JPH09111123A - オルガノシロキサン組成物 - Google Patents
オルガノシロキサン組成物Info
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- JPH09111123A JPH09111123A JP8203834A JP20383496A JPH09111123A JP H09111123 A JPH09111123 A JP H09111123A JP 8203834 A JP8203834 A JP 8203834A JP 20383496 A JP20383496 A JP 20383496A JP H09111123 A JPH09111123 A JP H09111123A
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/10—Block- or graft-copolymers containing polysiloxane sequences
- C08L83/12—Block- or graft-copolymers containing polysiloxane sequences containing polyether sequences
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
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- C08K5/0008—Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 顔料のような微細固形物が液体オルガノシロ
キサン組成物に分散された安定な分散系組成物を提供す
る。 【解決手段】 この分散系組成物は、微細固形物及び微
細なヒュームタイプの補強用シリカを含む固相と、特定
のクラスの液体ジオルガノシロキサン／オキシアルキレ
ンコポリマー及び、希釈剤として、分散された固形物の
密度より低い密度を持つ少なくとも１種の液体オルガノ
シロキサンオリゴマーを含むマトリックス相とを含む、
均質なチキソトロープ性の液、ペースト又はゲルであ
り、このペースト又はゲルは剪断力にさらされると流動
可能な液になる。
キサン組成物に分散された安定な分散系組成物を提供す
る。 【解決手段】 この分散系組成物は、微細固形物及び微
細なヒュームタイプの補強用シリカを含む固相と、特定
のクラスの液体ジオルガノシロキサン／オキシアルキレ
ンコポリマー及び、希釈剤として、分散された固形物の
密度より低い密度を持つ少なくとも１種の液体オルガノ
シロキサンオリゴマーを含むマトリックス相とを含む、
均質なチキソトロープ性の液、ペースト又はゲルであ
り、このペースト又はゲルは剪断力にさらされると流動
可能な液になる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液体、ペースト又
はゲルの形態をしたチキソトロープマトリックスと、組
成物の長期間の貯蔵中に沈殿しない均一に懸濁された固
相とを含有しているオルガノシロキサン組成物に関す
る。剪断力にさらされると、ペースト及びゲルの形態に
あるマトリックスは流動可能な液体に変わる。
はゲルの形態をしたチキソトロープマトリックスと、組
成物の長期間の貯蔵中に沈殿しない均一に懸濁された固
相とを含有しているオルガノシロキサン組成物に関す
る。剪断力にさらされると、ペースト及びゲルの形態に
あるマトリックスは流動可能な液体に変わる。
【０００２】
【従来の技術】密度が液相のそれより高い顔料あるいは
その他の不溶性固形物質を含有している低粘度のオルガ
ノシロキサン組成物につきまとう問題の一つは、固相が
組成物の貯蔵中に沈降しやすいことである。固形物が顔
料であって貯蔵される組成物が成形型での成形あるいは
押出しにより付形物品を製作するために使用される場
合、顔料のこの分離しやすい傾向は最終製品の不均一な
着色のもとになりかねない。
その他の不溶性固形物質を含有している低粘度のオルガ
ノシロキサン組成物につきまとう問題の一つは、固相が
組成物の貯蔵中に沈降しやすいことである。固形物が顔
料であって貯蔵される組成物が成形型での成形あるいは
押出しにより付形物品を製作するために使用される場
合、顔料のこの分離しやすい傾向は最終製品の不均一な
着色のもとになりかねない。
【０００３】従来技術には、液体組成物への顔料やその
ほかの固形物の分散を安定なものにする様々な添加剤が
開示されている。この技術の代表は一般に、特開平４−
１１０３０２号公報、米国特許第５００６５９７号明細
書及び米国特許第５０３６１２１号明細書である。
ほかの固形物の分散を安定なものにする様々な添加剤が
開示されている。この技術の代表は一般に、特開平４−
１１０３０２号公報、米国特許第５００６５９７号明細
書及び米国特許第５０３６１２１号明細書である。
【０００４】硬化性オルガノシロキサン組成物で使用さ
れているチキソトロープ剤には、種々の有機ケイ素化合
物やオルガノシロキサン／オキシアルキレンコポリマー
で処理されたシリカが含まれる。
れているチキソトロープ剤には、種々の有機ケイ素化合
物やオルガノシロキサン／オキシアルキレンコポリマー
で処理されたシリカが含まれる。
【０００５】十分な貯蔵安定性を得るために、一部の硬
化性オルガノシロキサン組成物、特にスズ化合物触媒を
含有してなるものは、スズ化合物及び架橋性のポリオル
ガノシロキサンを別々の容器に入れて包装される。架橋
剤は、一般に硬化触媒と一緒に包装される。
化性オルガノシロキサン組成物、特にスズ化合物触媒を
含有してなるものは、スズ化合物及び架橋性のポリオル
ガノシロキサンを別々の容器に入れて包装される。架橋
剤は、一般に硬化触媒と一緒に包装される。
【０００６】所望の架橋度を達成するのに架橋剤は架橋
性ポリオルガノシロキサンの容量に比べて少容量が要求
されるに過ぎないので、組成物のうちの架橋剤を含有し
ている部分は典型的に、組成物のうちのこの部分が、当
該架橋性ポリオルガノシロキサンを含有している部分２
０部に対し硬化剤の部分が１部という容量比でもって架
橋性ポリオルガノシロキサンを含有している部分とブレ
ンドされるのを可能にする量の希釈剤を含む。この希釈
剤は、架橋剤と触媒のための溶媒である。
性ポリオルガノシロキサンの容量に比べて少容量が要求
されるに過ぎないので、組成物のうちの架橋剤を含有し
ている部分は典型的に、組成物のうちのこの部分が、当
該架橋性ポリオルガノシロキサンを含有している部分２
０部に対し硬化剤の部分が１部という容量比でもって架
橋性ポリオルガノシロキサンを含有している部分とブレ
ンドされるのを可能にする量の希釈剤を含む。この希釈
剤は、架橋剤と触媒のための溶媒である。
【０００７】特願平８−５００４０号（１９９６年３月
７日）とＥＰ ９６ ３０１３１１．５（１９９６年２
月２７日）には、二液型の湿分硬化性オルガノシロキサ
ン組成物が開示されている。これらの組成物のうちの架
橋剤と硬化触媒を含有している部分はチキソトロープ性
であって、架橋剤と触媒のほかに、チキソトロープ剤と
しての規定されたクラスの液体ジオルガノシロキサン／
オキシアルキレンコポリマーを希釈剤としての規定され
たクラスのケイ素結合フェニル基含有不反応性オルガノ
シロキサンオリゴマーとともに含む。それらの用途の例
は、成分の全てを一緒にして二液型組成物のチキソトロ
ープ部分を調製し、これらの成分をブレンドして均質に
し、そして得られた混合物を硬化性組成物の他の成分と
一緒にすることであることが記載されている。
７日）とＥＰ ９６ ３０１３１１．５（１９９６年２
月２７日）には、二液型の湿分硬化性オルガノシロキサ
ン組成物が開示されている。これらの組成物のうちの架
橋剤と硬化触媒を含有している部分はチキソトロープ性
であって、架橋剤と触媒のほかに、チキソトロープ剤と
しての規定されたクラスの液体ジオルガノシロキサン／
オキシアルキレンコポリマーを希釈剤としての規定され
たクラスのケイ素結合フェニル基含有不反応性オルガノ
シロキサンオリゴマーとともに含む。それらの用途の例
は、成分の全てを一緒にして二液型組成物のチキソトロ
ープ部分を調製し、これらの成分をブレンドして均質に
し、そして得られた混合物を硬化性組成物の他の成分と
一緒にすることであることが記載されている。
【０００８】本発明の発明者らはその後、上述の特許出
願の例に従って調製すると、二液型組成物のチキソトロ
ープ部分は分離して非常に軟質のゼラチン状物質と上澄
み液とになることを見いだした。この二相のチキソトロ
ープ部分が液の密度より高い密度の顔料を含有している
場合には、顔料の一部分が液相の底に沈降した。
願の例に従って調製すると、二液型組成物のチキソトロ
ープ部分は分離して非常に軟質のゼラチン状物質と上澄
み液とになることを見いだした。この二相のチキソトロ
ープ部分が液の密度より高い密度の顔料を含有している
場合には、顔料の一部分が液相の底に沈降した。
【０００９】触媒を含有している顔料入り部分を架橋性
液体ポリオルガノシロキサンと充填剤とを含む基剤部分
と後に一緒にすると、得られた混合物に顔料を均一にブ
レンドさせて顔料が均一に含まれた均質組成物を作るこ
とができなかった。
液体ポリオルガノシロキサンと充填剤とを含む基剤部分
と後に一緒にすると、得られた混合物に顔料を均一にブ
レンドさせて顔料が均一に含まれた均質組成物を作るこ
とができなかった。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明の一つの目的
は、静置により沈降しない、顔料を包含するがそれには
限定されない微細固形物が低分子量オルガノシロキサン
組成物に均一に分散した分散系と、これらの組成物を調
製するための方法を提供することである。
は、静置により沈降しない、顔料を包含するがそれには
限定されない微細固形物が低分子量オルガノシロキサン
組成物に均一に分散した分散系と、これらの組成物を調
製するための方法を提供することである。
【００１１】二番目の目的は、架橋剤を含有している部
分が組成物中に存在するオルガノシロキサン化合物の密
度より高い密度を示す微細固形物の安定分散系をも含有
している、多液型（多分割型）湿分硬化性オルガノシロ
キサン組成物を提供することである。
分が組成物中に存在するオルガノシロキサン化合物の密
度より高い密度を示す微細固形物の安定分散系をも含有
している、多液型（多分割型）湿分硬化性オルガノシロ
キサン組成物を提供することである。
【００１２】最後の目的は、組成物の長期間の貯蔵中に
沈降しない分散形態の微細固形物を含有してなるオルガ
ノシロキサン組成物を調製するための方法を提供するこ
とである。
沈降しない分散形態の微細固形物を含有してなるオルガ
ノシロキサン組成物を調製するための方法を提供するこ
とである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】微細固形物の密度より低
い密度を示す液体オルガノシロキサン組成物に微細固形
物が分散された安定な分散系は、当該固形物を微細な処
理されたシリカ、特定クラスの液体ジオルガノシロキサ
ン／オキシアルキレンコポリマー、そして希釈剤として
の、密度が微細固形物の密度より低い少なくとも１種の
液体オルガノシロキサンオリゴマーとブレンドすること
により、均質なチキソトロープペースト又はゲルとして
調製される。結果として得られたペースト又はゲルは、
剪断力にさらされると流動可能な液に変わる。本発明の
組成物の好ましい態様では、分散される固形物は顔料で
ある。
い密度を示す液体オルガノシロキサン組成物に微細固形
物が分散された安定な分散系は、当該固形物を微細な処
理されたシリカ、特定クラスの液体ジオルガノシロキサ
ン／オキシアルキレンコポリマー、そして希釈剤として
の、密度が微細固形物の密度より低い少なくとも１種の
液体オルガノシロキサンオリゴマーとブレンドすること
により、均質なチキソトロープペースト又はゲルとして
調製される。結果として得られたペースト又はゲルは、
剪断力にさらされると流動可能な液に変わる。本発明の
組成物の好ましい態様では、分散される固形物は顔料で
ある。
【００１４】硬化性ポリオルガノシロキサン、架橋剤そ
して硬化触媒といったような、このほかの成分を、後に
本発明の分散系とブレンドして、静置により液相と固相
とに分離しない均質な硬化性オルガノシロキサン組成物
が作られる。
して硬化触媒といったような、このほかの成分を、後に
本発明の分散系とブレンドして、静置により液相と固相
とに分離しない均質な硬化性オルガノシロキサン組成物
が作られる。
【００１５】本発明は、マトリックス相中に均一に分散
した固相を含むオルガノシロキサン組成物であって、当
該固相が、 Ａ）当該マトリックス相の密度より高い密度を示すシリ
カ以外の微細物質と、 Ｂ）微細ヒュームタイプの補強用シリカ、とを含み、そ
して当該マトリックス相が、 Ｃ）次の式、
した固相を含むオルガノシロキサン組成物であって、当
該固相が、 Ａ）当該マトリックス相の密度より高い密度を示すシリ
カ以外の微細物質と、 Ｂ）微細ヒュームタイプの補強用シリカ、とを含み、そ
して当該マトリックス相が、 Ｃ）次の式、
【００１６】
【化３】
【００１７】からなる群より選ばれた一般式を示す液体
オルガノシロキサンコポリマー（これらの式中の各Ｒ1
は不置換の又は置換された一価の炭化水素基から個々に
選ばれ、ＱはＲ1 又はＧであり、Ｇは、
オルガノシロキサンコポリマー（これらの式中の各Ｒ1
は不置換の又は置換された一価の炭化水素基から個々に
選ばれ、ＱはＲ1 又はＧであり、Ｇは、
【００１８】
【化４】
【００１９】からなる群より選ばれた平均構造を有する
ポリオキシアルキレン基であり、Ｒ2は炭素原子数２〜
２０の二価の炭化水素基を表し、Ｚは水素原子、炭素原
子数１〜４のアルキル基及び−（Ｏ）ＣＲ基からなる群
より選ばれ、Ｒは一価の炭化水素基又は置換基として−
Ｃ（Ｏ）ＯＨ基を含む一価の炭化水素基から選ばれ、
ａ、ｂ、ｃ及びｄは個々に正の整数から選ばれる）と、 Ｄ）当該分散系中の成分と反応せず且つ上記オルガノシ
ロキサンコポリマーと相溶性である液体オルガノシロキ
サンオリゴマーであって、当該オリゴマーに存在してい
るケイ素と結合した炭化水素基が不置換の又は置換され
た一価の炭化水素基から選ばれていて、数平均分子量が
当該マトリックス相中の上記オルガノシロキサンコポリ
マーを可溶化するのに十分なものである液体オルガノシ
ロキサンオリゴマー、とを含んでいて、上記の微細物
質、シリカ、オルガノシロキサンコポリマー及びオルガ
ノシロキサンオリゴマーを一緒にした重量を基にして上
記シリカが２〜１５重量％の濃度を構成し、上記コポリ
マーが０．１〜１０重量％の濃度を構成しており、そし
て当該組成物の２５℃でのコンシステンシーは液、ペー
スト及びゲルからなる群より選ばれ、且つ当該組成物は
剪断力にさらされると流動可能になるものを提供する。
ポリオキシアルキレン基であり、Ｒ2は炭素原子数２〜
２０の二価の炭化水素基を表し、Ｚは水素原子、炭素原
子数１〜４のアルキル基及び−（Ｏ）ＣＲ基からなる群
より選ばれ、Ｒは一価の炭化水素基又は置換基として−
Ｃ（Ｏ）ＯＨ基を含む一価の炭化水素基から選ばれ、
ａ、ｂ、ｃ及びｄは個々に正の整数から選ばれる）と、 Ｄ）当該分散系中の成分と反応せず且つ上記オルガノシ
ロキサンコポリマーと相溶性である液体オルガノシロキ
サンオリゴマーであって、当該オリゴマーに存在してい
るケイ素と結合した炭化水素基が不置換の又は置換され
た一価の炭化水素基から選ばれていて、数平均分子量が
当該マトリックス相中の上記オルガノシロキサンコポリ
マーを可溶化するのに十分なものである液体オルガノシ
ロキサンオリゴマー、とを含んでいて、上記の微細物
質、シリカ、オルガノシロキサンコポリマー及びオルガ
ノシロキサンオリゴマーを一緒にした重量を基にして上
記シリカが２〜１５重量％の濃度を構成し、上記コポリ
マーが０．１〜１０重量％の濃度を構成しており、そし
て当該組成物の２５℃でのコンシステンシーは液、ペー
スト及びゲルからなる群より選ばれ、且つ当該組成物は
剪断力にさらされると流動可能になるものを提供する。
【００２０】シリカ粒子の直径と外形及びこの成分の濃
度に応じて、本発明の組成物は液、ペースト又はゲルで
あることができる。この明細書において使用する「ペー
スト」及び「ゲル」という用語は、剪断力の存在しない
ところで２５℃での本発明の組成物のコンシステンシー
（ｃｏｎｓｉｓｔｅｎｃｙ）を表すものである。これら
の組成物のうちの一部のものは少しでもそれら自身の重
量の作用を受けるとゆっくりと流動し、そして全てのも
のが剪断力にさらされると流動可能な液に変わる。
度に応じて、本発明の組成物は液、ペースト又はゲルで
あることができる。この明細書において使用する「ペー
スト」及び「ゲル」という用語は、剪断力の存在しない
ところで２５℃での本発明の組成物のコンシステンシー
（ｃｏｎｓｉｓｔｅｎｃｙ）を表すものである。これら
の組成物のうちの一部のものは少しでもそれら自身の重
量の作用を受けるとゆっくりと流動し、そして全てのも
のが剪断力にさらされると流動可能な液に変わる。
【００２１】好ましいペースト又はゲルにおいては、組
成物を手でかき混ぜることで一般的に発生する剪断力が
この変化を達成するのに十分なものである。
成物を手でかき混ぜることで一般的に発生する剪断力が
この変化を達成するのに十分なものである。
【００２２】本発明の組成物のうちの一部のものは、シ
リカを含めた固形物質が少なくとも７日間マトリックス
中に均一に分散されたままである流動可能な液の形態を
している。
リカを含めた固形物質が少なくとも７日間マトリックス
中に均一に分散されたままである流動可能な液の形態を
している。
【００２３】本発明の分散系の安定性は、典型的に、組
成物が固形物質を当該組成物の全体にわたり均一に分散
させるのに十分ブレンドされた後に当該固形物質が沈殿
するのに要する時間に注目して測定される。分散系は、
組成物をブレンドしそして乱さずに放置してから７日後
に固形物質の沈降が認められない場合に安定であると見
なされる。
成物が固形物質を当該組成物の全体にわたり均一に分散
させるのに十分ブレンドされた後に当該固形物質が沈殿
するのに要する時間に注目して測定される。分散系は、
組成物をブレンドしそして乱さずに放置してから７日後
に固形物質の沈降が認められない場合に安定であると見
なされる。
【００２４】以下において成分Ｃと称されるオルガノシ
ロキサン／オキシアルキレンコポリマーと、以下におい
て成分Ｂと称される微細ヒュームシリカとの相互作用
が、当該微細シリカと他の固形物質が均一に分散される
チキソトロープマトリックスの形成を招くものであると
信じられる。
ロキサン／オキシアルキレンコポリマーと、以下におい
て成分Ｂと称される微細ヒュームシリカとの相互作用
が、当該微細シリカと他の固形物質が均一に分散される
チキソトロープマトリックスの形成を招くものであると
信じられる。
【００２５】成分Ｃとして使用するのに適当なオルガノ
シロキサン／オキシアルキレンコポリマーは、次に掲げ
るものからなる群より選ばれる一般式により表される。
シロキサン／オキシアルキレンコポリマーは、次に掲げ
るものからなる群より選ばれる一般式により表される。
【００２６】
【化５】
【００２７】これらの式において、各Ｒ1 は不置換の又
は置換された一価の炭化水素基から個々に選ばれ、Ｑは
Ｒ1 又はＧであり、Ｇは次に掲げるものからなる群より
選ばれた平均構造式を有するポリオキシアルキレン基で
ある。
は置換された一価の炭化水素基から個々に選ばれ、Ｑは
Ｒ1 又はＧであり、Ｇは次に掲げるものからなる群より
選ばれた平均構造式を有するポリオキシアルキレン基で
ある。
【００２８】
【化６】
【００２９】これらの式において、Ｒ2 は炭素原子数が
２〜２０の二価の炭化水素基を表し、Ｚは水素原子、炭
素原子数１〜４のアルキル基、−（Ｏ）ＣＲ基（この式
のＲは不置換の一価の炭化水素基又は置換基として−Ｃ
（Ｏ）ＯＨ基を含む置換された一価の炭化水素基より選
ばれる）からなる群から選ばれ、ａ及びｂは正の整数か
ら個々に選ばれ、そしてｃ及びｄは正の整数から個々に
選ばれる。Ｒは、好ましくは炭素原子を１〜２０含む。
２〜２０の二価の炭化水素基を表し、Ｚは水素原子、炭
素原子数１〜４のアルキル基、−（Ｏ）ＣＲ基（この式
のＲは不置換の一価の炭化水素基又は置換基として−Ｃ
（Ｏ）ＯＨ基を含む置換された一価の炭化水素基より選
ばれる）からなる群から選ばれ、ａ及びｂは正の整数か
ら個々に選ばれ、そしてｃ及びｄは正の整数から個々に
選ばれる。Ｒは、好ましくは炭素原子を１〜２０含む。
【００３０】Ｒ2 は好ましくは３〜６の炭素原子を含
み、ａとｂで表される正の整数は好ましくは１〜１０
０、より好ましくは１〜１０であり、ｃとｄで表される
正の整数は好ましくは１〜２０である。Ｒ2 は、最も好
ましくはプロピレン基であり、これはコポリマーを調製
するのに使用される対応のアリル基を末端基とするポリ
エーテルの商業的な入手可能性に基づいている。
み、ａとｂで表される正の整数は好ましくは１〜１０
０、より好ましくは１〜１０であり、ｃとｄで表される
正の整数は好ましくは１〜２０である。Ｒ2 は、最も好
ましくはプロピレン基であり、これはコポリマーを調製
するのに使用される対応のアリル基を末端基とするポリ
エーテルの商業的な入手可能性に基づいている。
【００３１】成分Ｃのケイ素原子に結合するＲ1 で表さ
れる一価の炭化水素基は、１〜１２の炭素原子を含む。
Ｒ1 はアルキル基、シクロアルキル基、又はアリール基
であり、これらのアルキル基にはメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基及びオクチル基が含まれるがこれ
らに限定はされず、シクロアルキル基にはシクロペンチ
ル基及びシクロヘキシル基が含まれるがこれらに限定は
されず、アリール基にはフェニル基、ナフチル基、ベン
ジル基及びトリル基が含まれるがこれらには限定されな
い。
れる一価の炭化水素基は、１〜１２の炭素原子を含む。
Ｒ1 はアルキル基、シクロアルキル基、又はアリール基
であり、これらのアルキル基にはメチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基及びオクチル基が含まれるがこれ
らに限定はされず、シクロアルキル基にはシクロペンチ
ル基及びシクロヘキシル基が含まれるがこれらに限定は
されず、アリール基にはフェニル基、ナフチル基、ベン
ジル基及びトリル基が含まれるがこれらには限定されな
い。
【００３２】Ｒ1 及びＲ2 で表される炭化水素基に炭素
と水素以外の原子が存在する場合、これらの置換基は、
本発明の分散系の他の成分と反応しない、分散系の安定
性に不利な影響を及ばさない、あるいは分散系がその後
接触する成分と相互作用しない、いずれのものでよい。
好ましい置換基はハロゲン原子、例えば塩素、臭素及び
フッ素といったものである。好ましい置換炭化水素基に
は、クロロメチル基、３−クロロプロピル基、そして
３，３，３−トリフルオロプロピル基が含まれる。
と水素以外の原子が存在する場合、これらの置換基は、
本発明の分散系の他の成分と反応しない、分散系の安定
性に不利な影響を及ばさない、あるいは分散系がその後
接触する成分と相互作用しない、いずれのものでよい。
好ましい置換基はハロゲン原子、例えば塩素、臭素及び
フッ素といったものである。好ましい置換炭化水素基に
は、クロロメチル基、３−クロロプロピル基、そして
３，３，３−トリフルオロプロピル基が含まれる。
【００３３】好ましくは、Ｒ1 で表される炭化水素基の
全部が炭素原子数１〜４のアルキル基である。コポリマ
ーの入手可能性と、そのコポリマーと以下において成分
Ｄと称される本発明の組成物の希釈剤との相溶性とを基
にして、最も好ましくは、これらの炭化水素基の全部が
メチル基である。
全部が炭素原子数１〜４のアルキル基である。コポリマ
ーの入手可能性と、そのコポリマーと以下において成分
Ｄと称される本発明の組成物の希釈剤との相溶性とを基
にして、最も好ましくは、これらの炭化水素基の全部が
メチル基である。
【００３４】ａ、ｂ、ｃ及びｄの値の選定を決定する要
素は、（１）コポリマーによって本発明の顔料分散系に
付与しようとするチキソトロープ性のレベル、（２）選
ばれた特定の希釈剤によりコポリマーが可溶化される能
力、そして（３）０℃ほどの低温になることがある組成
物の使用温度でコポリマーが液体であるという要件、で
ある。
素は、（１）コポリマーによって本発明の顔料分散系に
付与しようとするチキソトロープ性のレベル、（２）選
ばれた特定の希釈剤によりコポリマーが可溶化される能
力、そして（３）０℃ほどの低温になることがある組成
物の使用温度でコポリマーが液体であるという要件、で
ある。
【００３５】本発明の組成物において使用するのに適し
たコポリマーは、（１）ジオルガノシロキサン（Ｒ1 2Ｓ
ｉＯ）単位とオルガノ水素シロキサン（Ｒ1 ＨＳｉＯ）
単位の濃度が上記の式におけるａ及びｂについての値に
対応しているオルガノ水素シロキサンと、（２）下記の
一般式
たコポリマーは、（１）ジオルガノシロキサン（Ｒ1 2Ｓ
ｉＯ）単位とオルガノ水素シロキサン（Ｒ1 ＨＳｉＯ）
単位の濃度が上記の式におけるａ及びｂについての値に
対応しているオルガノ水素シロキサンと、（２）下記の
一般式
【００３６】
【化７】
【００３７】のうちの一つに相当する少なくとも１種の
ポリエーテルとを反応させることにより調製される。
ポリエーテルとを反応させることにより調製される。
【００３８】これらの式において、Ｒ2 ’はＲ2 と同じ
数と配置の炭素原子を有する末端に不飽和のあるアルケ
ニル基を表す。例えば、Ｒ2 が−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 −
である場合、Ｒ2 ’はＣＨ2 ＝ＣＨＣＨ2 −である。
数と配置の炭素原子を有する末端に不飽和のあるアルケ
ニル基を表す。例えば、Ｒ2 が−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 −
である場合、Ｒ2 ’はＣＨ2 ＝ＣＨＣＨ2 −である。
【００３９】コポリマーは一般に、そのコポリマーを調
製するのに使用されたポリエーテルの溶液として分離さ
れ、そしてこの形態でもって本発明の分散系を調製する
のに用いられる。
製するのに使用されたポリエーテルの溶液として分離さ
れ、そしてこの形態でもって本発明の分散系を調製する
のに用いられる。
【００４０】本発明の組成物における希釈剤、すなわち
成分Ｄは、分子当たりにシロキサン単位を少なくとも一
つ含む液体オルガノシロキサンオリゴマーである。
成分Ｄは、分子当たりにシロキサン単位を少なくとも一
つ含む液体オルガノシロキサンオリゴマーである。
【００４１】所望レベルのチキソトロープ性を得るため
には、オルガノシロキサン／オキシアルキレンコポリマ
ー（成分Ｃ）は成分Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤを一緒にした重量
の０．１〜１０重量％を構成すべきである。好ましいコ
ポリマーの濃度は、典型的には０．５〜４重量％であ
る。
には、オルガノシロキサン／オキシアルキレンコポリマ
ー（成分Ｃ）は成分Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤを一緒にした重量
の０．１〜１０重量％を構成すべきである。好ましいコ
ポリマーの濃度は、典型的には０．５〜４重量％であ
る。
【００４２】発明者らは、成分Ｃとして使用するのに適
当な所定のコポリマーの希釈剤への溶解度は、（１）ａ
とｂの合計に正比例する、コポリマーのうちのオルガノ
シロキサン部分の分子量と、（２）それぞれｃとｄで表
されるコポリマー中のオキシエチレン単位とオキシプロ
ピレン単位の数とに反比例するように思われることを突
き止めた。
当な所定のコポリマーの希釈剤への溶解度は、（１）ａ
とｂの合計に正比例する、コポリマーのうちのオルガノ
シロキサン部分の分子量と、（２）それぞれｃとｄで表
されるコポリマー中のオキシエチレン単位とオキシプロ
ピレン単位の数とに反比例するように思われることを突
き止めた。
【００４３】表面積が２５０ｍ2 ／ｇより大きい商業的
に入手できるタイプのヒュームシリカの大部分が、本発
明の組成物で使用するのに適している。それらの粒子の
平均の直径は好ましくは１μｍ未満であり、最も好まし
くは１００ｎｍ未満である。ヒュームシリカは典型的
に、本発明の組成物の液体成分とのブレンド中に分離さ
れて凝結粒子（ａｇｇｒｅｇａｔｅｄ ｐａｒｔｉｃｌ
ｅｓ）にされる凝集体（ａｇｇｌｏｍｅｒａｔｅｓ）の
形をしている。
に入手できるタイプのヒュームシリカの大部分が、本発
明の組成物で使用するのに適している。それらの粒子の
平均の直径は好ましくは１μｍ未満であり、最も好まし
くは１００ｎｍ未満である。ヒュームシリカは典型的
に、本発明の組成物の液体成分とのブレンド中に分離さ
れて凝結粒子（ａｇｇｒｅｇａｔｅｄ ｐａｒｔｉｃｌ
ｅｓ）にされる凝集体（ａｇｇｌｏｍｅｒａｔｅｓ）の
形をしている。
【００４４】本発明の分散系の調製を容易にするために
は、シリカに最初から存在しているシラノール基の一部
分、好ましくは最高で５０％までを、反応させてトリヒ
ドロカルビルシロキシ基を生じさせる。シリカに最初か
ら存在するシラノール基のうちの少なくとも半分は、シ
リカと他の固形物質を安定な分散系として維持する必要
なチキソトロープ度を得るのに必要なようである。
は、シリカに最初から存在しているシラノール基の一部
分、好ましくは最高で５０％までを、反応させてトリヒ
ドロカルビルシロキシ基を生じさせる。シリカに最初か
ら存在するシラノール基のうちの少なくとも半分は、シ
リカと他の固形物質を安定な分散系として維持する必要
なチキソトロープ度を得るのに必要なようである。
【００４５】シリカに存在しているシラノール基と反応
してトリヒドロカルビルシロキシ基を形成する有機ケイ
素化合物は、一般式Ｒ3 3ＳｉＸのシラン、又は式（Ｒ3 3
Ｓｉ）2 ＮＨの化合物である。これらの式において、各
Ｒ3 は一価の炭化水素基から個々に選ばれ、Ｘはアルコ
キシ基のような加水分解性の基である。
してトリヒドロカルビルシロキシ基を形成する有機ケイ
素化合物は、一般式Ｒ3 3ＳｉＸのシラン、又は式（Ｒ3 3
Ｓｉ）2 ＮＨの化合物である。これらの式において、各
Ｒ3 は一価の炭化水素基から個々に選ばれ、Ｘはアルコ
キシ基のような加水分解性の基である。
【００４６】シリカ処理剤は好ましくは、Ｒ3 で表され
る置換基のおのおのが低級アルキル基（炭素数の少ない
アルキル基）、最も好ましくはメチル基であるヘキサオ
ルガノジシラザンである。
る置換基のおのおのが低級アルキル基（炭素数の少ない
アルキル基）、最も好ましくはメチル基であるヘキサオ
ルガノジシラザンである。
【００４７】所望のコンシステンシー及びチキソトロー
プ特性を示すマトリックス相を得るためには、ヒューム
シリカの濃度は、本発明の分散系の総重量を基にして２
〜１５重量％、好ましくは５〜１０重量％である。
プ特性を示すマトリックス相を得るためには、ヒューム
シリカの濃度は、本発明の分散系の総重量を基にして２
〜１５重量％、好ましくは５〜１０重量％である。
【００４８】本発明の顔料分散系における希釈剤は、２
５℃で液体であり且つ分子当たり少なくとも二つのシロ
キサン単位を有するオルガノシロキサンオリゴマーであ
る。
５℃で液体であり且つ分子当たり少なくとも二つのシロ
キサン単位を有するオルガノシロキサンオリゴマーであ
る。
【００４９】希釈剤のケイ素原子に結合する一価の炭化
水素基の種類は、希釈剤がオルガノシロキサン／オキシ
アルキレンコポリマー、すなわち成分Ｃと混和性である
限り重要ではない。希釈剤、すなわち成分Ｄに存在する
炭化水素基は、炭素原子数が１〜８のアルキル基、アル
ケニル基、シクロアルキル基、フェニル基の如きアリー
ル基、β−フェニルエチル基の如きアラルキル基、そし
てトリル又はキシリル基の如きアルカリール基、のうち
の一つ又は二つ以上である。これらの炭化水素基はま
た、本発明の分散系の安定性に支障をきたさない例えば
ハロゲン原子といった置換基を含むこともできる。
水素基の種類は、希釈剤がオルガノシロキサン／オキシ
アルキレンコポリマー、すなわち成分Ｃと混和性である
限り重要ではない。希釈剤、すなわち成分Ｄに存在する
炭化水素基は、炭素原子数が１〜８のアルキル基、アル
ケニル基、シクロアルキル基、フェニル基の如きアリー
ル基、β−フェニルエチル基の如きアラルキル基、そし
てトリル又はキシリル基の如きアルカリール基、のうち
の一つ又は二つ以上である。これらの炭化水素基はま
た、本発明の分散系の安定性に支障をきたさない例えば
ハロゲン原子といった置換基を含むこともできる。
【００５０】成分Ｄ）の好ましい態様には、（１）ジメ
チルシロキサン単位、フェニルアルキルシロキサン単位
及び／又は（フェニルアルキル）アルキルシロキサン単
位を含有する環式及び線状のオリゴマー、そして（２）
フェニルシルセスキオキサン単位を少なくとも一つとト
リアルキルシロキサン単位を含む線状オリゴマーが含ま
れる。
チルシロキサン単位、フェニルアルキルシロキサン単位
及び／又は（フェニルアルキル）アルキルシロキサン単
位を含有する環式及び線状のオリゴマー、そして（２）
フェニルシルセスキオキサン単位を少なくとも一つとト
リアルキルシロキサン単位を含む線状オリゴマーが含ま
れる。
【００５１】発明者らは、ケイ素原子のうちの少なくと
も５０％がフェニル基又は他の芳香族炭化水素基を有す
る希釈剤が成分Ｃとして使用される好ましいオルガノシ
ロキサン／オキシアルキレンコポリマーとより相溶性で
あることを見いだした。それらはまた、光学的に透明で
あるヒュームシリカの分散系をもたらす。ケイ素に結合
した炭化水素基の全部がアルキル基、例えばメチル基の
ようなものであるオルガノシロキサンオリゴマーは、オ
ルガノシロキサン／オキシアルキレンコポリマー（成分
Ｃ）との相溶性がより低いように思われ、そしてそれら
の成分の混合物にヒュームドシリカを加えて作られた分
散系は一般に濁っている。
も５０％がフェニル基又は他の芳香族炭化水素基を有す
る希釈剤が成分Ｃとして使用される好ましいオルガノシ
ロキサン／オキシアルキレンコポリマーとより相溶性で
あることを見いだした。それらはまた、光学的に透明で
あるヒュームシリカの分散系をもたらす。ケイ素に結合
した炭化水素基の全部がアルキル基、例えばメチル基の
ようなものであるオルガノシロキサンオリゴマーは、オ
ルガノシロキサン／オキシアルキレンコポリマー（成分
Ｃ）との相溶性がより低いように思われ、そしてそれら
の成分の混合物にヒュームドシリカを加えて作られた分
散系は一般に濁っている。
【００５２】成分Ｄのシロキサン単位がフェニル基を含
む場合、これらの単位は式Ｒ4 e Ｐｈf （Ｃg Ｈ2g）Ｓ
ｉＯ(4-e-f)/2 で表され、この式のＰｈはフェニル基を
表し、Ｒ4 は炭素原子数１〜１０のアルキル基を表し、
ｅは０、１又は２であり、ｆは１又は２であり、ｅとｆ
の合計は３を上回らず、ｇは０か又は１〜４の整数であ
る。Ｒ4 は、好ましくは１〜３の炭素原子を含み、最も
好ましくはメチル基である。ｆは好ましくは１である。
む場合、これらの単位は式Ｒ4 e Ｐｈf （Ｃg Ｈ2g）Ｓ
ｉＯ(4-e-f)/2 で表され、この式のＰｈはフェニル基を
表し、Ｒ4 は炭素原子数１〜１０のアルキル基を表し、
ｅは０、１又は２であり、ｆは１又は２であり、ｅとｆ
の合計は３を上回らず、ｇは０か又は１〜４の整数であ
る。Ｒ4 は、好ましくは１〜３の炭素原子を含み、最も
好ましくはメチル基である。ｆは好ましくは１である。
【００５３】適当なフェニル基含有シロキサン単位の例
は、メチルフェニルシロキサン単位、メチル−β−フェ
ニルエチルシロキサン単位、メチル−２−メチル−２−
フェニルエチルシロキサン単位、及びフェニルシルセス
キオキサン単位である。
は、メチルフェニルシロキサン単位、メチル−β−フェ
ニルエチルシロキサン単位、メチル−２−メチル−２−
フェニルエチルシロキサン単位、及びフェニルシルセス
キオキサン単位である。
【００５４】成分Ｃのシロキサン単位が線状に配列する
場合には、各分子に存在する二つの末端トリオルガノシ
ロキサン単位は好ましくは、ケイ素原子に結合した三つ
の一価炭化水素基を含む。これらの炭化水素基は全部が
アルキル基、例えばメチル基の如きものでよく、あるい
は二つのアルキル基と一つのフェニル基との組み合わせ
でもよい。
場合には、各分子に存在する二つの末端トリオルガノシ
ロキサン単位は好ましくは、ケイ素原子に結合した三つ
の一価炭化水素基を含む。これらの炭化水素基は全部が
アルキル基、例えばメチル基の如きものでよく、あるい
は二つのアルキル基と一つのフェニル基との組み合わせ
でもよい。
【００５５】希釈剤とチキソトロープ剤との相溶性は希
釈剤の分子量が増加するにつれて典型的に低下するの
で、希釈剤は分子当たりに平均して３０以下の繰返し単
位を含むべきであり、好ましくは１０以下の繰返し単位
を含むべきである。光学的な透明性を得るためには、希
釈剤のシロキサン単位のうちの少なくとも２０％はフェ
ニルシロキサン単位であるべきであるように思われる。
釈剤の分子量が増加するにつれて典型的に低下するの
で、希釈剤は分子当たりに平均して３０以下の繰返し単
位を含むべきであり、好ましくは１０以下の繰返し単位
を含むべきである。光学的な透明性を得るためには、希
釈剤のシロキサン単位のうちの少なくとも２０％はフェ
ニルシロキサン単位であるべきであるように思われる。
【００５６】必要とされるかあるいは入手できる唯一の
ものであることがある高分子量のチキソトロープ剤の溶
解度を保証するために、成分Ｄとして使用されるオリゴ
マーがケイ素に結合したフェニル基を含む場合には、そ
のオリゴマーは希釈剤の値段及び入手可能性と相応して
最も小さい数平均分子量を持つべきである。
ものであることがある高分子量のチキソトロープ剤の溶
解度を保証するために、成分Ｄとして使用されるオリゴ
マーがケイ素に結合したフェニル基を含む場合には、そ
のオリゴマーは希釈剤の値段及び入手可能性と相応して
最も小さい数平均分子量を持つべきである。
【００５７】値段と入手可能性が問題でない場合には、
環式ジアルキルシロキサン、例としてジメチルシロキサ
ンやメチルフェニルシロキサンといったものが、特によ
り高分子量のチキソトロープ剤に対して、好ましい希釈
剤であろう。これに次ぐものは、トリメチルシロキシ基
を末端基とするジメチルシロキサンとポリメチルフェニ
ルシロキサン、そしてトリメチルシロキシ単位とメチル
シルセスキオキサン単位か又はフェニルシルセスキオキ
サン単位かを含む線状オリゴマーであろう。
環式ジアルキルシロキサン、例としてジメチルシロキサ
ンやメチルフェニルシロキサンといったものが、特によ
り高分子量のチキソトロープ剤に対して、好ましい希釈
剤であろう。これに次ぐものは、トリメチルシロキシ基
を末端基とするジメチルシロキサンとポリメチルフェニ
ルシロキサン、そしてトリメチルシロキシ単位とメチル
シルセスキオキサン単位か又はフェニルシルセスキオキ
サン単位かを含む線状オリゴマーであろう。
【００５８】逆に言えば、より高分子量のオリゴマーの
みが利用可能である場合、これはオルガノシロキサン／
オキシアルキレンコポリマー（成分Ｃ）の選択を分子当
たりのオルガノシロキサン単位が平均して１０より少な
いものに制限する。
みが利用可能である場合、これはオルガノシロキサン／
オキシアルキレンコポリマー（成分Ｃ）の選択を分子当
たりのオルガノシロキサン単位が平均して１０より少な
いものに制限する。
【００５９】オルガノシロキサン／オキシアルキレンコ
ポリマー（成分Ｃ）の希釈剤への溶解度は、所望のレベ
ルのチキソトロピーをもたらす成分Ｃの一番分子量の小
さい態様を使用することと、希釈剤の分子量を最小にす
ることによって最大にされることは明らかであろう。
ポリマー（成分Ｃ）の希釈剤への溶解度は、所望のレベ
ルのチキソトロピーをもたらす成分Ｃの一番分子量の小
さい態様を使用することと、希釈剤の分子量を最小にす
ることによって最大にされることは明らかであろう。
【００６０】希釈剤は、本発明の組成物のマトリックス
相の１０〜９０重量％を構成する。
相の１０〜９０重量％を構成する。
【００６１】オルガノシロキサン／オキシアルキレンコ
ポリマー（成分Ｃ）と希釈剤（成分Ｄ）とを組み合わせ
た密度よりも高い密度を持つ商業的に入手可能ないずれ
の微細固形物も、当該固形物がこれらの成分と反応せ
ず、あるいは分散系を他の組成物、例えば本発明の分散
系についての好ましい最終用途である硬化性オルガノシ
ロキサン組成物のようなものに取り入れる場合に存在す
る追加の成分のいずれとも反応しない限りは、本発明の
組成物に分散させることができる。
ポリマー（成分Ｃ）と希釈剤（成分Ｄ）とを組み合わせ
た密度よりも高い密度を持つ商業的に入手可能ないずれ
の微細固形物も、当該固形物がこれらの成分と反応せ
ず、あるいは分散系を他の組成物、例えば本発明の分散
系についての好ましい最終用途である硬化性オルガノシ
ロキサン組成物のようなものに取り入れる場合に存在す
る追加の成分のいずれとも反応しない限りは、本発明の
組成物に分散させることができる。
【００６２】成分Ｂ、Ｃ及びＤとブレンドして本発明の
チキソトロープ分散系を作るタイプの固形物質には、金
属、例えばマグネシウム、チタン、スズ、亜鉛、鉄及び
銅といったものや、これらの金属の酸化物及びそのほか
の化合物や、例えばカルシウム、バリウム、鉛、ナトリ
ウム、カリウム、セリウム及びアンチモンといったよう
な金属の化合物や、非金属元素、例としてリン及び硫黄
といったものの化合物が含まれる。好ましい固形物は、
コンシステンシーが液からゲルに至るまで、あるいはガ
ムに至るまで様々である組成物に色をつけるために使用
される顔料である。
チキソトロープ分散系を作るタイプの固形物質には、金
属、例えばマグネシウム、チタン、スズ、亜鉛、鉄及び
銅といったものや、これらの金属の酸化物及びそのほか
の化合物や、例えばカルシウム、バリウム、鉛、ナトリ
ウム、カリウム、セリウム及びアンチモンといったよう
な金属の化合物や、非金属元素、例としてリン及び硫黄
といったものの化合物が含まれる。好ましい固形物は、
コンシステンシーが液からゲルに至るまで、あるいはガ
ムに至るまで様々である組成物に色をつけるために使用
される顔料である。
【００６３】微細固形物は典型的に、全分散系の０．１
〜５０重量％、好ましくは１〜１０重量％を構成する。
〜５０重量％、好ましくは１〜１０重量％を構成する。
【００６４】微細固形物が顔料である場合、この成分の
相対濃度は最終物品において所望される色合いや色の強
度に依存する。この濃度は典型的には、成分Ｂ、Ｃ及び
Ｄを一緒にした重量を基にして０．１〜５重量％であ
る。
相対濃度は最終物品において所望される色合いや色の強
度に依存する。この濃度は典型的には、成分Ｂ、Ｃ及び
Ｄを一緒にした重量を基にして０．１〜５重量％であ
る。
【００６５】固形物質の最大の粒子寸法は、少なくとも
幾分かは、当該物質の密度、不剪断条件下でのマトリッ
クスの粘度、そしてこの粘度が当該固形物質を組成物に
最初に分散させてからどれだけ素早く達成されるかに依
存しよう。ヒュームシリカ以外の固形物質の粒子寸法
は、好ましくは１ｍｍ未満である。
幾分かは、当該物質の密度、不剪断条件下でのマトリッ
クスの粘度、そしてこの粘度が当該固形物質を組成物に
最初に分散させてからどれだけ素早く達成されるかに依
存しよう。ヒュームシリカ以外の固形物質の粒子寸法
は、好ましくは１ｍｍ未満である。
【００６６】本発明のチキソトロープ分散系は、所望量
のオルガノシロキサン／オキシアルキレンコポリマー、
ヒュームシリカ及び希釈剤を均質になるまでブレンドし
て調製される。分散した固相の主要部分を形成する顔料
又はこのほかの微細固形物は、好ましくは、これらの成
分と一緒に含められる。とは言え、それは、最終分散系
の安定性に不利な影響を及ぼさなければ後に加えてもよ
い。
のオルガノシロキサン／オキシアルキレンコポリマー、
ヒュームシリカ及び希釈剤を均質になるまでブレンドし
て調製される。分散した固相の主要部分を形成する顔料
又はこのほかの微細固形物は、好ましくは、これらの成
分と一緒に含められる。とは言え、それは、最終分散系
の安定性に不利な影響を及ぼさなければ後に加えてもよ
い。
【００６７】微細固形物が存在するかしないかにかかわ
りなく、成分Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤの最初の混合物は比較的
希薄な液である。静置しておくと、本発明の組成物のう
ちの一部のものは粘度がわずかに上昇して流動可能なま
まである一方、そのほかのものは徐々に増粘して、静置
したままにしておくと周囲条件（２５℃及び大気圧）下
で１５分以内に流動可能な又は流動不能なゼラチン状の
ペースト又はゲルになる。
りなく、成分Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤの最初の混合物は比較的
希薄な液である。静置しておくと、本発明の組成物のう
ちの一部のものは粘度がわずかに上昇して流動可能なま
まである一方、そのほかのものは徐々に増粘して、静置
したままにしておくと周囲条件（２５℃及び大気圧）下
で１５分以内に流動可能な又は流動不能なゼラチン状の
ペースト又はゲルになる。
【００６８】中程度にあるいは勢いよく攪拌して剪断作
用にさらすと、これらのペーストやゲルは、攪拌を停止
するとそれらの流動不能状態に逆戻りする流動可能な液
に変わる。この逆転に要する時間は、数分から２４時間
あるいはそれ以上までいろいろであろう。
用にさらすと、これらのペーストやゲルは、攪拌を停止
するとそれらの流動不能状態に逆戻りする流動可能な液
に変わる。この逆転に要する時間は、数分から２４時間
あるいはそれ以上までいろいろであろう。
【００６９】本発明の安定な分散系にとって好ましい最
終用途は、硬化性オルガノシロキサン組成物において、
分散系の固相に存在するヒュームシリカ以外の固形物質
の種類に応じてこれらの組成物に色あるいはそのほかの
特性、例えば難燃性もしくは熱安定性といったものを付
与することである。
終用途は、硬化性オルガノシロキサン組成物において、
分散系の固相に存在するヒュームシリカ以外の固形物質
の種類に応じてこれらの組成物に色あるいはそのほかの
特性、例えば難燃性もしくは熱安定性といったものを付
与することである。
【００７０】本発明の分散系を硬化性オルガノシロキサ
ン組成物における成分として使用する場合、硬化性組成
物に存在する成分は、これらの成分のどれもが本発明の
分散系の安定性に支障をきたさず、且つ分散系の存在す
ることがオルガノシロキサン組成物の硬化するのを妨げ
ない限り、重要ではない。
ン組成物における成分として使用する場合、硬化性組成
物に存在する成分は、これらの成分のどれもが本発明の
分散系の安定性に支障をきたさず、且つ分散系の存在す
ることがオルガノシロキサン組成物の硬化するのを妨げ
ない限り、重要ではない。
【００７１】本発明の分散系は、硬化性オルガノシロキ
サン組成物に均一な色を付与する顔料ビヒクルとして特
に有用である。一つの適当なタイプのオルガノシロキサ
ン組成物は、湿分の存在下で硬化するものであり、かつ
それは分子当たり少なくとも二つのシラノール基を持つ
ポリオルガノシロキサンと、分子当たり少なくとも三つ
のアルコキシ基又は他の加水分解性基を有する、架橋剤
としての有機ケイ素化合物と、これらの成分の反応のた
めの触媒とを含有する。
サン組成物に均一な色を付与する顔料ビヒクルとして特
に有用である。一つの適当なタイプのオルガノシロキサ
ン組成物は、湿分の存在下で硬化するものであり、かつ
それは分子当たり少なくとも二つのシラノール基を持つ
ポリオルガノシロキサンと、分子当たり少なくとも三つ
のアルコキシ基又は他の加水分解性基を有する、架橋剤
としての有機ケイ素化合物と、これらの成分の反応のた
めの触媒とを含有する。
【００７２】この明細書において成分Ｅと称されるポリ
オルガノシロキサンは、分子当たり少なくとも二つのシ
ラノール基を含み、そして線状又は枝分かれした構造を
示す。これらのポリオルガノシロキサンは２５℃で液体
である。
オルガノシロキサンは、分子当たり少なくとも二つのシ
ラノール基を含み、そして線状又は枝分かれした構造を
示す。これらのポリオルガノシロキサンは２５℃で液体
である。
【００７３】成分Ｅの繰返し単位は、一般式Ｒ5 j Ｓｉ
Ｏ(4-j)/2 で表され、この式のＲ5は不置換の又は置換
された一価の炭化水素基を表し、ｊは１又は２である。
ｊが２である場合、Ｒ5 で表される炭化水素基は同一の
ものあるいは異なるものである。この成分は１又は２以
上の異なるタイプの繰返し単位を含む。
Ｏ(4-j)/2 で表され、この式のＲ5は不置換の又は置換
された一価の炭化水素基を表し、ｊは１又は２である。
ｊが２である場合、Ｒ5 で表される炭化水素基は同一の
ものあるいは異なるものである。この成分は１又は２以
上の異なるタイプの繰返し単位を含む。
【００７４】Ｒ5 で表される一価の炭化水素基には、炭
素原子数が１〜１２のアルキル基や、クロロメチル基又
は３，３，３−トリフルオロプロピル基といったような
置換アルキル基や、フェニル基及びナフチル基といった
アリール基や、トリル基及びキシリル基のようなアルカ
リール基や、ベンジル基のようなアラルキル基が含まれ
る。好ましい基は、メチル基やエチル基のようなアルキ
ル基、フェニル基、３，３，３−トリフルオロプロピル
基である。オルガノシロキサン組成物が硬化するのに、
あるいは本発明の分散系の安定性に不利な影響を及ぼさ
ない限りは、ハロゲン原子以外の置換基が存在してもよ
い。
素原子数が１〜１２のアルキル基や、クロロメチル基又
は３，３，３−トリフルオロプロピル基といったような
置換アルキル基や、フェニル基及びナフチル基といった
アリール基や、トリル基及びキシリル基のようなアルカ
リール基や、ベンジル基のようなアラルキル基が含まれ
る。好ましい基は、メチル基やエチル基のようなアルキ
ル基、フェニル基、３，３，３−トリフルオロプロピル
基である。オルガノシロキサン組成物が硬化するのに、
あるいは本発明の分散系の安定性に不利な影響を及ぼさ
ない限りは、ハロゲン原子以外の置換基が存在してもよ
い。
【００７５】最も好ましくは、上記の一般式のｊは２で
あり、そして各ケイ素原子に結合したＲ5 基のうちの少
なくとも一方はメチル基である。
あり、そして各ケイ素原子に結合したＲ5 基のうちの少
なくとも一方はメチル基である。
【００７６】硬化した物質において有効レベルの引張強
さとそのほかの物理的性質を達成するためには、成分Ｅ
の数平均分子量は少なくとも２０，０００、好ましくは
２５，０００〜７５，０００であるべきである。数平均
分子量が１００，０００より大きいポリオルガノシロキ
サンの粘度は一般に、特に本発明の組成物の他の成分と
のブレンドを通常の混合装置を使って行う場合には、都
合よく処理加工するのに粘稠であり過ぎる。
さとそのほかの物理的性質を達成するためには、成分Ｅ
の数平均分子量は少なくとも２０，０００、好ましくは
２５，０００〜７５，０００であるべきである。数平均
分子量が１００，０００より大きいポリオルガノシロキ
サンの粘度は一般に、特に本発明の組成物の他の成分と
のブレンドを通常の混合装置を使って行う場合には、都
合よく処理加工するのに粘稠であり過ぎる。
【００７７】本発明の湿分硬化性組成物のポリオルガノ
シロキサン、すなわち成分Ｅのための架橋剤は、典型的
には、ケイ素に結合した加水分解性基を分子当たりに平
均で少なくとも三つ含む有機ケイ素化合物である。好ま
しい加水分解性基は、炭素原子数が１〜４のアルコキシ
基、炭素原子数が２〜４のカルボキシ基、及びメチルエ
チルケトキシモ基といったようなケトキシモ基である。
シロキサン、すなわち成分Ｅのための架橋剤は、典型的
には、ケイ素に結合した加水分解性基を分子当たりに平
均で少なくとも三つ含む有機ケイ素化合物である。好ま
しい加水分解性基は、炭素原子数が１〜４のアルコキシ
基、炭素原子数が２〜４のカルボキシ基、及びメチルエ
チルケトキシモ基といったようなケトキシモ基である。
【００７８】硬化剤である成分Ｆは、シラン、ジシロキ
サン、又はポリオルガノシロキサンである。値段と入手
の可能性を基にして、一般にはシラン類が好ましい。好
ましいシラン類は、メチルトリメトキシシラン、フェニ
ルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、メ
チルトリエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラ
ン、メチルトリ（メチルエチルケトキシモ）シラン、テ
トラエチルオルトシリケートといったようなアルキルオ
ルトシリケート類、及びこれらのオルトシリケートの、
一般にアルキルポリシリケートと称される縮合生成物で
ある。
サン、又はポリオルガノシロキサンである。値段と入手
の可能性を基にして、一般にはシラン類が好ましい。好
ましいシラン類は、メチルトリメトキシシラン、フェニ
ルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、メ
チルトリエトキシシラン、メチルトリアセトキシシラ
ン、メチルトリ（メチルエチルケトキシモ）シラン、テ
トラエチルオルトシリケートといったようなアルキルオ
ルトシリケート類、及びこれらのオルトシリケートの、
一般にアルキルポリシリケートと称される縮合生成物で
ある。
【００７９】硬化剤の濃度は、組成物を湿分の存在下に
おいて所望の物理的性質を示すエラストマー物質又は樹
脂状物質に変えるのに十分なものであるべきである。典
型的な湿分硬化性組成物は、硬化性組成物の総重量を基
にして０．５〜６重量％のアルコキシ基又は他の加水分
解可能な基を含有する。
おいて所望の物理的性質を示すエラストマー物質又は樹
脂状物質に変えるのに十分なものであるべきである。典
型的な湿分硬化性組成物は、硬化性組成物の総重量を基
にして０．５〜６重量％のアルコキシ基又は他の加水分
解可能な基を含有する。
【００８０】架橋性のポリオルガノシロキサン及び硬化
剤のほかに、本発明の硬化性組成物は架橋反応のための
触媒を含む。適当な触媒の例には、チタン化合物、アル
ミニウム化合物、ジルコニウム化合物、鉛化合物及びス
ズ化合物が含まれる。これらの触媒は、湿分の存在下で
架橋剤に存在している加水分解性基の加水分解を促進す
る。成形型製造用に使用する場合の本発明の組成物のた
めの好ましい触媒には、カルボン酸の二価スズ塩、例え
ば酢酸第一スズやオクタン酸第一スズといったもの、そ
して有機スズ化合物、例えばジメチルスズジネオデカノ
エート、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズジラ
ウレート及びジオクチルスズジアセテートといったもの
が含まれる。これらのスズ化合物のカルボン酸部分は１
〜２０の炭素原子を含む。
剤のほかに、本発明の硬化性組成物は架橋反応のための
触媒を含む。適当な触媒の例には、チタン化合物、アル
ミニウム化合物、ジルコニウム化合物、鉛化合物及びス
ズ化合物が含まれる。これらの触媒は、湿分の存在下で
架橋剤に存在している加水分解性基の加水分解を促進す
る。成形型製造用に使用する場合の本発明の組成物のた
めの好ましい触媒には、カルボン酸の二価スズ塩、例え
ば酢酸第一スズやオクタン酸第一スズといったもの、そ
して有機スズ化合物、例えばジメチルスズジネオデカノ
エート、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズジラ
ウレート及びジオクチルスズジアセテートといったもの
が含まれる。これらのスズ化合物のカルボン酸部分は１
〜２０の炭素原子を含む。
【００８１】架橋触媒の濃度は、作業時間延長剤の存在
に由来する抑制期間の後に有効な硬化速度を達成するの
に重要なようである。好ましい硬化性組成物では、触媒
の濃度は架橋性ポリオルガノシロキサン（成分Ｅ）の重
量を基にして０．５〜５重量％である。
に由来する抑制期間の後に有効な硬化速度を達成するの
に重要なようである。好ましい硬化性組成物では、触媒
の濃度は架橋性ポリオルガノシロキサン（成分Ｅ）の重
量を基にして０．５〜５重量％である。
【００８２】本発明のチキソトロープ分散系を含有して
なる硬化性オルガノシロキサン組成物は、随意に、硬化
性オルガノシロキサン組成物において通常使用される補
強タイプあるいは非補強タイプの充填剤のうちの１種以
上を含有することができる。
なる硬化性オルガノシロキサン組成物は、随意に、硬化
性オルガノシロキサン組成物において通常使用される補
強タイプあるいは非補強タイプの充填剤のうちの１種以
上を含有することができる。
【００８３】適当な充填剤の例は、ヒュームタイプ又は
沈降タイプの微細シリカのような補強用充填剤、そして
アルミナ、二酸化チタン、ケイ酸ジルコニウムの如きケ
イ酸塩類、及び炭酸カルシウムといったような、非補強
用充填剤である。
沈降タイプの微細シリカのような補強用充填剤、そして
アルミナ、二酸化チタン、ケイ酸ジルコニウムの如きケ
イ酸塩類、及び炭酸カルシウムといったような、非補強
用充填剤である。
【００８４】充填剤、あるいは複数の充填剤を組み合わ
せたものは、本発明の好ましい二液型オルガノシロキサ
ン組成物の基剤部分の重量の、一般的には５〜４０％、
好ましくは１０〜３０％を構成する。
せたものは、本発明の好ましい二液型オルガノシロキサ
ン組成物の基剤部分の重量の、一般的には５〜４０％、
好ましくは１０〜３０％を構成する。
【００８５】一部の充填剤、特に、例えばシリカのよう
な補強用充填剤について言えば、充填剤粒子の表面に存
在しているヒドロキシル基の一部分を反応させるため充
填剤を処理することが、当該技術分野において「クレー
ピング」又は「クレープ硬化」と呼ばれている現象を防
止するために望ましいことがある。有効な充填剤処理剤
には、シラノール基を末端基とする低分子量のポリジオ
ルガノシロキサンとヘキサアルキルジシラザンが含まれ
る。
な補強用充填剤について言えば、充填剤粒子の表面に存
在しているヒドロキシル基の一部分を反応させるため充
填剤を処理することが、当該技術分野において「クレー
ピング」又は「クレープ硬化」と呼ばれている現象を防
止するために望ましいことがある。有効な充填剤処理剤
には、シラノール基を末端基とする低分子量のポリジオ
ルガノシロキサンとヘキサアルキルジシラザンが含まれ
る。
【００８６】充填剤を本発明の硬化性オルガノシロキサ
ン組成物の他の成分とブレンドする前に処理してもよ
く、あるいは処理剤をこれらの成分と一緒にして充填剤
をその場で処理してもよい。
ン組成物の他の成分とブレンドする前に処理してもよ
く、あるいは処理剤をこれらの成分と一緒にして充填剤
をその場で処理してもよい。
【００８７】追加の任意的な成分を加えて、本発明の組
成物を使用して調製された硬化性オルガノシロキサン組
成物あるいは硬化した物質の性質を変性することができ
る。これらの追加成分には、成分Ｄと称される有機ケイ
素オリゴマーのほかの液体希釈剤、硬化を加速するため
の水、熱及び／又は紫外線の存在下での劣化を抑制する
ための安定剤、酸化防止剤、染料、そして難燃剤が含ま
れる。
成物を使用して調製された硬化性オルガノシロキサン組
成物あるいは硬化した物質の性質を変性することができ
る。これらの追加成分には、成分Ｄと称される有機ケイ
素オリゴマーのほかの液体希釈剤、硬化を加速するため
の水、熱及び／又は紫外線の存在下での劣化を抑制する
ための安定剤、酸化防止剤、染料、そして難燃剤が含ま
れる。
【００８８】本発明の安定化され、均一に分散された微
細固形物質を含有してなる好ましい二液型硬化性組成物
は、組成物の基剤部分を架橋剤と成分Ａ〜Ｄとを含有し
ている部分とブレンドして調製される。この組成物の架
橋あるいは硬化は、成分Ｅ、Ｆ及びＧが大気中の及び／
又はオルガノシロキサン組成物の成分としての水ととも
に存在すると始まり、そしてそれらは、水の量、温度、
架橋触媒の種類と濃度、そして用いられる作業時間延長
剤に依存して、数分から数時間を必要とする。
細固形物質を含有してなる好ましい二液型硬化性組成物
は、組成物の基剤部分を架橋剤と成分Ａ〜Ｄとを含有し
ている部分とブレンドして調製される。この組成物の架
橋あるいは硬化は、成分Ｅ、Ｆ及びＧが大気中の及び／
又はオルガノシロキサン組成物の成分としての水ととも
に存在すると始まり、そしてそれらは、水の量、温度、
架橋触媒の種類と濃度、そして用いられる作業時間延長
剤に依存して、数分から数時間を必要とする。
【００８９】架橋剤に存在する加水分解性基がアルコキ
シ基であり、そして架橋触媒がスズ化合物である場合、
本発明の硬化性オルガノシロキサン組成物は好ましくは
二液型で包装される。本発明の分散系の成分Ａ〜Ｄは、
架橋剤及び架橋反応のための触媒とともに一つの部分
（容器）に入れられ、そしてそれは架橋剤が早いうちに
反応するのを避けるためヒドロキシル化合物を含まな
い。硬化性ポリオルガノシロキサンの成分Ｅは、何らか
の補強用又は非補強用充填剤及びそのほかの任意的成分
と一緒に別の第二の部分（容器）に入れられて、組成物
の基剤部分と称される。
シ基であり、そして架橋触媒がスズ化合物である場合、
本発明の硬化性オルガノシロキサン組成物は好ましくは
二液型で包装される。本発明の分散系の成分Ａ〜Ｄは、
架橋剤及び架橋反応のための触媒とともに一つの部分
（容器）に入れられ、そしてそれは架橋剤が早いうちに
反応するのを避けるためヒドロキシル化合物を含まな
い。硬化性ポリオルガノシロキサンの成分Ｅは、何らか
の補強用又は非補強用充填剤及びそのほかの任意的成分
と一緒に別の第二の部分（容器）に入れられて、組成物
の基剤部分と称される。
【００９０】別の態様においては、分散相として１種以
上の顔料を含有している本発明のチキソトロープ分散系
を、基剤部分及び硬化剤と触媒とを含有している部分と
は別の、第三の構成部分として包装する。これは、組成
物の使用者が、本発明の組成物を使って調製される硬化
物質の物理的性質に影響を及ぼすであろう架橋剤及び架
橋触媒への影響なしに、適切な種類と量の分散された顔
料を選ぶことにより色合いや色の強度を変えることを可
能にする。
上の顔料を含有している本発明のチキソトロープ分散系
を、基剤部分及び硬化剤と触媒とを含有している部分と
は別の、第三の構成部分として包装する。これは、組成
物の使用者が、本発明の組成物を使って調製される硬化
物質の物理的性質に影響を及ぼすであろう架橋剤及び架
橋触媒への影響なしに、適切な種類と量の分散された顔
料を選ぶことにより色合いや色の強度を変えることを可
能にする。
【００９１】ヒュームシリカと少なくとも１種の別の微
細固形物質を含有している本発明の分散系を二液型オル
ガノシロキサン組成物のうちの架橋剤と架橋反応のため
の触媒とを含有している部分へブレンドする場合、所定
の希釈剤（成分Ｄ）がオルガノシロキサン／オキシアル
キレンコポリマー（成分Ｃ）を架橋剤及び架橋反応のた
めの触媒と一緒に溶解する能力は、希釈剤の分子におけ
るフェニル基含有シロキサンのその他のシロキサン単位
に対するモル比に正比例し、そして希釈剤の分子量に逆
比例するようである。
細固形物質を含有している本発明の分散系を二液型オル
ガノシロキサン組成物のうちの架橋剤と架橋反応のため
の触媒とを含有している部分へブレンドする場合、所定
の希釈剤（成分Ｄ）がオルガノシロキサン／オキシアル
キレンコポリマー（成分Ｃ）を架橋剤及び架橋反応のた
めの触媒と一緒に溶解する能力は、希釈剤の分子におけ
るフェニル基含有シロキサンのその他のシロキサン単位
に対するモル比に正比例し、そして希釈剤の分子量に逆
比例するようである。
【００９２】本発明のチキソトロープ分散系と硬化性組
成物を使って調製された硬化したオルガノシロキサンエ
ラストマーは、シーラント、コーティング材料、及び電
気デバイスや電子デバイスのための埋込み剤あるいは封
止剤を含めた、様々な最終用途に適している。本発明の
組成物は、複製しようとする原型の表面にそれを適用し
て成形型を製作するのに特に有用である。原型の外形
は、成形型を使って製作しようとする物品の形状に一致
する。硬化性組成物をこの成形型に入れ、組成物の成分
を反応させて固体の架橋した物質を作り、そして次に、
得られた付形された物品から成形型を取り除くことで、
付形物品が製作される。
成物を使って調製された硬化したオルガノシロキサンエ
ラストマーは、シーラント、コーティング材料、及び電
気デバイスや電子デバイスのための埋込み剤あるいは封
止剤を含めた、様々な最終用途に適している。本発明の
組成物は、複製しようとする原型の表面にそれを適用し
て成形型を製作するのに特に有用である。原型の外形
は、成形型を使って製作しようとする物品の形状に一致
する。硬化性組成物をこの成形型に入れ、組成物の成分
を反応させて固体の架橋した物質を作り、そして次に、
得られた付形された物品から成形型を取り除くことで、
付形物品が製作される。
【００９３】
【実施例】以下に掲げる例は、本発明として使用するの
に適当な好ましいチキソトロープ分散系と硬化性オルガ
ノシロキサン組成物を説明するものである。特別に指示
がないかぎり、これらの例における部数と百分率は全て
重量によるものであり、また粘度は２５℃で測定された
値である。
に適当な好ましいチキソトロープ分散系と硬化性オルガ
ノシロキサン組成物を説明するものである。特別に指示
がないかぎり、これらの例における部数と百分率は全て
重量によるものであり、また粘度は２５℃で測定された
値である。
【００９４】〔例１〕この例では、好ましい顔料分散系
の調製を説明する。
の調製を説明する。
【００９５】次に述べる成分を均一になるまでブレンド
してチキソトロープ顔料分散系を調製した。それらの成
分とは、１８重量％のトリス（トリメチルシロキシ）フ
ェニルシランと４８重量％の〔（Ｍｅ3 ＳｉＯ）2 Ｐｈ
Ｓｉ〕2 Ｏと３４重量％の（Ｍｅ3 ＳｉＯ）2 ＰｈＳｉ
ＯＳｉＰｈ（ＯＳｉＭｅ3 ）ＯＳｉＰｈ（ＯＳｉＭ
ｅ 3 ）2 とを含有している、希釈剤としての混合物（以
下において成分Ｃ１と称される）９４部、ヘキサメチル
ジシラザンで前もって処理されたヒュームシリカ６部、
ＣＨ2 ＝ＣＨＣＨ2 （ＯＣＨ2 ＣＨ2 ）7 ＯＨに溶解し
た８５％溶液としての、下式
してチキソトロープ顔料分散系を調製した。それらの成
分とは、１８重量％のトリス（トリメチルシロキシ）フ
ェニルシランと４８重量％の〔（Ｍｅ3 ＳｉＯ）2 Ｐｈ
Ｓｉ〕2 Ｏと３４重量％の（Ｍｅ3 ＳｉＯ）2 ＰｈＳｉ
ＯＳｉＰｈ（ＯＳｉＭｅ3 ）ＯＳｉＰｈ（ＯＳｉＭ
ｅ 3 ）2 とを含有している、希釈剤としての混合物（以
下において成分Ｃ１と称される）９４部、ヘキサメチル
ジシラザンで前もって処理されたヒュームシリカ６部、
ＣＨ2 ＝ＣＨＣＨ2 （ＯＣＨ2 ＣＨ2 ）7 ＯＨに溶解し
た８５％溶液としての、下式
【００９６】
【化８】
【００９７】のジメチルシロキサン／オキシエチレンコ
ポリマー２部、そしてＣｉｂａ Ｇｅｉｇｙ社製の顔料
のＩｒｇａｌｉｔｅ Ｒｅｄ及びＢＡＳＦ社製の顔料の
Ｈｅｌｉｏｇｅｎ Ｂｌｕｅ各１部、であった。
ポリマー２部、そしてＣｉｂａ Ｇｅｉｇｙ社製の顔料
のＩｒｇａｌｉｔｅ Ｒｅｄ及びＢＡＳＦ社製の顔料の
Ｈｅｌｉｏｇｅｎ Ｂｌｕｅ各１部、であった。
【００９８】この最初の混合物は、１５分以内にゼラチ
ン状ペーストを生成させる液であった。このペースト
は、金属のへらで数秒間かき混ぜることにより流動可能
な液に変わった。この分散系を３０日間放置したままに
した場合、顔料の目立った分離は認められなかった。
ン状ペーストを生成させる液であった。このペースト
は、金属のへらで数秒間かき混ぜることにより流動可能
な液に変わった。この分散系を３０日間放置したままに
した場合、顔料の目立った分離は認められなかった。
【００９９】比較例として、この例の先の部分に記載し
た量の成分Ｃ１、シリカ及び顔料を均一になるまでブレ
ンドして分散系を調製した。得られた混合物は粘稠な液
であって、それは２４時間の間増粘するようには見えな
かった。その時点で、容器の底に認めうるほどの量の顔
料は存在しないようであった。この組成物を３０日間放
置したままにすると、顔料の大部分が容器の底に沈降し
た。
た量の成分Ｃ１、シリカ及び顔料を均一になるまでブレ
ンドして分散系を調製した。得られた混合物は粘稠な液
であって、それは２４時間の間増粘するようには見えな
かった。その時点で、容器の底に認めうるほどの量の顔
料は存在しないようであった。この組成物を３０日間放
置したままにすると、顔料の大部分が容器の底に沈降し
た。
【０１００】〔例２〕湿分硬化性オルガノシロキサン組
成物のための通常の架橋剤と触媒とを加えることによ
る、本発明の分散系の安定性への影響を測定するため、
例１に記載された種類と量のオルガノシロキサン／オキ
シエチレンコポリマーとシリカを例１において成分Ｃ１
と呼ばれた希釈剤９４部と一緒に均質になるまでブレン
ドして調製した分散系に１０部のエチルポリシリケート
を加えた。
成物のための通常の架橋剤と触媒とを加えることによ
る、本発明の分散系の安定性への影響を測定するため、
例１に記載された種類と量のオルガノシロキサン／オキ
シエチレンコポリマーとシリカを例１において成分Ｃ１
と呼ばれた希釈剤９４部と一緒に均質になるまでブレン
ドして調製した分散系に１０部のエチルポリシリケート
を加えた。
【０１０１】この最初は流動可能な液は、１５分間放置
したままにするとゼラチン状のペーストになった。同じ
増粘効果が、エチルポリシリケートの代わりに１０部の
ｎ−プロピルオルトシリケートを使用した場合に認めら
れた。
したままにするとゼラチン状のペーストになった。同じ
増粘効果が、エチルポリシリケートの代わりに１０部の
ｎ−プロピルオルトシリケートを使用した場合に認めら
れた。
【０１０２】〔例３〕この例は、様々な種類と濃度のオ
ルガノシロキサン／オキシアルキレンコポリマー、シリ
カ及び希釈剤が分散した固相としてシリカを含有してい
るタイプの分散系に及ぼす効果を説明する。
ルガノシロキサン／オキシアルキレンコポリマー、シリ
カ及び希釈剤が分散した固相としてシリカを含有してい
るタイプの分散系に及ぼす効果を説明する。
【０１０３】表２と表３で使用されている種々の成分
は、次に説明するとおりである。
は、次に説明するとおりである。
【０１０４】Ｂ１は、シラノール基の５０％がトリメチ
ルシロキシ基で末端ブロックされており、メジアン粒子
寸法が７ｎｍであり、表面積が２６０ｍ2 ／ｇであるヒ
ュームシリカであった。表面の構造化（ｓｕｒｆａｃｅ
ｓｔｒｕｃｔｕｒｉｎｇ）の度合い、すなわち形状の
変動の度合いは、比較的高かった。
ルシロキシ基で末端ブロックされており、メジアン粒子
寸法が７ｎｍであり、表面積が２６０ｍ2 ／ｇであるヒ
ュームシリカであった。表面の構造化（ｓｕｒｆａｃｅ
ｓｔｒｕｃｔｕｒｉｎｇ）の度合い、すなわち形状の
変動の度合いは、比較的高かった。
【０１０５】Ｂ２は、シラノール基の５０％がトリメチ
ルシロキシ基で末端ブロックされ、表面積が１３０ｍ2
／ｇであるヒュームシリカであった。表面の構造化の度
合いはＢ１より低かった。
ルシロキシ基で末端ブロックされ、表面積が１３０ｍ2
／ｇであるヒュームシリカであった。表面の構造化の度
合いはＢ１より低かった。
【０１０６】Ｂ３（比較例）は、シラノール基の５０％
がトリメチルシロキシ基で末端ブロックされており、メ
ジアン粒子寸法が１１μｍであり、表面積が２００ｍ2
／ｇである沈降シリカであった。表面の構造化の度合い
はＢ１あるいはＢ２よりもかなり低かった。
がトリメチルシロキシ基で末端ブロックされており、メ
ジアン粒子寸法が１１μｍであり、表面積が２００ｍ2
／ｇである沈降シリカであった。表面の構造化の度合い
はＢ１あるいはＢ２よりもかなり低かった。
【０１０７】オルガノシロキサン／オキシアルキレンコ
ポリマー（成分Ｃ）は、下式で表される。
ポリマー（成分Ｃ）は、下式で表される。
【０１０８】
【化９】
【０１０９】上式中のｘ、ｙ、ｍ、ｎ、Ｘとコポリマー
の濃度は、表１に示す通りである。
の濃度は、表１に示す通りである。
【０１１０】
【表１】
【０１１１】１）表１に示した濃度は、コポリマーを調
製するのに使用した対応するポリエーテル中でのコポリ
マーの濃度である。
製するのに使用した対応するポリエーテル中でのコポリ
マーの濃度である。
【０１１２】２）表１のＣ６のオキシアルキレン基は、
分子当たりに平均１２のオキシエチレン単位を含むポリ
エチレングリコールのアリルエーテルを９５モル％、そ
して分子当たりに平均１８のオキシエチレン単位と１８
のオキシプロピレン単位を含むコポリマーのアリルエー
テルを５モル％含有している混合物から得られた。平均
的な分子は式−Ｓｉ（ＣＨ3 ）（Ａ）Ｏ−の非末端シロ
キサン単位を４８含んでいた。
分子当たりに平均１２のオキシエチレン単位を含むポリ
エチレングリコールのアリルエーテルを９５モル％、そ
して分子当たりに平均１８のオキシエチレン単位と１８
のオキシプロピレン単位を含むコポリマーのアリルエー
テルを５モル％含有している混合物から得られた。平均
的な分子は式−Ｓｉ（ＣＨ3 ）（Ａ）Ｏ−の非末端シロ
キサン単位を４８含んでいた。
【０１１３】３）表１のＤＳＤは、下式のドデセニルコ
ハク酸ジカルボキシレート基である。
ハク酸ジカルボキシレート基である。
【０１１４】
【化１０】
【０１１５】希釈剤（成分Ｄ）は以下のとおりである。
【０１１６】Ｄ１は、１８重量％（２５モル％）のトリ
ス（トリメチルシロキシ）フェニルシラン、４８重量％
（５０モル％）の〔（ＣＨ3 ）3 ＳｉＯ〕2 ＰｈＳｉＯ
ＳｉＰｈ〔ＯＳｉ（ＣＨ3 ）3 〕2 、及び３４重量％
（２５モル％）の〔（ＣＨ3 ） 2 ＳｉＯ〕2 ＰｈＳｉＯ
ＳｉＰｈ〔ＯＳｉ（ＣＨ3 ）3 〕ＯＳｉＰｈ〔ＯＳｉ
（ＣＨ3 ）3 〕2 を含有している混合物であった。
ス（トリメチルシロキシ）フェニルシラン、４８重量％
（５０モル％）の〔（ＣＨ3 ）3 ＳｉＯ〕2 ＰｈＳｉＯ
ＳｉＰｈ〔ＯＳｉ（ＣＨ3 ）3 〕2 、及び３４重量％
（２５モル％）の〔（ＣＨ3 ） 2 ＳｉＯ〕2 ＰｈＳｉＯ
ＳｉＰｈ〔ＯＳｉ（ＣＨ3 ）3 〕ＯＳｉＰｈ〔ＯＳｉ
（ＣＨ3 ）3 〕2 を含有している混合物であった。
【０１１７】Ｄ２は、５０ｍｍ2 ／ｓｅｃの粘度を示
す、トリメチルシロキシ基を末端基とするポリジメチル
シロキサンであった。
す、トリメチルシロキシ基を末端基とするポリジメチル
シロキサンであった。
【０１１８】Ｄ３は、３５０ｍｍ2 ／ｓｅｃの粘度を示
す、トリメチルシロキシ基を末端基とするポリジメチル
シロキサンであった。
す、トリメチルシロキシ基を末端基とするポリジメチル
シロキサンであった。
【０１１９】Ｄ４は、５００ｍｍ2 ／ｓｅｃの粘度を示
す、トリメチルシロキシ基を末端基とするポリジメチル
シロキサンであった。
す、トリメチルシロキシ基を末端基とするポリジメチル
シロキサンであった。
【０１２０】Ｄ５は、０．４Ｐａ・s の粘度を持つ、ジ
メチルビニルシロキシ基を末端基とするポリジメチルシ
ロキサンであった。
メチルビニルシロキシ基を末端基とするポリジメチルシ
ロキサンであった。
【０１２１】
【表２】
【０１２２】
【表３】
【０１２３】分散系の外観を表４と表５に要約して示
す。
す。
【０１２４】
【表４】
【０１２５】
【表５】
【０１２６】〔例４〕この例では、本発明の顔料分散系
を含有してなるオルガノシロキサン組成物の調製と硬化
を説明する。
を含有してなるオルガノシロキサン組成物の調製と硬化
を説明する。
【０１２７】硬化性オルガノシロキサン組成物の基剤部
分を次の成分を均質になるまでブレンドして調製した。
分を次の成分を均質になるまでブレンドして調製した。
【０１２８】それらの成分とは、粘度５０Ｐａ・s のシ
ラノール基を末端基とするポリジメチルシロキサン４２
部、粘度０．３２５Ｐａ・s のトリメチルシロキシ基を
末端基とするポリジメチルシロキサン２１部、ヘキサメ
チルジシラザン３部、平均粒子寸法が４μｍの沈降シリ
カ２１部、水１部、平均粒子寸法が５μｍのケイ酸ジル
コニウム１１部、粘度１０Ｐａ・s のシラノール基を末
端基とするポリジメチルシロキサン４２部、３５部の
水、６０部の、粘度が０．３５Ｐａ・s でトリメチルシ
ロキシ基を末端基とする液体ポリジメチルシロキサン、
４部の非イオン界面活性剤の２，６，８−トリメチル−
４−ノニルオキシポリエチレンオキシエタノールをブレ
ンドして調製されたエマルション０．８部、並びに、１
部のナトリウムポリエチレンオキシドオクチルフェノキ
シスルホネート、であった。
ラノール基を末端基とするポリジメチルシロキサン４２
部、粘度０．３２５Ｐａ・s のトリメチルシロキシ基を
末端基とするポリジメチルシロキサン２１部、ヘキサメ
チルジシラザン３部、平均粒子寸法が４μｍの沈降シリ
カ２１部、水１部、平均粒子寸法が５μｍのケイ酸ジル
コニウム１１部、粘度１０Ｐａ・s のシラノール基を末
端基とするポリジメチルシロキサン４２部、３５部の
水、６０部の、粘度が０．３５Ｐａ・s でトリメチルシ
ロキシ基を末端基とする液体ポリジメチルシロキサン、
４部の非イオン界面活性剤の２，６，８−トリメチル−
４−ノニルオキシポリエチレンオキシエタノールをブレ
ンドして調製されたエマルション０．８部、並びに、１
部のナトリウムポリエチレンオキシドオクチルフェノキ
シスルホネート、であった。
【０１２９】架橋剤／触媒混合物を次の成分を均質にな
るまでブレンドして調製した。
るまでブレンドして調製した。
【０１３０】それらの成分とは、例３においてＣ１と称
されているオルガノシロキサン／オキシアルキレンコポ
リマー２部、例３においてＤ１と称されている希釈剤６
７部、例３においてＢ１と称されているシリカ４部、そ
して顔料として、Ｃｉｂａ Ｇｅｉｇｙ社製の顔料のＩ
ｒｇａｌｉｔｅ Ｒｅｄ及びＢＡＳＦ社製の顔料のＨｅ
ｌｉｏｇｅｎ Ｂｌｕｅ各１部、であった。
されているオルガノシロキサン／オキシアルキレンコポ
リマー２部、例３においてＤ１と称されている希釈剤６
７部、例３においてＢ１と称されているシリカ４部、そ
して顔料として、Ｃｉｂａ Ｇｅｉｇｙ社製の顔料のＩ
ｒｇａｌｉｔｅ Ｒｅｄ及びＢＡＳＦ社製の顔料のＨｅ
ｌｉｏｇｅｎ Ｂｌｕｅ各１部、であった。
【０１３１】得られた混合物を、１０部のエチルポリシ
リケート及び８部のｎ−プロピルオルトシリケート、そ
して硬化触媒として１０部のジブチルスズジネオデカノ
エートと均質になるまでブレンドした。
リケート及び８部のｎ−プロピルオルトシリケート、そ
して硬化触媒として１０部のジブチルスズジネオデカノ
エートと均質になるまでブレンドした。
【０１３２】この顔料入り架橋剤／触媒混合物の１部を
組成物の基剤部分１０部に加えて、硬化性組成物を調製
した。
組成物の基剤部分１０部に加えて、硬化性組成物を調製
した。
【０１３３】調製したばかりの組成物の粘度は、１０ｒ
ｐｍの速度で回転する番号６のスピンドルを備えたブル
ックフィールド（Ｂｒｏｏｋｆｉｅｌｄ、商標）粘度計
を使って測定して５５，０００Ｐａ・s であった。
ｐｍの速度で回転する番号６のスピンドルを備えたブル
ックフィールド（Ｂｒｏｏｋｆｉｅｌｄ、商標）粘度計
を使って測定して５５，０００Ｐａ・s であった。
【０１３４】この硬化性組成物を油圧プレスのベッドの
チェースに入れ、周囲条件下及び９，０００ｐｓｉ（６
２ＭＰａ）のゲージ圧力下で２時間硬化させた。
チェースに入れ、周囲条件下及び９，０００ｐｓｉ（６
２ＭＰａ）のゲージ圧力下で２時間硬化させた。
【０１３５】硬化したエラストマーのシートは４００ｐ
ｓｉ（２．８ＭＰａ）の引張強さ、破断点での４５６％
の伸び、そしてショアーＡスケールで２０の固さの値を
示した。
ｓｉ（２．８ＭＰａ）の引張強さ、破断点での４５６％
の伸び、そしてショアーＡスケールで２０の固さの値を
示した。
Claims (1)
- 【請求項１】 マトリックス相中に均一に分散した固相
を含むオルガノシロキサン組成物であって、当該固相
が、 Ａ）当該マトリックス相の密度より高い密度を示すシリ
カ以外の微細物質と、 Ｂ）微細な補強用ヒュームシリカ、とを含み、そして当
該マトリックス相が、 Ｃ）次の式、 【化１】 から選ばれた一般式を示す液体オルガノシロキサンコポ
リマー（これらの式中の各Ｒ1 は不置換の又は置換され
た一価の炭化水素基から個々に選ばれ、ＱはＲ1又はＧ
であり、Ｇは、 【化２】 からなる群より選ばれた平均構造を有するポリオキシア
ルキレン基であり、Ｒ2は炭素原子数２〜２０の二価の
炭化水素基を表し、Ｚは水素原子、炭素原子数１〜４の
アルキル基及び−（Ｏ）ＣＲ基からなる群より選ばれ、
Ｒは一価の炭化水素基又は置換基として−Ｃ（Ｏ）ＯＨ
基を含む一価の炭化水素基から選ばれ、ａ、ｂ、ｃ及び
ｄは個々に正の整数から選ばれる）と、 Ｄ）当該分散系中の成分と反応せず且つ上記オルガノシ
ロキサンコポリマーと相溶性である液体オルガノシロキ
サンオリゴマーであって、当該オリゴマーに存在してい
るケイ素と結合した炭化水素基が不置換の又は置換され
た一価の炭化水素基から選ばれていて、数平均分子量が
当該マトリックス相中の上記オルガノシロキサンコポリ
マーを可溶化するのに十分なものである液体オルガノシ
ロキサンオリゴマー、とを含んでいて、上記の微細物
質、シリカ、オルガノシロキサンコポリマー及びオルガ
ノシロキサンオリゴマーを一緒にした重量を基にして上
記シリカが２〜１５重量％の濃度を構成し、上記コポリ
マーが０．１〜１０重量％の濃度を構成しており、そし
て当該組成物の２５℃でのコンシステンシーは液、ペー
スト及びゲルからなる群より選ばれ、且つ当該組成物は
剪断力にさらされると流動可能になる、オルガノシロキ
サン組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/510,247 US5563197A (en) | 1995-08-02 | 1995-08-02 | Storage stable dipsersions of finely divided solids in organosiloxane compositions |
| US510247 | 1995-08-02 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09111123A true JPH09111123A (ja) | 1997-04-28 |
| JP4188430B2 JP4188430B2 (ja) | 2008-11-26 |
Family
ID=24029950
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20383496A Expired - Fee Related JP4188430B2 (ja) | 1995-08-02 | 1996-08-01 | オルガノシロキサン組成物 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5563197A (ja) |
| EP (1) | EP0757082B1 (ja) |
| JP (1) | JP4188430B2 (ja) |
| KR (1) | KR100415735B1 (ja) |
| DE (1) | DE69608367T2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007526365A (ja) * | 2004-02-18 | 2007-09-13 | ハンツマン・アドヴァンスト・マテリアルズ・（スイッツランド）・ゲーエムベーハー | シロキサンを用いた難燃性組成物 |
| JP2009001790A (ja) * | 2007-05-23 | 2009-01-08 | Lanxess Deutschland Gmbh | ペースト状またはゲル状の粘稠度の顔料調製物 |
| JP2021161278A (ja) * | 2020-03-31 | 2021-10-11 | 三菱ケミカル株式会社 | オルガノポリシロキサン組成物 |
| JP2021161247A (ja) * | 2020-03-31 | 2021-10-11 | 三菱ケミカル株式会社 | オルガノポリシロキサン組成物 |
Families Citing this family (6)
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|---|---|---|---|---|
| US5804612A (en) * | 1995-06-08 | 1998-09-08 | Arkwright, Incorporated | Transparent anti-fog coating |
| US6200964B1 (en) | 1999-05-28 | 2001-03-13 | Neutrogena Corporation | Silicone gel containing salicylic acid |
| US6514250B1 (en) * | 2000-04-27 | 2003-02-04 | Medtronic, Inc. | Suction stabilized epicardial ablation devices |
| US6783692B2 (en) * | 2002-10-17 | 2004-08-31 | Dow Corning Corporation | Heat softening thermally conductive compositions and methods for their preparation |
| GB0708347D0 (en) | 2007-05-01 | 2007-06-06 | Dow Corning | Polymer compositions |
| US8894409B1 (en) * | 2007-11-10 | 2014-11-25 | La Torre Innovation LLC | Colored flame candle |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4057436A (en) * | 1974-09-17 | 1977-11-08 | Imperial Chemical Industries Limited | Dispersion of solids in organic solvents |
| DE3218676C2 (de) * | 1982-05-18 | 1985-08-01 | Th. Goldschmidt Ag, 4300 Essen | Mittel zum Entlüften von Beschichtungssystemen |
| JPS61257A (ja) * | 1984-06-12 | 1986-01-06 | Takeda Chem Ind Ltd | 揺変性ポリウレタン樹脂組成物 |
| FR2594126B1 (fr) * | 1986-02-11 | 1988-08-05 | Rhone Poulenc Chimie | Support elastique en elastomere silicone de faible durete utilisable pour l'emboutissage par elastoformage |
| US5006597A (en) * | 1987-10-06 | 1991-04-09 | Metal Coatings International Inc. | Black topcoating composition |
| US5036121A (en) * | 1988-09-06 | 1991-07-30 | The B. F. Goodrich Company | Flame and smoke retardant cable insulation and jacketing compositions |
| JPH04110302A (ja) * | 1990-08-31 | 1992-04-10 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | 水性樹脂分散体組成物 |
-
1995
- 1995-08-02 US US08/510,247 patent/US5563197A/en not_active Expired - Lifetime
-
1996
- 1996-07-16 DE DE69608367T patent/DE69608367T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-07-16 EP EP96111418A patent/EP0757082B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-08-01 KR KR1019960032147A patent/KR100415735B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1996-08-01 JP JP20383496A patent/JP4188430B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007526365A (ja) * | 2004-02-18 | 2007-09-13 | ハンツマン・アドヴァンスト・マテリアルズ・（スイッツランド）・ゲーエムベーハー | シロキサンを用いた難燃性組成物 |
| JP2009001790A (ja) * | 2007-05-23 | 2009-01-08 | Lanxess Deutschland Gmbh | ペースト状またはゲル状の粘稠度の顔料調製物 |
| JP2021161278A (ja) * | 2020-03-31 | 2021-10-11 | 三菱ケミカル株式会社 | オルガノポリシロキサン組成物 |
| JP2021161247A (ja) * | 2020-03-31 | 2021-10-11 | 三菱ケミカル株式会社 | オルガノポリシロキサン組成物 |
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|---|---|
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| KR100415735B1 (ko) | 2004-06-26 |
| EP0757082B1 (en) | 2000-05-17 |
| JP4188430B2 (ja) | 2008-11-26 |
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