JPH09255826A - プロピレン系ポリマー組成物および成形体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 メタロセン系触媒によって得られるプロピレ
ン系ポリマーからなり、耐候性などに優れたプロピレン
系ポリマー組成物およびそれからなる成形体を提供す
る。 【解決手段】 メタロセン系触媒を用いて得られるプロ
ピレン系ポリマー（Ａ）に耐候安定剤（Ｂ）を配合した
プロピレン系ポリマー組成物からなる成形体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ジルコニウム、ハ
フニウム、チタン等の遷移金属を含むメタロセン系触媒
を用いて重合によって得られるポリオレフィンとくにプ
ロピレン系ポリマーの組成物および成形体に関し、さら
に詳しくは耐候性などが改善された組成物、およびこの
組成物から得られる成形体に関する。

【０００２】

【従来の技術】ジルコニウム、ハフニウム、チタン等の
遷移金属を含むメタロセン系触媒を用いて重合により得
られるポリオレフィンとくにプロピレン系ポリマーは、
触媒がシングルサイトであることからユニークな特性を
有し、各メタロセン系触媒に応じて、組成分布や分子量
分布が比較的狭いプロピレン系ポリマーなど、狙った特
性のポリオレフィンとくにプロピレン系ポリマーが得ら
れる。

【０００３】このようなメタロセン系触媒を用いて得ら
れるポリオレフィンとくにプロピレン系ポリマーはその
特性に応じて、射出成形品、中空成形品、フィルム、シ
ート、繊維などに加工され各種用途に用いられている。
しかしながら用途によっては、耐候性などが充分とはい
えない場合がある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、耐候
性などに優れたポリオレフィンとくにプロピレン系ポリ
マー組成物、およびこの組成物から得られる成形体を提
供することである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、次のポリオレ
フィンとくにプロピレン系ポリマー組成物、およびこの
組成物から得られる成形体である。 （１）メタロセン系触媒を用いて得られるプロピレン系
ポリマー（Ａ）に耐候安定剤（Ｂ）を配合してなること
を特徴とするプロピレン系ポリマー組成物。 （２）耐候安定剤（Ｂ）の配合量が、プロピレン系ポリ
マー（Ａ）１００重量部に対して０．００１〜５重量部
である上記（１）記載のプロピレン系ポリマー組成物。 （３）上記（１）または（２）記載の組成物からなる成
形体。

【０００６】本発明で使用されるポリオレフィンとくに
プロピレン系ポリマー（Ａ）は、シングルサイト触媒で
あるメタロセン系触媒を用いて炭素数３以上とくにプロ
ピレンを主モノマーとし、必要に応じて他のα−オレフ
ィンあるいはさらにジエン、トリエン等の多不飽和オレ
フィンを重合して得られるα−オレフィンとくにプロピ
レンの単独重合体またはプロピレンを主モノマーとする
共重合体である。プロピレン系ポリマー（Ａ）中におけ
るプロピレンから誘導される構造単位は５０〜１００モ
ル％、好ましくは８０〜１００モル％、他の共重合モノ
マーから誘導される構造単位は０〜５０モル％、好まし
くは０〜２０モル％であるのが望ましい。プロピレン系
ポリマー（Ａ）の性状は特に限定されず、樹脂状、ワッ
クス状、液状等いずれも使用できる。

【０００７】上記α−オレフィンとしては、エチレン、
１−ブテン、１−ペンテン、３−メチル−１−ブテン、
４−メチル−１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテ
ン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセンなど
が例示できる。また上記多不飽和オレフィンとしては、
１，３−ブタジエン、１，３−ペンタジエン、１，４−
ペンタジエン、１，３−ヘキサジエン、１，４−ヘキサ
ジエン、１，５−ヘキサジエン、４−メチル−１，４−
ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエン、６
−メチル−１，６−オクタジエン、７−メチル−１，６
−オクタジエン、６−エチル−１，６−オクタジエン、
６−プロピル−１，６−オクタジエン、６−ブチル−
１，６−オクタジエン、６−メチル−１，６−ノナジエ
ン、７−メチル−１，６−ノナジエン、６−エチル−
１，６−ノナジエン、７−エチル−１，６−ノナジエ
ン、６−メチル−１，６−デカジエン、７−メチル−
１，６−デカジエン、６−メチル−１，６−ウンデカジ
エン、１，７−オクタジエン、１，９−デカジエン、イ
ソプレン、ブタジエン、エチリデンノルボルネン、ビニ
ルノルボルネンおよびジシクロペンタジエンなどの炭素
数４〜２０のジエン化合物等があげられる。

【０００８】プロピレン系ポリマー（Ａ）の具体的なも
のとしては、プロピレン単独重合体、プロピレン・エチ
レン共重合体、プロピレン・ブテン共重合体、プロピレ
ン・ブテン・エチレン共重合体、プロピレン・ヘキセン
共重合体、プロピレン・３−メチル−１−ブテン共重合
体、プロピレン・４−メチル−１−ペンテン共重合体な
どがあげられる。共重合体の場合、ランダム共重合体で
あってもブロック共重合体であってもよい。上記プロピ
レン系ポリマー（Ａ）は１種単独で使用することもでき
るし、２種以上を併用することもできる。

【０００９】本発明においてプロピレン系ポリマー
（Ａ）として使用されるプロピレンの単独重合体として
は、密度が０．８８〜０．９２ｇ／ｃｍ³、極限粘度
［η］が０．５〜１０ｄｌ／ｇ、結晶化度（Ｘ線によ
る）が４０〜８０％、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）が１．
５〜２０のものが例示される。

【００１０】本発明においてプロピレン系ポリマー
（Ａ）として使用されるプロピレンを主体モノマーとす
るブロック共重合体としては、コモノマー含量が０．５
〜２０モル％、密度が０．８６〜０．９１ｇ／ｃｍ³、
極限粘度［η］が０．５〜１０ｄｌ／ｇ、結晶化度（Ｘ
線による）が３０〜７０％、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）
が１．５〜２０のものが例示される。

【００１１】本発明においてプロピレン系ポリマー
（Ａ）として使用されるプロピレンを主体モノマーとす
るランダム共重合体としては、コモノマー含量が０．５
〜２０モル％、密度が０．８６〜０．９１ｇ／ｃｍ³、
極限粘度［η］が０．５〜１０ｄｌ／ｇ、結晶化度（Ｘ
線による）が３０〜７０％、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）
が１．５〜２０のものが例示される。

【００１２】本発明においてプロピレン系ポリマー
（Ａ）として使用されるプロピレンを主体モノマーとす
るプロピレン系エラストマーとしては、コモノマー含量
が１０〜５０モル％、密度が０．８５〜０．９０ｇ／ｃ
ｍ³、極限粘度［η］が０．５〜１０ｄｌ／ｇ、結晶化
度（Ｘ線による）が０〜６０％、分子量分布（Ｍｗ／Ｍ
ｎ）が１．５〜２０のものが例示される。

【００１３】本発明で用いるポリオレフィンとくにプロ
ピレン系ポリマー（Ａ）は、メタロセン系触媒を用い
て、多段式、回分式、半回分式、連続式のいずれの重合
反応によっても製造することができるが、実質的に液状
媒体が存在しない状態での気相重合法、オレフィン自体
を液状媒体として用いるバルク重合法、重合に不活性な
炭化水素系液状媒体を用いるスラリー重合法などの方法
により製造するのが好ましい。またメタロセン系触媒
は、必要に応じて、触媒中の成分の少なくとも１成分を
ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、ＭｇＯ、ＴｉＯ₂などの無機担体に
担持させて用いることも行われる。また予め、プロピレ
ンモノマーによる予備重合を行った後、これらの重合を
行うこともある。

【００１４】重合圧力は常圧から５０ｋｇ／ｃｍ²（ゲ
ージ圧）、重合温度は常温から１５０℃である。多段式
の場合、メタロセン系触媒の存在下に、第１の重合工程
において、プロピレンの単独重合を行うか、あるいはプ
ロピレンとエチレンおよび／または炭素数４〜１０のオ
レフィンとの共重合を行って結晶性重合体（結晶性ポリ
プロピレン部）を製造し、第２の重合工程において、エ
チレンおよび炭素数３〜２０のオレフィンから選ばれる
２種以上の単量体の共重合を行い、低結晶性共重合体
（低結晶性共重合体部）または非晶性共重合体（非晶性
共重合体部）を製造するのが好ましい。

【００１５】ポリオレフィンとくにプロピレン系ポリマ
ー（Ａ）の製造に用いられるシングルサイト触媒として
のメタロセン系触媒としては、従来から使用されている
公知のメタロセン系触媒が制限なく使用でき、例えばチ
タン、ジルコニウム、ハフニウムなどの遷移金属を有す
るメタロセン化合物（ａ）と有機アルミニウムオキシ化
合物（ｂ）とからなる触媒、およびメタロセン化合物
（ａ）とイオン化イオン性化合物（ｃ）とからなる触媒
等があげられる。

【００１６】上記メタロセン化合物（ａ）の具体的なも
のとしては、下記一般式（１）で表される遷移金属化合
物などがあげられる。 ＭＬ_x …（１）

【００１７】一般式（１）中、Ｍは周期律表第IVＢ族か
ら選ばれる遷移金属原子であり、具体的にはジルコニウ
ム、チタンまたはハフニウムであり、ｘは遷移金属の原
子価である。

【００１８】一般式（１）中、Ｌは遷移金属に配位する
配位子であり、これらのうち少なくとも１個の配位子Ｌ
はシクロペンタジエニル骨格を有する配位子であり、こ
のシクロペンタジエニル骨格を有する配位子は置換基を
有していてもよい。シクロペンタジエニル骨格を有する
配位子としては、例えばシクロペンタジエニル基、メチ
ルシクロペンタジエニル基、エチルシクロペンタジエニ
ル基、メチルプロピルシクロペンタジエニル基、メチル
ブチルシクロペンタジエニル基、メチルヘキシルシクロ
ペンタジエニル基、メチルベンジルシクロペンタジエニ
ル基などのアルキルまたはシクロアルキル置換シクロペ
ンタジエニル基、さらにインデニル基、４，５，６，７
−テトラヒドロインデニル基、フルオレニル基などがあ
げられる。これらの基は、ハロゲン原子、トリアルキル
シリル基などで置換されていてもよい。

【００１９】一般式（１）で示される化合物が配位子Ｌ
としてシクロペンタジエニル骨格を有する基を２個以上
有する場合には、そのうち２個のシクロペンタジエニル
骨格を有する基同士は、エチレン、プロピレンなどのア
ルキレン基、イソプロピリデン、ジフェニルメチレンな
どの置換アルキレン基、シリレン基またはジメチルシリ
レン基、ジフェニルシリレン基、メチルフェニルシリレ
ン基などの置換シリレン基などを介して結合されている
ことが望ましい。

【００２０】シクロペンタジエニル骨格を有する配位子
以外のＬとしては、炭素数１〜１２の炭化水素基、アル
コキシ基、アリーロキシ基、スルホン酸含有基（−ＳＯ
₃Ｒ¹）、ハロゲン原子または水素原子（ここで、Ｒ¹は
アルキル基、ハロゲン原子で置換されたアルキル基、ア
リール基またはハロゲン原子もしくはアルキル基で置換
されたアリール基である。）などがあげられる。

【００２１】一般式（１）で表されるメタロセン化合物
（ａ）は、例えば遷移金属の原子価が４である場合、よ
り具体的には下記一般式（２）で表される。 Ｒ² _kＲ³ _lＲ⁴ _mＲ⁵ _nＭ …（２）

【００２２】一般式（２）中、Ｍは一般式（１）と同様
の遷移金属であり、Ｒ²はシクロペンタジエニル骨格を
有する基（配位子）であり、Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は、そ
れぞれ独立にシクロペンタジエニル骨格を有する基また
は一般式（１）中のシクロペンタジエニル骨格を有する
配位子以外のＬと同様である。ｋは１以上の整数であ
り、ｋ＋ｌ＋ｍ＋ｎ＝４である。

【００２３】本発明においては、またメタロセン化合物
（ａ）として下記一般式（３）で表される遷移金属化合
物を用いることができる。

【化１】

【００２４】一般式（３）中、Ｍは周期律表第IVＢ族の
遷移金属原子を示し、具体的にはチタン、ジルコニウ
ム、ハフニウムである。

【００２５】一般式（３）中、Ｒ¹およびＲ²はそれぞれ
独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化
水素基、炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、ケイ
素含有基、酸素含有基、イオウ含有基、窒素含有基また
はリン含有基を示し、具体的には、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ素などのハロゲン原子；メチル、エチル、プロ
ピル、ブチル、ヘキシル、シクロヘキシル、オクチル、
ノニル、ドデシル、アイコシル、ノルボルニル、アダマ
ンチルなどのアルキル基、ビニル、プロぺニル、シクロ
ヘキセニルなどのアルケニル基、ベンジル、フェニルエ
チル、フェニルプロピルなどのアリールアルキル基、フ
ェニル、トリル、ジメチルフェニル、トリメチルフェニ
ル、エチルフェニル、プロピルフェニル、ビフェニル、
ナフチル、メチルナフチル、アントラセニル、フェナン
トリルなどのアリール基等の炭素数１〜２０の炭化水素
基；前記炭化水素基にハロゲン原子が置換したハロゲン
化炭化水素基；メチルシリル、フェニルシリルなどのモ
ノ炭化水素置換シリル、ジメチルシリル、ジフェニルシ
リルなどのジ炭化水素置換シリル、トリメチルシリル、
トリエチルシリル、トリプロピルシリル、トリシクロヘ
キシルシリル、トリフェニルシリル、ジメチルフェニル
シリル、メチルジフェニルシリル、トリトリルシリル、
トリナフチルシリルなどのトリ炭化水素置換シリル、ト
リメチルシリルエーテルなどの炭化水素置換シリルのシ
リルエーテル、トリメチルシリルメチルなどのケイ素置
換アルキル基、トリメチルシリルフェニルなどのケイ素
置換アリール基、などのケイ素含有基；ヒドロオキシ
基、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなどの
アルコキシ基、フェノキシ、メチルフェノキシ、ジメチ
ルフェノキシ、ナフトキシなどのアリローキシ基、フェ
ニルメトキシ、フェニルエトキシなどのアリールアルコ
キシ基などの酸素含有基；前記酸素含有基の酸素がイオ
ウに置換した置換基などのイオウ含有基；アミノ基、メ
チルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジプロ
ピルアミノ、ジブチルアミノ、ジシクロヘキシルアミノ
などのアルキルアミノ基、フェニルアミノ、ジフェニル
アミノ、ジトリルアミノ、ジナフチルアミノ、メチルフ
ェニルアミノなどのアリールアミノ基またはアルキルア
リールアミノ基などの窒素含有基；ジメチルフォスフィ
ノ、ジフェニルフォスフィノなどのフォスフィノ基など
のリン含有基等である。

【００２６】一般式（３）において、Ｒ¹は炭化水素基
であることが好ましく、特にメチル、エチル、プロピル
の炭素数１〜３の炭化水素基であることが好ましい。ま
たＲ ²は水素原子または炭化水素基が好ましく、特に水
素原子またはメチル、エチルもしくはプロピルの炭素数
１〜３の炭化水素基であることが好ましい。

【００２７】一般式（３）中、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶
はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜
２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水
素基を示し、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶のうち、Ｒ³を含
む２個の基がアルキル基であることが好ましく、Ｒ³と
Ｒ⁵、またはＲ³とＲ⁶がアルキル基であることが好まし
い。このアルキル基は、２級または３級アルキル基であ
ることが好ましい。また、このアルキル基はハロゲン原
子、ケイ素含有基等で置換されていてもよく、ハロゲン
原子、ケイ素含有基としては前記Ｒ¹、Ｒ²で例示した置
換基等があげられる。

【００２８】一般式（３）において、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵お
よびＲ⁶で示される基のうち、アルキル基以外の基は水
素原子であることが好ましい。炭素数１〜２０の炭化水
素基としては、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プ
ロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ
ｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、シクロヘキシ
ル、ヘプチル、オクチル、ノニル、ドデシル、アイコシ
ル、ノルボルニル、アダマンチルなどの鎖状アルキル基
および環状アルキル基；ベンジル、フェニルエチル、フ
ェニルプロピル、トリルメチルなどのアリールアルキル
基などがあげられ、２重結合、３重結合を含んでいても
よい。

【００２９】また一般式（３）中、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およ
びＲ⁶から選ばれる２種の基が互いに結合して芳香族環
以外の単環あるいは多環を形成してもよい。

【００３０】一般式（３）中、Ｘ¹およびＸ²はそれぞれ
独立に水素原子、ハロゲン、炭素数１〜２０の炭化水素
基、炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含有
基またはイオウ含有基を示し、具体的には前記Ｒ¹およ
びＲ²と同様のハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水
素基、炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、酸素含
有基等が例示できる。

【００３１】イオウ含有基としては、前記Ｒ¹、Ｒ²と同
様の基、およびメチルスルホネート、トリフルオロメタ
ンスルフォネート、フェニルスルフォネート、ベンジル
スルフォネート、ｐ−トルエンスルフォネート、トリメ
チルベンゼンスルフォネート、トリイソブチルベンゼン
スルフォネート、ｐ−クロルベンゼンスルフォネート、
ペンタフルオロベンゼンスルフォネートなどのスルフォ
ネート基、メチルスルフィネート、フェニルスルフィネ
ート、ベンジルスルフィネート、ｐ−トルエンスルフィ
ネート、トリメチルベンゼンスルフィネート、ペンタフ
ルオロベンゼンスルフィネートなどのスルフィネート基
等が例示できる。

【００３２】一般式（３）中、Ｙは炭素数１〜２０の２
価の炭化水素基、炭素数１〜２０の２価のハロゲン化炭
化水素基、２価のケイ素含有基、２価のゲルマニウム含
有基、２価のスズ含有基、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、
−ＳＯ−、−ＳＯ₂−、−ＮＲ⁷−、−Ｐ(Ｒ⁷)−、−Ｐ
(Ｏ)(Ｒ⁷)−、−ＢＲ⁷−またはＡｌＲ⁷−［ただし、Ｒ⁷
は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素
基または炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基］を示
し、具体的には、メチレン、ジメチルメチレン、１，２
−エチレン、ジメチル−１，２−エチレン、１，３−ト
リメチレン、１，４−テトラメチレン、１，２−シクロ
ヘキシレン、１，４−ジクロヘキシレンなどのアルキレ
ン基、ジフェニルメチレン、ジフェニル−１，２−エチ
レンなどのアリールアルキレン基などの炭素数１〜２０
の２価の炭化水素基；クロロメチレンなどの上記炭素数
１〜２０の２価の炭化水素基をハロゲン化したハロゲン
化炭化水素基；メチルシリレン、ジメチルシリレン、ジ
エチルシリレン、ジ（ｎ−プロピル）シリレン、ジ（ｉ
−プロピル）シリレン、ジ（シクロヘキシル）シリレ
ン、メチルフェニルシリレン、ジフェニルシリレン、ジ
（ｐ−トリル）シリレン、ジ（ｐ−クロロフェニル）シ
リレンなどのアルキルシリレン、アルキルアリールシリ
レン、アリールシリレン基、テトラメチル−１，２−ジ
シリレン、テトラフェニル−１，２−ジシリレンなどの
アルキルジシリレン、アルキルアリールジシリレン、ア
リールジシリレン基などの２価のケイ素含有基；上記２
価のケイ素含有基のケイ素をゲルマニウムに置換した２
価のゲルマニウム含有基；上記２価のケイ素含有基のケ
イ素をスズに置換した２価のスズ含有基置換基等であ
り、Ｒ⁷は、前記Ｒ¹、Ｒ²と同様のハロゲン原子、炭素
数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン化
炭化水素基等である。

【００３３】このうち２価のケイ素含有基、２価のゲル
マニウム含有基、２価のスズ含有基であることが好まし
く、さらに２価のケイ素含有基であることが好ましく、
このうち特にアルキルシリレン、アルキルアリールシリ
レン、アリールシリレンであることが好ましい。

【００３４】また一般式（３）において、Ｒ¹〜Ｒ⁶の組
合せが、Ｒ¹が炭化水素基、Ｒ³が炭素数６〜１６のアリ
ール基、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶が水素原子であるのも
好ましい。この場合、Ｘ¹、Ｘ²としてはハロゲン原子、
炭素数１〜２０の炭化水素基であることが好ましい。

【００３５】上記Ｒ¹の炭化水素基としては、メチル、
エチル、プロピル、ブチルの炭素数１〜４の炭化水素基
であることが好ましい。また上記Ｒ³の炭素数６〜１６
のアリール基としては、フェニル、α−ナフチル、β−
ナフチル、アントラセニル、フェナントリル、ピレニ
ル、アセナフチル、フェナレニル（ペリナフテニル）、
アセアントリレニルなどである。これらのうちフェニ
ル、ナフチルであることが好ましい。これらのアリール
基は、前記Ｒ ¹と同様のハロゲン原子、炭素数１〜２０
の炭化水素基、炭素数１〜２０のハロゲン化炭化水素基
等で置換されていてもよい。

【００３６】上記Ｒ¹〜Ｒ⁶の組合せにおける具体的なメ
タロセン化合物（ａ）としては、ｒａｃ−ジメチルシリ
レン−ビス（４−フェニル−１−インデニル）ジルコニ
ウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス（２
−メチル−４−フェニル−１−インデニル）ジルコニウ
ムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス（２−
メチル−４−（α−ナフチル）−１−インデニル）ジル
コニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレン−ビス
（２−メチル−４−（β−ナフチル）−１−インデニ
ル）ジルコニウムジクロリド、ｒａｃ−ジメチルシリレ
ン−ビス（２−メチル−４−（１−アントラセニル）−
１−インデニル）ジルコニウムジクロリドなどがあげら
れる。

【００３７】本発明では、上記のようなメタロセン化合
物（ａ）は１種単独で用いることもできるし、２種以上
を組合せて用いることもできる。また上記のようなメタ
ロセン化合物（ａ）は、炭化水素あるいはハロゲン化炭
化水素に希釈して用いてもよい。

【００３８】また上記のようなメタロセン化合物（ａ）
は、粒子状担体化合物と接触させて用いることもでき
る。上記担体化合物としては、ＳｉＯ₂、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｍ
ｇＯなどの無機担体化合物、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、スチレン−ジビニルベンゼン共重合体などの樹脂
を用いることができる。これらの担体化合物は１種単独
で用いることもできるし、２種以上を組合せて用いるこ
ともできる。

【００３９】本発明において、前記メタロセン化合物
（ａ）とともに用いられる有機アルミニウムオキシ化合
物（ｂ）は、従来公知のアルミノオキサンであり、具体
的には下記一般式（４）または（５）で表わされるアル
ミニウム化合物である。

【化２】 （式中、Ｒはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基などの炭化水素基であり、好ましくはメチル基、エチ
ル基、特に好ましくはメチル基であり、ｍは２以上、好
ましくは５〜４０の整数である。）

【００４０】ここで、このアルミノオキサンは式（ＯＡ
１(Ｒ¹)）で表わされるアルキルオキシアルミニウム単
位および式（ＯＡ１(Ｒ²)）で表わされるアルキルオキ
シアルミニウム単位［ここで、Ｒ¹およびＲ²はＲと同様
の炭化水素基を例示することができ、Ｒ¹およびＲ²は相
異なる基を表わす］からなる混合アルキルオキシアルミ
ニウム単位から形成されていてもよい。

【００４１】また本発明で用いられる有機アルミニウム
オキシ化合物（ｂ）は、少量のアルミニウム以外の金属
の有機化合物成分を含有していてもよい。有機アルミニ
ウムオキシ化合物（ｂ）は１種単独で用いてもよいし、
２種以上を併用することもできる。

【００４２】本発明において、前記メタロセン化合物
（ａ）とともに用いられるイオン化イオン性化合物
（ｃ）としては、ルイス酸、イオン性化合物、ボラン化
合物およびカルボラン化合物などを例示することができ
る。上記ルイス酸としては、ＢＲ₃（Ｒは、フッ素、メ
チル基、トリフルオロメチル基などの置換基を有してい
てもよいフェニル基またはフッ素である。）で示される
化合物等があげられ、例えばトリフルオロボロン、トリ
フェニルボロン、トリス（４−フルオロフェニル）ボロ
ン、トリス（３，５−ジフルオロフェニル）ボロン、ト
リス（４−フルオロメチルフェニル）ボロン、トリス
（ペンタフルオロフェニル）ボロン、トリス（ｐ−トリ
ル）ボロン、トリス（ｏ−トリル）ボロン、トリス
（３，５−ジメチルフェニル）ボロンなどがあげられ
る。

【００４３】上記イオン性化合物としては、トリアルキ
ル置換アンモニウム塩、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリニウ
ム塩、ジアルキルアンモニウム塩、トリアリールホスフ
ォニウム塩、トリフェニルカルベニウムテトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルア
ニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ート、フェロセニウムテトラ（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレートなどをあげることができる。

【００４４】上記ボラン化合物としては、デカボラン
（１４）、ビス〔トリ（ｎ−ブチル）アンモニウム〕ノ
ナボレートなどをあげることができる。イオン化イオン
性化合物（ｃ）は１種単独で用いてもよいし、２種以上
を併用してもよい。

【００４５】以上のように、本発明はポリオレフィンに
適用できる。中でもプロピレン系ポリマーは好適な本発
明の態様であり、以下に説明する。

【００４６】《耐候安定剤（Ｂ）》本発明で用いる耐候
安定剤（Ｂ）としては、従来から耐候性を改善するため
に使用されている化合物が特に制限なく使用でき、公知
の耐候安定剤、耐光安定剤または紫外線吸収剤などが使
用できる。

【００４７】本発明のプロピレン系ポリマー組成物にお
いて、耐候安定剤（Ｂ）はプロピレン系ポリマー（Ａ）
１００重量部に対して０.００１〜５重量部、好ましく
は０.０１〜５重量部、特に好ましくは０.１〜３重量部
の割合で配合されることが望ましい。耐候安定剤（Ｂ）
を上記の量でプロピレン系ポリマー（Ａ）に配合するこ
とにより、耐候性または耐光性が向上する。この場合プ
ロピレン系ポリマー（Ａ）が本来有するその他の優れた
特性が損なわれることはない。

【００４８】本発明で使用する耐候安定剤（Ｂ）として
は、公知のものが使用できる。耐候安定剤（Ｂ）の具体
的なものとしては、次の化合物があげられる。２，４−
ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−５−ク
ロロベンゾフェノン、２−（２’−ヒドロキシ−５’−
メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−ヒドロキシ
−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキ
シ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’
−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−
４−メトキシ−４’−クロロベンゾフェノン、ｐ−ｔｅ
ｒｔ−ブチルフェニルサリシレート、２、２’−ジヒド
ロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、エチル
−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、

【００４９】２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベン
ゾフェノン、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ
−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾ
トリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−
ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（２’−ヒドロキシ−４’−ｔｅｒｔ−オクチルフ
ェニル）ベンゾトリアゾール、ｐ−オクチルフェニルサ
リシレート、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベン
ゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−ｎ−オクト
キシベンゾフェノン、２−（２’−ヒドロキシ−４’−
オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３，
５−ジ−ｔｅｒｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）
ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，
５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベ
ンゾトリアゾール、

【００５０】２−エチル−２’−エトキシ−５’−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオキサミド、２−
エチル−２’−エトキシ−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオキサ
ミド、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシベンゾフェ
ノン、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−３，５
−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエー
ト、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシミ
リスチルベンゾエート、ビス（２，２’，６，６’−テ
トラメチル−４−ピペリジン）セバケート、〔２，２’
−チオビス（４−ｔｅｒｔ−オクチルフェノレート）〕
−ｔｅｒｔ−ブチルアミノニッケル（II）、ビス（３，
５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾイル
ホスホリックアシッドモノエチルエステル）ニッケル
塩、ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロ
キシベンゾイルホスホリックアシッドモノオクチルエス
テル）ニッケル塩、２，２’−チオビス（４，４’−ア
ルキルフェノール）ニッケル（II）塩、

【００５１】ジメチルスクシネート〔２−（４−ヒドロ
キシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジ
ル）エタノール〕縮合重合物、ポリ〔｛６−（１，１，
３，３−テトラメチルブチル）イミノ｝−１，３，５−
トリアジン−２，４−ジイル｛４−（２，２，６，６−
テトラメチルピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン〕、
４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジン、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチ
ル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラ
カルボキシレート、１−〔２−｛３−（３，５−ジ−ｔ
ｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニ
ルオキシ｝エチル〕−４−〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒ
ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオ
キシ〕−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ポ
リメチル−プロピル−３−オキシ−｛１−（２，２，
６，６−テトラメチル）ピペリジニル｝シロキサン、
Ｎ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチレンジアミ
ン，２，４−ビス〔Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ〕−６
−クロロ−１，３，５−トリアジン、２−（３，５−ジ
−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−
ｎ−ブチル−マロニックアシッド（１，２，２，６，６
−ペンタメチル−４−ピペリジル）、１，１’−（１，
２−エタンジイル）ビス（３，３，５，５−テトラメチ
ルピペラジノン）、〔２，２’−チオビス（４−ｔｅｒ
ｔ−オクチルフェノレート）〕−２−エチルヘキシルア
ミン−ニッケルII、

【００５２】３，３’−メチレンビス（２−ヒドロキシ
−４−メトキシベンゾフェノン）、２，４−ジベンゾイ
ルレゾルシノール、１，３−ビス（４−ベンゾイル−３
−ヒドロキシフェノキシ）−２−プロピルメタクリレー
ト、８−アセチル−７，７，９，９−テトラメチル−３
−オクチル−１，３，８−トリアザスピロ〔４，５〕ウ
ンデカン−２，４−ジオン、３−ヒドロキシフェニルベ
ンゾエート、２，４，５−トリヒドロキシブチロフェノ
ン、２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェ
ニルアクリレート、８−ベンジル−７，７，９，９−テ
トラメチル−３−オクチル−１，３，８−トリアザスピ
ロ〔４，５〕ウンデカン−２，４−ジオン、１，３−ビ
ス（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ）−２
−プロピルアクリレート、２−（４−オクトキシ−２−
ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、フェニルサ
リチレート、

【００５３】２，２’−メチレンビス（６−ｔｅｒｔ−
ブチル−４−メチルフェノール）、ビス（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、
１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジンメ
チルメタクリレート、２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジンメチルメタクリレート、オクタデセン・
Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジニル）−
Ｎ−マレイミドオキサミド共重合体、その他、オリゴマ
ー型ヒンダードアミンなど。

【００５４】本発明のプロピレン系ポリマー組成物に
は、前記プロピレン系ポリマー（Ａ）および耐候安定剤
（Ｂ）の必須成分の他に、必要により用途に応じてフェ
ノール系安定剤（Ｃ）、リン系安定剤（Ｄ）、イオウ系
安定剤（Ｅ）、静電防止剤（Ｆ）、滑剤（Ｇ）、核剤
（Ｈ）などの他の添加剤を配合することも行われる。以
下、本発明で用いられる他の添加剤について順次説明す
る。

【００５５】《フェノール系安定剤（Ｃ）》フェノール
系安定剤（Ｃ）としては、従来から安定剤として使用さ
れているフェノール系の安定剤が特に限定されることな
く用いられる。フェノール系安定剤（Ｃ）の具体的なも
のとしては、以下のような化合物が用いられる。

【００５６】2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェノール、2,
6-ジ-t-ブチル-4-エチルフェノール、2,6-ジシクロヘキ
シル-4-メチルフェノール、2,6-ジ-t-アミル-4-メチル
フェノール、2,6-ジ-t-オクチル-4-n-プロピルフェノー
ル、2,6-ジシクロヘキシル-4-n-オクチルフェノール、2
-イソプロピル-4-メチル-6-t-ブチルフェノール、2-t-
ブチル-2-エチル-6-t-オクチルフェノール、2-イソブチ
ル-4-エチル-6-t-ヘキシルフェノール、2-シクロヘキシ
ル-4-n-ブチル-6-イソプロピルフェノール、dl-α-トコ
フェロール、t-ブチルヒドロキノン、2,2'-メチレンビ
ス(4-メチル-6-t-ブチルフェノール)、4,4'-ブチリデン
ビス(3-メチル-6-t-ブチルフェノール)、4,4'-チオビス
(3-メチル-6-t-ブチルフェノール)、2,2-チオビス(4-メ
チル-6-t-ブチルフェノール)、4,4'-メチレンビス(2,6-
ジ-t-ブチルフェノール)、2,2'-メチレンビス[6-(1-メ
チルシクロヘキシル)-p-クレゾール]、2,2'-エチリデン
ビス(4,6-ジ-t-ブチルフェノール)、2,2'-ブチリデンビ
ス(2-t-ブチル-4-メチルフェノール)、2-t-ブチル-6-(3
-t-ブチル-2-ヒドロキシ-5-メチルベンジル)-4-メチル
フェニルアクリレート、2-[1-(2-ヒドロキシ-3,5-ジ-t-
ペンチルフェニル)エチル]-4,6-ジ-t-ペンチルフェニル
アクリレート、1,1,3-トリス(2-メチル-4-ヒドロキシ-5
-t-ブチルフェニル)ブタン、トリエチレングリコール-
ビス[3-(3-t-ブチル-5-メチル-4-ヒドロキシフェニル)
プロピオネート]、1,6-ヘキサンジオール-ビス[3-(3,5-
ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、
2,2-チオジエチレンビス[3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロ
キシフェニル)プロピオネート]、N,N'-ヘキサメチレン
ビス(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシ-ヒドロシンナミ
ド）、3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジルホスホネ
ート-ジエチルエステル、トリス(2,6-ジメチル-3-ヒド
ロキシ-4-t-ブチルベンジル)イソシアヌレート、トリス
(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル)イソシアヌレ
ート、トリス[(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニ
ル)プロピオニルオキシエチル]イソシアヌレート、トリ
ス(4-t-ブチル-2,6-ジメチル-3-ヒドロキシベンジル)イ
ソシアヌレート、2,4-ビス(n-オクチルチオ)-6-(4-ヒド
ロキシ-3,5-ジ-t-ブチルアニリノ)-1,3,5-トリアジン、
テトラキス[メチレン-3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキ
シフェニル)プロピオネート]メタン、2,2'-メチレンビ
ス(4-メチル-6-t-ブチルフェノール)テレフタレート、
1,3,5-トリメチル-2,4,6-トリス(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒ
ドロキシベンジル)ベンゼン、3,9-ビス[1,1-ジメチル-2
-{β-(3-t-ブチル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プ
ロピオニルオキシ}エチル]-2,4,8,10-テトラオキサスピ
ロ[5,5]ウンデカン、2,2-ビス[4-(2-(3,5-ジ-t-ブチル-
4-ヒドロキシヒドロシンナモイルオキシ))エトキシフェ
ニル]プロパン、β-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフ
ェニル)プロピオン酸ステアリルエステルなど。

【００５７】これらの中では、β-(3,5-ジ-t-ブチル-4-
ヒドロキシフェニル)プロピオン酸ステアリルエステ
ル、テトラキス[メチレン-3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒド
ロキシフェニル)プロピオネート]メタン、トリス(3,5-
ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル)イソシアヌレー
ト、1,3,5-トリメチル-2,4,6-トリス(3,5-ジ-t-ブチル-
4-ヒドロキシベンジル)ベンゼン、dl-α-トコフェロー
ル、トリス(2,6-ジメチル-3-ヒドロキシ-4-t-ブチルベ
ンジル)イソシアヌレート、トリス[(3,5-ジ-t-ブチル-4
-ヒドロキシフェニル)プロピオニルオキシエチル]イソ
シアヌレート、3,9-ビス[1,1-ジメチル-2-{β-(3-t-ブ
チル-4-ヒドロキシ-5-メチルフェニル)プロピオニルオ
キシ}エチル]-2,4,8,10-テトラオキサスピロ[5,5]ウン
デカンが好ましい。

【００５８】フェノール系安定剤（Ｃ）としては市販品
を使用することもでき、例えばイルガノクス１０１０
（Irganox1010、チバガイギー社、商標）、イルガノク
ス１０７６（Irganox1076、チバガイギー社、商標）、
イルガノクス１３３０（Irganox1330、チバガイギー
社、商標）、イルガノクス３１１４（Irganox3114、チ
バガイギー社、商標）、イルガノクス３１２５（Irgano
x3125、チバガイギー社、商標）、ＢＨＴ（武田薬品工
業（株）、商標）、シアノクス１７９０（Cyanox1790、
サイアナミド社、商標）、スミライザーＧＡ−８０（Su
milizer GA-80、住友化学（株）、商標）、ビタミンＥ
（エーザイ（株））などがあげられる。

【００５９】これらのフェノール系安定剤（Ｃ）は、単
独であるいは組合せて用いることができる。フェノール
系安定剤（Ｃ）の配合量は、前記プロピレン系ポリマー
（Ａ）１００重量部に対して０.００５〜２重量部、好
ましくは０．０１〜１重量部、さらに好ましくは０．０
５〜０．５重量部とするのが望ましい。

【００６０】フェノール系安定剤（Ｃ）の含有量が、プ
ロピレン系ポリマー（Ａ）１００重量部に対して上記の
ような範囲内にあると、耐熱性、耐老化性等の安定性の
向上効果が高く、また安定剤の費用が廉価に抑えられ、
プロピレン系ポリマー（Ａ）の性質、例えば引張り強度
などが低下することもない。

【００６１】《リン系安定剤（Ｄ）》リン系安定剤
（Ｄ）としては、従来から安定剤として使用されている
リン系の安定剤が特に限定されることなく用いられる。
リン系安定剤（Ｄ）の具体的なものとしては、以下のよ
うな化合物が用いられる。

【００６２】トリオクチルホスファイト、トリラウリル
ホスファイト、トリデシルホスファイト、オクチル-ジ
フェニルホスファイト、トリス(2,4-ジ-t-ブチルフェニ
ル)ホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリス
(ブトキシエチル)ホスファイト、トリス(ノニルフェニ
ル)ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトール
ジホスファイト、テトラ（トリデシル)-1,1,3-トリス(2
-メチル-5-t-ブチル-4-ヒドロキシフエニル)ブタンジホ
スファイト、テトラ(Ｃ₁₂〜Ｃ₁₅混合アルキル)-4,4'-イ
ソプロピリデンジフェニルジホスファイト、テトラ(ト
リデシル)-4,4'-ブチリデンビス(3-メチル-6-t-ブチル
フェノール)ジホスファイト、トリス(3,5-ジ-t-ブチル-
4-ヒドロキシフェニル)ホスファイト、トリス(モノ・ジ
混合ノニルフェニル)ホスファイト、水素化-4,4'-イソ
プロピリデンジフェノールポリホスファイト、ビス(オ
クチルフェニル)・ビス[4,4'-ブチリデンビス(3-メチル
-6-t-ブチルフェノール)]・1,6-ヘキサンジオールジホ
スファイト、フェニル・4,4'-イソプロピリデンジフェ
ノール・ペンタエリスリトールジホスファイト、トリス
[4,4'-イソプロピリデンビス(2-t-ブチルフェノール)]
ホスファイト、フェニル・ジイソデシルホスファイト、
ジ(ノニルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイ
ト、トリス(1,3-ジ-ステアロイルオキシイソプロピル)
ホスファイト、4,4'-イソプロピリデンビス(2-t-ブチル
フェノール)・ジ(ノニルフェニル)ホスファイト、9,10-
ジ-ヒドロ-9-オキサ-9-オキサ-10-ホスファフェナンス
レン-10-オキサイド、ビス(2,4-ジ-t-ブチル-6-メチル
フェニル）・エチルフォスファイト、2-[{2,4,8,10-テ
トラキス(1,1-ジメチルエチル)ジベンゾ(D,F)(1,3,2)-
ジオキサホスフェフィン-6-イル}オキシ]-N,N-ビス〔2-
[{2,4,8,10-テトラキス(1,1-ジメチルエチル)ジベンゾ
(D,F)(1,3,2)-ジオキサホスフェフィン-6-イル}オキシ]
エチル〕エタンアミンなど。

【００６３】またビス(ジアルキルフェニル)ペンタエリ
スリトールジホスファイトエステルは、下記一般式
（６）で示されるスピロ型ないし一般式（７）で示され
るケージ形のものも使用される。通常はこのようなホス
ファイトエステルを製造する方法から生じる経済的理由
のために両異性体の混合物が最も多く使用される。

【００６４】

【化３】

【００６５】ここで、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³は、水素または炭
素原子数１〜９のアルキル基、特に分枝のあるアルキル
基、なかでもtert-ブチル基が好ましく、またフェニル
基におけるその置換位置は２，４，６位が最も好まし
い。好適なホスファイトエステルは、ビス(2,4-ジ-t-ブ
チルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファイト、
ビス(2,6-ジ-t-ブチル-4-メチルフェニル)ペンタエリス
リトールジホスファイト等であり、また炭素とリンとが
直接結合した構造を持つホスフォナイト、例えばテトラ
キス(2,4-ジ-t-ブチルフェニル)-4,4'-ビフェニレンジ
ホスフォナイトなどの化合物もあげられる。

【００６６】リン系安定剤（Ｄ）としては市販品を使用
することもでき、例えばイルガフォス１６８（Irgafos
168、チバガイギー社、商標）、イルガフォス１２（Irg
afos12、チバガイギー社、商標）、イルガフォス３８
（Irgafos 38、チバガイギー社、商標）、マーク３２９
Ｋ（Mark 329K、旭電化（株）、商標）、マークＰＥＰ
３６（Mark PEP36、旭電化（株）、商標）、マークＰＥ
Ｐ−８（Mark PEP-8、旭電化（株）、商標）、Ｓａｎｄ
ｓｔａｂ Ｐ−ＥＰＱ（クラリアント社、商標）、ウェ
ストン６１８（Weston 618、ＧＥ社、商標）、ウェスト
ン６１９Ｇ（Weston 619G、ＧＥ社、商標）、ウェスト
ン−６２４（Weston-624、ＧＥ社、商標）などがあげら
れる。

【００６７】これらのリン系安定剤（Ｄ）は単独である
いは組合せて用いることができる。リン系安定剤（Ｄ）
の配合量は、前記プロピレン系ポリマー（Ａ）１００重
量部に対して０.００５〜２重量部、好ましくは０．０
１〜１重量部、さらに好ましくは０．０５〜０．５重量
部とするのが望ましい。

【００６８】リン系安定剤（Ｄ）の含有量が、プロピレ
ン系ポリマー（Ａ）１００重量部に対して上記のような
範囲内にあると、耐熱性、耐老化性等の安定性の向上効
果が高く、また安定剤の費用が廉価に抑えられ、プロピ
レン系ポリマー（Ａ）の性質、例えば引張り強度などが
低下することもない。

【００６９】《イオウ系安定剤（Ｅ）》イオウ系安定剤
（Ｅ）としては、従来から安定剤として使用されている
イオウ系の安定剤が特に限定されることなく用いられ
る。イオウ系安定剤（Ｅ）の具体的なものとしては、以
下のような化合物が用いられる。

【００７０】ジラウリル−、ジミリスチル−、ジステア
リル−などのジアルキルチオジプロピオネートおよびブ
チル−、オクチル−、ラウリル−、ステアリル−などの
アルキルチオプロピオン酸の多価アルコール（例えばグ
リセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロ
パン、ペンタエリスリトール、トリスヒドロキシエチル
イソシアヌレート）のエステル（例えばペンタエリスリ
トールテトララウリルチオプロピオネート）など。さら
に具体的には、ジラウリルチオジプロピオネート、ジミ
リスチルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジプ
ロピオネート、ラウリルステアリルチオジプロピオネー
ト、ジステアリルチオジブチレートなどがあげられる。

【００７１】イオウ系安定剤（Ｅ）としては市販品を使
用することもでき、例えばＤＳＴＰ（ヨシトミ）（吉富
（株）社、商標）、ＤＬＴＰ（ヨシトミ）（吉富（株）
社、商標）、ＤＬＴＯＩＢ（吉富（株）社、商標）、Ｄ
ＭＴＰ（ヨシトミ）（吉富（株）社、商標）、Ｓｅｅｎ
ｏｘ ４１２Ｓ（白石カルシウム（株）社、商標）、Ｃ
ｙａｎｏｘ １２１２（サイアナミド社、商標）などが
あげられる。

【００７２】これらのイオウ系安定剤（Ｅ）は、単独で
あるいは組合せて用いることができる。イオウ系安定剤
（Ｅ）の配合量は、前記プロピレン系ポリマー（Ａ）１
００重量部に対して０.００５〜２重量部、好ましくは
０．０１〜１重量部、さらに好ましくは０．０５〜０．
５重量部とするのが望ましい。

【００７３】イオウ系安定剤（Ｅ）の含有量が、プロピ
レン系ポリマー（Ａ）１００重量部に対して上記のよう
な範囲内にあると、耐熱性、耐老化性等の安定性の向上
効果が高く、また安定剤の費用が廉価に抑えられ、プロ
ピレン系ポリマー（Ａ）の性質、例えば引張り強度など
が低下することもない。

【００７４】《静電防止剤（Ｆ）》本発明で用いられる
静電防止剤（Ｆ）としては、従来から静電防止剤または
帯電防止剤として使用されているものが特に限定される
ことなく使用でき、例えばアニオン性界面活性剤、カチ
オン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、両性界面活
性剤などがあげられる。

【００７５】静電防止剤（Ｆ）として使用する上記アニ
オン性界面活性剤としては、脂肪酸またはロジン酸セッ
ケン、Ｎ−アシルカルボン酸塩、エーテルカルボン酸
塩、脂肪酸アミン塩等のカルボン酸塩；スルホコハク酸
塩、エステルスルホン酸塩、Ｎ−アシルスルホン酸塩等
のスルホン酸塩；硫酸化油、硫酸エステル塩、硫酸アル
キル塩、硫酸アルキルポリオキシエチレン塩、硫酸エー
テル塩、硫酸アミド塩等の硫酸エステル塩；リン酸アル
キル塩、リン酸アルキルポリオキシエチレン塩、リン酸
エーテル塩、リン酸アミド塩等のリン酸エステル塩など
があげられる。

【００７６】静電防止剤（Ｆ）として使用する前記カチ
オン性界面活性剤としては、アルキルアミン塩等のアミ
ン塩；アルキルトリメチルアンモニウムクロリド、アル
キルベンジルジメチルアンモニウムクロリド、アルキル
ジヒドロキシエチルメチルアンモニウムクロリド、ジア
ルキルジメチルアンモニウムクロリド、テトラアルキル
アンモニウム塩、Ｎ，Ｎ−ジ（ポリオキシエチレン）ジ
アルキルアンモニウム塩、Ｎ−アルキルアルカンアミド
アンモニウムの塩等の第４級アンモニウム塩；１−ヒド
ロキシエチル−２−アルキル−２−イミダゾリン、１−
ヒドロキシエチル−１−アルキル−２−アルキル−２−
イミダゾリン等のアルキルイミダゾリン誘導体；イミダ
ゾリニウム塩、ピリジニウム塩、イソキノリニウム塩な
どがあげられる。

【００７７】静電防止剤（Ｆ）として使用する前記非イ
オン性界面活性剤としては、アルキルポリオキシエチレ
ンエーテル、ｐ−アルキルフェニルポリオキシエチレン
エーテル等のエーテル形；脂肪酸ソルビタンポリオキシ
エチレンエーテル、脂肪酸ソルビトールポリオキシエチ
レンエーテル、脂肪酸グリセリンポリオキシエチレンエ
ーテル等のエーテルエステル形；脂肪酸ポリオキシエチ
レンエステル、モノグリセリド、ジグリセリド、ソルビ
タンエステル、ショ糖エステル、２価アルコールエステ
ル、ホウ酸エステル等のエステル形；ジアルコールアル
キルアミン、ジアルコールアルキルアミンエステル、脂
肪酸アルカノールアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（ポリオキシエチ
レン）アルカンアミド、アルカノールアミンエステル、
Ｎ，Ｎ−ジ（ポリオキシエチレン）アルカンアミン、ア
ミンオキシド、アルキルポリエチレンイミン等の含窒素
形などがあげられる。

【００７８】静電防止剤（Ｆ）として使用する前記両性
界面活性剤としては、モノアミノカルボン酸、ポリアミ
ノカルボン酸等のアミノ酸形；Ｎ−アルキルアミノプロ
ピオン酸塩、Ｎ，Ｎ−ジ（カルボキシエチル）アルキル
アミン塩等のＮ−アルキル−β−アラニン形；Ｎ−アル
キルベタイン、Ｎ−アルキルアミドベタイン、Ｎ−アル
キルスルホベタイン、Ｎ，Ｎ−ジ（ポリオキシエチレ
ン）アルキルベタイン、イミダゾリニウムベタイン等の
ベタイン形；１−カルボキシメチル−１−ヒドロキシ−
１−ヒドロキシエチル−２−アルキル−２−イミダゾリ
ン、１−スルホエチル−２−アルキル−２−イミダゾリ
ン等のアルキルイミダゾリン誘導体などがあげられる。

【００７９】上記界面活性剤としては非イオン性界面活
性剤、両性界面活性剤が好ましく、中でもモノグリセリ
ド、ジグリセリド、ホウ酸エステル、ジアルコールアル
キルアミン、ジアルコールアルキルアミンエステル、ア
ミド等のエステル形または含窒素形の非イオン性界面活
性剤；ベタイン形の両性界面活性剤が好ましい。

【００８０】静電防止剤（Ｆ）としては市販品を使用す
ることもでき、例えばエレクトロストリッパーＴＳ５
（花王（株）製、商標、グリセリンモノステアレー
ト）、エレクトロストリッパーＥＡ（花王（株）製、商
標、ラウリルジエタノールアミン）、デノン３３１Ｐ
（丸菱油化（株）製、商標、ステアリルジエタノールア
ミンモノステアレート）、エレクトロストリッパーＥＡ
−７（花王（株）製、商標、ポリオキシエチレンラウリ
ルアミンカプリルエステル）、レジスタットＰＥ−１３
９（第一工業製薬（株）製、商標、ステアリン酸モノ＆
ジグリセリドホウ酸エステル）、ケミスタット４７００
（三洋化成（株）製、商標、アルキルジメチルベタイ
ン）などがあげられる。

【００８１】これらの静電防止剤（Ｆ）は、単独である
いは組合せて用いることができる。静電防止剤（Ｆ）の
配合量は、プロピレン系ポリマー（Ａ）１００重量部に
対して０．０５〜２重量部、好ましくは０．１〜１重量
部とするのが望ましい。

【００８２】静電防止剤（Ｆ）の配合量が、プロピレン
系ポリマー（Ａ）１００重量部に対して上記のような範
囲にあると、表面固有抵抗を減らして帯電による障害を
防止することができ、電気的特性に優れた組成物が得ら
れ、しかもプロピレン系ポリマー（Ａ）の性質、例えば
引張り強度などが低下することもない。

【００８３】《滑剤（Ｇ）》本発明で用いられる滑剤
（Ｇ）としては、従来から樹脂の滑剤として使用されて
いるものが特に限定されることなく使用できる。滑剤
（Ｇ）の具体的なものとしては、以下のような化合物が
用いられる。

【００８４】キャンデリラワックス、カルナバワック
ス、ライスワックス、木ロウ、ホホバ油等の天然植物系
ワックス；ミツロウ、ラノリン、鯨ロウ等の天然動物系
ワックス；モンタンワックス、オゾケライト、セレシン
等の天然鉱物系ワックス；パラフィンワックス、マイク
ロクリスタリンワックス、ペトロラクタム等の天然石油
系ワックス；トロプシュワックス、ポリエチレンワック
ス等の合成炭化水素；モンタンワックス誘導体、パラフ
ィンワックス誘導体、マイクロクリスタリンワックス誘
導体等の合成変性ワックス；硬化ヒマシ油、硬化ヒマシ
油誘導体、硬化ナタネ油、硬化大豆油等の合成水素添加
ワックス；ステアリン酸Ｃａ、ステアリン酸Ｂａ、ステ
アリン酸Ｚｎ、ステアリン酸Ｌｉ等の合成金属石けん；
ステアリン酸、１２−ヒドロキシステアリン酸等の合成
高級樹脂肪酸；オレイン酸アミド、ステアリン酸アミ
ド、エルカ酸アミド、エチレンビスステアリン酸アミ
ド、ＥＢＳ等の合成脂肪酸アミド；ブチルステアレー
ト、長鎖脂肪酸エステル等の合成脂肪酸エステル；セタ
ノール、ステアリルアルコール等の合成高級アルコール
など。

【００８５】滑剤（Ｇ）としては市販品を使用すること
もでき、例えばアーモスリップＣＰ（ライオン（株）
製、商標）、ニュートロン２（日本精化（株）製、商
標）、アルフローＰ−１０（日本油脂（株）製、商
標）、アーモワックスＥＢＳ（ライオンアーマー（株）
製、商標）などがあげられる。

【００８６】これらの滑剤（Ｇ）は、単独であるいは組
合せて用いることができる。滑剤（Ｇ）の配合量は、プ
ロピレン系ポリマー（Ａ）１００重量部に対して０．０
０５〜２重量部、好ましくは０．０１〜１重量部、さら
に好ましくは０．０５〜１重量部とするのが望ましい。

【００８７】滑剤（Ｇ）の配合量が、プロピレン系ポリ
マー（Ａ）１００重量部に対して上記のような範囲にあ
ると、本発明のプロピレン系ポリマー組成物を加熱溶融
して成形する際の流動性が改善され、また成形加工機や
金型への粘着性を抑制し、成形体の型離れが改善され、
さらにまたフィルムに成形した場合には口開きなどのス
リップ性が改善され、しかもプロピレン系ポリマー
（Ａ）の性質、例えば引張り強度などが低下することも
ない。さらに、ステアリン酸Ｃａ等の高級脂肪酸の金属
塩（Ｇ）は、滑剤および防銹剤としての効果を有するた
め、このような高級脂肪酸の金属塩（Ｇ）を含有したプ
ロピレン系ポリマー組成物は離型性に優れ、成形機等の
銹防止に有効である。

【００８８】《核剤（Ｈ）》本発明において核剤（Ｈ）
を配合すると、結晶粒子の微細化が図れるとともに、結
晶化速度が向上し、高速成形が可能になるほか、剛性、
耐熱剛性、透明性、光沢、表面硬度などに優れたプロピ
レン系ポリマー組成物が得られる。核剤（Ｈ）として
は、有機リン酸系核剤、ソルビトール系核剤、芳香族カ
ルボン酸系核剤、高融点ポリマー系核剤、無機系核剤ま
たはロジン酸系核剤などの核剤を１種単独で、あるいは
２種以上組合せて使用することができる。

【００８９】本発明のプロピレン系ポリマー組成物にお
いて、核剤（Ｈ）はプロピレン系ポリマー（Ａ）１００
重量部に対して０.００１〜５重量部、好ましくは０.０
１〜５重量部、特に好ましくは０.１〜３重量部の割合
で配合されることが望ましい。核剤（Ｈ）を上記の量で
プロピレン系ポリマー（Ａ）に配合することにより、結
晶粒子が微細で結晶化度が向上し、高速成形が可能にな
るほか、剛性、耐熱剛性、透明性、光沢、表面硬度など
が向上し、プロピレン系ポリマー（Ａ）が本来有するそ
の他の優れた特性が損なわれることはない。

【００９０】《有機リン酸系核剤（Ｈ）》有機リン酸系
核剤（Ｈ）としては、下記一般式（８）で表される化合
物を例示することができる。

【化４】

【００９１】（式中、Ｒ¹は酸素、イオウまたは炭素数
１〜１０の炭化水素基であり、Ｒ²、Ｒ ³は水素または炭
素数１〜１０の炭化水素基であり、Ｒ²、Ｒ³は同種であ
っても異種であってもよく、Ｒ²同士、Ｒ³同士またはＲ
²とＲ³が結合して環状となっていてもよく、Ｍは１〜３
価の金属原子であり、ｎは１〜３の整数である。）

【００９２】一般式（８）で表される化合物の具体的な
ものとしては、ナトリウム-2,2'-メチレン-ビス(4,6-ジ
-t-ブチルフェニル)フォスフェート、ナトリウム-2,2'-
エチリデン-ビス(4,6-ジ-t-ブチルフェニル)フォスフェ
ート、リチウム-2,2'-メチレン-ビス-(4,6-ジ-t-ブチル
フェニル)フォスフェート、リチウム-2,2'-エチリデン-
ビス(4,6-ジ-t-ブチルフェニル)フォスフェート、ナト
リウム-2,2'-エチリデン-ビス(4-i-プロピル-6-t-ブチ
ルフェニル)フォスフェート、リチウム-2,2'-メチレン-
ビス(4-メチル-6-t-ブチルフェニル)フォスフェート、
リチウム-2,2'-メチレン-ビス(4-エチル-6-t-ブチルフ
ェニル)フォスフェート、カルシウム-ビス[2,2'-チオビ
ス(4-メチル-6-t-ブチルフェニル)フォスフェート]、カ
ルシウム-ビス[2,2'-チオビス(4-エチル-6-t-ブチルフ
ェニル)フォスフェート]、カルシウム-ビス[2,2'-チオ
ビス-(4,6-ジ-t-ブチルフェニル)フォスフェート]、マ
グネシウム-ビス[2,2'-チオビス(4,6-ジ-t-ブチルフェ
ニル)フォスフェート]、マグネシウム-ビス[2,2'-チオ
ビス-(4-t-オクチルフェニル)フォスフェート]、ナトリ
ウム-2,2'-ブチリデン-ビス(4,6-ジ-メチルフェニル)フ
ォスフェート、ナトリウム-2,2'-ブチリデン-ビス(4,6-
ジ-t-ブチルフェニル)フォスフェート、ナトリウム-2,
2'-t-オクチルメチレン-ビス(4,6-ジ-メチルフェニル)
フォスフェート、ナトリウム-2,2'-t-オクチルメチレン
-ビス(4,6-ジ-t-ブチルフェニル)フォスフェート、カル
シウム-ビス-(2,2'-メチレン-ビス(4,6-ジ-t-ブチルフ
ェニル)フォスフェート)、マグネシウム-ビス[2,2'-メ
チレン-ビス(4,6-ジ-t-ブチルフェニル)フォスフェー
ト]、バリウム-ビス[2,2'-メチレン-ビス(4,6-ジ-t-ブ
チルフェニル)フォスフェート]、ナトリウム-2,2'-メチ
レン-ビス(4-メチル-6-t-ブチルフェニル)フォスフェー
ト、ナトリウム-2,2'-メチレン-ビス(4-エチル-6-t-ブ
チルフェニル)フォスフェート、ナトリウム(4,4'-ジメ
チル-5,6'-ジ-t-ブチル-2,2'-ビフェニル)フォスフェー
ト、カルシウム-ビス[(4,4'-ジメチル-6,6'-ジ-t-ブチ
ル-2,2'-ビフェニル)フォスフェート]、ナトリウム-2,
2'-エチリデン-ビス(4-m-ブチル-6-t-ブチルフェニル)
フォスフェート、ナトリウム-2,2'-メチレン-ビス(4,6-
ジ-メチルフェニル)フォスフェート、ナトリウム-2,2'-
メチレン-ビス(4,6-ジ-エチルフェニル)フォスフェー
ト、カリウム-2,2'-エチリデン-ビス(4,6-ジ-t-ブチル
フェニル)フォスフェート、カルシウム-ビス[2,2'-エチ
リデン-ビス(4,6-ジ-t-ブチルフェニル)フオスフェー
ト]、マグネシウム-ビス[2,2'-エチリデン-ビス(4,6-ジ
-t-ブチルフェニル)フォスフェート]、バリウム-ビス
[2,2'-エチリデン-ビス(4,6-ジ-t-ブチルフェニル)フォ
スフェート]、アルミニウム-トリス[2,2'-メチレン-ビ
ス(4,6-ジ-t-ブチルフェル）フォスフェート]およびア
ルミニウム-トリス[2,2'-エチリデン-ビス(4,6-ジ-t-ブ
チルフェニル)フォスフェート]およびこれらの２種以上
の混合物等を例示することができる。特にナトリウム-
2,2'-メチレン-ビス(4,6-ジ-t-ブチルフェニル)フォス
フェートが好ましい。

【００９３】また好ましい有機リン酸系核剤（Ｈ）とし
ては、下記一般式（９）で表される化合物を例示するこ
とができる。

【化５】 （式中、Ｒ¹は水素または炭素数１〜１０の炭化水素基
であり、Ｍは１〜３価の金属原子であり、ｎは１〜３の
整数である。）

【００９４】一般式（９）で表される化合物の具体的な
ものとしては、ナトリウム-ビス(4-t-ブチルフェニル)
フォスフェート、ナトリウム-ビス(4-メチルフェニル)
フォスフェート、ナトリウム-ビス(4-エチルフェニル)
フォスフェート、ナトリウム-ビス(4-i-プロピルフェニ
ル)フォスフェート、ナトリウム-ビス(4-t-オクチルフ
ェニル)フォスフェート、カリウム-ビス(4-t-ブチルフ
ェニル)フォスフェート、カルシウム-ビス(4-t-ブチル
フェニル)フォスフェート、マグネシウム-ビス(4-t-ブ
チルフェニル)フォスフェート、リチウム-ビス(4-t-ブ
チルフェニル)フォスフェート、アルミニウム-ビス(4-t
-ブチルフェニル)フォスフェートおよびこれらの２種以
上の混合物等を例示することができる。特にナトリウム
-ビス(4-t-ブチルフェニル)フォスフェートが好まし
い。

【００９５】《ソルビトール系核剤（Ｈ）》好ましいソ
ルビトール系核剤（Ｈ）としては、下記一般式（１０）
で表される化合物を例示することができる。

【化６】 （式中、各Ｒ¹は同一または相異なり、水素、塩素など
のハロゲン、または炭素数１〜１０の炭化水素基であ
る。ｍおよびｎはそれぞれ０〜５の整数である。）

【００９６】一般式（１０）で表される化合物の具体的
なものとしては、1,3,2,4-ジベンジリデンソルビトー
ル、1,3-ベンジリデン-2,4-p-メチルベンジリデンソル
ビトール、1,3-ベンジリデン-2,4-p-エチルベンジリデ
ンソルビトール、1,3-p-メチルベンジリデン-2,4-ベン
ジリデンソルビトール、1,3-p-エチルベンジリデン-2,4
-ベンジリデンソルビトール、1,3-p-メチルベンジリデ
ン-2,4-p-エチルベンジリデンソルビトール、1,3-p-エ
チルベンジリデン-2,4-p-メチルベンジリデンソルビト
ール、1,3,2,4-ジ(p-メチルベンジリデン)ソルビトー
ル、1,3,2,4-ジ(p-エチルベンジリデン)ソルビトール、
1,3,2,4-ジ(p-n-プロピルベンジリデン)ソルビトール、
1,3,2,4-ジ(p-i-プロピルベンジリデン)ソルビトール、
1,3,2,4-ジ(p-n-ブチルベンジリデン)ソルビトール、1,
3,2,4-ジ(p-s-ブチルベンジリデン)ソルビトール、1,3,
2,4-ジ(p-t-ブチルベンジリデン)ソルビトール、1,3,2,
4-ジ(2',4'-ジメチルベンジリデン)ソルビトール、1,3,
2,4-ジ(p-メトキシベンジリデン)ソルビトール、1,3,2,
4-ジ(p-エトキシベンジリデン)ソルビトール、1,3-ベン
ジリデン-2-4-p-クロルベンジリデンソルビトール、1,3
-p-クロルベンジリデン-2,4-ベンジリデンソルビトー
ル、1,3-p-クロルベンジリデン-2,4-p-メチルベンジリ
デンソルビトール、1,3-p-クロルベンジリデン-2,4-p-
エチルベンジリデンソルビトール、1,3-p-メチルベンジ
リデン-2,4-p-クロルベンジリデンソルビトール、1,3-p
-エチルベンジリデン-2,4-p-クロルベンジリデンソルビ
トールおよび1,3,2,4-ジ(p-クロルベンジリデン)ソルビ
トールおよびこれらの２種以上の混合物等を例示でき、
特に1,3,2,4-ジベンジリデンソルビトール、1,3,2,4-ジ
(p-メチルベンジリデン)ソルビトール、1,3,2,4-ジ(p-
エチルベンジリデン)ソルビトール、1,3-p-クロルベン
ジリデン-2,4-p-メチルベンジリデンソルビトール、1,
3,2,4-ジ(p-クロルベンジリデン)ソルビトールおよびそ
れらの２種以上の混合物が好ましい。

【００９７】また好ましいソルビトール系核剤（Ｈ）と
しては、下記一般式（１１）で表される化合物を例示す
ることができる。

【化７】 （式中、各Ｒ¹は同一または相異なり、炭素数１または
２のアルキル基である。）

【００９８】《芳香族カルボン酸系核剤（Ｈ）》好まし
い芳香族カルボン酸系核剤（Ｈ）としては、下記一般式
（１２）で表されるアルミニウムヒドロキシジパラｔ−
ブチルベンゾエートなどを例示することができる。

【化８】

【００９９】その他にも核剤（Ｈ）としては、高融点ポ
リマー、その他の芳香族カルボン酸の金属塩や脂肪族カ
ルボン酸の金属塩、または無機化合物等を例示できる。
上記高融点ポリマーとしては、ポリビニルシクロヘキサ
ン、ポリビニルシクロペンタン等のポリビニルシクロア
ルカン、、ポリ３−メチルペンテン−１、ポリ３−メチ
ルブテン−１、ポリアルケニルシランなどがあげられ
る。上記金属塩としては、安息香酸アルミニウム塩、p-
t-ブチル安息香酸アルミニウム塩やアジピン酸ナトリウ
ム、チオフェネカルボン酸ナトリウム、ピローレカルボ
ン酸ナトリウムなどがあげられる。また上記無機化合物
としては、シリカ、ケイ藻土、アルミナ、酸化チタン、
酸化マグネシウム、軽石粉、軽石バルーン、水酸化アル
ミニウム、水酸化マグネシウム、塩基性炭酸マグネシウ
ム、ドロマイト、硫酸カルシウム、チタン酸カリウム、
硫酸バリウム、亜硫酸カルシウム、タルク、クレー、マ
イカ、アスベスト、ガラス繊維、ガラスフレーク、ガラ
スビーズ、ケイ酸カルシウム、モンモリロナイト、ベン
トナイト、グラファイト、アルミニウム粉、硫化モリブ
デンなどがあげられる。その他にも、ブロム化ビフェニ
ルエーテル、環状トリエチレングリコールテレフタレー
トなども使用できる。

【０１００】《ロジン酸系核剤（Ｈ）》ロジン酸系核剤
（Ｈ）としては、周知のロジン系核剤を使用することが
できる。ロジン酸系核剤（Ｈ）としてはロジン酸部分金
属塩、例えばロジン酸部分ナトリウム塩、ロジン酸部分
カリウム塩またはロジン酸部分マグネシウム塩などがあ
げられる。

【０１０１】ロジン酸系核剤（Ｈ）としては、天然ロジ
ン、変性ロジンおよびこれらの精製物から選ばれる少な
くとも１種のロジン酸部分金属塩が好ましく、前記ロジ
ン酸部分金属塩がデヒドロアビエチン酸、ジヒドロアビ
エチン酸、ジヒドロピマル酸およびこれらの誘導体から
選ばれる少なくとも１種のロジン酸の部分金属塩である
ことがより好ましく、下記一般式（１３ａ）で表される
ロジン酸の部分金属塩および前記一般式（１３ｂ）で表
されるロジン酸の部分金属塩から選ばれる少なくとも１
種のロジン酸部分金属塩であることが特に好ましい。下
記一般式（１３ａ）および（１３ｂ）においては、Ｒ¹
がイソプロピル基であり、Ｒ²およびＲ³がメチル基であ
ることが好ましい。

【０１０２】

【化９】 （式中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³は、互いに同一でも異なっ
ていてもよく、水素原子、アルキル基、シクロアルキル
基またはアリール基を示す。）

【０１０３】なお、本明細書においてロジン酸部分金属
塩は、ロジン酸と金属化合物との反応生成物であり、ロ
ジン酸金属塩と未反応のロジン酸との混合物、および未
反応のロジン酸を含まないロジン酸金属塩の両方を意味
する。

【０１０４】ロジン酸と反応して金属塩を形成する金属
化合物としては、ナトリウム、カリウム、マグネシウム
などの金属元素を有し、かつ前記ロジン酸と造塩する化
合物があげられ、具体的には前記金属の塩化物、硝酸
塩、酢酸塩、硫酸塩、炭酸塩、酸化物、水酸化物などが
あげられる。

【０１０５】ロジン酸としては、ガムロジン、トール油
ロジン、ウッドロジンなどの天然ロジン；不均化ロジ
ン、水素化ロジン、脱水素化ロジン、重合ロジン、α,
β―エチレン性不飽和カルボン酸変性ロジンなどの各種
変性ロジン；前記天然ロジンの精製物、前記変性ロジン
の精製物などを例示できる。

【０１０６】なお、天然ロジンには、ピマル酸、サンダ
ラコピマル酸、パラストリン酸、イソピマル酸、アビエ
チン酸、デヒドロアビエチン酸、ネオアビエチン酸、ジ
ヒドロピマル酸、ジヒドロアビエチン酸、テトラヒドロ
アビエチン酸などの樹脂酸が、通常複数種含まれてい
る。

【０１０７】また、前記α,β―エチレン性不飽和カル
ボン酸変性ロジンの調製に用いられる不飽和カルボン酸
としては、例えばマレイン酸、無水マレイン酸、フマル
酸、イタコン酸、無水イタコン酸、シトラコン酸、アク
リル酸、メタクリル酸などをあげることができる。

【０１０８】上記のロジン酸の中では、不均化ロジン、
水素化ロジンおよび脱水素化ロジンから選ばれる少なく
とも１種のロジン酸であることが好ましく、デヒドロア
ビエチン酸、ジヒドロアビエチン酸、ジヒドロピマル酸
およびこれらの誘導体から選ばれる少なくとも１種のロ
ジン酸であることがより好ましい。

【０１０９】前記ロジン酸の部分金属塩としては、前記
ロジン酸の部分ナトリウム塩、前記ロジン酸の部分カリ
ウム塩および前記ロジン酸の部分マグネシウム塩などが
あげられる。

【０１１０】ロジン酸としては、前記一般式（１３ａ）
で表される化合物〔化合物（１３ａ）〕または前記一般
式（１３ｂ）で表される化合物〔化合物（１３ｂ）〕を
用いることが特に好ましい。一般式（１３ａ）および一
般式（１３ｂ）中、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³は、互いに同一
でも異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、シク
ロアルキル基またはアリール基である。

【０１１１】アルキル基として具体的には、メチル、エ
チル、ｎ―プロピル、ｉ―プロピル、ｎ―ブチル、ｉ―
ブチル、tert―ブチル、ペンチル、ヘプチル、オクチル
などの炭素原子数が１〜８のアルキル基があげられ、こ
れらの基はヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキ
シ基、ハロゲンなどの置換基を有していてもよい。

【０１１２】シクロアルキル基として具体的には、シク
ロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチルなどの炭
素原子数が５〜８のシクロアルキル基があげれ、これら
の基はヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシ
基、ハロゲンなどの置換基を有していてもよい。

【０１１３】アリール基としては、フェニル基、トリル
基、ナフチル基などの炭素原子数が６〜１０のアリール
基があげられ、これらの基はヒドロキシル基、カルボキ
シル基、アルコキシ基、ハロゲンなどの置換基を有して
いてもよい。

【０１１４】このような化合物（１３ａ）および化合物
（１３ｂ）の中では、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³がそれぞれ、
同一または異なるアルキル基である化合物が好ましく、
Ｒ¹がｉ―プロピル基であり、Ｒ²およびＲ³がメチル基
である化合物がより好ましい。このような化合物の部分
金属塩は、特に結晶性樹脂の結晶化速度の向上効果が優
れる。

【０１１５】化合物（１３ａ）として具体的には、デヒ
ドロアビエチン酸などがあげられ、化合物（１３ｂ）で
表される化合物として具体的には、ジヒドロアビエチン
酸などがあげられる。

【０１１６】このような化合物（１３ａ）および化合物
（１３ｂ）の中で、例えば式（１３ａ）で表されるデヒ
ドロアビエチン酸は、ガムロジン、トール油ロジン、ウ
ッドロジンなどの天然ロジンを不均化または脱水素化
し、次いで精製することにより得られる。

【０１１７】前記化合物（１３ａ）の金属塩としては、
下記一般式（１４ａ）で表される化合物〔化合物（１４
ａ）〕があげられ、前記化合物（１３ｂ）の金属塩とし
ては、下記一般式（１４ｂ）で表される化合物〔化合物
（１４ｂ）〕があげられる。

【化１０】

【０１１８】一般式（１４ａ）および（１４ｂ）中、Ｒ
¹、Ｒ²およびＲ³は、前記一般式（１３ａ）および（１
３ｂ）と同様である。Ｍは、１〜３価の金属イオンであ
り、具体的にはリチウム、ナトリウム、カリウム、ルビ
ジウム、セシウムなどの１価の金属イオン；ベリリウ
ム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリ
ウム、亜鉛などの２価の金属イオン；アルミニウムなど
の３価の金属イオンがあげられる。これらのうち１価ま
たは２価の金属イオンであることが好ましく、ナトリウ
ムイオン、カリウムイオン、マグネシウムイオンである
ことがより好ましい。ｎは、前記金属イオンＭの価数と
同一の整数であり、１〜３の整数である。

【０１１９】化合物（１４ａ）および化合物（１４ｂ）
の中では、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³がそれぞれ、同一もしく
は異なるアルキル基である化合物、またはＭが１価もし
くは２価の金属イオンである化合物が好ましく、Ｒ¹が
ｉ―プロピル基であり、Ｒ²およびＲ³がメチル基である
化合物、またはＭがナトリウムイオン、カリウムイオン
もしくはマグネシウムイオンである化合物がより好まし
く、Ｒ¹がｉ―プロピル基であり、Ｒ²およびＲ³がメチ
ル基であり、かつＭがナトリウムイオン、カリウムイオ
ンもしくはマグネシウムイオンである化合物が特に好ま
しい。このような化合物は、特に結晶化速度の向上効果
が優れる。

【０１２０】化合物（１４ａ）として具体的には、例え
ばデヒドロアビエチン酸リチウム、デヒドロアビエチン
酸ナトリウム、デヒドロアビエチン酸カリウム、デヒド
ロアビエチン酸ベリリウム、デヒドロアビエチン酸マグ
ネシウム、デヒドロアビエチン酸カルシウム、デヒドロ
アビエチン酸亜鉛、デヒドロアビエチン酸アルミニウム
などのデヒドロアビエチン酸金属塩などがあげられ、デ
ヒドロアビエチン酸ナトリウム、デヒドロアビエチン酸
カリウム、デヒドロアビエチン酸マグネシウムが好まし
く用いられる。

【０１２１】化合物（１４ｂ）として具体的には、例え
ばジヒドロアビエチン酸リチウム、ジヒドロアビエチン
酸ナトリウム、ジヒドロアビエチン酸カリウム、ジヒド
ロアビエチン酸ベリリウム、ジヒドロアビエチン酸マグ
ネシウム、ジヒドロアビエチン酸カルシウム、ジヒドロ
アビエチン酸亜鉛、ジヒドロアビエチン酸アルミニウム
などのジヒドロアビエチン酸金属塩などがあげられ、ジ
ヒドロアビエチン酸ナトリウム、ジヒドロアビエチン酸
カリウム、ジヒドロアビエチン酸マグネシウムが好まし
く用いられる。

【０１２２】上述したようなロジン酸部分金属塩は、上
記ロジン酸と上記金属化合物とを従来公知の方法で反応
させることにより製造することができる。

【０１２３】ロジン酸系核剤（Ｈ）としては、少なくと
も２種のロジン酸部分金属塩を用いてもよい。この少な
くとも２種のロジン酸部分金属塩は、ロジン酸が同一で
あり金属が異なるロジン酸金属塩を少なくとも２種含ん
でいてもよく、ロジン酸が異なり金属が同一であるロジ
ン酸金属塩を少なくとも２種含んでいてもよく、ロジン
酸が異なり金属が異なるロジン酸金属塩を少なくとも２
種含んでいてもよい。少なくとも２種のロジン酸部分金
属塩中には、ロジン酸金属塩が合計で５〜１００重量
％、好ましくは１０〜１００重量％の割合で含有される
ことが好ましい。

【０１２４】少なくとも２種のロジン酸部分金属塩中の
ロジン金属塩の量比は任意であるが、少なくとも２種の
ロジン酸部分金属塩中のロジン酸金属塩の合計量に対し
て、１種のロジン酸金属塩が０モル％を超え、好ましく
は５〜９５モル％、他の１種以上のロジン酸金属塩が１
００モル％未満、好ましくは９５〜５モル％の割合とな
るように組合せることが望ましい。

【０１２５】少なくとも２種のロジン酸部分金属塩の組
合せとしては、ロジン酸部分カリウム塩と、ロジン酸部
分ナトリウム塩またはロジン酸部分マグネシウム塩との
組合せが好ましい。さらに、２種のロジン酸部分金属塩
中のロジン酸金属塩の合計量に対しロジン酸カリウム塩
が２０モル％以上、好ましくは４０〜９５モル％、より
好ましくは４５〜８０モル％、ロジン酸ナトリウム塩ま
たはロジン酸マグネシウム塩が８０モル％未満、好まし
くは６０〜５モル％、より好ましくは５５〜２０モル％
の割合となるように組合せることが望ましい。

【０１２６】このような少なくとも２種の金属を含むロ
ジン酸部分金属塩は、１種の金属のみを含有するロジン
酸部分金属塩に比べてプロピレン系ポリマー（Ａ）への
分散性に優れる。

【０１２７】また本発明では、その他の添加剤として高
級脂肪酸金属塩、ロジングリセンリンエステル、ポリオ
レフィンワックス、水添石油樹脂などの相溶化剤を添加
してもよい。このような相溶化剤は、プロピレン系ポリ
マー１００重量部に対して、通常０．０１〜５重量部の
量で用いられる。相溶化剤を添加すると、核剤（Ｈ）を
プロピレン系ポリマー（Ａ）に短い混練時間で分散させ
ることができる。

【０１２８】さらに本発明のプロピレン系ポリマー組成
物には、衝撃強度を向上させるためのゴム成分を配合し
たり、アンチブロッキング剤、防曇剤、染料、顔料など
を配合することができ、その配合割合は適宜量である。

【０１２９】さらに本発明では、本発明の目的を損なわ
ない範囲で、プロピレン系ポリマー組成物にシリカ、ケ
イ藻土、アルミナ、酸化チタン、酸化マグネシウム、軽
石粉、軽石バルーン、水酸化アルミニウム、水酸化マグ
ネシウム、塩基性炭酸マグネシウム、ドロマイト、硫酸
カルシウム、チタン酸カリウム、硫酸バリウム、亜硫酸
カルシウム、タルク、クレー、マイカ、アスベスト、ガ
ラス繊維、ガラスフレーク、ガラスビーズ、ケイ酸カル
シウム、モンモリロナイト、ベントナイト、グラファイ
ト、アルミニウム粉、硫化モリブデン、ボロン繊維、炭
化ケイ素繊維、ポリエチレン繊維、ポリプロピレン繊
維、ポリエステル繊維、ポリアミド繊維などの充填剤を
配合してもよい。

【０１３０】プロピレン系ポリマー組成物を調製する方
法としては、従来公知の方法を任意に採用でき、例えば
プロピレン系ポリマー（Ａ）と、耐候安定剤（Ｂ）と、
必要に応じて他の添加剤とを押出機、ニーダーなどを用
いて溶融混練する方法が用いられる。

【０１３１】本発明のプロピレン系ポリマー組成物は、
従来からポリプロピレンが用いられてきた分野、例えば
家庭用品から工業用品に至る広い用途、例えば食品容
器、電気部品（掃除機、洗濯機などに用いられるも
の）、電子部品、自動車部品（バンパー、内装材、外装
材など）、機械機構部品などの分野で特に制限されるこ
となく用いられるが、特に押出シート、未延伸フィル
ム、延伸フィルム、フィラメント、押出成形体、射出成
形体、ブロー成形体などの用途に好適に用いられる。

【０１３２】本発明の成形体は、本発明のプロピレン系
ポリマー組成物を成形して得られる成形体である。成形
方法は特に限定されず、押出成形、射出成形、ブロー成
形、押出ブロー成形、射出ブロー成形、インフレーショ
ン成形、モールドスタンピング成形などの公知の成形法
が採用でき、成形法に応じて押出成形体、射出成形体、
ブロー成形体、押出ブロー成形体、射出ブロー成形体、
インフレーション成形体、モールドスタンピング成形体
などが得られる。成形方法としては押出成形法または射
出成形法が好ましい。

【０１３３】本発明の成形体である押出成形体の形状お
よび製品種類は特に限定されないが、具体的にはシー
ト、フィルム、パイプ、ホース、電線被覆、フィラメン
トなどがあげられ、シート、フィルム、フィラメントな
どとして特に好適に用いられる。

【０１３４】本発明のプロピレン系ポリマー組成物を押
出成形してシート、フィルム（未延伸フィルム）などの
押出成形体を製造する際には、公知の押出装置を用いる
ことができる。例えば、単軸スクリュー押出機、混練押
出機、ラム押出機、ギヤ押出機などを用い、溶融したプ
ロピレン系ポリマー組成物をＴダイから押出すことによ
り製造することができる。また成形条件も、公知の条件
を採用することができる。このような押出シート、フィ
ルム（未延伸フィルム）は、耐候性などに優れている。

【０１３５】延伸フィルムは、本発明のプロピレン系ポ
リマー組成物からなるシートまたはフィルムを用いて公
知の延伸装置により製造することができる。例えば、テ
ンター法（縦横延伸、横縦延伸）、同時二軸延伸法、一
軸延伸法などがあげられる。延伸フィルムの延伸倍率
は、二軸延伸フィルムの場合には、通常２０〜７０倍で
あることが望ましく、一軸延伸フィルムの場合には通常
は２〜１０倍であることが望ましい。また延伸フィルム
の厚さは、通常５〜２００μｍであることが望ましい。
このような延伸フィルムは、耐候性などに優れている。

【０１３６】また本発明のプロピレン系ポリマー組成物
からは、インフレーションフィルムを製造することもで
きる。

【０１３７】本発明のプロピレン系ポリマー組成物から
なるシート、未延伸フィルム、延伸フィルムは、耐候性
などに優れ、またプロピレン系ポリマー（Ａ）が本来有
している耐熱性、耐老化性、防湿性、ガズバリヤ性など
は低下していないため、包装用フィルムや薬品の錠剤、
カプセルなどの包装に用いられるプレススルーパック
（press through pack）用として好ましく利用できる。

【０１３８】本発明のプロピレン系ポリマー組成物から
なるフィラメントは、例えば溶融したプロピレン系ポリ
マー組成物を、紡糸口金を通して押出すことにより製造
することができる。このようにして得られたフィラメン
トは、さらに延伸処理してもよい。この延伸の程度は、
プロピレン系ポリマー（Ａ）に少なくとも一軸方向の分
子配向が有効に付与される程度に行えばよく、延伸倍率
は、通常５〜１０倍であることが望ましい。このような
フィラメントは、耐候性などに優れている。

【０１３９】本発明のプロピレン系ポリマー組成物から
なる射出成形体は、公知の射出成形装置により製造する
ことができる。また成形条件も、公知の条件を採用する
ことができる。本発明の成形体である射出成形体は、耐
候性などに優れ、またプロピレン系ポリマー（Ａ）が本
来有している耐熱性、耐老化性、耐衝撃性、耐薬品性、
耐磨耗性などは低下していないため、自動車内装用トリ
ム材、自動車用外装材、家電製品のハウジング、容器な
ど幅広く用いることができる。

【０１４０】本発明のプロピレン系ポリマー組成物から
なるブロー成形体は、公知のブロー成形装置により製造
することができる。また成形条件も、公知の条件を採用
することができる。例えば押出ブロー成形の場合には、
樹脂温度１００〜３００℃でダイより上記プロピレン系
ポリマー組成物を溶融状態でチューブ状パリソンを押出
し、次いで付与すべき形状の金型中にパリソンを保持し
た後、空気を吹き込み樹脂温度１３０〜３００℃で金型
に着装し、中空成形品を得る。延伸倍率は、横方向に
１.５〜５倍であることが望ましい。

【０１４１】射出ブロー成形の場合には、樹脂温度１０
０〜３００℃でプロピレン系ポリマー組成物を金型に射
出してパリソンを成形し、次いで付与すべき形状の金型
中にパリソンを保持した後空気を吹き込み、樹脂温度１
２０〜３００℃で金型に着装し、中空成形品を得る。延
伸倍率は、縦方向に１.１〜１.８倍であることが望まし
く、横方向に１.３〜２.５倍であるであることが望まし
い。このようなブロー成形体は、耐候性などに優れてい
る。

【０１４２】本発明のプロピレン系ポリマー組成物は、
表皮材と基材とを同時にプレス成形することにより、両
者が複合一体化した成形体を製造する方法（モールドス
タンピング成形）における基材として用いることができ
る。この成形方法により得られたモールドスタンピング
成形体は、ドアートリム、リアーパッケージトリム、シ
ートバックガーニッシュ、インストルメントパネルなど
の自動車用内装材として好適に用いられる。このような
モールドスタンピング成形体は、耐候性などに優れてい
る。

【０１４３】

【発明の効果】本発明のポリオレフィンとくにプロピレ
ン系ポリマー組成物は、メタロセン系触媒を用いて得ら
れるポリオレフィンとくにプロピレン系ポリマー（Ａ）
に、耐候安定剤（Ｂ）を配合しているので、耐候性など
に優れている。本発明の成形体は、上記ポリオレフィン
とくにプロピレン系ポリマー組成物を成形してなる成形
体であるので、耐候性などに優れている。

【０１４４】

【発明の実施の形態】以下、実施例に基づいて本発明を
さらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限
定されるものではない。各実施例における物性の測定方
法、使用したポリマーは下記の通りである。

【０１４５】《物性測定法》 （１）メルトフローレート（ＭＦＲ） ＡＳＴＭ Ｄ１２３８−６５Ｔに準じて、２３０℃、
２．１６ｋｇ荷重下で測定した。 （２）極限粘度（［η］） １３５℃デカヒドロナフタレン中で測定した。 （３）分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ） ｏ−ジクロルベンゼンを溶媒として、１４０℃において
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）に
より測定して求めた。

【０１４６】（４）結晶化度（Ｘｃ） ２００℃で成形した厚み０．５ｍｍのプレスシートを用
い、Ｘ線回折装置により測定して求めた。 （５）ポリマー組成 １０ｍｍφの試料管中、約２００ｍｇのポリマーを１ｍ
ｌのヘキサクロロブタジエン中に均一に溶解させた試料
を、測定温度１２０℃、測定周波数２５．０２ＭＨｚ、
スペクトル幅１５００Ｈｚ、パルス繰返し時間４．２ｓ
ｅｃ、パルス幅６μｓｅｃの条件で¹³Ｃ−ＮＭＲスペク
トル測定することにより求めた。 （６）融点（Ｔｍ） 示差走査熱量計により、一度融解させて１０℃／ｍｉｎ
の降温速度で固化させた試料を、次いで１０℃／ｍｉｎ
の昇温速度で測定することにより求めた。 （７）耐候性（ｔ） 成形温度２００℃にてプレス成形した１．０ｍｍ厚の引
張試験片を、ブラックパネル温度８３℃、１２分／６０
分降雨周期条件下のキセノン耐候性試験機（スガ試験機
(株)社製）中に入れて放置する。その後、適時試験片を
取出し、常法に従い引張試験を行うことにより、耐候試
験機中に放置された時間と、試験片の破断点伸びの関係
式を求める。耐候試験機中放置時間０時間の試験片の破
断点伸びＬを測定し、前記関係式を用い、破断点伸びが
Ｌ／２となる耐候試験機中の放置時間を求め、耐候性の
指標（ｔ）とした。

【０１４７】各実施例で使用した、メタロセン系触媒を
用いて常法に従って製造したプロピレン系ポリマーの物
性を表１に示す。なお表中、Ａ−１はホモポリマー、Ａ
−２はランダム共重合体、Ａ−３はブロック共重合体で
ある。

【表１】

【０１４８】実施例１ 表１に示すプロピレン単独重合体（Ａ−１）１００重量
部に対し、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル
−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾ
ールを０．１重量部、ビス（２，２’，６，６’−テト
ラメチル−４−ピペリジン）セバケートを０．１重量部
配合した混合物に、酸化防止剤としてテトラキス［メチ
レン−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
フェニル）プロピオネート］メタンを０．１重量部、ト
リス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイ
トを０．１重量部、塩酸吸収剤としてのステアリン酸カ
ルシウムを０．１重量部加え、成形温度２００℃下で２
０ｍｍφ単軸押出機により溶融混練することにより、プ
ロピレン系ポリマー組成物を得た。得られたプロピレン
系ポリマー組成物を前記測定法により耐候性を測定し
た。その結果を表２に示す。

【０１４９】比較例１ 表１に示すプロピレン単独重合体（Ａ−１）１００重量
部に対し、酸化防止剤としてテトラキス［メチレン−３
−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネート］メタンを０．１重量部、トリス
（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイトを
０．１重量部、塩酸吸収剤としてのステアリン酸カルシ
ウムを０．１重量部加え、成形温度２００℃下で２０ｍ
ｍφ単軸押出機により溶融混練することにより、プロピ
レン系ポリマー組成物を得た。得られたプロピレン系ポ
リマー組成物を前記測定法により耐候性を測定した。そ
の結果を表２に示す。

【０１５０】実施例２ 実施例１において用いたプロピレン単独重合体（Ａ−
１）の代わりにプロピレン・エチレンランダム共重合体
（Ａ−２）を用いた以外は実施例１と同様の方法により
プロピレン系ポリマー組成物を得た。得られたプロピレ
ン系ポリマー組成物を前記測定法により耐候性を測定し
た。その結果を表２に示す。

【０１５１】比較例２ 比較例１において用いたプロピレン単独重合体（Ａ−
１）の代わりにプロピレン・エチレンランダム共重合体
（Ａ−２）を用いた以外は比較例１と同様の方法により
プロピレン系ポリマー組成物を得た。得られたプロピレ
ン系ポリマー組成物を前記測定法により耐候性を測定し
た。その結果を表２に示す。

【０１５２】実施例３ 実施例１において用いたプロピレン単独重合体（Ａ−
１）の代わりにプロピレン・エチレンブロック共重合体
（Ａ−３）を用いた以外は実施例１と同様の方法により
プロピレン系ポリマー組成物を得た。得られたプロピレ
ン系ポリマー組成物を前記測定法により耐候性を測定し
た。その結果を表３に示す。

【０１５３】実施例４ 表１に示すプロピレン・エチレンブロック共重合体（Ａ
−３）１００重量部に対し、２−（２’−ヒドロキシ−
３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロ
ロベンゾトリアゾールを０．２重量部配合した混合物
に、酸化防止剤としてテトラキス［メチレン−３−
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート］メタンを０．１重量部、トリス（２，
４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイトを０．１
重量部、塩酸吸収剤としてのステアリン酸カルシウムを
０．１重量部加え、成形温度２００℃下で２０ｍｍφ単
軸押出機により溶融混練することにより、プロピレン系
ポリマー組成物を得た。得られたプロピレン系ポリマー
組成物を前記測定法により耐候性を測定した。その結果
を表３に示す。

【０１５４】実施例５ 実施例４において用いた２−（２’−ヒドロキシ−３’
−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベ
ンゾトリアゾールの代わりにビス（２，２’，６，６’
−テトラメチル−４−ピペリジン）セバケートを用いた
以外は実施例４と同様の方法によりプロピレン系ポリマ
ー組成物を得た。得られたプロピレン系ポリマー組成物
を前記測定法により耐候性を測定した。その結果を表３
に示す。

【０１５５】実施例６ 実施例４において用いた２−（２’−ヒドロキシ−３’
−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベ
ンゾトリアゾールの代わりにポリ［｛６−（１，１，
３，３−テトラメチルブチル）イミノ｝−１，３，５−
トリアジン−２，４−ジイル｛４−（２，２，６，６−
テトラメチルピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレンを用
いた以外は実施例４と同様の方法によりプロピレン系ポ
リマー組成物を得た。得られたプロピレン系ポリマー組
成物を前記測定法により耐候性を測定した。その結果を
表３に示す。

【０１５６】実施例７ 実施例４において用いた２−（２’−ヒドロキシ−３’
−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベ
ンゾトリアゾールの代わりにジメチルスクシネート［２
−（４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−
１−ピペリジル）エタノール］縮合重合物を用いた以外
は実施例４と同様の方法によりプロピレン系ポリマー組
成物を得た。得られたプロピレン系ポリマー組成物を前
記測定法により耐候性を測定した。その結果を表４に示
す。

【０１５７】比較例３ 比較例１のプロピレン単独重合体（Ａ−１）の代わりに
プロピレン・エチレンブロック共重合体（Ａ−３）を用
いた以外は比較例１と同様の方法によりプロピレン系ポ
リマー組成物を得た。得られたプロピレン系ポリマー組
成物を前記測定法により耐候性を測定した。その結果を
表４に示す。

【０１５８】

【表２】

【０１５９】

【表３】

【０１６０】

【表４】

【０１６１】表２〜表４の注 ＊１ Ｂ−１：２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブ
チル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリ
アゾール ＊２ Ｂ−２：ビス（２，２’，６，６’−テトラメチ
ル−４−ピペリジン）セバケート ＊３ Ｂ−３：ポリ［｛６−（１，１，３，３−テトラ
メチルブチル）イミノ｝−１，３，５−トリアジン−
２，４−ジイル｛４−（２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン ＊４ Ｂ−４：ジメチルスクシネート［２−（４−ヒド
ロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジ
ル）エタノール］縮合重合物

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 メタロセン系触媒を用いて得られるプロ
   ピレン系ポリマー（Ａ）に耐候安定剤（Ｂ）を配合して
   なることを特徴とするプロピレン系ポリマー組成物。
2. 【請求項２】 耐候安定剤（Ｂ）の配合量が、プロピレ
   ン系ポリマー（Ａ）１００重量部に対して０．００１〜
   ５重量部である請求項１記載のプロピレン系ポリマー組
   成物。
3. 【請求項３】 請求項１または２記載の組成物からなる
   成形体。