JPH09302325A - 金属の乾燥前処理剤及び乾燥方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 水系の金属表面処理や金属洗浄の分野におい
て、乾燥ムラ、シミを防止するための乾燥前処理剤及び
乾燥方法を提供する。 【解決手段】（Ａ）下記式（１）で示されるヒドロキシ
ルアミン化合物 １０〜１０，０００ｐｐｍ 【化１】 （式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は、水素又はアルキル基、アル
ケニル基であり、これらの基は置換基を有しても良
い。）または、下記式（２）で示されるヒドラジン化合
物 １０〜１０，０００ｐｐｍ 【化２】 （式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は水素又はアルキル基、
アルケニル基であり、これらの基は置換基を有しても良
い。） （Ｂ）炭素数３〜１０のアセチレンアルコール類 １〜
１０，０００ｐｐｍを含有する水溶液からなることを特
徴とする乾燥前処理剤。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は水系の金属表面処理
や金属洗浄の分野において、乾燥ムラ、シミを防止する
ための乾燥前処理剤及び乾燥方法に関するものである。
更に詳しくは、金属表面処理剤での処理、或いは、金属
洗浄剤での洗浄後に、式（１）で示される化合物もしく
は式（２）で示される化合物、並びに、アセチレンアル
コール類を含有する水溶液からなる処理剤で処理した
後、乾燥する方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、水系の金属表面処理や金属洗浄の
分野において、乾燥ムラ、シミを防止するための乾燥工
程における金属の酸化防止方法としては、溶剤による水
切り置換法、真空乾燥法、窒素雰囲気での乾燥などが挙
げられる。しかし、真空乾燥法は設備費が高価になり、
作業能率も低い。又、窒素雰囲気での乾燥も設備費が高
価であり、更に多量の窒素を使用することからコストが
高くなり、これらの乾燥方法は特殊な製品の場合に適用
され、一般的には溶剤による水切り置換法が工業的には
採用されている。

【０００３】水が付着したまま乾燥すると多くの場合、
金属表面の酸化による変色が発生し製品価値が落ちる。
溶剤による水切り置換法はリンス（最終仕上げ）水洗
後、フロン又は塩素系溶剤で処理し、金属表面の水を置
換除去する方法である。

【０００４】しかし、上記の水切り置換法で使用される
溶剤であるフロン又は塩素系溶剤は環境破壊を引き起こ
すことから、これらの使用は世界的に規制されてきてお
り、これに代わる代替技術が強く求められている。代替
技術として、イソプロピルアルコール等の低毒性溶剤の
使用が提案されているが、これら溶剤は引火性（可燃
性）であり、フロン又は塩素系溶剤に比べ安全性に問題
があり、設備費が高価になる欠点がある。

【０００５】又、水洗工程での金属酸化が問題となる場
合、金属酸化防止法として水洗工程において、溶存酸素
を除去する脱酸素剤、腐食抑制剤、不動態皮膜形成剤等
を使用する方法が知られている。

【０００６】水洗工程における酸化は、水に溶解した酸
素に起因し、従って、水中の溶存酸素をできるだけ除去
することにより、水中での金属酸化を防止することがで
きる。一般的に脱酸素剤としては、ヒドラジン、ヒドロ
キシルアミン、亜硫酸ソーダ、重亜硫酸ソーダ等の還元
剤が使用される。

【０００７】例えば、特開昭５３−５５４２７号公報、
特開平２−１２５８８７号公報には、ヒドラジンを用い
た金属の酸化防止方法が提案されている。しかし、これ
らは、水洗工程における金属酸化の防止、或いは還元洗
浄を目的とした脱酸素剤としての使用であり、これらの
発明から乾燥工程における金属酸化防止の効果を類推す
ることは困難である。

【０００８】又、特開昭５７−６３３６４号公報では、
ヒドロキシルアミンと中和性アミンとからなる組成物に
よる蒸気系統における金属の防蝕方法が挙げられてい
る。しかし、これも水中での金属酸化を防止する為に、
水中の溶存酸素を除去する脱酸素剤として、ヒドロキシ
ルアミンが使用されているもので、乾燥工程における金
属酸化防止については何ら開示されていない。

【０００９】又、腐食抑制剤としては一般的にアミン化
合物等が用いられる。腐食抑制剤の作用は、金属表面に
均一に吸着被覆し、金属と酸素の接触を断つことで金属
酸化を防止することにある。不動態皮膜形成剤として
は、重クロム酸塩、クロム酸塩、亜硝酸塩等の酸化剤を
用い、金属表面に耐食性の不動態皮膜を形成し、それ以
上の酸化を防止する。

【００１０】一方、乾燥工程における金属酸化防止技術
としては、溶剤を用いた水切り置換法が主体であった。
溶剤を用いた水切り置換法には、金属を還元又は洗浄す
る能力はなく、水洗工程以降、即ち乾燥工程における金
属酸化を防止することにある。

【００１１】通常、乾燥工程は大気中で行われ、絶えず
酸素が存在する雰囲気であり、存在する酸素を脱酸素剤
等で除去して金属酸化を防止することは困難であり、水
中における酸化防止を目的とした溶存酸素を除去する手
段を適用することは不可能である。従って、溶剤による
水切り置換を行い水分を除去することにより、充分なる
酸素が供給されても乾燥ムラ、シミの発生を防止する乾
燥が可能となる。

【００１２】乾燥工程において、金属表面に付着した水
が水膜を形成している乾燥初期段階では、金属酸化速度
は遅い。しかし、乾燥が進むに伴って金属表面の水膜が
破壊され、直接金属表面が露出し、且つ湿った雰囲気の
乾燥後期段階では、大気中の酸素が連続的に充分なる量
で供給され、金属表面温度も高いため、金属の酸化は急
激に進行する。

【００１３】溶剤を用いた水切り置換による乾燥法を適
用する一般的な金属表面処理工程では、水洗工程におけ
る金属酸化は極く少なく、多くの場合、特別の手段を採
用しなくとも、水洗工程で発生する金属酸化量では、最
終製品の変色等の現象まで結びつかない。しかし、乾燥
工程における金属酸化量は大きく、前述のように溶剤に
よる水切り置換を実施しないで乾燥すると、従来技術で
は変色が発生し欠陥製品となる。

【００１４】前述したように、乾燥工程における金属酸
化を脱酸素剤を用いて防止することは困難なばかりでな
く、脱酸素剤等を含んだ水洗水が付着したまま乾燥する
と脱酸素剤成分が金属表面に析出（蒸発乾固）し、乾燥
ムラ、シミの原因となる。又、析出した脱酸素剤成分が
次工程に悪影響を及ぼすため、リンス水洗水は出来るだ
け清浄に保つことが不可欠であった。

【００１５】又、腐食抑制剤の使用では、乾燥工程にお
ける金属酸化を防止できても、金属表面には腐食抑制剤
が存在し、乾燥ムラ、シミにならなくとも清浄な金属表
面を得ることは不可能である。従って、後の工程におい
て、吸着した腐食抑制剤の悪影響が生じる場合があり、
次工程の処理前に腐食抑制剤を除去する必要が生じる。
又、不動態皮膜形成剤の使用も乾燥ムラ、シミのない外
観の良好な製品を得ることはできるが、金属表面は均一
な酸化膜（不動態皮膜）で被覆されるため、腐食抑制剤
の場合と同様に清浄な金属表面を得ることは不可能であ
る。従って、後の工程において均一な酸化膜の悪影響が
生じ、次工程前に酸化膜（不動態皮膜）を除去する必要
が生じる。

【００１６】例えば、特開昭６０−２０８４８７号公
報、特開昭６１−９１３７９号公報、特公昭６１−５４
８７３号公報には、金属の酸洗浄・酸処理用の腐食抑制
剤として、アセチレンアルコールを用いた組成物が提案
されているが、これの組成物は、ボイラー系配管、水冷
配管、油井等の酸洗浄液中での金属腐食の抑制を目的と
したものであり、乾燥工程における金属酸化を目的とし
たものではなく、もし、これらの組成物を乾燥工程に用
いた場合には、乾燥終了時には金属表面に腐食抑制成分
が残留する。

【００１７】又、特公昭６１−４７９０９号公報や特公
平３−３０６４０号公報においては、アセチレンアルコ
ールが金属の防錆成分として用いられているが、これら
におけるアセチレンアルコールの使用濃度は０．１〜２
０％と高濃度であり、あくまでも金属表面に吸着・残留
し、防錆効果を確保するものであり、本発明におけるよ
うに、乾燥工程終了後には金属表面に残留しない程の低
濃度で用い、且つ、高温での防錆効果を得る処理剤と
は、明らかに異なるものである。これらの先願発明にお
いて、乾燥工程時の金属表面の酸化防止については、何
ら開示されていない。

【００１８】これに対して、本発明においては、アセチ
レンアルコールの有する防錆性能と水切れ性能が発現す
る濃度を確保することと、乾燥工程後に金属表面に残渣
が残らないことを、ヒドロキシルアミン化合物或いはヒ
ドラジン化合物を共存させることにより、両立させ、乾
燥時の金属表面の酸化を防止するしたものである。

【００１９】一方、水切り置換法を用いた乾燥の場合
は、水分の除去にて金属の酸化を防止し、使用した溶剤
は乾燥工程にて蒸発飛散し、金属表面に残らない。従っ
て、乾燥ムラ、シミの発生しない良好な外観得ると同時
に、金属は清浄な表面が得られる理想的な乾燥方法であ
る。

【００２０】しかし、これら溶剤の使用は環境を破壊す
るため、代替技術が強く求められている。代替技術とし
て、水中での金属酸化防止技術を直接利用しても、前記
の様に種々なる欠陥を有し、満足し得る金属の乾燥を実
施することは困難である。

【００２１】

【発明が解決しようとする課題】本発明は環境破壊を起
こす溶剤類による水切り置換工程を必要とせず、水が付
着したまま乾燥してもムラ、シミの発生を防止すると同
時に、清浄な金属表面を得る金属の乾燥方法を提供する
ことである。

【００２２】

【課題を解決するための手段】環境破壊を起こすフロ
ン、塩素系溶剤等を用いた水切り置換による乾燥法の代
替技術が現在強く望まれている。そこで、本発明者等
は、式（１）で示されるヒドロキシルアミン類もしくは
式（２）で示されるヒドラジン類、並びに、アセチレン
アルコールを含有する水溶液を用いた乾燥前処理剤は、
酸化防止効果と水切れ効果により乾燥工程時の金属酸化
を効果的に防止できると同時に、乾燥した金属表面に乾
燥前処理剤の成分が付着することなく、清浄な金属表面
が得られることを見い出した。

【００２３】水系金属表面処理や水系金属洗浄で用いら
れている各種プロセスにおいて、金属に水が付着したま
ま乾燥すると、多くの場合、金属酸化に起因する変色が
発生し乾燥ムラ、シミとなる。しかし、本発明は、金属
表面処理剤或いは金属洗浄剤での処理後、乾燥工程に先
立ち、式（１）で示されるヒドロキシルアミン類もしく
は式（２）で示されるヒドラジン類、並びに、アセチレ
ンアルコールを含有する水溶液で金属を処理することに
より、水が付着したまま乾燥しても、乾燥工程における
金属酸化を防止し、乾燥ムラ、シミの発生を抑制すると
共に清浄な金属表面を得る乾燥方法に関する。即ち、本
発明は式（１）で示されるヒドロキシルアミン類もしく
は式（２）で示されるヒドラジン類、並びに、アセチレ
ンアルコールを含有する水溶液からなる処理剤で処理し
た後、水洗することなく乾燥することを特徴とする乾燥
方法に関する。

【００２４】

【化３】 （式（１）中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は水素又はアルキル基、
アルケニル基であり、これらの基は置換基を有しても良
い。）

【化４】 （式（２）中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は水素又はアルキ
ル基、アルケニル基であり、これらの基は置換基を有し
ても良い。）

【００２５】本発明に用いられる水系金属表面処理プロ
セスとしては、無電解メッキ、電気メッキ、陽極酸化、
酸洗、アルカリ洗、化学研磨、電解研磨、機械研磨、金
属着色処理、エッチング、化成処理等のプロセスが挙げ
られ、水系金属洗浄プロセスとしては、脱脂、酸洗浄、
アルカリ洗浄、電解洗浄等のプロセスが挙げられる。

【００２６】これら各種の金属表面処理や金属洗浄のプ
ロセスにおいて、リンス水洗後、乾燥に先立ち金属を乾
燥前処理剤を含有した水溶液で処理するか、又は、リン
ス水洗の水に乾燥前処理時を添加した水溶液で、水洗を
兼ねた処理をした後、金属を乾燥させる。これにより乾
燥ムラ、シミの発生を抑制し外観の良好でかつ清浄な金
属を得ることができる。

【００２７】

【発明の実施の形態】本発明に使用する式（１）で示さ
れるヒドロキシルアミン類、式（２）で示されるヒドラ
ジン類、及び、アセチレンアルコールの沸点又は分解温
度は乾燥条件で異なるが、２００℃以下であることが最
適である。沸点又は分解温度が２００℃を超える化合物
は、金属酸化の防止効果は高いが、乾燥した金属表面に
乾燥前処理剤の成分が付着し、乾燥ムラ、シミの原因と
なると同時に清浄な金属表面を得ることが困難になる。
乾燥温度を高くすれば、この欠陥を防止できるが、取り
扱い性、経済性の観点から好ましくない。２００℃以下
の沸点又は分解温度を有する化合物が、金属酸化の防止
効果も高く、乾燥ムラ、シミのない良好な外観を得ると
同時に清浄な金属表面を確保でき、取り扱いの点からも
最適である。

【００２８】式（１）で示されるヒドロキシルアミン化
合物について、好ましい化合物を具体的に例示すると、
ヒドロキシルアミン、Ｏ−メチルヒドロキシルアミン、
Ｏ−エチルヒドロキシルアミン、Ｎ−メチルヒドロキシ
ルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルヒドロキシルアミン、Ｎ，
Ｏ−ジメチルヒドロキシルアミン、Ｎ−エチルヒドロキ
シルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、
Ｎ，Ｏ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｏ，Ｎ，Ｎ−ト
リメチルヒドロキシルアミン、Ｎ−（２−メトキシエチ
ル）ヒドロキシルアミン、Ｎ−アリルヒドロキシルアミ
ン、Ｎ，Ｏ−ジアリルヒドロキシルアミン、Ｏ−シクロ
ヘキシル−Ｎ，Ｎ−ジメチルヒドロキシルアミン等が挙
げられる。これらのうちヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−
ジエチルヒドロキシルアミン等が最適である。

【００２９】式（２）で示されるヒドラジン化合物につ
いて、好ましい化合物を具体的に例示すると、１，１−
ジエチルヒドラジン、１，２−ジエチルヒドラジン、メ
チルヒドラジン、エチルヒドラジン、１，１−ジメチル
ヒドラジン、１，２−ジメチルヒドラジン、１，２−ジ
イソプロピルヒドラジン、ヒドラジン、シクロヘキシル
ヒドラジン、アリルヒドラジン、イソプロピルヒドラジ
ン等が挙げられる。これらのうち、特に、ヒドラジン、
メチルヒドラジン、１，１−ジメチルヒドラジン、１，
２−ジメチルヒドラジン、エチルヒドラジン、１，１−
ジエチルヒドラジン、１，２−ジエチルヒドラジン等が
最適である。

【００３０】アセチレンアルコール類としては、１−プ
ロピン−３−オール、１−ブチン−３−オール、１−ブ
チン−４−オール、２−ブチン−１−オール、３−メチ
ル−１−ブチン−３−オール、３−メチル−１−ブチン
−４−オール、１−ペンチン−３−オール、３−メチル
−１−ペンチン−３−オール、１−ヘキシン−３−オー
ル、３，５−ジメチル−１−ヘキシン−３−オール、１
−ヘプチン−３−オール、１−オクチン−３−オール、
１−ノニン−３−オール、１−デシン−３−オール、２
−ブチン−１，４−ジオール、３−ヘキシン−２，５−
ジオール、３，５−ジメチル−３−ヘキシン−２，５−
ジオール、４−エチル−１−オクチン−３−オール等の
炭素数３〜１０のアセチレンアルコールが好適であり、
これらの中でも特に、３−メチル−１−ペンチン−３−
オール（メチルペンチノール），３−メチル−１−ブチ
ン−３−オール（メチルブチノール），３，５−ジメチ
ル−１−ヘキシン−３−オール（ジメチルヘキシノー
ル）等が最適である。

【００３１】本発明の実施に際して、水溶液中における
ヒドロキシルアミン類もしくはヒドラジン類の濃度は１
０ｐｐｍ〜１０，０００ｐｐｍである。１０ｐｐｍ未満
では、金属の種類、形状、水質、乾燥方法等によって
は、乾燥ムラ・シミが発生する場合がある。又、１０，
０００ｐｐｍを超えることは、取り扱い性、経済性等を
考慮すると不適当である。

【００３２】又、アセチレンアルコールの濃度は、１〜
１０，０００ｐｐｍが好ましく、特に、１〜１，０００
ｐｐｍが好適であり、更には、１０〜１００ｐｐｍが最
適である。濃度が、１ｐｐｍ未満では、水切れ性・酸化
防止性の効果は殆ど見られず、又、１０，０００ｐｐｍ
を超えると、乾燥後に残渣が発生する場合がある。

【００３３】乾燥前処理の時間は金属の種類、形状、処
理方法等により異なり、特に制限はない。しかし、実用
的には１０〜６００秒が好ましい。１０秒未満の場合、
製品に乾燥ムラ、シミが発生する場合がある。６００秒
を超えても、処理効果それ自体には問題はないが、生産
性、経済性の観点より不適当である。処理温度も特に制
限はないが、室温以上が好ましい。乾燥効率を上げるた
め、８０℃以上の湯洗をしても処理効果に問題はなく、
むしろ優れた外観の金属を得ることができる利点があ
る。

【００３４】本発明に用いられる金属としては、鉄、
銅、ニッケル、クロム、コバルト、鉛、亜鉛、アルミニ
ウム、チタン、スズ、金、銀等、及びこれらの合金、又
は樹脂、ガラス、セラミックス等の表面に接着、圧着、
メッキ、蒸着、イオンプレーティング、等の手段により
金属化した製品に適用できる。それらの中でも、特に、
銅、及び、丹銅、黄銅、燐青銅、白銅、洋白等の銅合金
に関しては、銅特有のシミ・変色に対しての防止効果が
顕著である。

【００３５】本発明の方法において、乾燥前処理剤の乾
燥工程における金属酸化防止機構それ自体は解明されて
いないが、以下のような挙動を示すものと推測される。

【００３６】即ち、ヒドロキシルアミン類もしくはヒド
ラジン類は、金属表面に吸着し均一な被覆膜を形成し、
金属と酸素の接触を防止する。金属に吸着した成分は、
水及び非吸着成分に比べ、蒸発飛散が起こり難く、乾燥
工程の終期段階まで均一な被覆膜を形成している。

【００３７】水及び非吸着成分が蒸発飛散した後、金属
に吸着した成分も蒸発飛散するが、この段階では金属の
置かれた雰囲気が乾いているため、溶剤による水切り置
換の場合と同様に、金属と酸素が接触しても実用上問題
となるほど金属の酸化は起こらず乾燥ムラ、シミを防止
し外観の良好な乾燥品を得ることが出来る。

【００３８】又、金属との吸着が強く、蒸発飛散が起こ
り難い場合でも、本発明で使用される化合物は自己分解
性を有するため、最終的には分解飛散し、清浄な金属表
面を得ることができる。式（１）で示されるヒドロキシ
ルアミン類及び式（２）で示されるヒドラジン類はそれ
自身は勿論、酸素との酸化生成物及び自己分解生成物も
全てが乾燥工程にて蒸発飛散可能な物質であり、フロ
ン、塩素系溶剤と同様に蒸発残分は発生しない。

【００３９】更に、アセチレンアルコールの添加により
酸化防止性が一層向上すると同時に、水切れ性が向上し
乾燥時間が短縮され、生産上・経済上の効果も得られ
る。又、乾燥時間が短縮される分、金属表面が水分雰囲
気下にある時間が短くなるため、金属表面の酸化もより
進行しにくくなり、ヒドロキシルアミン類或いはヒドラ
ジン類との相乗効果により、更に強力な乾燥時の酸化防
止効果が得られる。

【００４０】

【実施例】以下に実施例及び比較例を示し、本発明を具
体的に説明するが、以下の実施例に限定されるものでは
ない。

【００４１】実施例１ ベアリング部品（ＳＳ４００製）を化学研磨しバリ取り
・光輝化処理後、水洗する。次いで、ヒドロキシルアミ
ン５００ｐｐｍ、メチルペンチノール５０ｐｐｍを含む
水溶液を添加した水溶液を用い室温で１２０秒間浸漬処
理を施し、遠心脱水機で液切りし、８０℃の箱型乾燥機
中で乾燥する。

【００４２】実施例２ 実施例１において、ヒドロキシルアミン、メチルペンチ
ノールを含有する水溶液を用いる代わりに、メチルヒド
ラジン１０００ｐｐｍ、１−プロピン−３−オール１０
０ｐｐｍを用いた以外は、実施例１と同様に行った。

【００４３】実施例３ 実施例１において、ヒドロキシルアミン、メチルペンチ
ノールを含有する水溶液を用いる代わりに、１，１−ジ
エチルヒドラジン１０００ｐｐｍ、１−ブチン−３−オ
ール２００ｐｐｍを用いた以外は、実施例１と同様に行
った。

【００４４】実施例４ 銅張り積層板を整面後、水溶性ドライフイルムを圧着
し、パターンフイルムを重ね露光する。次いで、連続コ
ンベアーラインにて１重量％炭酸ソーダ水溶液で現像
し、未硬化部のドライフイルムを溶解除去して、不要部
の金属銅を露出させる。次いで、塩化銅エッチング溶液
にて、露出した金属銅を溶解除去した後、３重量％苛性
ソーダ水溶液で硬化部のドライフイルムを溶解除去す
る。次いで、ヒドラジン３０ｐｐｍ、メチルブチノール
５ｐｐｍを含む水溶液をスプレー水洗機で室温で２０秒
間噴霧水洗する。次いで、絞りロール及びエアーナイフ
で液切りした後、コンベアー式熱風乾燥機で乾燥する。
この様にして印刷配線回路基板を製造した。

【００４５】実施例５ テストピース（鉄−ニッケル合金）を化学研磨しバリ取
り・光輝化処理する。次いで、室温でＮ，Ｎ−ジエチル
ヒドロキシルアミン１０，０００ｐｐｍ、ジメチルヘキ
シノール１，０００ｐｐｍを含む水溶液で１０秒間水洗
する。これをエアーブローにて液切りした後、８０℃の
箱形乾燥機で乾燥する。

【００４６】実施例６ 実施例５において、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミ
ン、ジメチルヘキシノールを含有する水溶液を用いる代
わりに、１，２−ジエチルヒドラジン５０００ｐｐｍ、
１−ヘプチン−３−オール１０ｐｐｍを用いた以外は、
実施例５と同様に行った。

【００４７】実施例７ 実施例５において、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミ
ン、ジメチルヘキシノールを含有する水溶液を用いる代
わりに、１，１−ジメチルヒドラジン５，０００ｐｐ
ｍ、１−ヘキシン−３−オール２，５００ｐｐｍを用い
た以外は実施例５と同様に行った。

【００４８】実施例８ 潤滑油の付着した熱間工具鋼をアルカリ洗浄した後、水
洗する。次いで、１，２−ジメチルヒドラジン５００ｐ
ｐｍ、メチルペンチノール５００ｐｐｍを含む水溶液に
８０℃、３０秒間浸漬しする。これを１００℃に保持し
た遠心脱水機で乾燥する。

【００４９】実施例９ 無機フィラ−を含有する液晶ポリマ−（ポリプラスッチ
ックス社製ベクトラＣ−８２０）を用い、射出成形によ
り部品搭載用凹みを有する成形基板を得た。この成形品
全面に無電解メッキを施す。次に、電着型フォトレジス
トを用いて、メッキレジストパタ−ンを形成した。こう
して得られた基板に光沢ニッケルメッキを１０〜３０μ
ｍ付け回路パタ−ンを形成し、更に金ストライクメッキ
を行った後、ワイヤボンディング用金メッキにて ０．
３μｍ付けた。この後、基板から、メッキレジスト、非
回路部の無電解銅メッキを除去した。最後に、エチルヒ
ドラジン１００ｐｐｍ、ジメチルヘキシノール２０ｐｐ
ｍを含む水溶液にて室温で３０秒間超音波洗浄を行い、
エア−ブロ−した後、８０℃の熱風乾燥器にて乾燥し
た。

【００５０】比較例１−１ 実施例１の乾燥前処理剤による処理を行わない以外は実
施例１と同様に行った。

【００５１】比較例１−２ 実施例１の乾燥前処理をヒドロキシルアミン５００ｐｐ
ｍのみを含む水溶液にて行った以外は実施例１と同様に
行った。

【００５２】比較例１−３ 実施例１の乾燥前処理をメチルペンチノール５０ｐｐｍ
のみを含む水溶液にて行った以外は実施例１と同様に行
った。

【００５３】比較例２−１ 実施例４の水洗水に乾燥前処理剤を添加しなかった以外
は、実施例４と同様に行った。

【００５４】比較例２−２ 実施例４における水洗水にヒドラジン１０ｐｐｍのみ添
加し、メチルブチノールは添加しなかった以外は、実施
例４と同様に行った。

【００５５】比較例２−３ 実施例４における水洗水にメチルブチノール５ｐｐｍの
みを添加し、ヒドラジンを添加しなかった以外は、実施
例４と同様に行った。

【００５６】比較例３ 実施例５の水洗水にＮ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミ
ン、ジメチルヘキシノールを添加しなかった以外は、実
施例５と同様に行った。

【００５７】比較例４ 実施例８の１，２−ジメチルヒドラジン、メチルペンチ
ノール水溶液による乾燥前処理を実施しなかった以外
は、実施例８と同様に行った。

【００５８】比較例５ 実施例９のエチルヒドラジン、ジメチルヘキシノール水
溶液による、乾燥前処理を実施しなかった以外は、実施
例９と同様に行った。

【００５９】上記各種処理後の金属製品を目視観察し、
乾燥ムラ、シミ等の外観を下記基準で４段階に評価し
た。 ◎乾燥ムラ、シミ等の外観の欠陥はなく、非常に優れる ○乾燥ムラ、シミ等の外観の欠陥は殆どなく、優れる △乾燥ムラ、シミ等の外観の欠陥が、若干発生しやや劣
る。 ×乾燥ムラ、シミ等の外観の欠陥が、目立ち劣る

【００６０】上記の結果を表１に示す。 表１ 実施例No. １ ２ ３ ４ ５ ６ ７ ８ ９ 評価結果 ◎ ○ ○ ◎ ◎ ○ ◎ ○ ○ 比較例No. 1-1 1-2 1-3 2-1 2-2 2-3 ３ ４ ５ 評価結果 × ○ △ × △ × △ △ ×

【００６１】

【発明の効果】本発明の方法による金属乾燥品は、フロ
ン又は塩素系溶剤を用いた水切り置換法による乾燥品と
同様に金属表面が清浄で、且つ乾燥ムラ、シミのない良
好な外観が得られる。従って環境を破壊するフロン、又
は塩素系溶剤の使用を廃止可能とする。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】（Ａ）下記式（１）で示されるヒドロキシ
   ルアミン化合物 １０〜１０，０００ｐｐｍ 【化１】 （式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は、水素又はアルキル基、アル
   ケニル基であり、これらの基は置換基を有しても良
   い。）または、下記式（２）で示されるヒドラジン化合
   物 １０〜１０，０００ｐｐｍ 【化２】 （式中Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は水素又はアルキル基、
   アルケニル基であり、これらの基は置換基を有しても良
   い。） （Ｂ）炭素数３〜１０のアセチレンアルコール類 １〜
   １０，０００ｐｐｍを含有する水溶液からなることを特
   徴とする乾燥前処理剤。
2. 【請求項２】 式（１）で示される化合物がヒドロキシ
   ルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミンから選
   ばれる少なくとも一種である請求項１記載の処理剤。
3. 【請求項３】 式（２）で示される化合物がヒドラジ
   ン、メチルヒドラジン、エチルヒドラジン、１，１−又
   は１，２−ジメチルヒドラジン、１，１−又は１，２−
   ジエチルヒドラジンから少なくとも選ばれる一種である
   請求項１または請求項２記載の処理剤。
4. 【請求項４】 アセチレンアルコール類が、３−メチル
   −１−ペンチン−３−オール，３−メチル−１−ブチン
   −３−オール，３，５−ジメチル−１−ヘキシン−３−
   オールから選ばれる少なくとも一種である請求項１〜３
   のいずれか一項に記載の処理剤。
5. 【請求項５】 金属表面処理剤あるいは金属洗浄剤で処
   理した後、次いで請求項１〜４のいずれか一項に記載の
   乾燥前処理剤で処理した後、水洗することなく、乾燥す
   ることを特徴とする金属の乾燥方法。