JPH10134415A - Optical recording medium capable of recording and reproduction and optical recording method - Google Patents
Optical recording medium capable of recording and reproduction and optical recording methodInfo
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- JPH10134415A JPH10134415A JP8321265A JP32126596A JPH10134415A JP H10134415 A JPH10134415 A JP H10134415A JP 8321265 A JP8321265 A JP 8321265A JP 32126596 A JP32126596 A JP 32126596A JP H10134415 A JPH10134415 A JP H10134415A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 金属薄膜を有する記録再生可能な光記録媒体
及び光記録方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 光記録媒体は、基板10と、基板10上
に形成された金属薄膜20と、金属薄膜20上に備えら
れる反射層40と、金属薄膜と反射層との間に形成され
変形できる緩衝層30と、反射層40上に積層を保護す
る保護層50を備える。緩衝層30を用いてるので、記
録しやすく、従来のCDとの互換性が可能である。ま
た、コストの高い有機色素を用いる必要がないので、製
造コストが低減し、生産性が増大する。
(57) [Problem] To provide a recordable and reproducible optical recording medium having a metal thin film and an optical recording method. An optical recording medium is formed and deformable between a substrate, a metal thin film formed on the substrate, a reflection layer provided on the metal thin film, and the metal thin film and the reflection layer. A buffer layer 30 and a protective layer 50 on the reflective layer 40 for protecting the laminate are provided. Since the buffer layer 30 is used, recording is easy and compatibility with a conventional CD is possible. In addition, since it is not necessary to use an expensive organic dye, the manufacturing cost is reduced and the productivity is increased.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は記録再生可能な光記
録媒体及びその光記録方法に関し、特に金属または非金
属記録層を有する記録再生可能なコンパクトディスク
(CD)及びその媒体への光記録方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a recordable / reproducible optical recording medium and an optical recording method thereof, and more particularly to a recordable / reproducible compact disk (CD) having a metal or non-metallic recording layer and a method of optical recording on the medium. About.
【0002】[0002]
【従来の技術】光記録媒体は既存の磁気記録媒体に比べ
て記録単位当りの記録面積が小さいので、高密度用の記
録媒体として多用されている。このような光記録媒体は
機能により、記録された情報の再生のみが可能な読み出
し専用方式(Read Only Memory:ROM)と、1回に限
って記録可能な追記方式(Write Once Read Many:WO
RM)と、記録後消去及び再記録可能な消去可能方式(E
rasable Programmable Read Only Memory:EPROM)
とに分類される。このような光記録媒体は、記録された
情報が記録再生器から再生可能な特性が要求されてい
る。このため、既存の標準化規定を満足する必要があ
り、70%以上の反射率と47dBのCNR(Carriert
o Noise Ratio )が要求される。2. Description of the Related Art An optical recording medium has a smaller recording area per recording unit than an existing magnetic recording medium, and is therefore frequently used as a high-density recording medium. Such an optical recording medium has, depending on its function, a read-only system (Read Only Memory: ROM) that can only reproduce recorded information, and a write-once read-only system (Write Once Read Many: WO) that can be recorded only once.
RM) and an erasable method (E
(rasable Programmable Read Only Memory: EPROM)
Classified as Such an optical recording medium is required to have such characteristics that recorded information can be reproduced from a recording / reproducing device. For this reason, it is necessary to satisfy the existing standardization rules, and a reflectance of 70% or more and a CNR (Carriert
o Noise Ratio) is required.
【0003】記録可能な光記録媒体では、記録前と記録
後の記録層の物理的な変形や位相の変化や磁気的性質の
変化等による反射率の変化で記録を再生する。CDと互
換可能な記録媒体では、上述した高反射率とCNR特性
以外にも記録の長期保存性及び高い記録感度が要求され
る。このように、光記録媒体の特性を向上させ、媒体を
容易に制作するために多様な材料を用いて様々な光記録
媒体が提案され一部は実用化されている。In a recordable optical recording medium, recording is reproduced by a change in reflectivity due to a physical deformation of a recording layer before and after recording, a change in phase, a change in magnetic properties, and the like. In a recording medium compatible with a CD, in addition to the above-described high reflectance and CNR characteristics, long-term storage stability and high recording sensitivity are required. As described above, various optical recording media have been proposed using various materials in order to improve the characteristics of the optical recording media and easily manufacture the media, and some of them have been put to practical use.
【0004】特開昭63ー268142号によれば、図
8に示すように、記録媒体は、基板1上にゼラチン、カ
ゼインまたはPVA等よりなる増感層2と、この上にC
r、Ni、Au等の金属薄膜3が50〜500オングストロ
ームの厚さで形成されている構造を有する。このような
記録媒体の場合、レーザービームを用いる光記録時、金
属薄膜3が光を吸収して増感層2と金属薄膜3が変形さ
れることにより記録ピットが形成される。しかしなが
ら、このような構造の媒体は記録ピットが露出されてい
るので記録の長期的保存が難しい。According to JP-A-63-268142, as shown in FIG. 8, a recording medium comprises a substrate 1 on which a sensitizing layer 2 made of gelatin, casein, PVA or the like, and a C
It has a structure in which a metal thin film 3 of r, Ni, Au or the like is formed with a thickness of 50 to 500 angstroms. In the case of such a recording medium, at the time of optical recording using a laser beam, recording pits are formed by the metal thin film 3 absorbing light and the sensitizing layer 2 and the metal thin film 3 being deformed. However, since the recording pits are exposed on the medium having such a structure, it is difficult to store the recording for a long time.
【0005】米国特許4,973,520号によれば、
図9に示すように、基板1a上に3層構造の金属薄膜2
aを形成することにより50dB以上の良好な記録特性が
得られる技術が提案されている。しかしながら、これも
レーザー照射により金属薄膜に記録ピットが形成される
が、記録ピットが外部に露出しているので記録保存性が
劣る短所がある。According to US Pat. No. 4,973,520,
As shown in FIG. 9, a metal thin film 2 having a three-layer structure is formed on a substrate 1a.
A technique has been proposed in which a good recording characteristic of 50 dB or more can be obtained by forming a. However, recording pits are also formed on the metal thin film by laser irradiation, but the recording pits are exposed to the outside, so that the recording storability is poor.
【0006】以上のような欠点を解決するために米国特
許4,983,440号には、図10に示すように、基
板1b上に金属薄膜2b、2b’を2層の記録層2aと
し、記録層2aを保護するため、その上に保護層4を形
成する技術が提案されている。この技術による記録媒体
は、反射層がないため反射率が20%以下と低く、既存
のCD互換型で使用できないだけでなく、非互換的な媒
体として実用化されるためにはドライブに高出力の光源
を使用する必要がある等の問題がある。In order to solve the above-mentioned drawbacks, US Pat. No. 4,983,440 discloses that, as shown in FIG. 10, a metal thin film 2b, 2b 'is formed on a substrate 1b as two recording layers 2a. In order to protect the recording layer 2a, a technique for forming a protective layer 4 thereon has been proposed. A recording medium according to this technology has a low reflectance of 20% or less due to the absence of a reflective layer, so that it cannot be used in an existing CD compatible type, and also has a high output to a drive in order to be practically used as an incompatible medium. There is a problem that it is necessary to use a light source of the type described above.
【0007】また、米国特許5,039,558号によ
れば、図11に示すように、金属薄膜2c、2c’と保
護層4c、4c’が積層された2枚の基板1c、1c’
を接着層5で接着して記録ピットの安定性を向上させて
いる。しかし、この方式では金属薄膜が反射層と光吸収
層の役割を同時に行えないので、原理的に反射率が70
%にも及ばない問題がある。Further, according to US Pat. No. 5,039,558, as shown in FIG. 11, two substrates 1c, 1c 'in which metal thin films 2c, 2c' and protective layers 4c, 4c 'are laminated.
Is bonded by an adhesive layer 5 to improve the stability of the recording pit. However, in this method, since the metal thin film cannot simultaneously function as the reflection layer and the light absorption layer, the reflectance is in principle 70%.
There is less than a percent problem.
【0008】また、米国特許5,328,813号によ
れば、基板上に金属薄膜を記録層として備え、その上に
固い金属酸化物層を形成して記録保存性を高め、反射率
を40〜60%に向上させているが、CNRが低い問題
がある。Further, according to US Pat. No. 5,328,813, a metal thin film is provided as a recording layer on a substrate, and a hard metal oxide layer is formed thereon to improve the recording preservation property and to increase the reflectivity to 40. 6060%, but there is a problem of low CNR.
【0009】[0009]
【発明が解決しようとする課題】一方、米国特許4,9
90,388及び5,155,723号には、図12に
示すように、基板1d上に記録層を有機色素層6で形成
し、その上に反射層7と保護層4dを形成する技術が提
案されている。この媒体では、記録時色素層6で記録レ
ーザー光を吸収発熱して、基板を加熱変形させ、変形部
位の記録前後の反射率の変化で情報の認識ができ、70
%以上の反射率と記録後のCNRが47dB以上の条件
下でCDとの互換が可能になった。On the other hand, U.S. Pat.
Nos. 90,388 and 5,155,723 disclose a technique of forming a recording layer with an organic dye layer 6 on a substrate 1d and forming a reflective layer 7 and a protective layer 4d thereon, as shown in FIG. Proposed. In this medium, the recording laser light is absorbed and generated by the dye layer 6 during recording, the substrate is deformed by heating, and information can be recognized by a change in reflectance of the deformed portion before and after recording.
% And a CNR after recording of 47 dB or more were made compatible with CD.
【0010】しかしながら、このようなディスクの記録
層は耐熱性及び耐光性が弱く特に価格の高い有機色素を
使用する短所を有している。また、色素を有機溶媒に溶
かした状態でこれをスピンコーティング法で基板に積層
すべきであるが、コーティング層の厚さの偏差により反
射率が大きく変化するので±3%内の偏差でコーティン
グ層の厚さを制御しうる高価な設備が要求され、精密な
厚さの制御により生産性が劣る問題がある。However, the recording layer of such a disk has a disadvantage in that heat resistance and light resistance are weak and an organic dye which is particularly expensive is used. In addition, the dye should be laminated on the substrate by spin coating in the state of being dissolved in an organic solvent. However, since the reflectance changes greatly due to the deviation of the thickness of the coating layer, the deviation of the coating layer is within ± 3%. However, expensive equipment capable of controlling the thickness is required, and there is a problem in that productivity is inferior due to precise thickness control.
【0011】そこで、本発明は、CDと互換性があり、
安価で生産性の高い記録/再生可能な光記録媒体及びそ
の光記録方法を提供することを目的とする。Therefore, the present invention is compatible with a CD,
An object of the present invention is to provide an inexpensive and highly productive optical recording medium capable of recording / reproducing and an optical recording method thereof.
【0012】また、本発明は、高い反射率と記録信号を
有し、記録の安定性が向上された記録/再生可能な光記
録媒体及びその光記録方法を提供することを目的とす
る。Another object of the present invention is to provide a recordable / reproducible optical recording medium having a high reflectivity and a recording signal, and having improved recording stability, and an optical recording method thereof.
【0013】[0013]
【発明を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の光記録媒体は、案内溝が形成された基板
と、この基板上に形成される金属薄膜と、この金属薄膜
上に備えられる反射層と、金属薄膜と反射層との間に形
成される変形可能な緩衝層とを備える。In order to solve the above-mentioned problems, an optical recording medium according to the present invention comprises a substrate having a guide groove, a metal thin film formed on the substrate, and a metal thin film formed on the metal thin film. A reflective layer provided, and a deformable buffer layer formed between the metal thin film and the reflective layer.
【0014】また、本発明の光媒体への光記録方法は、
変形が起こるピットを形成する光記録媒体への光記録方
法であって、予め形成された所定の溝を有する基板上に
金属薄膜を形成する工程と、金属薄膜上に緩衝層を形成
する工程と、基板と前記金属薄膜と前記緩衝層の内少な
くとも1つ以上に変形が起きるように、前記基板と前記
緩衝層の間に位置する前記金属薄膜をレーザービームで
加熱する工程とを備える。ここで、ピットとはレーザー
ビームによる変形部位を意味する。光学的に記録/読出
し可能なピットは、一般的に全ての種類の光学的に記録
及び検索可能な表示を含む。また、基板と金属薄膜と緩
衝層の変形部位は残りの部分とは光学的に異なる特性を
有している。Further, the optical recording method for an optical medium of the present invention comprises:
An optical recording method for an optical recording medium that forms pits where deformation occurs, a step of forming a metal thin film on a substrate having a predetermined groove formed in advance, and a step of forming a buffer layer on the metal thin film. Heating the metal thin film located between the substrate and the buffer layer with a laser beam so that at least one of the substrate, the metal thin film, and the buffer layer is deformed. Here, the pit means a portion deformed by the laser beam. Optically recordable / readable pits generally include all types of optically recordable and searchable indicia. The deformed portions of the substrate, the metal thin film, and the buffer layer have optically different characteristics from the remaining portions.
【0015】金属薄膜への光記録方法は、緩衝層に照射
されたレーザビームの熱エネルギーを吸収できる色素を
含み、緩衝層がレーザビームにより直接加熱される工程
を更に備える。金属皮膜には、記録時基板上に光をガイ
ドする溝が形成されることが望ましい。The method of optically recording on a metal thin film further includes a step of directly heating the buffer layer by the laser beam, the method including a dye capable of absorbing the thermal energy of the laser beam applied to the buffer layer. It is desirable that a groove for guiding light is formed on the substrate during recording in the metal film.
【0016】また、複屈折率係数の虚数部のk値が0.
01以上の金属を金属薄膜の原料として用い、金属薄膜
の厚さを30〜500オングストロームの範囲とし、特
に、Au、Al、Ag、Pt、Cu、Cr、Ni、Ti、Ta、Fe及びその
合金の中から選択された少なくとも何れか1つよりなる
ことが望ましい。Also, the k value of the imaginary part of the birefringence coefficient is 0.
01 or more metals as a raw material of the metal thin film, the thickness of the metal thin film is in the range of 30 to 500 Å, particularly, Au, Al, Ag, Pt, Cu, Cr, Ni, Ti, Ta, Fe and alloys thereof It is desirable that it be made of at least one selected from the following.
【0017】また、緩衝層の厚さは50〜10000オ
ングストロームの範囲とし、そのガラス転移温度は60
〜180℃の範囲とすることが望ましい。更に、特性の
向上のため、緩衝層の有機材料に対して有機色素を30
%未満添加することができる。 反射層は、Au、Al、A
g、Pt、Cu、Cr、Ni、Ti、Ta、Fe及びその合金の中から
選択された少なくとも何れか1つよりなることが望まし
い。The thickness of the buffer layer is in the range of 50 to 10000 angstroms, and its glass transition temperature is 60.
It is desirable to be in the range of 180 to 180 ° C. Further, in order to improve the characteristics, an organic dye is added to the organic material of the buffer layer.
% Can be added. The reflective layer is made of Au, Al, A
It is desirable that it be made of at least one selected from g, Pt, Cu, Cr, Ni, Ti, Ta, Fe and alloys thereof.
【0018】[0018]
【発明の実施の形態】以下、添付の図面に基づき本発明
を更に詳しく説明する。図1は本発明の光記録媒体の実
施の形態であるディスクの積層構造を示す断面図であ
る。図1に示すように、記録時、光をガイドする溝が形
成された基板10上に、金属薄膜20が形成され、緩衝
層30と反射層40が順次積層される。保護層50は記
録媒体を保護するために反射層40上に選択的に配置さ
れる。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a sectional view showing a laminated structure of a disk which is an embodiment of the optical recording medium of the present invention. As shown in FIG. 1, at the time of recording, a metal thin film 20 is formed on a substrate 10 in which a groove for guiding light is formed, and a buffer layer 30 and a reflective layer 40 are sequentially laminated. The protective layer 50 is selectively disposed on the reflective layer 40 to protect the recording medium.
【0019】本発明において、光記録時、集光されたレ
ーザービームが金属薄膜20を加熱し、この熱は基板1
0及び緩衝層30に伝達されると共に、加熱された金属
薄膜20部分に隣接した基板10の一部も熱的に膨張変
形してピットを形成するため、金属薄膜20の加熱部分
が緩衝層30の方に膨張する。記録再生時、記録された
基板10の一部と金属薄膜20の変形された部分は、未
記録部位に比べて次のような原理により反射率が低下す
ることになる。In the present invention, during optical recording, the focused laser beam heats the metal thin film 20, and this heat is
0 and the portion of the substrate 10 adjacent to the heated portion of the metal thin film 20 is also thermally expanded and deformed to form pits. Inflates towards. At the time of recording / reproducing, the reflectance of a part of the substrate 10 on which the recording is performed and the deformed part of the metal thin film 20 are lower than those of the unrecorded part according to the following principle.
【0020】第1には、基板10と金属薄膜20の界面
からの反射光と緩衝層30と反射層40の界面からの反
射光との消滅干渉により反射率が低下する。図2にディ
スクに形成された記録部位であるピットの構造を示す。
図2に示すように、未記録部位は反射層40からの反射
光b1 と金属薄膜20からの反射光cが補強干渉となる
ように、緩衝層30の厚さが最初にd1 で決定されてい
る。そして、記録部位は加熱により基板10及び金属薄
膜20が熱膨張することにより、緩衝層30がd2 と薄
くなり、また、緩衝層30の膨張は反射層40を変形さ
せる。従って、基板10と金属薄膜20の界面で反射さ
れる反射光aと緩衝層30と反射層40との界面からの
反射光b2 との消滅干渉により反射率が低下する。First, the reflectance decreases due to the disappearing interference between the reflected light from the interface between the substrate 10 and the metal thin film 20 and the reflected light from the interface between the buffer layer 30 and the reflective layer 40. FIG. 2 shows a structure of a pit which is a recording portion formed on the disk.
As shown in FIG. 2, the thickness of the buffer layer 30 is initially determined at d 1 so that the reflected light b 1 from the reflective layer 40 and the reflected light c from the metal thin film 20 cause reinforcing interference. Have been. The substrate 10 and the metal thin film 20 are thermally expanded by heating, so that the buffer layer 30 becomes as thin as d 2, and the expansion of the buffer layer 30 deforms the reflective layer 40. Accordingly, the reflectance is decreased by destructive interference between the reflected light b 2 from the interface between the buffer layer 30 and the reflected light a is reflected at the interface between the substrate 10 and the metal thin film 20 and the reflective layer 40.
【0021】これは、ファブリーペロー効果を利用する
ものであって、図3に示すように、緩衝層30の厚さに
より記録媒体の反射率が変化する。よって、緩衝層30
は金属薄膜20の変形により消滅干渉が生じる条件の厚
さd2 に変形することができる材料で形成されるべきで
ある。This utilizes the Fabry-Perot effect, and as shown in FIG. 3, the reflectance of the recording medium changes depending on the thickness of the buffer layer 30. Therefore, the buffer layer 30
Should be formed of a material that can be deformed to a thickness d 2 under conditions that cause annihilation interference due to deformation of the metal thin film 20.
【0022】第2に、記録部位での入射光の分散により
反射率が低下する。基板10と金属薄膜20と緩衝層3
0は図2に示すように変形し、特に記録部位の両側に傾
いた面があって記録光が金属薄膜20の壁面で分散さ
れ、入射光の分散のない未記録部位に比べて反射率が低
下する。このような理由により、記録部位は未記録部位
に比べて反射率が低く、記録部位と未記録部位の反射率
の差で記録の再生が可能になる。Second, the reflectance is reduced due to the dispersion of the incident light at the recording site. Substrate 10, metal thin film 20, and buffer layer 3
2 is deformed as shown in FIG. 2, and in particular, there are inclined surfaces on both sides of the recording portion, the recording light is dispersed on the wall surface of the metal thin film 20, and the reflectance is lower than that of the unrecorded portion where the incident light is not dispersed. descend. For this reason, the recorded portion has a lower reflectance than the unrecorded portion, and recording can be reproduced by the difference between the reflectances of the recorded portion and the unrecorded portion.
【0023】第3に、記録光が照射されて金属薄膜20
が光を吸収し、吸収部位が局部的に加熱されて温度が急
激に上昇する場合、金属薄膜20及び隣接した基板10
と緩衝層30が局部的に熱分解されて、図2に示すよう
に、反射光aとb2 が小さくなることにより全体反射率
が低下する。上部層を除去後の変形した基板10と金属
薄膜20上の反強磁性磁気共鳴映像を図6に示し、反射
層40除去後の変形した緩衝層30上の反強磁性磁気共
鳴映像を図7に示す。Third, the recording light is irradiated to the metal thin film 20.
Absorbs light, and when the absorption site is locally heated and the temperature rises sharply, the metal thin film 20 and the adjacent substrate 10
A buffer layer 30 is locally thermally decomposed, as shown in FIG. 2, the overall reflectance by reflected light a and b 2 is smaller drops. FIG. 6 shows an antiferromagnetic magnetic resonance image on the deformed substrate 10 and the metal thin film 20 after removing the upper layer, and FIG. 7 shows an antiferromagnetic magnetic resonance image on the deformed buffer layer 30 after removing the reflective layer 40. Shown in
【0024】上述したように、この実施の形態の光記憶
媒体であるディスクは、緩衝層30上に反射層40を設
けて反射層40から反射される反射光b1 と金属薄膜か
ら反射される光cが補強干渉されるように緩衝層30の
厚さを調節することにより、未記録部位での70%以上
の反射が可能になる。特に、緩衝層30には必要により
色素を添加して、緩衝層30の屈折率を調節して、ファ
ブリーペロー効果を最大限にしている。[0024] As described above, the disk is an optical storage medium of this embodiment is reflected from the reflected light b 1 and the metal thin film to be reflected from the reflective layer 40 and the reflective layer 40 formed on the buffer layer 30 By adjusting the thickness of the buffer layer 30 so as to reinforce the light c, 70% or more reflection at an unrecorded portion becomes possible. In particular, a dye is added to the buffer layer 30 as needed to adjust the refractive index of the buffer layer 30 to maximize the Fabry-Perot effect.
【0025】上記のような本実施の形態のディスクにお
いて、基板10はレーザービームに対して透明であり、
優れた衝撃強度を有すると共に熱により膨張変形できる
ポリカーボネート、ポリメチルーメタクリレート、エポ
キシ、ポリエステル、非晶質ポリオレフィン等の材料を
用いて製造することができる。基板10の熱変形のため
のガラス転移温度は80〜200℃の範囲であり、最適
温度は100〜200℃である。基板10の表面には、
情報記録/再生時レーザービームをガイドする深さ30
〜450nm、幅0.1〜1.2μmの溝を形成する必要
がある。In the disk of the present embodiment as described above, the substrate 10 is transparent to the laser beam,
It can be manufactured using materials such as polycarbonate, polymethyl-methacrylate, epoxy, polyester, and amorphous polyolefin that have excellent impact strength and can be expanded and deformed by heat. The glass transition temperature for thermal deformation of the substrate 10 is in the range of 80 to 200C, and the optimal temperature is 100 to 200C. On the surface of the substrate 10,
Depth of 30 for guiding laser beam when recording / reproducing information
It is necessary to form a groove having a thickness of about 450 nm and a width of 0.1 to 1.2 μm.
【0026】金属薄膜20は、記録レーザービームを吸
収して発熱する発熱層及び記録前後のコントラストを示
すための部分反射層(partial mirror)の役割をすべき
であるので、一定の吸収率と反射率の特性が要求され
る。厚さは30〜500オングストローム、透過率は5
〜95%、吸収率は5〜95%が適当である。更に、金
属薄膜層20の代りに、非金属フィルムを薄膜/部分反
射膜20として適用することができる。非金属薄膜記録
層として、シリコン及びその化合物(シリコンナイトラ
イド、シリコンゲルマニウム、シリカ、SiO等)のよう
な非金属膜も使用できる。The metal thin film 20 should function as a heat generating layer that absorbs the recording laser beam to generate heat and a partial mirror for indicating the contrast before and after recording. Rate characteristics are required. Thickness is 30-500 Å, transmittance is 5
The appropriate absorption rate is 5 to 95%. Furthermore, instead of the metal thin film layer 20, a non-metal film can be applied as the thin film / partial reflection film 20. As the non-metallic thin film recording layer, a non-metallic film such as silicon and its compound (silicon nitride, silicon germanium, silica, SiO, etc.) can also be used.
【0027】このような金属または非金属薄膜記録層を
形成する物質の光学特性の複素屈折率の虚数部のk値は
0.01以上が適していて、0.01以下の場合、記録
時吸収及び記録部の変形が小さく、記録感度も小さくな
る。コンピューターシミュレーションの結果、n,k平
面上で7.15+3.93i,7.15+5.85i,
8.96+6.28i,9.56+5.90i,8.1
4+3.77iの頂点により決定された五角形内にある
k値を有する金属薄膜または非金属薄膜用の物質等は、
望ましい記録可能CDのための効果的な記録感度をもた
らさないものであると知られてきた。The k value of the imaginary part of the complex refractive index of the optical property of the substance forming the metal or non-metal thin film recording layer is suitably 0.01 or more. In addition, the deformation of the recording portion is small, and the recording sensitivity is also small. As a result of the computer simulation, 7.15 + 3.93i, 7.15 + 5.85i,
8.96 + 6.28i, 9.56 + 5.90i, 8.1
Materials for a metal or non-metallic thin film having a k value within a pentagon determined by the vertex of 4 + 3.77i include:
It has been found that it does not provide effective recording sensitivity for the desired recordable CD.
【0028】一方、金属薄膜20の厚さが500オング
ストローム以上の場合、次のような理由で記録信号が小
さくなる。第1に、記録時の基板10の膨張が金属薄膜
20により妨害されて、記録部位の変形が小さくなるか
らである。第2に、図4に示すように、金属薄膜20の
厚さが厚くなるほど記録時の緩衝層30の厚さの変化に
よる反射率の低下が小さくなり、記録部位のコントラス
トが低くなるからである。一方、金属薄膜20の厚さが
30オングストローム以下である場合、記録時の吸収に
よる発熱量が小さくなり基板の変形が難しくなる。On the other hand, when the thickness of the metal thin film 20 is 500 Å or more, the recording signal becomes small for the following reasons. First, the expansion of the substrate 10 at the time of recording is obstructed by the metal thin film 20, and the deformation of the recording portion is reduced. Second, as shown in FIG. 4, as the thickness of the metal thin film 20 increases, the decrease in reflectance due to a change in the thickness of the buffer layer 30 during recording decreases, and the contrast of the recording portion decreases. . On the other hand, when the thickness of the metal thin film 20 is 30 Å or less, the amount of heat generated by absorption at the time of recording becomes small, and it becomes difficult to deform the substrate.
【0029】そして、金属薄膜20の熱伝導度が4W/
cm℃以上の場合、レーザービームによる記録加熱時、
加熱された薄膜で熱が集中できず急速に周囲に伝達され
必要温度以上での加熱が難しく、加熱されても記録部の
大きさが拡大され隣接したトラックにまで拡張される可
能性があるので、金属薄膜の熱伝導度を4W/cm℃以
下になるように設定すべきである。The thermal conductivity of the metal thin film 20 is 4 W /
cm ° C or higher, when recording and heating with a laser beam,
Heat cannot be concentrated in the heated thin film and is quickly transmitted to the surroundings, making it difficult to heat above the required temperature, and even if heated, the size of the recording part may be expanded and extended to adjacent tracks. The thermal conductivity of the metal thin film should be set to 4 W / cm ° C. or less.
【0030】金属薄膜20の線膨張係数は3×10−6
/℃以上が適当であり、それ以下であると記録時に基板
10の変形による膨張で金属薄膜20に亀裂が発生し、
均一な記録信号値を得ることができない。The coefficient of linear expansion of the metal thin film 20 is 3 × 10 −6.
/ ° C. or more is appropriate, and if it is less than or equal to 1, the metal thin film 20 is cracked by expansion due to deformation of the substrate 10 during recording,
A uniform recording signal value cannot be obtained.
【0031】以上のような条件が要求される金属薄膜の
原料としては、Au、Al、Ag、Pt、Cu、Cr、Ni、Ti、Ta、
Fe及びその合金よりなるグループの中から少なくとも何
れか1つの金属が選択され適用され、この金属薄膜20
が基板10に真空蒸着、電子ビーム、スパッタリング法
等により積層される。As the raw materials of the metal thin film requiring the above conditions, Au, Al, Ag, Pt, Cu, Cr, Ni, Ti, Ta,
At least one metal is selected and applied from the group consisting of Fe and its alloys, and this metal thin film 20
Are laminated on the substrate 10 by vacuum evaporation, electron beam, sputtering, or the like.
【0032】緩衝層30は基板10と金属薄膜20の変
形を吸収する層として、変形しやすく、適当な流動性の
ある有機物で形成することが望ましい。この緩衝層30
のガラス転移温度(glass transition temperature)は
60〜180℃の範囲が適当であり、使用される基板の
ガラス転移温度より低い必要がある。ここで、緩衝層3
0のガラス転移温度が60℃以下であると記録の保存性
が低下し、180℃以上であると基板10の変形を妨害
して記録感度が低下する。このような緩衝層30は有機
物質を有機溶媒に溶かしてスピンコーティング法により
コーティングされるが、この際の溶媒として、有機物質
の溶解性が良く、基板を損傷させないものを使用するこ
とが望ましい。緩衝層30の厚さは、図4に示すよう
に、反射率70%以上となる厚さに設定されるが、その
範囲は50〜10000オングストロームが適当であ
る。The buffer layer 30 is preferably a layer which absorbs deformation of the substrate 10 and the metal thin film 20 and is easily deformed and formed of an appropriate fluid organic material. This buffer layer 30
The glass transition temperature is suitably in the range of 60 to 180 ° C. and needs to be lower than the glass transition temperature of the substrate used. Here, the buffer layer 3
If the glass transition temperature of 0 is 60 ° C. or lower, the storage stability of the recording decreases, and if it is 180 ° C. or higher, the deformation of the substrate 10 is hindered, and the recording sensitivity decreases. Such a buffer layer 30 is coated by a spin coating method by dissolving an organic substance in an organic solvent. It is desirable to use a solvent having good solubility of the organic substance and not damaging the substrate. As shown in FIG. 4, the thickness of the buffer layer 30 is set so as to have a reflectance of 70% or more, and the range is suitably 50 to 10000 angstroms.
【0033】緩衝層30の材料として使用される有機物
質には、ビニールアルコール系樹脂、ビニールアセター
ト系樹脂、アクレート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポ
リエテール系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ウレタン系樹
脂、セルロース系樹脂、ファッ酸(fattic acid)系化
合物、低い分子量の有機化合物等があり、これら材料等
の共重合体も緩衝層の原料として使用することができ
る。Organic materials used as the material of the buffer layer 30 include vinyl alcohol-based resin, vinyl acetate-based resin, acrylate-based resin, polyester-based resin, polyether-based resin, polystyrene-based resin, urethane-based resin, and cellulose-based resin. There are resins, fattic acid compounds, low molecular weight organic compounds, and the like. Copolymers of these materials and the like can also be used as a raw material of the buffer layer.
【0034】記録時の基板の熱変形を容易にするため
に、緩衝層30に色素を添加することができる。色素を
添加すると、記録時に緩衝層30も共に加熱されて基板
10の変形が容易に行われる。添加される色素の量は緩
衝層物質の30wt%未満にすべきであり、それ以上で
あると高い反射率が得られない。記録時に使用される光
を吸収する色素は、記録レーザービームの波長の長さ
(長波長:低密度光ディスク、低波長:高密度光ディス
ク)により選択される。780〜850nm範囲の波長
を吸収する近赤外線色素または610〜700nm範囲
の波長を吸収する色素を使用することが望ましい。例え
ば、シアニン、クロコニウム、フタロシアニン、ナフタ
ロシアニン等が使用される。In order to facilitate thermal deformation of the substrate during recording, a dye can be added to the buffer layer 30. When a dye is added, the buffer layer 30 is also heated during recording, and the substrate 10 is easily deformed. The amount of the dye to be added should be less than 30 wt% of the material of the buffer layer, and if it is more than that, a high reflectance cannot be obtained. The dye that absorbs light used during recording is selected according to the wavelength length of the recording laser beam (long wavelength: low-density optical disk, low wavelength: high-density optical disk). It is desirable to use near-infrared dyes that absorb wavelengths in the 780-850 nm range or dyes that absorb wavelengths in the 610-700 nm range. For example, cyanine, croconium, phthalocyanine, naphthalocyanine and the like are used.
【0035】反射層40は真空蒸着、電子ビーム蒸着、
スパッタリング法等により形成することができるが、そ
の原料としてはAu、Al、Ag、Pt、Cu、Cr、Ni、Ti、Ta、
Fe及びその合金が使用され、その厚さは500〜150
0オングストロームの範囲が適当である。The reflection layer 40 is formed by vacuum evaporation, electron beam evaporation,
It can be formed by a sputtering method or the like, and its raw materials are Au, Al, Ag, Pt, Cu, Cr, Ni, Ti, Ta,
Fe and its alloys are used, and the thickness is 500-150
A range of 0 Angstroms is appropriate.
【0036】記録媒体を保護する保護膜50には、衝撃
強度が強くて透明であり、紫外線(UV)により硬化可能
な物質が使用でき、エポキシ系またはアクリル酸塩系硬
化樹脂はスピンコーティング法によりコーティングされ
た後、紫外線により硬化させて保護膜として利用され
る。As the protective film 50 for protecting the recording medium, a material having a strong impact strength and being transparent and curable by ultraviolet rays (UV) can be used, and an epoxy-based or acrylate-based cured resin is formed by spin coating. After being coated, it is cured by ultraviolet rays and used as a protective film.
【0037】この実施の形態では、各層(基板、金属薄
膜、緩衝層、反射層)を変形させる例を説明したが、各
層のレーザービームのパワー及び物理的特性(例えば、
ヤング率、熱伝導度、熱膨張係数、ガラス転移温度等)
により、1つまたは2つの層のみを変形をすることがで
きる。金属薄膜の溶融点が高いので金属薄膜自体の変形
は希なことである。しかし、金属薄膜の熱変形はレーザ
ービームのパワーにより起こる。例えば、記録レーザー
ビームのパワーが高い時、集光中心部の周りを形成する
ために、金属薄膜20を金属溶融点以上で加熱すること
により溶かす。In this embodiment, an example in which each layer (substrate, metal thin film, buffer layer, reflection layer) is deformed has been described. However, the power and physical characteristics (for example,
Young's modulus, thermal conductivity, coefficient of thermal expansion, glass transition temperature, etc.)
Thereby, only one or two layers can be deformed. Since the melting point of the metal thin film is high, the deformation of the metal thin film itself is rare. However, thermal deformation of the metal thin film occurs due to the power of the laser beam. For example, when the power of the recording laser beam is high, the metal thin film 20 is melted by heating at a temperature higher than the metal melting point in order to form around the center of the condensing light.
【0038】更に、緩衝層30に使用される原料が、基
板10に使用される原料より安定的な物理的な特性(例
えば、低い熱膨張係数、高いガラス転移温度及び高いヤ
ング率)を有するとき、基板10のみに変形が起こる。
レーザー記録時、金属薄膜20の熱転移により金属薄膜
20と緩衝層30に変形が起こる。しかし、金属薄膜2
0と緩衝層30での変形は非常に微弱であるので観測し
にくい。また、この変形は記録する間ほとんど影響を与
えない。Further, when the raw material used for the buffer layer 30 has more stable physical properties (for example, a lower coefficient of thermal expansion, a higher glass transition temperature, and a higher Young's modulus) than the raw material used for the substrate 10. , Only the substrate 10 is deformed.
During laser recording, the metal thin film 20 and the buffer layer 30 are deformed due to thermal transition of the metal thin film 20. However, the metal thin film 2
0 and the deformation at the buffer layer 30 are very weak, so it is difficult to observe. Also, this deformation has little effect during recording.
【0039】また、基板10に使用される材料が緩衝層
30に使用される材料と比べて安定的な物理的な特性を
有しているとき、変形は主に緩衝層30で起こる。基板
10に使用される材料と緩衝層30に使用される材料が
類似した物理的特性を有するとき、基板10と緩衝層3
0で変形が主に発生する。When the material used for the substrate 10 has more stable physical properties than the material used for the buffer layer 30, the deformation mainly occurs in the buffer layer 30. When the material used for the substrate 10 and the material used for the buffer layer 30 have similar physical properties,
At 0, deformation occurs mainly.
【0040】[0040]
【実施例】本発明を実施例に基づき更に詳述するが、本
発明はその詳細な実験例に限定されない。EXAMPLES The present invention will be described in more detail based on examples, but the present invention is not limited to the detailed experimental examples.
【0041】本発明の第1の実施例について説明する。
深さ170nm、幅0.05μm、トラックピッチ1.
6μmの溝を有する1.2mmの厚さのポリカーボネー
ト基板上に10nmのAl薄膜を真空蒸着した。この上
に、シアノーバイフェニルエポキシアミン0.9gをジ
アセトンアルコール10mlに溶かしたコーティング液
を2000rpmでスピンコーティングして緩衝層を形
成した。この際、溝の部位の緩衝層の厚さをSEMで測
定した結果、約2500オングストロームであった。そ
して、40℃の温度を保つ真空オーブンで約4時間乾燥
した後、1000オングストロームのAlを真空蒸着して
反射層を形成した。この上に、エポキシアクリル酸塩系
UV硬化樹脂をスピンコーティングした後、硬化させディ
スクを製造した。A first embodiment of the present invention will be described.
Depth 170 nm, width 0.05 μm, track pitch 1.
A 10 nm Al thin film was vacuum deposited on a 1.2 mm thick polycarbonate substrate having 6 μm grooves. On top of this, a coating solution of 0.9 g of cyanobiphenyl epoxyamine dissolved in 10 ml of diacetone alcohol was spin-coated at 2000 rpm to form a buffer layer. At this time, the thickness of the buffer layer at the groove was measured by SEM and found to be about 2500 angstroms. Then, after drying in a vacuum oven maintained at a temperature of 40 ° C. for about 4 hours, 1000 Å of Al was vacuum deposited to form a reflective layer. On top of this, epoxy acrylate
After spin-coating the UV-curable resin, it was cured to produce a disk.
【0042】このように製造されたディスクを780nm
のレーザービームを使用する評価設備を使用して評価し
た結果、反射率72%であり、記録速度1.3m /se
c、720kHzの信号を記録パワー8mWで記録した後に
0.7mWのレーザービームで記録を再生して51dBのC
NRを得た。そして、記録速度4.8m/sec、記録パワ
ー10mWで記録した後に再生したとき、42dBのCNR
を得た。上記の記録条件で記録パワーを変化させると、
図5に示すように、4mW以上で47dB以上の記録信号の
再生が可能となる。このディスクをパイオニア社のRP
−1000CDレコーダーによりオーディオ記録後、C
Dプレーヤーで再生可能であって、CDーCATSで記録特性
を評価した結果、全項目がCD規格を満たしていた。The disk manufactured in this way was 780 nm thick.
As a result of evaluation using an evaluation device using a laser beam, the reflectance was 72%, and the recording speed was 1.3 m / se.
c, After recording a 720 kHz signal with a recording power of 8 mW, the recording was reproduced with a 0.7 mW laser beam to obtain a 51 dB C
NR was obtained. When reproduced after recording at a recording speed of 4.8 m / sec and a recording power of 10 mW, a CNR of 42 dB was obtained.
I got When the recording power is changed under the above recording conditions,
As shown in FIG. 5, it is possible to reproduce a recording signal of 47 dB or more at 4 mW or more. This disk is pioneer RP
After recording audio with a -1000CD recorder,
It was reproducible on a D player, and the recording characteristics were evaluated using CD-CATS. As a result, all items satisfied the CD standard.
【0043】次に、第2及び第3の実施例として、Al薄
膜の厚さを7nmと12nmとして、他の工程を第1の
実施例と同一な方法によりディスクを製造した。そし
て、第1実施例のような評価条件で記録評価した結果、
金属薄膜7nmのディスクは反射率73%、CNR48dB
を示し、金属薄膜12nmのディスクは反射率69%、
53dBのCNRを示した。Next, as the second and third embodiments, discs were manufactured by the same method as in the first embodiment except that the thickness of the Al thin film was 7 nm and 12 nm. Then, as a result of recording evaluation under the evaluation conditions as in the first embodiment,
Disk with 7nm metal thin film has reflectance 73%, CNR 48dB
Shows that a disk with a metal thin film of 12 nm has a reflectance of 69%,
A CNR of 53 dB was shown.
【0044】更に、第4乃至第8実施例として、金属薄
膜を下記の表1に示すようにAu、Cu、Ag、Ni、Ptとし
て、第1実施例と同一な方法でディスクを製造し評価し
た。評価結果を表1に示す。Further, as the fourth to eighth embodiments, the metal thin film was made of Au, Cu, Ag, Ni, and Pt as shown in Table 1 below, and disks were manufactured and evaluated in the same manner as in the first embodiment. did. Table 1 shows the evaluation results.
【0045】[0045]
【表1】 [Table 1]
【0046】更にまた、第9乃至第13実施例として、
緩衝層の材料をPMMA(Polyscience製、Mw:2500
0)、PVA(Polyscience製:35000)、Polyethyle
neoxide(Polyscience製、Mw:32000)及び脂肪酸
(Fatty acid、Tokyo Kasei製、Standard kit FE
M−1)とし、緩衝層の厚さを2500オングストロー
ムになるように溝で調節して、第2実施例と同じ記録評
価を行った。評価結果を表2に示す。Further, as ninth to thirteenth embodiments,
The material of the buffer layer was PMMA (Polyscience, Mw: 2500).
0), PVA (Polyscience: 35000), Polyethyle
neoxide (Polyscience, Mw: 32000) and fatty acid (Fatty acid, Tokyo Kasei, Standard kit FE)
M-1), the thickness of the buffer layer was adjusted with a groove so as to be 2500 angstroms, and the same recording evaluation as in the second example was performed. Table 2 shows the evaluation results.
【0047】[0047]
【表2】 [Table 2]
【0048】また、第14実施例として、緩衝層の形成
時において、緩衝層にNK125(日本光学色素)を緩
衝層材料の0.5wt%を添加し、それ以外の製造工程を
第1実施例と同一な方法によりディスクを制作した。こ
のディスクを記録速度1.3m/sec 、記録パワー8mw
で記録した場合、52dBのCNR、4.8m/sec で記
録した場合、48dBのCNRを得て、反射率70%でC
D−ROM用ディスクとして使用することができた。As a fourteenth embodiment, when the buffer layer is formed, NK125 (Nippon Kogaku Dye) is added to the buffer layer in an amount of 0.5 wt% of the material of the buffer layer. A disc was produced in the same manner as described above. This disc was recorded at a recording speed of 1.3 m / sec and a recording power of 8 mw.
In the case of recording at, the CNR of 52 dB was obtained at 4.8 m / sec, and the CNR of 48 dB was obtained.
It could be used as a D-ROM disk.
【0049】[0049]
【発明の効果】以上、詳述したように本発明は緩衝層を
用いることにより記録が可能となり、CDとの互換が可
能となる。特に、高価な有機色素を使用しないので製造
コストを低減することができ、生産性を大きく高めるこ
とができる。As described in detail above, according to the present invention, recording can be performed by using a buffer layer, and compatibility with a CD becomes possible. In particular, since expensive organic dyes are not used, manufacturing costs can be reduced, and productivity can be greatly increased.
【図1】本発明に係る光記録媒体であるディスクの積層
構造を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing a laminated structure of a disk which is an optical recording medium according to the present invention.
【図2】本発明に係るディスクに形成された記録部位で
あるピットの構造を示す概略断面図である。FIG. 2 is a schematic sectional view showing a structure of a pit which is a recording portion formed on a disk according to the present invention.
【図3】本発明に係るディスクの金属薄膜の厚さの変化
に対する緩衝層の厚さの変化による反射率の変化を示す
グラフである。FIG. 3 is a graph showing a change in reflectance according to a change in thickness of a buffer layer with respect to a change in thickness of a metal thin film of a disk according to the present invention.
【図4】本発明に係るディスクにおいて、緩衝層の厚さ
の変化による反射率の変化を示すグラフである。FIG. 4 is a graph showing a change in reflectance according to a change in the thickness of a buffer layer in the disk according to the present invention.
【図5】本発明に係る第1実施例のディスクの記録パワ
ーとCNRの関係を示すグラフである。FIG. 5 is a graph showing the relationship between the recording power and the CNR of the disk of the first embodiment according to the present invention.
【図6】記録部により変形された基板と金属薄膜を示す
反強磁性磁気共鳴映像である。FIG. 6 is an antiferromagnetic magnetic resonance image showing a substrate and a metal thin film deformed by a recording unit.
【図7】記録部により変形された緩衝層を示す反強磁性
磁気共鳴映像である。FIG. 7 is an antiferromagnetic magnetic resonance image showing a buffer layer deformed by a recording unit.
【図8】従来の光記録媒体の積層構造を示す断面図であ
る。FIG. 8 is a sectional view showing a laminated structure of a conventional optical recording medium.
【図9】従来の光記録媒体の積層構造を示す断面図であ
る。FIG. 9 is a sectional view showing a laminated structure of a conventional optical recording medium.
【図10】従来の光記録媒体の積層構造を示す断面図で
ある。FIG. 10 is a sectional view showing a laminated structure of a conventional optical recording medium.
【図11】従来の光記録媒体の積層構造を示す断面図で
ある。FIG. 11 is a sectional view showing a laminated structure of a conventional optical recording medium.
【図12】従来の光記録媒体の積層構造を示す断面図で
ある。FIG. 12 is a sectional view showing a laminated structure of a conventional optical recording medium.
10…基板 20…金属薄膜 30…緩衝層 40…反射層 50…保護層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Substrate 20 ... Metal thin film 30 ... Buffer layer 40 ... Reflective layer 50 ... Protective layer
─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成9年4月21日[Submission date] April 21, 1997
【手続補正1】[Procedure amendment 1]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】0023[Correction target item name] 0023
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【0023】第3に、記録光が照射されて金属薄膜20
が光を吸収し、吸収部位が局部的に加熱されて温度が急
激に上昇する場合、金属薄膜20及び隣接した基板10
と緩衝層30が局部的に熱分解されて、図2に示すよう
に、反射光aとb2 が小さくなることにより全体反射率
が低下する。上部層を除去後の変形した基板10と金属
薄膜20上のAFM写真を図6に示し、反射層40除去
後の変形した緩衝層30上のAFM写真を図7に示す。Third, the recording light is irradiated to the metal thin film 20.
Absorbs light, and when the absorption site is locally heated and the temperature rises sharply, the metal thin film 20 and the adjacent substrate 10
A buffer layer 30 is locally thermally decomposed, as shown in FIG. 2, the overall reflectance by reflected light a and b 2 is smaller drops. FIG. 6 shows an AFM photograph on the deformed substrate 10 and the metal thin film 20 after removing the upper layer, and FIG. 7 shows an AFM photograph on the deformed buffer layer 30 after removing the reflective layer 40.
【手続補正2】[Procedure amendment 2]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】図6[Correction target item name] Fig. 6
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【図6】記録部により変形された基板と金属薄膜を示す
AFM写真である。FIG. 6 shows a substrate and a metal thin film deformed by a recording unit.
It is an AFM photograph .
【手続補正3】[Procedure amendment 3]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】図7[Correction target item name] Fig. 7
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction contents]
【図7】
記録部により変形された緩衝層を
示すAFM写真である。FIG. 7
4 is an AFM photograph showing a buffer layer deformed by a recording unit.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (31)優先権主張番号 96−57073 (32)優先日 1996年11月25日 (33)優先権主張国 韓国(KR) (31)優先権主張番号 特願平8−235693 (32)優先日 平8(1996)9月6日 (33)優先権主張国 日本(JP) (72)発明者 閔 慶 ▲旋▼ 大韓民国 京畿道 龍仁郡 器興邑 新葛 里 11 6−2番地 (72)発明者 金 鍾 星 大韓民国 京畿道 城南市 盆唐區 金谷 洞 177番地 チョンソルマウル瑞光アパ ート 101棟 1604號 (72)発明者 ガリット コーネリス ダベルダム オランダ王国 6904 ピー・エイチ ゼベ ェナ シムバール 16 (72)発明者 フレディー ガーハルド ヘンドリクス バン ウィック オランダ王国 6814 ビー・ケー アーン ヘム アペルドーンウェグ 24 (72)発明者 ニコ マースカント オランダ王国 6852 イー・エヌ ハイセ ン タス 3 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (31) Priority claim number 96-57073 (32) Priority date November 25, 1996 (33) Priority claim country South Korea (KR) (31) Priority claim number Japanese Patent Application No. 8 −235693 (32) Priority Date Hei 8 (1996) September 6 (33) Priority Country Japan (JP) (72) Inventor Min Kyung ▲ Rotation ▼ Republic of Korea 1 16 No.-2 (72) Inventor Kim Jong-seong South Korea Gyeonggi-do Seongnam-si, Bundang-gu, Jinya-dong 177 Jongsol-Maul, Ritsuko-Apart 101 Building No. 1604 No. 1604 (72) Inventor Galit Cornelis Dabeldam Netherlands 6904 Na Simbar 16 (72) Inventor Freddie Garhard Hendricks Van Wick The Netherlands 6814 BK Ahn Hem Apeldonwe 24 (72) inventor Nico Masukanto Netherlands 6852 E. N. Haise down + 3
Claims (26)
な緩衝層と、を備えることを特徴とする記録再生可能な
光記録媒体。A substrate having a guide groove formed thereon, a metal thin film formed on the substrate, a reflective layer provided on the metal thin film, and formed between the metal thin film and the reflective layer. An optical recording medium capable of recording and reproduction, comprising: a deformable buffer layer.
具備することを特徴とする請求項1記載の記録再生可能
な光記録媒体。2. The optical recording medium according to claim 1, further comprising a protective layer provided on said reflective layer.
少なくとも1つは変形部を有することを特徴とする請求
項1記載の記録再生可能な光記録媒体。3. The optical recording medium according to claim 1, wherein at least one of the substrate, the metal thin film, and the buffer layer has a deformed portion.
徴とする請求項1記載の記録再生可能な光記録媒体。4. The optical recording medium according to claim 1, wherein said buffer layer is made of an organic material.
し、前記緩衝層は前記変形部で厚さが薄くなることを特
徴とする請求項1記載の記録再生可能な光記録媒体。5. The optical recording medium according to claim 1, wherein the substrate and the metal thin film have a deformed portion, and the buffer layer has a reduced thickness at the deformed portion.
前記反射層は変形部を有することを特徴とする請求項1
記載の記録再生可能な光記録媒体。6. The semiconductor device according to claim 1, wherein the substrate, the metal thin film, the buffer layer, and the reflection layer have a deformed portion.
An optical recording medium capable of recording and reproduction according to the above.
の値が0.01以上であることを特徴とする請求項1記
載の記録再生可能な光記録媒体。7. The optical recording medium according to claim 1, wherein the metal thin film has an imaginary part of a complex refractive index coefficient of 0.01 or more.
グストロームの範囲であることを特徴とする請求項1記
載の記録再生可能な光記録媒体。8. The optical recording medium according to claim 1, wherein the thickness of said thin metal film is in the range of 30 to 500 Å.
r、Ni、Ti、Ta、Fe及びその合金の中から選択された少
なくとも何れか1つよりなることを特徴とする請求項1
乃至請求項8のいずれかに記載の記録再生可能な光記録
媒体。9. The metal thin film is made of Au, Al, Ag, Pt, Cu, C
2. The method according to claim 1, comprising at least one selected from r, Ni, Ti, Ta, Fe and alloys thereof.
An optical recording medium capable of recording and reproducing according to claim 8.
オングストロームの範囲であることを特徴とする請求項
1記載の記録再生可能な光記録媒体。10. The buffer layer has a thickness of 50 to 10,000.
2. The recordable and reproducible optical recording medium according to claim 1, wherein the optical recording medium is in the range of angstrom.
180℃の範囲であることを特徴とする請求項4記載の
記録再生可能な光記録媒体。11. The buffer layer has a glass transition temperature of 60 to 60.
5. The recordable and readable optical recording medium according to claim 4, wherein the temperature is in a range of 180.degree.
含むことを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか
に記載の記録再生可能な光記録媒体。12. The optical recording medium according to claim 1, wherein the buffer layer contains less than 30% of an organic dye.
r、Ni、Ti、Ta、Fe及びその合金の中から選択された少
なくとも何れか1つよりなることを特徴とする請求項1
記載の記録再生可能な光記録媒体。13. The reflection layer is made of Au, Al, Ag, Pt, Cu, C
2. The method according to claim 1, comprising at least one selected from r, Ni, Ti, Ta, Fe and alloys thereof.
An optical recording medium capable of recording and reproduction according to the above.
導度を有することを特徴とする請求項1記載の記録再生
可能な光記録媒体。14. The optical recording medium according to claim 1, wherein the metal thin film has a thermal conductivity of 4 W / cm ° C. or less.
媒体への光記録方法であって、 予め形成された所定の溝を有する基板上に金属薄膜を形
成する工程と、 前記金属薄膜上に緩衝層を形成する工程と、 前記基板と前記金属薄膜と前記緩衝層の内少なくとも1
つ以上に変形が起きるように、前記基板と前記緩衝層の
間に位置する前記金属薄膜をレーザービームで加熱する
工程と、 を備えることを特徴とする光記録媒体への光記録方法。15. An optical recording method on an optical recording medium for forming pits in which deformation occurs, comprising: forming a metal thin film on a substrate having a predetermined groove formed in advance; Forming a layer, at least one of the substrate, the metal thin film and the buffer layer
Heating the metal thin film located between the substrate and the buffer layer with a laser beam so that more than one deformation occurs.
する工程は、前記緩衝層と前記金属薄膜と前記基板を変
形させる工程を更に備えることを特徴とする請求項15
記載の光記録媒体への光記録方法。16. The method according to claim 15, wherein the step of heating the metal thin film with a laser beam further includes the step of deforming the buffer layer, the metal thin film, and the substrate.
An optical recording method for the optical recording medium according to the above.
を更に備えることを特徴とする請求項15記載の光記録
媒体への光記録方法。17. The optical recording method on an optical recording medium according to claim 15, further comprising a step of forming a reflective layer on the buffer layer.
を更に備えることを特徴とする請求項17記載の光記録
媒体への光記録方法。18. The method according to claim 17, further comprising a step of forming a protective layer on the reflective layer.
特徴とする請求項15記載の光記録媒体への光記録方
法。19. The optical recording method according to claim 15, wherein the buffer layer is made of an organic material.
Cr、Ni、Ti、Ta、Fe及びその合金の中から選択された少
なくとも何れか1つの物質よりなることを特徴とする請
求項15記載の光記録媒体への光記録方法。20. The metal thin film is made of Au, Al, Ag, Pt, Cu,
16. The optical recording method according to claim 15, wherein the optical recording medium is made of at least one selected from the group consisting of Cr, Ni, Ti, Ta, Fe, and alloys thereof.
180℃の範囲であることを特徴とする請求項15記載
の光記録媒体への光記録方法。21. The glass transition temperature of the buffer layer is 60 to
The optical recording method according to claim 15, wherein the temperature is in a range of 180 ° C.
を更に備えることを特徴とする請求項15記載の光記録
媒体への光記録方法。22. The optical recording method according to claim 15, further comprising a step of adding an organic dye to the buffer layer.
添加されていることを特徴とする請求項15記載の光記
録媒体への光記録方法。23. The optical recording method on an optical recording medium according to claim 15, wherein the buffer layer contains an organic dye of less than 30%.
導度を有することを特徴とする請求項15記載の光記録
媒体への光記録方法。24. The optical recording method on an optical recording medium according to claim 15, wherein said metal thin film has a thermal conductivity of 4 W / cm ° C. or less.
する工程は、前記緩衝層を変形させる工程を更に備える
ことを特徴とする請求項15記載の光記録媒体への光記
録方法。25. The optical recording method according to claim 15, wherein the step of heating the metal thin film with a laser beam further comprises a step of deforming the buffer layer.
る工程を更に備えることを特徴とする請求項17記載の
光記録媒体への光記録方法。26. The method according to claim 17, further comprising the step of deforming the reflection layer on the buffer layer.
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002050821A1 (en) * | 2000-12-19 | 2002-06-27 | Sony Corporation | Optical disc, recording apparatus and method for optical disc, and its reproducing method |
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| KR100363256B1 (en) * | 2000-03-28 | 2002-11-30 | 삼성전자 주식회사 | Optical recording medium |
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-
1996
- 1996-12-02 JP JP32126596A patent/JP3395104B2/en not_active Expired - Fee Related
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| US8125868B2 (en) | 2000-12-19 | 2012-02-28 | Sony Corporation | Optical disc, optical disc recording apparatus and method, optical disc reproducing method |
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