素部領域にのみレジスト層7が残るようなフォトマ
スクを用いる以外は第1の実施の形態の製造方法と同様
にして行う。この第2の実施の形態の製造方法によって
製造された液晶表示素子は図3に示すように画素部領域
にはスペーサ6が存在しないため第1の実施の形態の製
造方法によって製造された液晶表示素子に比べてコント
ラスト比に優れ、より均一な表示が可能となる。Next, a second embodiment of the method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a sectional view of a liquid crystal display element manufactured by the manufacturing method according to the second embodiment. The manufacturing method of this embodiment is the same as the manufacturing method of the first embodiment shown in FIG.
The manufacturing method is the same as that of the first embodiment except that a photomask is used so that the resist layer 7 remains only in the non-pixel portion region. Since the liquid crystal display element manufactured by the manufacturing method of the second embodiment does not have the spacer 6 in the pixel area as shown in FIG. 3, the liquid crystal display manufactured by the manufacturing method of the first embodiment. The contrast ratio is superior to that of the device, and more uniform display is possible.
【0034】次に本発明による液晶表示素子の製造方法
の第3の実施の形態を図4を参照して説明する。この実
施の形態の製造方法は、ドライフィルムフォトレジスト
を用いるものである。このドライフィルムフォトレジス
ト40は図4に示すように粒径が5μmの樹脂スペーサ
43を分散したフォトポリマ41をポリオレフィンカバ
ーシート45,46で挟んだネガ型のフォトレジストで
ある。Next, a third embodiment of the method of manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention will be described with reference to FIG. The manufacturing method of this embodiment uses a dry film photoresist. As shown in FIG. 4, the dry film photoresist 40 is a negative photoresist in which a photopolymer 41 in which a resin spacer 43 having a particle size of 5 μm is dispersed is sandwiched between polyolefin cover sheets 45 and 46.
【0035】まず配向膜(図示せず)が形成された走査
電極基板1をドライフィルムラミネータ(図示せず)の
ロール間を通過させる。すると、ドライフィルムフォト
レジスト40のポリオレフィンカバーシート45が剥さ
れて基板1の表面にドライフィルムフォトレジスト40
が接着される(図4参照)。このとき、上記ロールによ
ってドライフィルムフォトレジスト40が加圧されてレ
ジスト層の厚さが樹脂スペーサ43の径にほぼ等しくな
る。First, the scanning electrode substrate 1 on which an alignment film (not shown) is formed is passed between rolls of a dry film laminator (not shown). Then, the polyolefin cover sheet 45 of the dry film photoresist 40 is peeled off and the dry film photoresist 40 is formed on the surface of the substrate 1.
Are bonded (see FIG. 4). At this time, the dry film photoresist 40 is pressed by the roll so that the thickness of the resist layer becomes substantially equal to the diameter of the resin spacer 43.
【0036】続いてフォトマスク(図示せず)を用いて
露光処理を行った後、現像し、配向膜を露出させる。こ
れにより基板1上には例えば図1(d)に示すようにス
ペーサがレジストによって固定された状態となる。以降
は第1の実施の形態の場合と同様にして行い、液晶表示
素子を完成する。Subsequently, an exposure process is performed using a photomask (not shown), and then development is performed to expose the alignment film. As a result, the spacers are fixed on the substrate 1 by the resist as shown in FIG. The subsequent steps are performed in the same manner as in the case of the first embodiment to complete the liquid crystal display element.
【0037】以上説明したように本実施の形態の製造方
法によって製造された液晶表示素子は第1の実施の形態
の製造方法によって製造された液晶表示素子と同様に表
示むらのないものとなる。As described above, the liquid crystal display element manufactured by the manufacturing method of this embodiment has no display unevenness like the liquid crystal display element manufactured by the manufacturing method of the first embodiment.
【0038】なお、この第3の実施の形態の製造方法に
おいて、フォトレジストを露光する際に非表示部領域に
のみレジストを残すようなフォトマスクを用いれば、こ
れにより得られた液晶表示素子は第3の実施の形態の製
造方法によって製造された液晶表示素子に比べてコント
ラスト比に優れ、かつより均一な表示が可能となる。In the manufacturing method of the third embodiment, if a photomask that leaves the resist only in the non-display area when the photoresist is exposed is used, the liquid crystal display device obtained by this is obtained. Compared with the liquid crystal display element manufactured by the manufacturing method of the third embodiment, the contrast ratio is excellent and more uniform display is possible.
【0039】なお、上記第1乃至第3の実施の形態の製
造方法においては、スペーサとして樹脂製のものを用い
たが、ガラスファイバー製のスペーサ又はシリカ球の方
が樹脂スペーサよりも精度が良いため、ガラスファイバ
ー製のスペーサ又はシリカ球を用いた方が、より均一な
表示を得ることができる。In the manufacturing methods of the first to third embodiments, resin spacers were used as spacers, but glass fiber spacers or silica spheres are more accurate than resin spacers. Therefore, the more uniform display can be obtained by using the glass fiber spacers or the silica spheres.
【0040】また、上記第1乃至第3の実施の形態の製
造方法においては、単純マトリクス駆動方式の液晶表示
素子を例にとって説明したが、アクティブマトリクス駆
動方式の液晶表示素子の製造にも本発明を適用できるこ
とは言うまでもない。In the manufacturing methods of the first to third embodiments, the simple matrix driving type liquid crystal display element has been described as an example, but the present invention is also applicable to the manufacturing of the active matrix driving type liquid crystal display element. Needless to say, can be applied.
【0041】[0041]
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、基板
間隙を所望の値とすることが可能となるので表示むらの
ない均一な表示を得ることができる。As described above, according to the present invention, since the substrate gap can be set to a desired value, uniform display without display unevenness can be obtained.
【図1】本発明による液晶表示素子の製造方法の第1の
実施の形態の製造工程を示す工程断面図。FIG. 1 is a process sectional view showing a manufacturing process of a first embodiment of a method for manufacturing a liquid crystal display element according to the present invention.
【図2】第1の実施の形態の製造方法によって製造され
る液晶表示素子の構成断面図。FIG. 2 is a configuration cross-sectional view of a liquid crystal display element manufactured by the manufacturing method according to the first embodiment.
【図3】本発明の第2の実施の形態によって製造された
液晶表示素子の構成を示す断面図。FIG. 3 is a cross-sectional view showing a configuration of a liquid crystal display element manufactured according to a second embodiment of the present invention.
【図4】本発明による液晶表示素子の製造方法の第3の
実施の形態の製造工程を説明する図。FIG. 4 is a diagram illustrating a manufacturing process of a third embodiment of a method of manufacturing a liquid crystal display element according to the present invention.
【図5】単純マトリクス駆動方式の液晶表示素子の一般
的な構成断面図。FIG. 5 is a general configuration cross-sectional view of a simple matrix drive type liquid crystal display element.
【図6】従来の製造方法の問題点を説明する説明図。FIG. 6 is an explanatory view illustrating a problem of the conventional manufacturing method.
1 走査電極基板 2 ガラス基板 3 走査電極 4 配向膜 6 スペーサ 7 レジスト層 8 シート層 9 フォトマスク 11 信号電極基板 12 ガラス基板 13 信号電極 14 配向膜 21 接着剤 24 液晶組成物 40 ドライフィルムフォトレジスト 41 フォトポリマ 43 スペーサ 45 ポリオレフィンカバーシート 46 ポリオレフィンカバーシート 1 Scanning Electrode Substrate 2 Glass Substrate 3 Scanning Electrode 4 Alignment Film 6 Spacer 7 Resist Layer 8 Sheet Layer 9 Photomask 11 Signal Electrode Substrate 12 Glass Substrate 13 Signal Electrode 14 Alignment Film 21 Adhesive 24 Liquid Crystal Composition 40 Dry Film Photoresist 41 Photopolymer 43 Spacer 45 Polyolefin cover sheet 46 Polyolefin cover sheet
Claims (5)
工程と、 前記配向膜が形成された基板上にスペーサとフォトレジ
ストの混合層を形成する工程と、 前記フォトレジストの膜厚が前記スペーサの径にほぼ等
しくなるように前記混合層を加圧し、露光する工程と、 前記混合層を現像する工程と、 を備えていることを特徴とする液晶表示素子の製造方
法。1. A step of forming an electrode and an alignment film on a transparent substrate, a step of forming a mixed layer of a spacer and a photoresist on the substrate having the alignment film formed thereon, and a film thickness of the photoresist. A method of manufacturing a liquid crystal display device, comprising: a step of exposing the mixed layer so as to have a diameter substantially equal to the diameter of the spacer; and a step of developing the mixed layer.
記混合層上にフォトマスクを設け、このフォトマスクを
加圧しながら露光することを特徴とする請求項1記載の
液晶表示素子の製造方法。2. The liquid crystal display element according to claim 1, wherein in the step of exposing the mixed layer by applying pressure, a photomask is provided on the mixed layer and the exposure is performed while applying pressure to the photomask. Production method.
のを防止するために前記混合層と前記フォトマスクとの
間に、接着防止層を設けることを特徴とする請求項2記
載の液晶表示素子の製造方法。3. The liquid crystal display according to claim 2, wherein an adhesion preventing layer is provided between the mixed layer and the photomask in order to prevent the mixed layer and the photomask from adhering to each other. Device manufacturing method.
記混合層を加圧した後にフォトマスクを用いて露光する
ことを特徴とする請求項1記載の液晶表示素子の製造方
法。4. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, wherein in the step of pressurizing and exposing the mixed layer, the mixed layer is pressed and then exposed using a photomask.
ドライフィルムフォトレジストを用いて行うことを特徴
とする請求項1記載の液晶表示素子の製造方法。5. The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 1, wherein the step of forming the mixed layer on the substrate is performed using a dry film photoresist.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25791195A JPH09101493A (en) | 1995-10-04 | 1995-10-04 | Manufacturing method of liquid crystal display element |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25791195A JPH09101493A (en) | 1995-10-04 | 1995-10-04 | Manufacturing method of liquid crystal display element |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09101493A true JPH09101493A (en) | 1997-04-15 |
Family
ID=17312909
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25791195A Pending JPH09101493A (en) | 1995-10-04 | 1995-10-04 | Manufacturing method of liquid crystal display element |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09101493A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100543020B1 (en) * | 1997-10-23 | 2006-04-20 | 삼성전자주식회사 | Liquid crystal display device with uniform substrate spacing and high contrast ratio and manufacturing method |
| KR101055185B1 (en) * | 2002-06-05 | 2011-08-08 | 엘지디스플레이 주식회사 | Manufacturing method of liquid crystal display device |
-
1995
- 1995-10-04 JP JP25791195A patent/JPH09101493A/en active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100543020B1 (en) * | 1997-10-23 | 2006-04-20 | 삼성전자주식회사 | Liquid crystal display device with uniform substrate spacing and high contrast ratio and manufacturing method |
| KR101055185B1 (en) * | 2002-06-05 | 2011-08-08 | 엘지디스플레이 주식회사 | Manufacturing method of liquid crystal display device |
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