JPH11163081A - カセット載置ステージ - Google Patents

カセット載置ステージ

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Publication number
JPH11163081A
JPH11163081A JP9328616A JP32861697A JPH11163081A JP H11163081 A JPH11163081 A JP H11163081A JP 9328616 A JP9328616 A JP 9328616A JP 32861697 A JP32861697 A JP 32861697A JP H11163081 A JPH11163081 A JP H11163081A
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JP
Japan
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cassette
wafer
stage
bar
cassette mounting
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Application number
JP9328616A
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English (en)
Inventor
Yoshio Shimizu
好男 清水
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Publication date
Application filed by Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority to JP9328616A priority Critical patent/JPH11163081A/ja
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  • Supply And Installment Of Electrical Components (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 カセット内の基板の種類を適切に判別すると
ともに、ステージに対するカセットの搬入出方向の自由
度を高める。 【解決手段】 カセット載置ステージ1の基台15に、
カセット載置面のHバー121を位置決めするHバー受
け151を設けるとともに、Hバー121を検知する検
知ユニット16を設けた。Hバー受け151には、ウエ
ハサイズ毎にHバー121を介入させて位置決めする凹
部151a〜151dを設けた。検知ユニット16に
は、上記Hバー受け151の各凹部151a〜151d
にHバー121が介入されたときに、それぞれHバー1
21により揺動させられる揺動部材163a〜163d
と、揺動した各揺動部材163a〜163dをそれぞれ
検知するセンサとを設けた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体集積回路作
成用のフォトマスク基板、半導体ウエハや液晶表示装置
用のガラス基板などの基板の処理装置、あるいはこれら
基板上に形成された膜厚を測定する膜厚測定装置に適用
されるカセット載置ステージに関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体ウエハ等の基板上に形成された透
明薄膜の膜厚を測定する膜厚測定装置として、本願出願
人は、特開平8−320389号公報に開示されるよう
な装置を提案し出願している。
【0003】この装置は、半導体ウエハ(以下、ウエハ
と略す)に形成された薄膜の膜厚を測定する装置で、ウ
エハカセットを載置するカセット載置部(カセット載置
ステージ)と、搬送手段であるローダと、膜厚測定のた
めの測定ヘッドと、該測定ヘッドによる被測定ウエハを
保持する測定ステージとを備えている。
【0004】この装置によれば、カセット内に収納され
ているウエハは、ローダによって取出されながら測定ス
テージへと移載され、測定ヘッド直下の所定の測定位置
に配置されて膜厚測定が行われる。そして、膜厚測定が
終了すると、ローダにより測定ステージから取上げられ
て再びカセット内に収納されるようになっている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上記装置では、径(サ
イズ)の異なる複数種類のウエハの膜厚測定を単一の装
置で行うため、そのサイズに応じてローダ等を制御すべ
く、従来では、ウエハのサイズをオペレータが操作部を
介して入力するようにしていた。
【0006】しかし、この場合には、オペレータによる
入力ミスや入力忘れによるウエハの破損や測定不良を招
くという懸念がある。そのため最近では、例えば、光の
照射部と受光部とをカセットを挟んで備え、前記照射光
が遮断されることによりカセットを検知する光透過型セ
ンサを上記カセット載置部に複数並べて設けるように
し、各センサによる検出の有無を調べることによりカセ
ットサイズを検知し、これによりウエハサイズを自動的
に検知するようにしている。
【0007】ところが、この構成の場合には、アーム等
を立設して、カセット載置部の上方に光の照射部を並べ
て配置する必要があるため、カセット搬入出時のカセッ
トとアーム、あるいは照射部との干渉を回避すべく、カ
セット載置部に対するカセットの搬入出方向に制約が課
せられるという問題がある。
【0008】本発明は、上記問題を解決するためになさ
れたものであり、カセット内の基板の種類を適切に判別
するとともに、ステージに対するカセットの搬入出方向
の自由度を高めることができるカセット載置ステージを
提供するものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明のカセット載置ステージは、カセット内に収
納された基板をロボットにより取出させるべく、基板を
収納したカセットを位置決めした状態で載置するカセッ
ト載置ステージであって、カセット載置面に形成された
形状的特徴部分を介してカセットを位置決めする位置決
め手段と、位置決めされたカセットの上記形状的特徴部
分を検知する検知手段とを設け、カセットに収納された
基板の種類毎に異なる位置に上記形状的特徴部分を位置
決めするように上記位置決め手段を構成するとともに、
上記位置決め手段により位置決めされる各カセットをそ
れぞれ検知するように上記検知手段を構成したものであ
る(請求項1)。
【0010】この装置によれば、カセット内に収納され
る基板の種類と位置決めされたカセットの形状的特徴部
分の位置とが一対一対応となっているため、ステージ上
にカセットが載置されると、上記検知手段による上記形
状的特徴部分の検知に基づいて基板の種類を判別するこ
とができる。
【0011】この場合、上記形状的特徴部分をカセット
載置面に突設される脚部とし、この脚部を位置決めする
とともに検知するように上記位置決め手段及び検知手段
を構成することができる(請求項2)。
【0012】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について図面
を用いて説明する。図1は本発明に係るカセット載置ス
テージが適用される膜厚測定装置を示す斜視図である。
この図に示す膜厚測定装置は、半導体ウエハに形成され
た薄膜の膜厚を測定する装置であり、ウエハカセットを
載置するカセット載置ステージ1と、ウエハカセットに
対してウエハを出し入れするインデクサ部2と、ウエハ
の膜厚を測定する測定部3とを備えている。この実施の
形態にかかる膜厚測定装置では、上記インデクサ部2を
中心として、その周囲に上記カセット載置ステージ1及
び測定部3が配置されたレイアウト構成となっている。
【0013】上記カセット載置ステージ1は、図示の例
では二つ設けられており、各ステージ1には、複数枚の
ウエハを多段に収納したウエハカセット11,12が、
それぞれ収納口をインデクサ部2に臨ませた状態で載置
されている。なお、カセット載置ステージ1の具体的な
構成については後に詳述する。
【0014】上記インデクサ部2には、ウエハの搬送手
段であるインデクサロボット21と、該インデクサロボ
ット21により上記ウエハカセット11,12から取り
出されたウエハの中心位置修正(センタリング)を行う
中心調整装置22とが設けられている。
【0015】インデクサロボット21は、上下動可能な
水平多関節型のロボットからなり、そのアーム先端には
ウエハを保持するための薄板状のハンド211が装着さ
れている。ハンド211の表面には、吸引孔212が開
口しており、該吸引孔212を介して負圧が供給される
ことにより、ハンド211によってウエハを吸着、保持
するようになっている。
【0016】中心調整装置22は、上記ハンド211に
対するウエハ位置を修正するもので、接離可能な一対の
チャック221を備えており、上記ウエハカセット1
1,12から取り出されたウエハを、上記チャック22
1により径方向に挾持することによりウエハ位置を機械
的に修正するように構成されている。
【0017】測定部3は、被測定ウエハの保持部分とな
る測定ステージ4と、この測定ステージ4の上部に配置
される膜厚測定のための測定ヘッド5とを有している。
【0018】測定ステージ4には、ウエハを移動可能に
保持する六軸テーブル41と、プリアライメント用セン
サ47と、ウエハを待機させるための補助ステージ48
とが設けられている。
【0019】六軸テーブル41は、ウエハを吸着保持す
るための円盤状の保持プレート411と、これを六軸方
向、すなわち、X軸、Y軸、Z軸及びこれら各軸回り
(θY方向、θX方向,θ方向)に変位可能に支持する
支持機構412から構成されており、保持プレート41
1を上記各方向に移動させながら補助ステージ48との
間でウエハの受渡しを行うとともに、上記測定ヘッド5
及びプリアライメント用センサ47の所定の測定位置に
ウエハを配置するように構成されている。
【0020】プリアライメント用センサ47は、光の照
射部471と受光部472とを所定の検査空間を挟んで
上下に配置したもので、上記検査空間にウエハ端縁部を
介在させた状態でウエハを回転させることにより、プリ
アライメント、すなわち上記保持プレート411の中心
に対するウエハ中心の偏心を検出するようになってい
る。
【0021】補助ステージ48は、インデクサ部2と六
軸テーブル41との間に配設されており、図示の例で
は、測定前のウエハを載置した状態で待機させる供給側
ステージ481と、同様にして測定後のウエハを待機さ
せる排出側ステージ482とが並べて設けられている。
各ステージ481,482は、同図に示すように、上記
保持プレート411を介在させるための切欠部分を有し
た略U字型に形成されており、例えば、供給側ステージ
481から六軸テーブル41へのウエハの受渡しは、供
給側ステージ481の上記切欠下方に保持プレート41
1が配置され、供給側ステージ481と保持プレート4
11とが相対的に上下動されることにより行われるよう
になっている。一方、六軸テーブル41から排出側ステ
ージ482へのウエハの受渡しは、これと逆の動作に基
づいて行われるようになっている。
【0022】なお、図1において、符号31は、作業者
が膜厚測定装置に対して種々のデータや指令などを入力
するために装置の前部に設けられた操作部で、この操作
部31の上方には、作業者に対して種々のメッセージや
情報等を表示するモニター(図示せず)が設けられてい
る。
【0023】図2〜図5は、上記カセット載置ステージ
1の具体的な構成を示している。この図に示すように、
カセット載置ステージ1(ウエハカセット12を載置す
る装置前部側のカセット載置ステージ)の基台15に
は、ウエハカセットを位置決めするための各種部材と、
載置されたウエハカセット12を検知するための検知ユ
ニット16(検知手段)とが設けられている。
【0024】ここで、カセット載置ステージ1でのウエ
ハカセット12の位置決めは、一般にこの種のウエハカ
セット12の載置面に突設される脚、具体的には、図2
の一点鎖線に示すように、ウエハの出し入れ方向(図2
ではY軸方向)に延びる一対の縦バー121aの中間部
分をウエハの出し入れ方向と直交する方向(図2ではX
軸方向)に延びる横バー121bで連絡した通称Hバー
(Hバー121;脚部)と呼ばれる脚を介して行うよう
になっており、上記位置決め用の各種部材として、この
Hバー121を位置決めする一対のHバー受け151
(位置決め手段)と、一対の背面受け152と、一対の
側面当り153とが設けられている。
【0025】上記Hバー受け151は、ウエハカセット
12をY軸方向に位置決めするもので、その表面には、
図3に示すように凹部が形成されており、この凹部に上
記横バー121bを介入させることにより、ウエハカセ
ット12のY軸方向の位置決めを行うようになってい
る。上記凹部は、ウエハカセット12のサイズ、すなわ
ちウエハのサイズに応じて複数形成されており、図示の
例では、4インチ,5インチ,6インチ,8インチ用の
各ウエハカセット12に対応する4つの凹部151a〜
151dがインデクサ部2側(図2,3では左側)から
順に並べて形成されている。つまり、ウエハカセット1
2の横バー121bを各Hバー受け151のそれぞれ対
応する凹部151a〜151dに嵌入させることで、各
サイズ毎にウエハカセット12をY軸方向の所定位置に
位置決めできるようになっている。
【0026】上記背面受け152は、各縦バー121a
の後端(ウエハ出し入れ方向における後端)部分に配設
されている。各背面受け152には、各縦バー121a
の後端に対する当り152aが形成されており、これに
より上記Hバー受け151と共働してウエハカセット1
2をY軸方向に位置決めするようになっている。
【0027】上記側面当り153は、ウエハカセット1
2をX軸方向に位置決めするもので、図2に示すよう
に、両外側(ウエハカセットの両外側)から縦バー12
1aに当接してウエハカセット12を位置決めするよう
に設けられている。
【0028】なお、上記Hバー受け151、背面受け1
52及び側面当り153は、図示を省略するがそれぞれ
基台15に形成された長孔を介してボルト等で固定さ
れ、この長孔の範囲内で変位可能に設けられている。す
なわち、ウエハのサイズが異なるとウエハカセットの外
形等が異なるため、被測定ウエハのサイズ変更に伴いH
バー受け151等の取付け位置を変更できるようになっ
ている。例えば、図2の例では8インチ用のウエハカセ
ット12を載置した状態を示しているが、これより小サ
イズのウエハを収納したウエハカセット12が載置され
る場合には、各Hバー受け151、各背面受け152及
び各側面当り153がそれぞれX軸方向により接近した
配置とされ、さらに、背面受け152がよりインデクサ
部2に接近した配置に移動、固定される。
【0029】上記検知ユニット16は、図4及び図5に
示すように、基台15の下方に配置されており、フレー
ム161を介して支持されたY軸方向の支持軸162に
揺動自在に並べて支持される揺動部材163a〜163
dと、この揺動部材163a〜163dをそれぞれ検出
するセンサ167a〜167dとを有している。
【0030】各揺動部材163a〜163dは、それぞ
れ上記支持軸162を挟んで一端側(図5では右側)に
検出片164を、他端側に円柱状の当り165を具備し
ており、支持軸162に挿通されたコイルばね166に
より、基台15の開口部15aからそれぞれ当り165
を上方に突出させた状態(図5の実線に示す状態)に付
勢されている。ここで、開口部15aは、図2に示すよ
うに、上記Hバー受け151の間に形成されたY軸方向
の長孔で、各揺動部材163a〜163dは、各当り1
65がそれぞれ各Hバー受け151の凹部151a〜1
51dを結んだ線分上にそれぞれ位置するように配設さ
れている。これにより、各揺動部材163a〜163d
が各凹部151a〜151dに対応付けられている。
【0031】上記各センサ167a〜167dは、各揺
動部材163a〜163dにおける検出片164の揺動
経路を挟んで光の照射部と受光部とを有し、検出片16
4による照射光の遮断に基づき揺動部材163a〜16
3dを検出するフォトセンサで、図5の一点鎖線に示す
ように、各揺動部材163a〜163dが上記コイルば
ね166の付勢力に逆らって揺動させられたときに、各
揺動部材163a〜163dを検出するようになってい
る。
【0032】つまり、基台15にウエハカセット12が
載置され、上述のように、該カセット12の上記横バー
121bがHバー受け151の所定の凹部151a〜1
51dに介入されると、対応する当り165が横バー1
21bにより押し下げられて該揺動部材163a〜16
3dが揺動させられてセンサ167a〜167dにより
検出されることとなる。この際、ウエハのサイズと、ウ
エハを収納したウエハカセット12と、ウエハカセット
12を位置決めするHバー受け151の凹部151a〜
151dの位置と、揺動部材163a〜163dとは、
上述のように一対一対応となっているため、上述のよう
にセンサ167a〜167dによって揺動した揺動部材
163a〜163dが検出されることにより、カセット
載置ステージ1に載置されたウエハカセット12内のウ
エハサイズが検知されるようになっている。
【0033】なお、図2中、符号154は、基台15と
ウエハカセット12との間に介設される裏面当りで、ウ
エハカセット12はこの裏面当り154を介して基台1
5上に載置されるようになっている。この裏面当り15
4も、それぞれサイズに応じてその位置を変更できるよ
うになっている。
【0034】なお、以上はウエハカセット12を載置す
る装置前部側のカセット載置ステージの構成であるが、
ウエハカセット11を載置する装置側部側のカセット載
置ステージも基本的に同一の構成となっている。
【0035】次に、上記の膜厚測定装置による膜厚測定
動作について、ウエハの流れを示す図6のタイミングチ
ャートに基づいて説明する。
【0036】上記膜厚測定装置では、例えば、図外の搬
送手段によって上記ウエハカセット11,12がカセッ
ト載置ステージ1上に搬入される。この際、ウエハカセ
ット11,12は、上記Hバー受け151、背面受け1
52及び側面当り153により位置決めされた状態でカ
セット載置ステージ1に載置される。そして、このよう
にウエハカセット11,12が位置決めされることによ
り上記検知ユニット16によりウエハサイズが検知さ
れ、以後の各部の測定動作がこの検知サイズに基づいて
制御されることとなる。
【0037】まず、上記インデクサロボット21により
ウエハカセット11又は12から取り出されたウエハ
(一枚目のウエハ)は、同図の実線に示すように中心調
整装置22によりセンタリングが行われて供給側ステー
ジ481に載置され、該供給側ステージ481から六軸
テーブル41の保持プレート411に受渡される。そし
て、プリアライメント用センサ47によるウエハの検出
(プリアライメント)が行われた後、ウエハが測定ヘッ
ド5直下の所定の測定位置に配置されて膜厚測定が行わ
れる。
【0038】このように一枚目のウエハのプリアライメ
ント及び膜厚測定が行われている間、図6の一点鎖線に
示すように、上記インデクサロボット21によってウエ
ハカセット11又は12から次のウエハ(二枚目のウエ
ハ)が取出され、中心調整装置22によるセンタリング
が行われて供給側ステージ481に載置される。
【0039】一枚目のウエハの膜厚測定が終了すると、
該ウエハが六軸テーブル41から排出側ステージ482
に受渡され、その後、インデクサロボット21により排
出側ステージ482から取上げられてウエハカセット1
1又は12に収納される。こうして、一枚目のウエハの
膜厚測定の全工程が終了する。
【0040】なお、上記のように一枚目のウエハが排出
側ステージ482に移載されると、保持プレート411
が供給側ステージ481側へと移動され、待機中のウエ
ハが供給側ステージ481から六軸テーブル41に受渡
される。そして、一枚目のウエハと同様にして、二枚目
のウエハのプリアライメント及び膜厚測定が順次行われ
るとともに、その最中に、図中、破線で示すようにイン
デクサロボット21により次のウエハ(3枚目のウエ
ハ)がウエハカセット11又は12から取り出される。
【0041】こうして以後同様に、ウエハのプリアライ
メント及び膜厚測定と、ウエハカセット11又は12に
対するウエハの出し入れが並行して行われつつ、各ウエ
ハカセット11,12に収納されたウエハの膜厚測定が
行われることとなる。
【0042】以上説明したように上記の膜厚測定装置で
は、カセット載置ステージ1の基台15にHバー受け1
51等の位置決用の各種部材と検知ユニット16とを設
け、ウエハカセット11,12を位置決めしつつ、その
重みによりHバー121を介して揺動部材163a〜1
63dを機械的に揺動させ、これによりウエハサイズを
ウエハカセット12の載置面側から検知できるようにし
ているので、従来のこの種の装置のように、カセット載
置ステージ1にアームを立設してサイズ検知用のセンサ
(光の照射部)を配置する必要がない。そのため、従来
のようにウエハカセットの搬入出方向に制約が課せられ
るようなことがなく、カセット載置ステージ1へのカセ
ット搬入出方向の自由度を効果的に高めることができ
る。
【0043】また、上記装置によれば、従来の装置に比
べて組立性が向上するという利点もある。すなわち、従
来の装置では、光の照射部と受光部とをカセットを挟ん
で対向して配置するが、これらが適切に対向していない
場合には正確にカセットを検知することができない。そ
のため、照射部と受光部とを高い精度で取付ける必要が
あり組立てが煩雑である。しかし、上記実施の形態の装
置によれば、Hバー121により揺動部材163a〜1
63dの当り165を押し下げることができれば、Hバ
ー受け151や揺動部材163a〜163dが設計上の
位置から多少ずれていても問題はない。そのため、検知
ユニット16等、カセットサイズを検知するための部材
の組付けに際して高い精密が要求されることがなく、装
置の組立性が向上する。
【0044】なお、上記実施の形態では、ウエハカセッ
トの形状的特徴部分として、ウエハカセット11,12
の載置面に形成されているHバー121に基づいてウエ
ハカセット11,12を位置決めし、Hバー121によ
り揺動部材163a〜163dを揺動させる、換言すれ
ば揺動部材163a〜163dによりHバー121を検
出することによりカセットサイズを検知するようにして
いるが、勿論、ウエハカセット11,12のこれ以外の
形状的特徴部分に基づいて位置決めを行い、該形状的特
徴部分の検出に基づいてカセットサイズを検知するよう
にしても構わない。
【0045】また、上記実施の形態(図2)では、Y軸
方向に揺動部材163a〜163dを並べて配置し、H
バー121のうち横バー121bにより当り165を基
台15の下方に押し込んで揺動部材163a〜163d
を揺動させるようにしているが、例えば、X軸に揺動部
材163a〜163dを並べて配置し、縦バー121a
によって揺動部材163a〜163dを揺動させるよう
に構成することもできる。
【0046】なお、上記実施の形態では、本発明に係る
カセット載置ステージを膜厚測定装置に適用した例につ
いて説明したが、本発明に係るカセット載置ステージ
は、膜厚測定装置以外に、例えば、カセットから基板を
取出しながらその表面に所定の処理を施す基板処理装置
等、ロボットにより基板を取り出させるべくカセットを
位置決めした状態で載置する必要がある装置に適用する
ことができる。
【0047】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のカセット
載置ステージは、カセット載置面に形成された形状的特
徴部分を位置決めする位置決め手段と、カセットの形状
的特徴部分を検知する検知手段とを設け、カセットに収
納された基板の種類毎に異なる位置に上記形状的特徴部
分を位置決めするように上記位置決め手段を構成すると
ともに、上記位置決め手段により位置決めされる各カセ
ットをそれぞれ検知するように上記検知手段を構成した
ので、簡単な構成で、カセット内に収納されている基板
の種類をカセットの載置側から判別することができる。
【0048】そのため、光の照射部をカセットの載置部
分の上方に設ける従来のこの種のステージのようにカセ
ットの搬入出方向に制約が課せられることがなく、ステ
ージへのカセット搬入出方向の自由度を有効に高めるこ
とができる。この場合、形状的特徴部分をカセット載置
面に突設される脚部とし、この脚部を位置決めするとと
もに検知するように上記位置決め手段及び検知手段を構
成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るカセット載置ステージが適用され
る膜厚測定装置を示す斜視概略図である。
【図2】カセット載置ステージを示す平面略図である。
【図3】Hバー受けによるウエハカセットの位置決め状
態を示す図2のA−A断面図である。
【図4】検知ユニットを示す平面略図である。
【図5】検知ユニットを示す図4のB−B断面図であ
る。
【図6】膜厚測定装置における半導体ウエハの流れを説
明するタイミングチャートである。
【符号の説明】
1 載置ステージ(カセット載置手段) 11,12 ウエハカセット 121 Hバー 121a 縦バー 121b 横バー 15 基台 15a 開口部 151 Hバー受け 151a〜151d 凹部 152 背面受け 153 側面当り 154 裏面当り 16 検知ユニット 163a〜163d 揺動部材 164 検出片 165 当り 167 センサ 2 インデクサ部 3 測定部 4 測定ステージ 5 測定ヘッド

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 カセット内に収納された基板をロボット
    により取出させるべく、基板を収納したカセットを位置
    決めした状態で載置するカセット載置ステージであっ
    て、カセット載置面に形成された形状的特徴部分を介し
    てカセットを位置決めする位置決め手段と、位置決めさ
    れたカセットの上記形状的特徴部分を検知する検知手段
    とを備え、上記位置決め手段は、カセットに収納された
    基板の種類毎に異なる位置に上記形状的特徴部分を位置
    決めするように構成され、上記検知手段は、上記位置決
    め手段により位置決めされる各カセットをそれぞれ検知
    するように設けられていることを特徴とするカセット載
    置ステージ。
  2. 【請求項2】 上記形状的特徴部分をカセット載置面に
    突設される脚部とし、この脚部を位置決めするとともに
    検知するように上記位置決め手段及び検知手段が構成さ
    れていることを特徴とする請求項1記載のカセット載置
    ステージ。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009147144A (ja) * 2007-12-14 2009-07-02 Tokyo Seimitsu Co Ltd ウェーハ搬送装置およびウェーハ搬送方法
JP2019042888A (ja) * 2017-09-05 2019-03-22 株式会社ディスコ 研磨装置
JP2023057456A (ja) * 2021-10-11 2023-04-21 株式会社荏原製作所 ハンド、搬送装置、および基板処理装置
JP2023057455A (ja) * 2021-10-11 2023-04-21 株式会社荏原製作所 ハンド、搬送装置、および基板処理装置

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