JPH09306957A - 異物検出方法 - Google Patents
異物検出方法Info
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- JPH09306957A JPH09306957A JP12476196A JP12476196A JPH09306957A JP H09306957 A JPH09306957 A JP H09306957A JP 12476196 A JP12476196 A JP 12476196A JP 12476196 A JP12476196 A JP 12476196A JP H09306957 A JPH09306957 A JP H09306957A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 的確な異物検出を行うことができないという
問題点があった。 【解決手段】 Ａ工程、Ｂ工程の各座標データ間の各異
物ａ1、ａ2、ｂ1、ｂ2の同一性は異物ａ1、ａ2、ｂ1、
ｂ2の座標値を中心とする異物検出誤差の２倍が一辺で
成る正方形を異物ａ1、ａ2、ｂ1、ｂ2の異物検出領域
１、２、３、４とし、各座標データ間の各異物ａ1、
ａ2、ｂ1、ｂ2の各異物検出領域１、２、３、４が重な
り合う領域を有すれば同一性を有すると判断する。
問題点があった。 【解決手段】 Ａ工程、Ｂ工程の各座標データ間の各異
物ａ1、ａ2、ｂ1、ｂ2の同一性は異物ａ1、ａ2、ｂ1、
ｂ2の座標値を中心とする異物検出誤差の２倍が一辺で
成る正方形を異物ａ1、ａ2、ｂ1、ｂ2の異物検出領域
１、２、３、４とし、各座標データ間の各異物ａ1、
ａ2、ｂ1、ｂ2の各異物検出領域１、２、３、４が重な
り合う領域を有すれば同一性を有すると判断する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、複数回のウエハ
処理工程後ごとにウエハ上の異物を検出し各異物の分布
状態を的確に把握するための異物検出方法に関するもの
である。
処理工程後ごとにウエハ上の異物を検出し各異物の分布
状態を的確に把握するための異物検出方法に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】図６は例えば特開平４−２５３３５０号
公報に示された従来の異物検出方法を示す図である。図
６において、同一ウエハの処理工程ごとに行われる異物
検査のうち、（ａ）は任意の回数の異物検査Ａに対する
データファイルＡを、（ｂ）は同じく異物検査Ｂに対す
るデータファイルＢを示す。比較のために座標誤差に対
して方形の誤差範囲Ｅを定める。いまファイルＡの任意
の異物ｐnの座標値を（ｘn，ｙn）とし、ファイルＢよ
り座標（ｘn，ｙn）を中心とする誤差範囲Ｅ中に存在す
る異物ｐnをサーチして求め、これを同一異物と判定す
る。このような比較処理をファイルＡのすべての異物ｐ
1〜ｐm（ｍは異物の総数）について行い、同一性を有す
る異物を特定してファイルＣに収録する。同一性の異物
をファイルＡおよびファイルＢより除去すれば、それぞ
れのみに存在する異物が判明する。
公報に示された従来の異物検出方法を示す図である。図
６において、同一ウエハの処理工程ごとに行われる異物
検査のうち、（ａ）は任意の回数の異物検査Ａに対する
データファイルＡを、（ｂ）は同じく異物検査Ｂに対す
るデータファイルＢを示す。比較のために座標誤差に対
して方形の誤差範囲Ｅを定める。いまファイルＡの任意
の異物ｐnの座標値を（ｘn，ｙn）とし、ファイルＢよ
り座標（ｘn，ｙn）を中心とする誤差範囲Ｅ中に存在す
る異物ｐnをサーチして求め、これを同一異物と判定す
る。このような比較処理をファイルＡのすべての異物ｐ
1〜ｐm（ｍは異物の総数）について行い、同一性を有す
る異物を特定してファイルＣに収録する。同一性の異物
をファイルＡおよびファイルＢより除去すれば、それぞ
れのみに存在する異物が判明する。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来の異物検出方法は
以上のように異物検査ごとに検査装置に装着されるウエ
ハの位置ズレ、また移動機構やロータリエンコーダによ
る検出誤差、さらに座標変換による変換誤差等を考慮に
入れた誤差範囲Ｅを任意の２回の異物データの一方の異
物データのみにこの誤差範囲Ｅを用い、他方の異物デー
タは異物の座標値のみを採用し、各異物データ間を比較
し同一性を判断しているので、一方の異物データには誤
差に対して何ら考慮もされていないため、的確な異物検
出を行うことができないという問題点があった。
以上のように異物検査ごとに検査装置に装着されるウエ
ハの位置ズレ、また移動機構やロータリエンコーダによ
る検出誤差、さらに座標変換による変換誤差等を考慮に
入れた誤差範囲Ｅを任意の２回の異物データの一方の異
物データのみにこの誤差範囲Ｅを用い、他方の異物デー
タは異物の座標値のみを採用し、各異物データ間を比較
し同一性を判断しているので、一方の異物データには誤
差に対して何ら考慮もされていないため、的確な異物検
出を行うことができないという問題点があった。
【０００４】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、複数回の異物検出工程における
各異物データの分布状態を的確に把握することのできる
異物検出方法を提供することを目的とする。
ためになされたもので、複数回の異物検出工程における
各異物データの分布状態を的確に把握することのできる
異物検出方法を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この発明に係る請求項１
の異物検出方法は、３回以上のウエハ処理工程後ごとに
ウエハ上の異物を検出しウエハ上の異物の座標値を示す
座標データを求め、各座標データの内、任意の１つの座
標データを基準座標データとして、基準座標データの異
物の座標値と、他の座標データの異物の座標値とをそれ
ぞれ互いに比較し同一性を判断するものである。
の異物検出方法は、３回以上のウエハ処理工程後ごとに
ウエハ上の異物を検出しウエハ上の異物の座標値を示す
座標データを求め、各座標データの内、任意の１つの座
標データを基準座標データとして、基準座標データの異
物の座標値と、他の座標データの異物の座標値とをそれ
ぞれ互いに比較し同一性を判断するものである。
【０００６】又、この発明に係る請求項２の異物検出方
法は、請求項１において、基準座標データを、３工程以
上のウエハ処理工程の内、最終工程のウエハ処理工程に
おける座標データとしたものである。
法は、請求項１において、基準座標データを、３工程以
上のウエハ処理工程の内、最終工程のウエハ処理工程に
おける座標データとしたものである。
【０００７】又、この発明に係る請求項３の異物検出方
法は、複数回のウエハ処理工程後ごとにウエハ上の異物
を検出しウエハ上の異物の座標値を示す座標データを求
め、各座標データの内、２つの座標データを比較する場
合において、一方の座標データの１つの異物の座標値と
同一性のある座標値を有する異物が、他方の座標データ
から複数検出された場合、複数の異物のうち１つの異物
の座標値と最も近い距離を有する異物のみを、１つの異
物と同一異物と判断するものである。
法は、複数回のウエハ処理工程後ごとにウエハ上の異物
を検出しウエハ上の異物の座標値を示す座標データを求
め、各座標データの内、２つの座標データを比較する場
合において、一方の座標データの１つの異物の座標値と
同一性のある座標値を有する異物が、他方の座標データ
から複数検出された場合、複数の異物のうち１つの異物
の座標値と最も近い距離を有する異物のみを、１つの異
物と同一異物と判断するものである。
【０００８】又、この発明に係る請求項４の異物検出方
法は、３回以上のウエハ処理工程後ごとにウエハ上の異
物を検出しウエハ上の異物の座標値を示す座標データを
求め、各座標データの内、１つの座標データを除く他の
全ての座標データにて同一性のある座標値を有する異物
が検出された場合、１つの座標データのみ異物と同一異
物が存在したが検出されなかったものと判断するもので
ある。
法は、３回以上のウエハ処理工程後ごとにウエハ上の異
物を検出しウエハ上の異物の座標値を示す座標データを
求め、各座標データの内、１つの座標データを除く他の
全ての座標データにて同一性のある座標値を有する異物
が検出された場合、１つの座標データのみ異物と同一異
物が存在したが検出されなかったものと判断するもので
ある。
【０００９】又、この発明に係る請求項５の異物検出方
法は、請求項１ないし請求項４のいずれかにおいて、各
座標データ間における異物の座標値の同一性は、異物の
座標値を中心とする異物検出誤差の２倍が一辺で成る正
方形を異物の異物検出領域とし、各座標データ間の各異
物の各異物検出領域が重なり合う領域を有すれば同一性
を有すると判断するものである。
法は、請求項１ないし請求項４のいずれかにおいて、各
座標データ間における異物の座標値の同一性は、異物の
座標値を中心とする異物検出誤差の２倍が一辺で成る正
方形を異物の異物検出領域とし、各座標データ間の各異
物の各異物検出領域が重なり合う領域を有すれば同一性
を有すると判断するものである。
【００１０】又、この発明に係る請求項６の異物検出方
法は、複数回のウエハ処理工程後ごとにウエハ上の異物
を検出しウエハ上の異物の座標値を示す座標データを求
め、各座標データの内、任意の２つの座標データ間の各
異物の同一性を判定し、各異物の発生、既存、消滅の何
れかを判断する異物検出方法において、各座標データ間
の各異物の同一性は異物の座標値を中心とする異物検出
誤差の２倍が一辺で成る正方形を異物の異物検出領域と
し、各座標データ間の各異物の各異物検出領域が重なり
合う領域を有すれば同一性を有すると判断するものであ
る。
法は、複数回のウエハ処理工程後ごとにウエハ上の異物
を検出しウエハ上の異物の座標値を示す座標データを求
め、各座標データの内、任意の２つの座標データ間の各
異物の同一性を判定し、各異物の発生、既存、消滅の何
れかを判断する異物検出方法において、各座標データ間
の各異物の同一性は異物の座標値を中心とする異物検出
誤差の２倍が一辺で成る正方形を異物の異物検出領域と
し、各座標データ間の各異物の各異物検出領域が重なり
合う領域を有すれば同一性を有すると判断するものであ
る。
【００１１】
実施の形態１．以下、この発明の実施の形態を図につい
て説明する。図１はこの発明の実施の形態１における異
物検出方法を説明するための図で、ウエハ処理工程後ご
とにウエハ上の異物を検出するために行われる各異物検
出工程（尚、以下各実施の形態においても異物検出工程
とは同一の解釈とする）の内Ａ工程およびＢ工程（Ａ工
程の次工程とする）におけるウエハ上の異物の座標値を
示す各座標データを１つの座標に示したものである。図
において、ａ1、ａ2はＡ工程にて検出された異物、
ｂ1、ｂ2はＢ工程にて検出された異物、１、２、３、４
は各異物ａ1、ａ2、ｂ1、ｂ2の各異物検出領域である。
て説明する。図１はこの発明の実施の形態１における異
物検出方法を説明するための図で、ウエハ処理工程後ご
とにウエハ上の異物を検出するために行われる各異物検
出工程（尚、以下各実施の形態においても異物検出工程
とは同一の解釈とする）の内Ａ工程およびＢ工程（Ａ工
程の次工程とする）におけるウエハ上の異物の座標値を
示す各座標データを１つの座標に示したものである。図
において、ａ1、ａ2はＡ工程にて検出された異物、
ｂ1、ｂ2はＢ工程にて検出された異物、１、２、３、４
は各異物ａ1、ａ2、ｂ1、ｂ2の各異物検出領域である。
【００１２】ここで、異物検出領域について説明する。
上記１、２、３、４にて示した異物検出領域とは各異物
ａ1、ａ2、ｂ1、ｂ2の座標値を中心とする異物検出誤差
Ｚの２倍が１辺で成る正方形から構成されている。ここ
で言う異物検出誤差Ｚとは、異物検出工程ごとに検出装
置に装着される際に生じるウエハの位置ズレ、各機器の
検出誤差、座標変換による変換誤差等から生じる誤差を
加味したものである。
上記１、２、３、４にて示した異物検出領域とは各異物
ａ1、ａ2、ｂ1、ｂ2の座標値を中心とする異物検出誤差
Ｚの２倍が１辺で成る正方形から構成されている。ここ
で言う異物検出誤差Ｚとは、異物検出工程ごとに検出装
置に装着される際に生じるウエハの位置ズレ、各機器の
検出誤差、座標変換による変換誤差等から生じる誤差を
加味したものである。
【００１３】次にこの発明の実施の形態１における異物
検出方法について説明する。まず、図１に示すようにＡ
工程、Ｂ工程の各座標データを同一座標にプロットす
る。そして、各異物ａ1、ａ2、ｂ1、ｂ2の各異物検出領
域１、２、３、４をそれぞれ決定する。次に、各座標デ
ータ間において異物検出領域１、２、３、４が重なり合
う領域を有するか否かを検出し同一性を判断する。この
際、異物検出領域１、３は重なり合う領域を有すると検
出され、異物ａ1、ｂ1は同一性を有すると判断する。
又、異物検出領域１、４は重なり合う領域を有さないと
検出され、異物ａ1、ｂ2は同一性を有さないと判断す
る。又、異物検出領域２、３および異物検出領域２、４
はそれぞれ重なり合う領域を有さないと検出され、異物
ａ2、ｂ1、ｂ2は同一性を有さないと判断する。
検出方法について説明する。まず、図１に示すようにＡ
工程、Ｂ工程の各座標データを同一座標にプロットす
る。そして、各異物ａ1、ａ2、ｂ1、ｂ2の各異物検出領
域１、２、３、４をそれぞれ決定する。次に、各座標デ
ータ間において異物検出領域１、２、３、４が重なり合
う領域を有するか否かを検出し同一性を判断する。この
際、異物検出領域１、３は重なり合う領域を有すると検
出され、異物ａ1、ｂ1は同一性を有すると判断する。
又、異物検出領域１、４は重なり合う領域を有さないと
検出され、異物ａ1、ｂ2は同一性を有さないと判断す
る。又、異物検出領域２、３および異物検出領域２、４
はそれぞれ重なり合う領域を有さないと検出され、異物
ａ2、ｂ1、ｂ2は同一性を有さないと判断する。
【００１４】以上の各判断より、異物ａ1と異物ｂ1とは
同一異物で、Ａ工程での発生異物、Ｂ工程での既存異物
となり、異物ａ2はＡ工程での発生異物、Ｂ工程での消
滅異物となり、異物ｂ2はＡ工程では存在せずＢ工程で
の発生異物であると判断され、各異物ａ1、ａ2、ｂ1、
ｂ2の発生、既存、消滅が何れの異物検出工程に生じて
いるかを判断することができる。
同一異物で、Ａ工程での発生異物、Ｂ工程での既存異物
となり、異物ａ2はＡ工程での発生異物、Ｂ工程での消
滅異物となり、異物ｂ2はＡ工程では存在せずＢ工程で
の発生異物であると判断され、各異物ａ1、ａ2、ｂ1、
ｂ2の発生、既存、消滅が何れの異物検出工程に生じて
いるかを判断することができる。
【００１５】上記のように行われた実施の形態１の異物
検出方法では、各Ａ、Ｂ工程の各座標データの各異物ａ
1、ａ2、ｂ1、ｂ2の同一性を、各異物ａ1、ａ2、ｂ1、
ｂ2の座標値を中心とする異物検出誤差Ｚの２倍が１辺
で成る正方形から構成される各異物検出領域１、２、
３、４同士が重なり合う領域を有するか否かで判断した
ので、異物検出工程のＡ、Ｂ工程の何れの工程も異物検
出誤差Ｚを加味して異物検出を行うことができるため、
より一層的確な異物検出を行うことができる。
検出方法では、各Ａ、Ｂ工程の各座標データの各異物ａ
1、ａ2、ｂ1、ｂ2の同一性を、各異物ａ1、ａ2、ｂ1、
ｂ2の座標値を中心とする異物検出誤差Ｚの２倍が１辺
で成る正方形から構成される各異物検出領域１、２、
３、４同士が重なり合う領域を有するか否かで判断した
ので、異物検出工程のＡ、Ｂ工程の何れの工程も異物検
出誤差Ｚを加味して異物検出を行うことができるため、
より一層的確な異物検出を行うことができる。
【００１６】このことは、例えばａ1の異物検出領域１
と異物ｂ1の座標値とが非常に近似した位置にあり、異
物ａ1、ｂ1は同一異物と判断されなければならないのに
対し、従来ではａ1の異物検出領域１と異物ｂ1の座標値
とは同一性がないと判断され、異物ａ1と異物ｂ1とは別
の異物と誤って検出されていたからである。
と異物ｂ1の座標値とが非常に近似した位置にあり、異
物ａ1、ｂ1は同一異物と判断されなければならないのに
対し、従来ではａ1の異物検出領域１と異物ｂ1の座標値
とは同一性がないと判断され、異物ａ1と異物ｂ1とは別
の異物と誤って検出されていたからである。
【００１７】以下、異物検出領域をなぜ、異物の座標値
を中心とする異物検出誤差Ｚの２倍が１辺で成る正方形
から構成しているかについて説明する。異物検出誤差Ｚ
の距離のみ加味するのであれば、異物の座標値を中心と
する異物検出誤差Ｚが半径で成る円から構成される領域
を異物検出領域と設定することも考えられる。しかし、
座標データ間に生じる座標誤差は、先にも説明したよう
に異物検出工程ごとに異物検出装置にウエハを装着誤差
等の原因により生じるもので、ウエハと異物検出装置と
の相対位置が異物検出工程ごとにズレてしまうからであ
る。このような、ウエハの異物検出装置上での平面的ズ
レに対する誤差は、Ｘ軸方向に±Ｚの距離、又、Ｙ軸方
向に±Ｚの距離と考えられ、これらズレに対する全ての
領域を網羅するためには、座標値を中心としてＸ軸方向
に±Ｚの距離、Ｙ軸方向に±Ｚの距離以内の領域を異物
検出領域とする必要がある。よって、座標値を中心と
し、±Ｚの距離を有する円の領域では、上記異物検出領
域全てを網羅することができないという欠点がある。
を中心とする異物検出誤差Ｚの２倍が１辺で成る正方形
から構成しているかについて説明する。異物検出誤差Ｚ
の距離のみ加味するのであれば、異物の座標値を中心と
する異物検出誤差Ｚが半径で成る円から構成される領域
を異物検出領域と設定することも考えられる。しかし、
座標データ間に生じる座標誤差は、先にも説明したよう
に異物検出工程ごとに異物検出装置にウエハを装着誤差
等の原因により生じるもので、ウエハと異物検出装置と
の相対位置が異物検出工程ごとにズレてしまうからであ
る。このような、ウエハの異物検出装置上での平面的ズ
レに対する誤差は、Ｘ軸方向に±Ｚの距離、又、Ｙ軸方
向に±Ｚの距離と考えられ、これらズレに対する全ての
領域を網羅するためには、座標値を中心としてＸ軸方向
に±Ｚの距離、Ｙ軸方向に±Ｚの距離以内の領域を異物
検出領域とする必要がある。よって、座標値を中心と
し、±Ｚの距離を有する円の領域では、上記異物検出領
域全てを網羅することができないという欠点がある。
【００１８】従って、例えば図２にて示すように、本来
ならば同一の異物として検出される異物ａ1、ｂ1が、異
物ａ1、ｂ1に対し円の異物検出領域５、６をそれぞれ設
定すると、図２に示すように、重なり合う領域を有さず
同一性がないと判断され、異物ａ1と異物ｂ1とは別の異
物であると検出されてしまうからである。尚、以下各実
施の形態において異物検出領域は、実施の形態１の異物
検出領域と同一の考えにて構成しているものとする。
ならば同一の異物として検出される異物ａ1、ｂ1が、異
物ａ1、ｂ1に対し円の異物検出領域５、６をそれぞれ設
定すると、図２に示すように、重なり合う領域を有さず
同一性がないと判断され、異物ａ1と異物ｂ1とは別の異
物であると検出されてしまうからである。尚、以下各実
施の形態において異物検出領域は、実施の形態１の異物
検出領域と同一の考えにて構成しているものとする。
【００１９】実施の形態２．図３はこの発明の実施の形
態２の異物検出方法を説明するための図で、各異物検出
工程の内Ｃ工程およびＤ工程における各ウエハ上の異物
の座標値を示す各座標データを１つの座標に示したもの
である。図において、ｃ1はＣ工程にて検出された異
物、ｄ1、ｄ2はＤ工程にて検出された異物、７、８、９
は各異物ｃ1、ｄ1、ｄ2の各異物検出領域である。
態２の異物検出方法を説明するための図で、各異物検出
工程の内Ｃ工程およびＤ工程における各ウエハ上の異物
の座標値を示す各座標データを１つの座標に示したもの
である。図において、ｃ1はＣ工程にて検出された異
物、ｄ1、ｄ2はＤ工程にて検出された異物、７、８、９
は各異物ｃ1、ｄ1、ｄ2の各異物検出領域である。
【００２０】次にこの発明の実施の形態２における異物
検出方法について説明する。まず、図３に示すようにＣ
工程、Ｄ工程の各座標データを同一座標にプロットす
る。そして、各異物ｃ1、ｄ1、ｄ2の各異物検出領域
７、８、９をそれぞれ決定する。次に、各座標データ間
において異物検出領域７、８、９が重なり合う領域を有
するか否かを検出し同一性を判断する。この際、異物検
出領域７と異物検出領域８、９とはそれぞれ重なり合う
領域を有すると検出され、異物ｃ1、ｄ1、ｄ2は同一性
を有すると判断される。
検出方法について説明する。まず、図３に示すようにＣ
工程、Ｄ工程の各座標データを同一座標にプロットす
る。そして、各異物ｃ1、ｄ1、ｄ2の各異物検出領域
７、８、９をそれぞれ決定する。次に、各座標データ間
において異物検出領域７、８、９が重なり合う領域を有
するか否かを検出し同一性を判断する。この際、異物検
出領域７と異物検出領域８、９とはそれぞれ重なり合う
領域を有すると検出され、異物ｃ1、ｄ1、ｄ2は同一性
を有すると判断される。
【００２１】このように１つの異物ｃ1に対し、同一性
がある異物が複数（異物ｄ1、ｄ2）検出された場合、異
物ｃ1と最も近い距離を有する異物のみを異物ｃ1と同一
異物と判断する。よってこの際は異物ｃ1と最も近い距
離を有する異物ｄ1のみを、異物ｃ1と同一異物と判断
し、他の異物ｄ2は異物ｃ1と異なる異物と判断する。
がある異物が複数（異物ｄ1、ｄ2）検出された場合、異
物ｃ1と最も近い距離を有する異物のみを異物ｃ1と同一
異物と判断する。よってこの際は異物ｃ1と最も近い距
離を有する異物ｄ1のみを、異物ｃ1と同一異物と判断
し、他の異物ｄ2は異物ｃ1と異なる異物と判断する。
【００２２】上記のように行われた実施の形態２の異物
検出方法では、一方の座標データの１つの異物ｃ1の座
標値と同一性のある座標値を有する異物ｄ1、ｄ2が複数
検出された場合、複数の異物ｄ1、ｄ2のうち異物ｃ1の
座標値と最も近い距離を有する異物ｄ1のみを異物ｃ1と
同一異物と判断するようにしたので、例えばＤ工程がＣ
工程より検出感度が高い場合や、製造工程上Ｄ工程にト
ラブル等が生じ異物が特定領域に密集して検出される場
合など、従来ならＣ工程の異物と同一と判断されていた
ものを、Ｄ工程にて発生した異物（又は、検出された異
物）として的確に判断することができる異物検出が可能
となる。
検出方法では、一方の座標データの１つの異物ｃ1の座
標値と同一性のある座標値を有する異物ｄ1、ｄ2が複数
検出された場合、複数の異物ｄ1、ｄ2のうち異物ｃ1の
座標値と最も近い距離を有する異物ｄ1のみを異物ｃ1と
同一異物と判断するようにしたので、例えばＤ工程がＣ
工程より検出感度が高い場合や、製造工程上Ｄ工程にト
ラブル等が生じ異物が特定領域に密集して検出される場
合など、従来ならＣ工程の異物と同一と判断されていた
ものを、Ｄ工程にて発生した異物（又は、検出された異
物）として的確に判断することができる異物検出が可能
となる。
【００２３】実施の形態３．図４はこの発明の実施の形
態３における異物検出方法を説明するための図で、各異
物検出工程の全工程Ｅ、Ｆ、Ｇ、Ｈ工程におけるウエハ
上の異物の座標値を示す各座標データを１つの座標に示
したものである。図において、ｅ1、ｅ2はＥ工程にて検
出された異物、ｆ1、ｆ2はＦ工程にて検出された異物、
ｇ2はＧ工程にて検出された異物、ｈ1、ｈ2はＨ工程に
て検出された異物、１０、１１、１２、１３、１４、１
５、１６は各異物ｅ1、ｅ2、ｆ1、ｆ2、ｇ2、ｈ1、ｈ2
の各異物検出領域である。
態３における異物検出方法を説明するための図で、各異
物検出工程の全工程Ｅ、Ｆ、Ｇ、Ｈ工程におけるウエハ
上の異物の座標値を示す各座標データを１つの座標に示
したものである。図において、ｅ1、ｅ2はＥ工程にて検
出された異物、ｆ1、ｆ2はＦ工程にて検出された異物、
ｇ2はＧ工程にて検出された異物、ｈ1、ｈ2はＨ工程に
て検出された異物、１０、１１、１２、１３、１４、１
５、１６は各異物ｅ1、ｅ2、ｆ1、ｆ2、ｇ2、ｈ1、ｈ2
の各異物検出領域である。
【００２４】次に、この発明の実施の形態３における異
物検出方法について説明する。まず、図４に示すように
Ｅ、Ｆ、Ｇ、Ｈ工程の各座標データを同一座標にプロッ
トする。そして、各異物ｅ1、ｅ2、ｆ1、ｆ2、ｇ2、
ｈ1、ｈ2の各異物検出領域１０、１１、１２、１３、１
４、１５、１６をそれぞれ決定する。次に、各座標デー
タ間において異物検出領域１０、１１、１２、１３、１
４、１５、１６が重なり合う領域を有するか否かを検出
し同一性を判断する。
物検出方法について説明する。まず、図４に示すように
Ｅ、Ｆ、Ｇ、Ｈ工程の各座標データを同一座標にプロッ
トする。そして、各異物ｅ1、ｅ2、ｆ1、ｆ2、ｇ2、
ｈ1、ｈ2の各異物検出領域１０、１１、１２、１３、１
４、１５、１６をそれぞれ決定する。次に、各座標デー
タ間において異物検出領域１０、１１、１２、１３、１
４、１５、１６が重なり合う領域を有するか否かを検出
し同一性を判断する。
【００２５】この際、全ての工程において異物ｅ2、
ｆ2、ｇ2、ｈ2は同一性のある異物として判断され、異
物ｅ2、ｆ2、ｇ2、ｈ2は同一異物と判断される。又、異
物ｅ1、ｆ1、ｈ1はＧ工程を除く他の全ての工程にて同
一性のある異物として判断される。この場合、Ｇ工程の
み異物ｅ1、ｆ1、ｈ1と同一異物が存在するものの検出
されなかったものと判断し、異物ｅ1、ｆ1、ｈ1は同一
異物であると判断する。
ｆ2、ｇ2、ｈ2は同一性のある異物として判断され、異
物ｅ2、ｆ2、ｇ2、ｈ2は同一異物と判断される。又、異
物ｅ1、ｆ1、ｈ1はＧ工程を除く他の全ての工程にて同
一性のある異物として判断される。この場合、Ｇ工程の
み異物ｅ1、ｆ1、ｈ1と同一異物が存在するものの検出
されなかったものと判断し、異物ｅ1、ｆ1、ｈ1は同一
異物であると判断する。
【００２６】これは、例えばＡｌ等の金属膜製造工程に
おける異物検出では、Ａｌの反射率が高いため、異物検
出のためのレーザーの反射光が散乱し異物検出装置の検
出感度が低下する等の、検出工程間のバラツキにより、
検出されない異物が存在することを考慮に入れたもので
あり、より真に近い異物検出を行うことができる。
おける異物検出では、Ａｌの反射率が高いため、異物検
出のためのレーザーの反射光が散乱し異物検出装置の検
出感度が低下する等の、検出工程間のバラツキにより、
検出されない異物が存在することを考慮に入れたもので
あり、より真に近い異物検出を行うことができる。
【００２７】上記のように行われた実施の形態３の異物
検出方法では、検出工程間のバラツキを考慮に入れ、１
つのＧ工程を除く他の全てのＥ、Ｆ、Ｈ工程にて同一性
のある座標値を有する異物ｅ1、ｆ1、ｈ1が検出された
場合、Ｇ工程のみｅ1、ｆ1、ｈ1と同一異物が存在した
が検出されなかったものと判断したので、より真に近い
異物検出を行うことができる。
検出方法では、検出工程間のバラツキを考慮に入れ、１
つのＧ工程を除く他の全てのＥ、Ｆ、Ｈ工程にて同一性
のある座標値を有する異物ｅ1、ｆ1、ｈ1が検出された
場合、Ｇ工程のみｅ1、ｆ1、ｈ1と同一異物が存在した
が検出されなかったものと判断したので、より真に近い
異物検出を行うことができる。
【００２８】実施の形態４．図５はこの発明の実施の形
態４における異物検出方法を説明するための図で、各異
物検出工程の内Ｉ、Ｊ、Ｋ、Ｌ、Ｍ工程における各ウエ
ハ上の異物の座標値を示す各座標データを１つの座標に
示したものである。図において、ｉはＩ工程にて検出さ
れた異物、ｊはＪ工程にて検出された異物、ｋはＫ工程
にて検出された異物、ｌはＬ工程にて検出された異物、
ｍはＭ工程にて検出された異物、１７、１８、１９、２
０、２１は各異物ｉ、ｊ、ｋ、ｌ、ｍの各異物検出領域
である。
態４における異物検出方法を説明するための図で、各異
物検出工程の内Ｉ、Ｊ、Ｋ、Ｌ、Ｍ工程における各ウエ
ハ上の異物の座標値を示す各座標データを１つの座標に
示したものである。図において、ｉはＩ工程にて検出さ
れた異物、ｊはＪ工程にて検出された異物、ｋはＫ工程
にて検出された異物、ｌはＬ工程にて検出された異物、
ｍはＭ工程にて検出された異物、１７、１８、１９、２
０、２１は各異物ｉ、ｊ、ｋ、ｌ、ｍの各異物検出領域
である。
【００２９】次に、この発明の実施の形態４における異
物検出方法について説明する。まず、図５に示すように
Ｉ、Ｊ、Ｋ、Ｌ、Ｍ工程の各座標データと同一座標にプ
ロットする。そして、各異物ｉ、ｊ、ｋ、ｌ、ｍの各異
物検出領域１７、１８、１９、２０、２１をそれぞれ決
定する。各座標データ間において異物検出１７、１８、
１９、２０、２１は重なり合う領域を有するか否かを検
出し、同一性の判断をする際、ここでは、各座標データ
の内、最終工程であるＭ工程の座標データを基準座標デ
ータとし、他の座標データの異物の座標値とをそれぞれ
互いに比較し同一性を判断する。
物検出方法について説明する。まず、図５に示すように
Ｉ、Ｊ、Ｋ、Ｌ、Ｍ工程の各座標データと同一座標にプ
ロットする。そして、各異物ｉ、ｊ、ｋ、ｌ、ｍの各異
物検出領域１７、１８、１９、２０、２１をそれぞれ決
定する。各座標データ間において異物検出１７、１８、
１９、２０、２１は重なり合う領域を有するか否かを検
出し、同一性の判断をする際、ここでは、各座標データ
の内、最終工程であるＭ工程の座標データを基準座標デ
ータとし、他の座標データの異物の座標値とをそれぞれ
互いに比較し同一性を判断する。
【００３０】まず、異物ｍと異物ｌとは異物検出領域２
１、２０が重なり合う領域を有すると検出され、異物
ｍ、ｌは同一性を有すると判断する。次に、異物ｍと異
物ｋとは異物検出領域２１、１９が重なり合う領域を有
さないと検出され、異物ｍ、ｋは同一性を有さないと判
断する。次に、異物ｍと異物ｋおよび異物ｊとは異物
ｋ、ｊは異物検出領域１９、１８が重なり合う領域を有
すると検出され、異物ｍと異物ｋおよびｊとは同一性を
有さないが異物ｋ、ｊは同一性を有すると判断する。異
物ｍと異物ｉとは異物検出領域２１、１７が重なり合う
領域を有さないと検出され、異物ｍ、ｉは同一性を有さ
ないと判断する。
１、２０が重なり合う領域を有すると検出され、異物
ｍ、ｌは同一性を有すると判断する。次に、異物ｍと異
物ｋとは異物検出領域２１、１９が重なり合う領域を有
さないと検出され、異物ｍ、ｋは同一性を有さないと判
断する。次に、異物ｍと異物ｋおよび異物ｊとは異物
ｋ、ｊは異物検出領域１９、１８が重なり合う領域を有
すると検出され、異物ｍと異物ｋおよびｊとは同一性を
有さないが異物ｋ、ｊは同一性を有すると判断する。異
物ｍと異物ｉとは異物検出領域２１、１７が重なり合う
領域を有さないと検出され、異物ｍ、ｉは同一性を有さ
ないと判断する。
【００３１】以上の各判断より、異物ｊ、ｋおよび異物
ｌ、ｍはそれぞれ同一異物であると判断されるため、異
物ｉはＩ工程での発生異物、Ｊ工程での消滅異物、異物
ｊ、ｋはＪ工程での発生異物、Ｋ工程での既存異物、Ｌ
工程での消滅異物、異物ｌ、ｍはＬ工程での発生異物、
Ｍ工程での既存異物とそれぞれ判断することができる。
ｌ、ｍはそれぞれ同一異物であると判断されるため、異
物ｉはＩ工程での発生異物、Ｊ工程での消滅異物、異物
ｊ、ｋはＪ工程での発生異物、Ｋ工程での既存異物、Ｌ
工程での消滅異物、異物ｌ、ｍはＬ工程での発生異物、
Ｍ工程での既存異物とそれぞれ判断することができる。
【００３２】上記のように行われた実施の形態４の異物
検出方法では、Ｍ工程を基準として他の工程の座標デー
タの異物の座標値とをそれぞれ互いに比較し同一性を判
断しているので、一層的確な異物検出を行うことができ
る。
検出方法では、Ｍ工程を基準として他の工程の座標デー
タの異物の座標値とをそれぞれ互いに比較し同一性を判
断しているので、一層的確な異物検出を行うことができ
る。
【００３３】このことは、２工程間のみにて異物の同一
性を判断していたのでは例えば、異物ｉ、ｊは同一、異
物ｊ、ｋは同一、異物ｋ、ｌは同一、異物ｌ、ｍは同一
と検出され、異物ｉ、ｊ、ｋ、ｌ、ｍ全てが同一異物と
判断されてしまう。しかし実際には異物ｉと異物ｍとで
は異物検出誤差の４倍近くも離れており、全く別の異物
である可能性が非常に高いことから明確と言えよう。
性を判断していたのでは例えば、異物ｉ、ｊは同一、異
物ｊ、ｋは同一、異物ｋ、ｌは同一、異物ｌ、ｍは同一
と検出され、異物ｉ、ｊ、ｋ、ｌ、ｍ全てが同一異物と
判断されてしまう。しかし実際には異物ｉと異物ｍとで
は異物検出誤差の４倍近くも離れており、全く別の異物
である可能性が非常に高いことから明確と言えよう。
【００３４】又、上記実施の形態４では最終工程を基準
とする例を示したが、これは一般的に最終工程に残存し
ている異物の履歴を追求することが製品性能上非常に重
要となるからである。しかしながら、最終工程が上記実
施の形態３にて示した検出感度が劣化しやすい工程など
の場合は、これ以外の任意の工程の座標データを基準座
標データとしてもよいことは言うまでもない。
とする例を示したが、これは一般的に最終工程に残存し
ている異物の履歴を追求することが製品性能上非常に重
要となるからである。しかしながら、最終工程が上記実
施の形態３にて示した検出感度が劣化しやすい工程など
の場合は、これ以外の任意の工程の座標データを基準座
標データとしてもよいことは言うまでもない。
【００３５】又、上記実施の形態１、実施の形態２、実
施の形態３および実施の形態２、実施の形態３、実施の
形態４をそれぞれ組み合わせて異物検出を行うようにす
ればより一層正確な異物検出方法を提供することができ
ることは言うまでもない。
施の形態３および実施の形態２、実施の形態３、実施の
形態４をそれぞれ組み合わせて異物検出を行うようにす
ればより一層正確な異物検出方法を提供することができ
ることは言うまでもない。
【００３６】
【発明の効果】以上のように、この発明の請求項１によ
れば、３回以上のウエハ処理工程後ごとにウエハ上の異
物を検出しウエハ上の異物の座標値を示す座標データを
求め、各座標データの内、任意の１つの座標データを基
準座標データとして、基準座標データの異物の座標値
と、他の座標データの異物の座標値とをそれぞれ互いに
比較し同一性を判断したので、異物検出工程の２工程間
のみを比較する場合より的確な異物検出を行うことがで
きる異物検出方法を提供することが可能である。
れば、３回以上のウエハ処理工程後ごとにウエハ上の異
物を検出しウエハ上の異物の座標値を示す座標データを
求め、各座標データの内、任意の１つの座標データを基
準座標データとして、基準座標データの異物の座標値
と、他の座標データの異物の座標値とをそれぞれ互いに
比較し同一性を判断したので、異物検出工程の２工程間
のみを比較する場合より的確な異物検出を行うことがで
きる異物検出方法を提供することが可能である。
【００３７】又、この発明の請求項２によれば、請求項
１において、基準座標データを、３工程以上のウエハ処
理工程の内、最終工程のウエハ処理工程における座標デ
ータとしたので、製品として最終的に問題となる異物の
履歴をより一層的確に検出することができる異物検出方
法を提供することが可能である。
１において、基準座標データを、３工程以上のウエハ処
理工程の内、最終工程のウエハ処理工程における座標デ
ータとしたので、製品として最終的に問題となる異物の
履歴をより一層的確に検出することができる異物検出方
法を提供することが可能である。
【００３８】又、この発明の請求項３によれば、複数回
のウエハ処理工程後ごとにウエハ上の異物を検出しウエ
ハ上の異物の座標値を示す座標データを求め、各座標デ
ータの内、２つの座標データを比較する場合において、
一方の座標データの１つの異物の座標値と同一性のある
座標値を有する異物が、他方の座標データから複数検出
された場合、複数の異物のうち１つの異物の座標値と最
も近い距離を有する異物のみを、１つの異物と同一異物
と判断するので、検出工程間のバラツキが加味され、真
に近い異物検出を行うことができる異物検出方法を提供
することが可能である。
のウエハ処理工程後ごとにウエハ上の異物を検出しウエ
ハ上の異物の座標値を示す座標データを求め、各座標デ
ータの内、２つの座標データを比較する場合において、
一方の座標データの１つの異物の座標値と同一性のある
座標値を有する異物が、他方の座標データから複数検出
された場合、複数の異物のうち１つの異物の座標値と最
も近い距離を有する異物のみを、１つの異物と同一異物
と判断するので、検出工程間のバラツキが加味され、真
に近い異物検出を行うことができる異物検出方法を提供
することが可能である。
【００３９】又、この発明の請求項４によれば、３回以
上のウエハ処理工程後ごとにウエハ上の異物を検出しウ
エハ上の異物の座標値を示す座標データを求め、各座標
データの内、１つの座標データを除く他の全ての座標デ
ータにて同一性のある座標値を有する異物が検出された
場合、１つの座標データのみ異物と同一異物が存在した
が検出されなかったものと判断するので、検出工程間の
バラツキが加味され、真に近い異物検出を行うことがで
きる異物検出方法を提供することが可能である。
上のウエハ処理工程後ごとにウエハ上の異物を検出しウ
エハ上の異物の座標値を示す座標データを求め、各座標
データの内、１つの座標データを除く他の全ての座標デ
ータにて同一性のある座標値を有する異物が検出された
場合、１つの座標データのみ異物と同一異物が存在した
が検出されなかったものと判断するので、検出工程間の
バラツキが加味され、真に近い異物検出を行うことがで
きる異物検出方法を提供することが可能である。
【００４０】又、この発明の請求項５によれば、請求項
１ないし請求項４のいずれかにおいて、各座標データ間
における異物の座標値の同一性は、異物の座標値を中心
とする異物検出誤差の２倍が一辺で成る正方形を異物の
異物検出領域とし、各座標データ間の各異物の各異物検
出領域が重なり合う領域を有すれば同一性を有すると判
断するので、異物検出誤差のズレに対する全ての領域を
網羅することができるという異物検出方法を提供するこ
とが可能である。
１ないし請求項４のいずれかにおいて、各座標データ間
における異物の座標値の同一性は、異物の座標値を中心
とする異物検出誤差の２倍が一辺で成る正方形を異物の
異物検出領域とし、各座標データ間の各異物の各異物検
出領域が重なり合う領域を有すれば同一性を有すると判
断するので、異物検出誤差のズレに対する全ての領域を
網羅することができるという異物検出方法を提供するこ
とが可能である。
【００４１】又、この発明の請求項６によれば、複数回
のウエハ処理工程後ごとにウエハ上の異物を検出しウエ
ハ上の異物の座標値を示す座標データを求め、各座標デ
ータの内、任意の２つの座標データ間の各異物の同一性
を判定し、各異物の発生、既存、消滅の何れかを判断す
る異物検出方法において、各座標データ間の各異物の同
一性は異物の座標値を中心とする異物検出誤差の２倍が
一辺で成る正方形を異物の異物検出領域とし、各座標デ
ータ間の各異物の各異物検出領域が重なり合う領域を有
すれば同一性を有すると判断するので、任意の２つの何
れの工程にも異物検出誤差が加味され、より的確な異物
検出を行うことができる異物検出方法を提供することが
可能である。
のウエハ処理工程後ごとにウエハ上の異物を検出しウエ
ハ上の異物の座標値を示す座標データを求め、各座標デ
ータの内、任意の２つの座標データ間の各異物の同一性
を判定し、各異物の発生、既存、消滅の何れかを判断す
る異物検出方法において、各座標データ間の各異物の同
一性は異物の座標値を中心とする異物検出誤差の２倍が
一辺で成る正方形を異物の異物検出領域とし、各座標デ
ータ間の各異物の各異物検出領域が重なり合う領域を有
すれば同一性を有すると判断するので、任意の２つの何
れの工程にも異物検出誤差が加味され、より的確な異物
検出を行うことができる異物検出方法を提供することが
可能である。
【図１】 この発明の実施の形態１における異物検出方
法を示す図である。
法を示す図である。
【図２】 図１における異物検出領域を説明する図であ
る。
る。
【図３】 この発明の実施の形態２における異物検出方
法を示す図である。
法を示す図である。
【図４】 この発明の実施の形態３における異物検出方
法を示す図である。
法を示す図である。
【図５】 この発明の実施の形態４における異物検出方
法を示す図である。
法を示す図である。
【図６】 従来の異物検出方法を示す図である。
ａ1，ａ2 Ａ工程にて検出された異物、ｂ1，ｂ2 Ｂ工
程にて検出された異物、ｃ1 Ｃ工程にて検出された異
物、ｄ1，ｄ2 Ｄ工程にて検出された異物、ｅ1，ｅ2
Ｅ工程にて検出された異物、ｆ1，ｆ2 Ｆ工程にて検出
された異物、ｇ2 Ｇ工程にて検出された異物、ｈ1，ｈ
2 Ｈ工程にて検出された異物、ｉ Ｉ工程にて検出さ
れた異物、ｊ Ｊ工程にて検出された異物、ｋ Ｋ工程
にて検出された異物、ｌ Ｌ工程にて検出された異物、
ｍ Ｍ工程にて検出された異物、１，５ ａ1の異物検
出領域、２，６ ａ2の異物検出領域、３ ｂ1の異物検
出領域、４ ｂ2の異物検出領域、７ ｃ1の異物検出領
域、８ ｄ1の異物検出領域、９ ｄ2の異物検出領域、
１０ ｅ1の異物検出領域、１１ ｅ2の異物検出領域、
１２ ｆ1の異物検出領域、１３ ｆ2の異物検出領域、
１４ ｇ2の異物検出領域、１５ ｈ1の異物検出領域、
１６ ｈ2の異物検出領域、１７ ｉの異物検出領域、
１８ ｊの異物検出領域、１９ ｋの異物検出領域、２
０ ｌの異物検出領域、２１ ｍの異物検出領域、Ｚ
異物検出誤差。
程にて検出された異物、ｃ1 Ｃ工程にて検出された異
物、ｄ1，ｄ2 Ｄ工程にて検出された異物、ｅ1，ｅ2
Ｅ工程にて検出された異物、ｆ1，ｆ2 Ｆ工程にて検出
された異物、ｇ2 Ｇ工程にて検出された異物、ｈ1，ｈ
2 Ｈ工程にて検出された異物、ｉ Ｉ工程にて検出さ
れた異物、ｊ Ｊ工程にて検出された異物、ｋ Ｋ工程
にて検出された異物、ｌ Ｌ工程にて検出された異物、
ｍ Ｍ工程にて検出された異物、１，５ ａ1の異物検
出領域、２，６ ａ2の異物検出領域、３ ｂ1の異物検
出領域、４ ｂ2の異物検出領域、７ ｃ1の異物検出領
域、８ ｄ1の異物検出領域、９ ｄ2の異物検出領域、
１０ ｅ1の異物検出領域、１１ ｅ2の異物検出領域、
１２ ｆ1の異物検出領域、１３ ｆ2の異物検出領域、
１４ ｇ2の異物検出領域、１５ ｈ1の異物検出領域、
１６ ｈ2の異物検出領域、１７ ｉの異物検出領域、
１８ ｊの異物検出領域、１９ ｋの異物検出領域、２
０ ｌの異物検出領域、２１ ｍの異物検出領域、Ｚ
異物検出誤差。
Claims (6)
- 【請求項１】 ３回以上のウエハ処理工程後ごとにウエ
ハ上の異物を検出し上記ウエハ上の上記異物の座標値を
示す座標データを求め、上記各座標データの内、任意の
１つの座標データを基準座標データとして、上記基準座
標データの異物の座標値と、上記他の座標データの異物
の座標値とをそれぞれ互いに比較し同一性を判断するこ
とを特徴とする異物検出方法。 - 【請求項２】 基準座標データを、３工程以上のウエハ
処理工程の内、最終工程のウエハ処理工程における座標
データとしたことを特徴とする請求項１記載の異物検出
方法。 - 【請求項３】 複数回のウエハ処理工程後ごとにウエハ
上の異物を検出し上記ウエハ上の上記異物の座標値を示
す座標データを求め、上記各座標データの内、２つの上
記座標データを比較する場合において、上記一方の座標
データの１つの異物の座標値と同一性のある座標値を有
する異物が、上記他方の座標データから複数検出された
場合、上記複数の異物のうち上記１つの異物の座標値と
最も近い距離を有する異物のみを、上記１つの異物と同
一異物と判断することを特徴とする異物検出方法。 - 【請求項４】 ３回以上のウエハ処理工程後ごとにウエ
ハ上の異物を検出しウエハ上の異物の座標値を示す座標
データを求め、上記各座標データの内、１つの座標デー
タを除く他の全ての座標データにて同一性のある座標値
を有する異物が検出された場合、上記１つの座標データ
のみ上記異物と同一異物が存在したが検出されなかった
ものと判断することを特徴とする異物検出方法。 - 【請求項５】 各座標データ間における異物の座標値の
同一性は、上記異物の座標値を中心とする異物検出誤差
の２倍が一辺で成る正方形を上記異物の異物検出領域と
し、上記各座標データ間の上記各異物の上記各異物検出
領域が重なり合う領域を有すれば上記同一性を有すると
判断することを特徴とする請求項１ないし請求項４のい
ずれかに記載の異物検出方法。 - 【請求項６】 複数回のウエハ処理工程後ごとにウエハ
上の異物を検出しウエハ上の異物の座標値を示す座標デ
ータを求め、上記各座標データの内、任意の２つの座標
データ間の各異物の同一性を判定し、上記各異物の発
生、既存、消滅の何れかを判断する異物検出方法におい
て、上記各座標データ間の各異物の同一性は上記異物の
座標値を中心とする異物検出誤差の２倍が一辺で成る正
方形を上記異物の異物検出領域とし、上記各座標データ
間の上記各異物の上記各異物検出領域が重なり合う領域
を有すれば上記同一性を有すると判断することを特徴と
する異物検出方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12476196A JPH09306957A (ja) | 1996-05-20 | 1996-05-20 | 異物検出方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12476196A JPH09306957A (ja) | 1996-05-20 | 1996-05-20 | 異物検出方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09306957A true JPH09306957A (ja) | 1997-11-28 |
Family
ID=14893466
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12476196A Pending JPH09306957A (ja) | 1996-05-20 | 1996-05-20 | 異物検出方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09306957A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006266766A (ja) * | 2005-03-23 | 2006-10-05 | Olympus Corp | マクロ画像表示システム及びマクロ画像表示方法 |
| JP2008164336A (ja) * | 2006-12-27 | 2008-07-17 | Olympus Corp | 欠陥検査システムおよび方法 |
| KR102393536B1 (ko) * | 2020-12-07 | 2022-05-03 | 주식회사 아림사이언스 | 자동 교정 알고리즘이 내장된 공기질 측정 장치 및 시스템 |
-
1996
- 1996-05-20 JP JP12476196A patent/JPH09306957A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006266766A (ja) * | 2005-03-23 | 2006-10-05 | Olympus Corp | マクロ画像表示システム及びマクロ画像表示方法 |
| JP2008164336A (ja) * | 2006-12-27 | 2008-07-17 | Olympus Corp | 欠陥検査システムおよび方法 |
| KR102393536B1 (ko) * | 2020-12-07 | 2022-05-03 | 주식회사 아림사이언스 | 자동 교정 알고리즘이 내장된 공기질 측정 장치 및 시스템 |
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