JPH11134648A5 - - Google Patents

Description

【発明の名称】光情報記録装置、光情報記録方法、ディスク製造方法及び光ディスク

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光情報記録装置、光情報記録方法、ディスク製造方法及び光ディスクに関し、例えばコンパクトディスクの記録装置、その記録方法に適用することができる。本発明は、極座標によるレーザービーム照射位置の位置情報を直交座標による位置情報に変換して、対応する画像データをアクセスし、この画像データに応じてレーザービームの光量を制御することにより、コンパクトディスクの情報記録面に、文字、画像を目視可能に簡易に記録することができるようにする。

【０００７】
本発明は以上の点を考慮してなされたもので、情報記録面に目視可能な文字、画像を簡易に記録することができる光情報記録装置、光情報記録方法、ディスク製造方法及び光ディスクを提案しようとするものである。

【０００８】
【課題を解決するための手段】
かかる課題を解決するため本発明においては、光情報記録装置、光情報記録方法、ディスク製造方法及び光ディスクにおいて、光情報記録媒体の回転中心を基準にした極座標による位置情報を直交座標による位置情報に座標変換し、この直交座標による位置情報をアドレスにして画像データを出力し、この画像データに応じて、レーザービームの光量を変化させる。

Claims (11)

1. 光情報記録媒体にレーザービームを間欠的に照射して順次ピット列を形成することにより所望のデータを記録する光情報記録装置において、
   前記光情報記録媒体の回転中心を基準にした極座標により、前記レーザービームの照射位置を示す極座標による位置情報を出力する極座標生成手段と、
   前記極座標による位置情報を座標変換して直交座標による位置情報を生成する座標変換手段と、
   前記直交座標による位置情報をアドレスにして保持した画像データを出力する画像データ保持手段と、
   前記画像データ保持手段より出力される画像データに応じて、前記レーザービームの光量を変化させる光変調手段と
   を備えることを特徴とする光情報記録装置。
2. 前記極座標生成手段は、
   前記光情報記録媒体上における半径方向の位置情報と、円周方向の位置情報とにより、前記極座標による位置情報を生成し、
   前記光情報記録媒体が所定の角度回転する毎に信号レベルが変化する回転情報信号をカウントすることにより、前記半径方向の位置情報と、前記円周方向の位置情報とを生成する
   ことを特徴とする請求項１に記載の光情報記録装置。
3. 前記レーザービームの光量の変化に対応して、前記レーザービームの照射のタイミングを補正することにより、前記レーザービームの光量の変化により変化する前記ピットのピット長を補正するタイミング補正手段を有する
   ことを特徴とする請求項１に記載の光情報記録装置。
4. 前記タイミング補正手段は、
   前記光情報記録媒体より得られる再生信号を所定のスライスレベルで２値化して２値化信号を生成した際に、所定の基本周期を単位にして前記２値化信号が変化するように、前記レーザービームの照射のタイミングを補正する
   ことを特徴とする請求項３に記載の光情報記録装置。
5. 補正データ格納手段に格納した補正データに従って、前記レーザービームの照射のタイミングを補正する
   ことを特徴とする請求項４に記載の光情報記録装置。
6. レーザービームを間欠的に照射して順次ピット列を形成することにより所望のデータを記録する光情報記録方法において、
   前記光情報記録媒体上における前記レーザービームの照射位置を示す極座標による位置情報を、直交座標による位置情報に変換して画像メモリをアクセスし、前記画像メモリより得られる画像データに応じて、前記ピットのピット幅を変化させる
   ことを特徴とする光情報記録方法。
7. 前記極座標による位置情報を、前記光情報記録媒体上における半径方向の位置情報と円周方向の位置情報とにより生成し、
   前記光情報記録媒体が所定の角度回転する毎に信号レベルが変化する回転情報信号をカウントすることにより、前記半径方向の位置情報と、前記円周方向の位置情報とを生成する
   ことを特徴とする請求項６に記載の光情報記録方法。
8. 前記画像データに対応して、前記レーザービームの照射のタイミングを補正することにより、前記ピット幅の変化に追従して変化する前記ピットのピット長を補正する
   ことを特徴とする請求項６に記載の光情報記録方法。
9. ディスク原盤にレーザービームを間欠的に照射して順次ピット列を作成することにより前記ディスク原盤に所望のデータを記録するディスク原盤の露光工程と、
   前記露光工程による前記ディスク原盤を現像する現像工程と、
   前記現像工程による前記ディスク原盤よりスタンパーを作成するスタンパー作成の工程と、
   前記スタンパーよりディスク基板を作成するディスク基板の作成工程と、
   前記ディスク基板に反射膜、保護膜を作成して光ディスクを作成する工程とを有し、
   前記ディスク原盤の露光工程は、
   前記ディスク原盤上における前記レーザービームの照射位置を示す極座標による位置情報を、直交座標による位置情報に変換して画像メモリをアクセスし、前記画像メモリより得られる画像データに応じて前記ピットのピット幅を変化させる
   ことを特徴とする光ディスク製造方法。
10. 前記ディスク原盤の露光工程は、
    前記画像データに対応して、前記レーザービームの照射のタイミングを補正することにより、前記ピット幅の変化に追従して変化する前記ピットの長さを補正する
    ことを特徴とする請求項９に記載の光ディスク製造方法。
11. スタンパーより作成されたディスク基板に反射膜、保護膜を作成して製造される光ディスクにおいて、
    前記スタンパーは、
    ディスク原盤にレーザービームを間欠的に照射して順次ピット列を作成したディスク原盤を現像して、前記ディスク原盤より作成され、
    前記ディスク原盤は、
    前記ディスク原盤上における前記レーザービームの照射位置を示す極座標による位置情報を、直交座標による位置情報に変換して画像メモリをアクセスし、前記画像メモリより得られる画像データに応じて前記ピットのピット幅が変化して前記ピット列が形成された
    ことを特徴とする光ディスク。