JPH1195420A - プラズマディスプレイパネル用背面板の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 蛍光体輝度劣化を起こさないプラズマディス
プレイパネル用背面板の製造法を提供する。 【解決手段】 （Ｉ）バリアリブが形成されたプラズマ
ディスプレイパネル用基板上に、蛍光体を含有する感光
性樹脂組成物層を形成する工程、（ＩＩ）蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層に活性光線を像的に照射する工
程、（ＩＩＩ）現像により蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層の不要部を選択的に除去してパターンを形成す
る工程及び（ＩＶ）前記パターンから焼成により不要分
を除去して蛍光体パターンを形成する工程を含むプラズ
マディスプレイパネル用背面板の製造法において、（Ｉ
ＩＩ）現像により蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
の不要部を選択的に除去してパターンを形成する工程に
おいて、遷移金属イオン、硫酸イオン、亜硫酸イオン、
硝酸イオン、亜硝酸イオン、塩素イオン及び塩素の各含
有量が重量濃度でそれぞれ５００ｐｐｍ未満である現像
液を使用する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマディスプ
レイパネル用背面板の製造法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、平板ディスプレイの１つとし
て、プラズマ放電により発光する蛍光体を設けることに
よって多色表示を可能にしたプラズマディスプレイパネ
ル（以下ＰＤＰと記す）が知られている。

【０００３】ＰＤＰは、ガラスからなる平板状の前面板
と背面板とが互いに平行にかつ対向して配設され、両者
はその間に設けられたバリアリブにより一定の間隔に保
持されており、前面板、背面板及びバリアリブに囲まれ
た空間で放電する構造になっている。

【０００４】このような空間には、表示のための蛍光体
が塗布され、放電によって封入ガスから発生する紫外線
によって蛍光体が発光させられ、この光を観察者が視認
できるようになっている。

【０００５】従来、この蛍光体を設ける方法としては、
各色蛍光体を分散させたスラリー液若しくはペーストを
スクリーン印刷等の印刷方法によって、塗布する方法が
提案されており、特開平１−１１５０２７号公報、特開
平１−１２４９２９号公報、特開平１−１２４９３０号
公報、特開平２−１５５１４２号公報等に開示されてい
る。

【０００６】しかし、上記の蛍光体分散スラリー液は液
状であるため、蛍光体の沈殿等による分散不良が生じや
すく、またスラリー液に液状の感光性レジストを用いた
場合には、暗反応の促進等により保存安定性が乏しくな
る等の欠点を有する。さらにスクリーン印刷等の印刷方
法は印刷精度に劣るため、将来的なＰＤＰの大画面化へ
の対応は困難である等の問題がある。

【０００７】これらの問題点の解決には、蛍光体を含有
させた感光性エレメント（感光性フィルムともいう）を
用いる方法が提案されている（特開平６−２７３９２５
号公報）。

【０００８】感光性エレメントを用いる方法とは、蛍光
体を含有する感光性樹脂層と支持体フィルムよりなる感
光性エレメントの蛍光体を含有する感光性樹脂層を、加
熱圧着（ラミネート）により前記ＰＤＰ用基板の空間に
埋め込み、次に、ネガフィルムを用いて、写真法により
紫外線等の活性光で像的に露光し、その後、アルカリ水
溶液等の現像液で、未露光部分を除去し、さらに、焼成
により露光部分の蛍光体を含有する感光性樹脂層の不必
要な有機成分を取り除いて、必要な部分のみに蛍光体パ
ターンを形成するものである。

【０００９】従って、前記ＰＤＰ用基板の空間に蛍光体
パターンを形成する際には、蛍光体の分散性を確認する
必要はなく、また、蛍光体分散スラリー液若しくはペー
ストに比べて保存安定性にも優れている。さらに、写真
法を用いるため、精度良く蛍光体パターンを形成するこ
とができる。

【００１０】しかし、現像液で未露光部分を除去する
際、蛍光体表面が侵され焼成後の輝度が低下するという
問題があった。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、蛍光
体輝度劣化を起こさないプラズマディスプレイパネル用
背面板の製造法を提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、
（Ｉ）バリアリブが形成されたプラズマディスプレイパ
ネル用基板上に、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
を形成する工程、（ＩＩ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層に活性光線を像的に照射する工程、（ＩＩＩ）
現像により蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の不要
部を選択的に除去してパターンを形成する工程及び（Ｉ
Ｖ）前記パターンから焼成により不要分を除去して蛍光
体パターンを形成する工程を含むプラズマディスプレイ
パネル用背面板の製造法において、（ＩＩＩ）現像によ
り蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層の不要部を選択
的に除去してパターンを形成する工程において、遷移金
属イオン、硫酸イオン、亜硫酸イオン、硝酸イオン、亜
硝酸イオン、塩素イオン及び塩素の各含有量が重量濃度
でそれぞれ５００ｐｐｍ未満である現像液を使用するこ
とを特徴とするプラズマディスプレイパネル用背面板の
製造法を提供するものである。

【００１３】

【発明の実施の形態】

（Ｉ）バリアリブが形成されたプラズマディスプレイパ
ネル用基板上に、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
を形成する工程において、層の形成は、蛍光体を含有す
る感光性樹脂組成物を塗布したり、蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物の層を有する感光性エレメントを用いて
行われる。蛍光体を含有する感光性樹脂組成物として
は、（ａ）高分子結合剤、（ｂ）末端にエチレン性不飽
和基を有する光重合性不飽和化合物、（ｃ）活性光の照
射により遊離ラジカルを生成する光開始剤及び（ｄ）蛍
光体の混合物が好ましく用いられる。

【００１４】（ａ）高分子結合剤としては、ビニル共重
合体が好ましく、ビニル共重合体に用いられるビニル単
量体としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マ
レイン酸、フマル酸、イタコン酸、アクリル酸メチル、
メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸
エチル、アクリル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸ｎ−プ
ロピル、アクリル酸ｉｓｏ−プロピル、メタクリル酸ｉ
ｓｏ−プロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸
ｎ−ブチル、アクリル酸ｉｓｏ−ブチル、メタクリル酸
ｉｓｏ−ブチル、アクリル酸ｓｅｃ−ブチル、メタクリ
ル酸ｓｅｃ−ブチル、アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、メ
タクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、アクリル酸ペンチル、メ
タクリル酸ペンチル、アクリル酸ヘキシル、メタクリル
酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチル、メタクリル酸ヘプチ
ル、アクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸２−
エチルヘキシル、アクリル酸オクチル、メタクリル酸オ
クチル、アクリル酸ノニル、メタクリル酸ノニル、アク
リル酸デシル、メタクリル酸デシル、アクリル酸ドデシ
ル、メタクリル酸ドデシル、アクリル酸テトラデシル、
メタクリル酸テトラデシル、アクリル酸ヘキサデシル、
メタクリル酸ヘキサデシル、アクリル酸オクタデシル、
メタクリル酸オクタデシル、アクリル酸エイコシル、メ
タクリル酸エイコシル、アクリル酸ドコシル、メタクリ
ル酸ドコシル、アクリル酸シクロペンチル、メタクリル
酸シクロペンチル、アクリル酸シクロヘキシル、メタク
リル酸シクロヘキシル、アクリル酸シクロヘプチル、メ
タクリル酸シクロヘプチル、アクリル酸ベンジル、メタ
クリル酸ベンジル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸
フェニル、アクリル酸メトキシエチル、メタクリル酸メ
トキシエチル、アクリル酸メトキシジエチレングリコー
ル、メタクリル酸メトキシジエチレングリコール、アク
リル酸メトキシジプロピレングリコール、メタクリル酸
メトキシジプロピレングリコール、アクリル酸メトキシ
トリエチレングリコール、メタクリル酸メトキシトリエ
チレングリコール、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、
メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸ジメチ
ルアミノエチル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、
アクリル酸ジエチルアミノエチル、メタクリル酸ジエチ
ルアミノエチル、アクリル酸ジメチルアミノプロピル、
メタクリル酸ジメチルアミノプロピル、アクリル酸２−
クロロエチル、メタクリル酸２−クロロエチル、アクリ
ル酸２−フルオロエチル、メタクリル酸２−フルオロエ
チル、アクリル酸２−シアノエチル、メタクリル酸２−
シアノエチル、スチレン、α−メチルスチレン、ビニル
トルエン、塩化ビニル、酢酸ビニル、Ｎ−ビニルピロリ
ドン、ブタジエン、イソプレン、クロロプレン、アクリ
ルアミド、メタクリルアミド、アクリロニトリル、メタ
クリロニトリル等が挙げられる。これらは単独で又は２
種以上を組み合わせて使用される。

【００１５】（ａ）高分子結合剤の重量平均分子量は、
５，０００〜３００，０００とすることが好ましく、２
０，０００〜１５０，０００とすることがより好まし
い。この重量平均分子量が、５，０００未満では、感光
性エレメントとした場合にフィルム形成性及び可とう性
が低下する傾向があり、３００，０００を超えると、現
像性（不要部が現像により、容易に除去できる性質）が
低下する傾向がある。

【００１６】なお、重量平均分子量は、ゲルパーミエー
ションクロマトグラフィー法により測定し、標準ポリス
チレン検量線を用いて換算した値である。

【００１７】また、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
が、現像液により現像可能となるように、（ａ）高分子
結合剤のカルボキシル基含有率（酸価（ｍｇＫＯＨ／
ｇ）で規定できる）を適宜調整することができる。

【００１８】例えば、炭酸ナトリウム又は炭酸カリウム
等のアルカリ水溶液を用いて現像する場合には、酸価
を、９０〜２６０とすることが好ましい。この酸価が、
９０未満では、現像が困難となる傾向があり、２６０を
超えると、耐現像液性（現像により除去されずに残りパ
ターンとなる部分が、現像液によって侵されない性質）
が低下する傾向がある。

【００１９】また、水又はアルカリ水溶液と１種以上の
有機溶剤とからなる水系現像液を用いて現像する場合に
は、酸価を、１６〜２６０とすることが好ましい。この
酸価が、１６未満では、現像が困難となる傾向があり、
２６０を超えると、耐現像液性が低下する傾向がある。

【００２０】さらに、１，１，１−トリクロロエタン等
の有機溶剤現像液を用いる場合には、カルボキシル基を
含有しなくても良い。

【００２１】（ｂ）末端にエチレン性不飽和基を有する
光重合性不飽和化合物としては、従来、光重合性多官能
モノマーとして知られているものを全て用いることがで
きる。

【００２２】例えば、多価アルコールのアクリレート又
はメタクリレート（ジエチレングリコールジアクリレー
ト、ジエチレングリコールジメタクリレート、テトラエ
チレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリ
コールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジア
クリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレー
ト、テトラプロピレングリコールジアクリレート、テト
ラプロピレングリコールジメタクリレート、ヘキサプロ
ピレングリコールジアクリレート、ヘキサプロピレング
リコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコール
ジアクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリ
レート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ト
リメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールト
リメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリ
レート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、
１，９−ノナンジオールジアクリレート、ジペンタエリ
スリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトー
ルペンタメタクリレート等）、エポキシアクリレート又
はエポキシメタクリレート（２，２−ビス（４−メタク
リロキシエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス
（４−アクリロキシエトキシフェニル）プロパン、ビス
フェノールＡ／エピクロルヒドリン系のエポキシ樹脂
の、アクリル酸又はメタクリル酸付加物等）、分子中に
ベンゼン環を有する低分子不飽和ポリエステルのアクリ
レート又はメタクリレート（無水フタル酸／ネオペンチ
ルグリコール／アクリル酸＝１／２／２（モル比）の縮
合物等）、トリメチロールプロパントリグリシジルエー
テルのアクリル酸又はメタクリル酸との付加物、トリメ
チルヘキサメチレンジイソシアネートと２価アルコール
のアクリル酸モノエステル又はメタクリル酸モノエステ
ルとの反応で得られるウレタンアクリレート化合物又は
ウレタンメタクリレート化合物、トリス（アクリロキシ
エチル）イソシアヌレート、トリス（メタクリロキシエ
チル）イソシアヌレート、ポリスチリルエチルアクリレ
ート、ポリスチリルエチルメタクリレート、４−（２，
２，６，６−テトラメチルピペリジニル）アクリレー
ト、４−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジニ
ル）メタクリレート、ビスフェノールＡジアクリレー
ト、ビスフェノールＡジメタクリレートなどが挙げられ
る。これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用
される。

【００２３】（ｃ）活性光の照射により遊離ラジカルを
生成する光開始剤としては、例えば芳香族ケトン（ベン
ゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラメチル−４，４′−ジア
ミノベンゾフエノン（ミヒラーケトン）、Ｎ，Ｎ′−テ
トラエチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン、４−
メトキシ−４′−ジメチルアミノベンゾフェノン、１−
ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２，
４−ジエチルチオキサントン、２−エチルアントラキノ
ン、フェナントレンキノン等）、ベンゾインエーテル
（ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテ
ル、ベンゾインフェニルエーテル等）、ベンゾイン（メ
チルベンゾイン、エチルベンゾイン等）、ベンジル誘導
体（２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モ
ルホリノフェニル）−ブタノン−１、２，２−ジメトキ
シ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、ベンジルジ
メチルケタール等）、２，４，５−トリアリールイミダ
ゾール二量体（２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−
ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェ
ニル）−４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾ
ール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−
ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフ
ェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２
−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミ
ダゾール二量体、２，４−ジ（ｐ−メトキシフェニル）
−５−フェニルイミダゾール二量体、２−（２，４−ジ
メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール
二量体等）、アクリジン誘導体（９−フェニルアクリジ
ン、１，７−ビス（９，９′−アクリジニル）ヘプタン
等）などが挙げられる。これらは単独で又は２種類以上
を組み合わせて使用される。

【００２４】（ｄ）蛍光体としては、特に制限はなく、
通常の金属酸化物を主体とするものが使用できる。

【００２５】赤色発色の蛍光体としては、例えば、Ｙ₂
Ｏ₂Ｓ：Ｅｕ、Ｚｎ₃（ＰＯ₄）₂：Ｍｎ、Ｙ₂Ｏ₃：Ｅｕ、
ＹＶＯ₄：Ｅｕ、（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ₃：Ｅｕ、γ−Ｚｎ₃
（ＰＯ₄）₂：Ｍｎ、（ＺｎＣｄ）Ｓ：Ａｇ＋Ｉｎ₂Ｏ等
が挙げられる。

【００２６】緑色発色の蛍光体としては、例えば、Ｚｎ
Ｓ：Ｃｕ、Ｚｎ₂ＳｉＯ₄：Ｍｎ、ＺｎＳ：Ｃｕ＋Ｚｎ₂
ＳｉＯ₄：Ｍｎ、Ｇｄ₂Ｏ₂Ｓ：Ｔｂ、Ｙ₃Ａｌ₅Ｏ₁₂：Ｃ
ｅ、ＺｎＳ：Ｃｕ，Ａｌ、Ｙ₂Ｏ₂Ｓ：Ｔｂ、ＺｎＯ：Ｚ
ｎ、ＺｎＳ：Ｃｕ，Ａｌ＋Ｉｎ ₂Ｏ₃、ＬａＰＯ₄：Ｃ
ｅ，Ｔｂ、ＢａＯ・６Ａｌ₂Ｏ₃：Ｍｎ等が挙げられる。

【００２７】青色発色の蛍光体としては、例えば、Ｚｎ
Ｓ：Ａｇ、ＺｎＳ：Ａｇ，Ａｌ、ＺｎＳ：Ａｇ，Ｇａ，
Ａｌ、ＺｎＳ：Ａｇ，Ｃｕ，Ｇａ，Ｃｌ、ＺｎＳ：Ａｇ
＋Ｉｎ₂Ｏ₃、Ｃａ₂Ｂ₅Ｏ₉Ｃｌ：Ｅｕ²⁺、（Ｓｒ，Ｃ
ａ，Ｂａ，Ｍｇ）₁₀（ＰＯ₄）₆Ｃ１₂：Ｅｕ²⁺、Ｓｒ₁₀
（ＰＯ₄）₆Ｃｌ₂：Ｅｕ²⁺、ＢａＭｇＡｌ₁₀Ｏ₁₇：Ｅｕ
²⁺、ＢａＭｇＡｌ₁₄Ｏ₂₃：Ｅｕ²⁺、ＢａＭｇＡｌ
₁₆Ｏ₂₆：Ｅｕ²⁺等が挙げられる。

【００２８】（ａ）成分の配合量は、（ａ）成分及び
（ｂ）成分の総量が１００重量部として、１０〜９０重
量部とすることが好ましく、２０〜８０重量部とするこ
とがより好ましい。この配合量が、１０重量部未満で
は、光硬化物が脆くなる傾向があり、また、後述する感
光性エレメントとしてロール状で供給した場合には、蛍
光体含有感光性樹脂組成物がロール端部からしみ出す
（以下エッジフュージョンと記す）ことにより、感光性
エレメントのラミネート時にロールからの繰り出しが困
難となったり、しみ出した部分がＰＤＰ用基板の空間に
部分的に過剰に埋め込まれ、製造歩留りが著しく低下す
る等の問題が生じたり、フィルム形成性が低下する等の
傾向があり、９０重量部を超えると、感度が不十分とな
る傾向がある。

【００２９】（ｂ）成分の配合量は、（ａ）成分及び
（ｂ）成分の総量が１００重量部として、１０〜９０重
量部とすることが好ましく、２０〜８０重量部とするこ
とがより好ましい。この配合量が、１０重量部未満で
は、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物の感度が不十分
となる傾向があり、９０重量部を超えると、光硬化物が
脆くなる傾向があり、また、感光性エレメントとした場
合には、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物が流動によ
って端部からしみ出したり、フィルム形成性が低下する
等の傾向がある。

【００３０】（ｃ）成分の配合量は、（ａ）成分及び
（ｂ）成分の総量１００重量部に対して、０．０１〜３
０重量部とすることが好ましく、０．１〜２０重量部と
することがより好ましい。この配合量が、０．０１重量
部未満では、蛍光体を含有する型感光性樹脂組成物の感
度が不十分となる傾向があり、３０重量部を超えると、
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物の露光表面での活性
光の吸収が増大して、内部の光硬化が不十分となる傾向
がある。

【００３１】（ｄ）成分の配合量は、（ａ）成分、
（ｂ）成分及び（ｃ）成分の総量１００重量部に対し
て、１０〜４００重量部とすることが好ましく、５０〜
３８０重量部とすることがより好ましく、７０〜３５０
重量部とすることが特に好ましい。この配合量が、１０
重量部未満では、ＰＤＰとして発光させた場合に発光効
率が低下する傾向があり、４００重量部を超えると、感
光性エレメントとした場合に、フィルム形成性が低下し
たり、可とう性が低下する傾向がある。

【００３２】本発明における蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物には、長期間増粘を起こさず、貯蔵安定性を良
好にするために、カルボキシル基を有する化合物を含有
させることができる。

【００３３】カルボキシル基を有する化合物としては、
例えば、飽和脂肪酸、不飽和脂肪酸、脂肪族二塩基酸、
芳香族二塩基酸、脂肪族三塩基酸、芳香族三塩基酸等が
挙げられる。

【００３４】具体的には、例えば、ぎ酸、酢酸、クロロ
酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、プロピオン酸、
カプリン酸、ウンデカン酸、ラウリン酸、トリデカン
酸、ミリスチン酸、ペンタデカン酸、パルミチン酸、ヘ
プタデカン酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキジ
ン酸、パルミトオレイン酸、オレイン酸、エライジン
酸、リノレン酸、リノール酸、しゅう酸、マロン酸、メ
チルマロン酸、エチルマロン酸、マロン酸モノメチル、
マロン酸モノエチル、こはく酸、メチルこはく酸、アジ
ピン酸、メチルアジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、
アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、イタコン酸、
フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリト
酸、クエン酸、サリチル酸、ピルビン酸、リンゴ酸等が
挙げられる。中でも、増粘を抑制する効果が高い点か
ら、しゅう酸、マロン酸、メチルマロン酸、エチルマロ
ン酸、クエン酸等が好ましく、しゅう酸、マロン酸、ク
エン酸等がより好ましい。これらは単独で又は２種類以
上組み合わせて使用される。

【００３５】カルボキシル基を有する化合物の配合量
は、（ａ）成分１００重量部に対して、０．０１〜３０
重量部とすることが好ましい。この配合量が、０．０１
重量部未満では、保存安定性の効果が低くなる傾向があ
り、３０重量部を超えると、感度が不十分となる傾向が
ある。

【００３６】本発明における蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物には、蛍光体の分散を良好とするために、分散
剤を添加することが好ましい。

【００３７】分散剤としては、無機分散剤（シリカゲル
系、ベントナイト系、カオリナイト系、タルク系、ヘク
トライト系、モンモリロナイト系、サポナイト系、バイ
デライト系等）、有機分散剤（脂肪族アマイド系、脂肪
族エステル系、酸化ポリエチレン系、硫酸エステル系ア
ニオン活性剤、ポリカルボン酸アミン塩系、ポリカルボ
ン酸系、ポリアマイド系、高分子ポリエーテル系、アク
リル共重合物系、特殊シリコン系等）等が挙げられる。
これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用する
ことができる。

【００３８】分散剤の使用量としては、特に制限はな
く、（ａ）成分１００重量部に対して、０．０１〜１０
０重量部とすることが好ましい。この使用量が、０．０
１重量部未満では、添加効果が発現しない傾向があり、
１００重量部を超えると、パターン形成精度（蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物からなるパターンを、現像
後、寸法的に正確に、所望の形状で得られる性質）が低
下する傾向がある。

【００３９】本発明における蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物には、焼成後、ＰＤＰ用基板から蛍光体が剥離
しないようにするために、結着剤を使用することが好ま
しい。結着剤としては、例えば、低融点ガラス、金属ア
ルコキシド、シランカップリング剤等が挙げられる。こ
れらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用され
る。結着剤の使用量としては、特に制限はなく、（ｄ）
成分１００重量部に対して、０．０１〜１００重量部と
することが好ましく、０．０５〜５０重量部とすること
がより好ましく、０．１〜３０重量部とすることが特に
好ましい。この使用量が、０．０１重量部未満では、蛍
光体の結着効果が発現しない傾向があり、１００重量部
を超えると、発光効率が低下する傾向がある。

【００４０】本発明における蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物には、これを感光性エレメントとした場合のフ
ィルム性を良好なものとするために可塑剤を添加するこ
とができる。

【００４１】可塑剤としては、一般式（Ｉ）

【００４２】

【化１】 （式中、Ｒは水素原子又はメチル基を示し、Ｙ¹は水素
原子又は置換基を有していてもよい飽和の炭化水素基も
しくはポリアルキレングリコール残基を示し、Ｙ²は、
水酸基又は置換基を有してもよい飽和の炭化水素基若し
くはポリアルキレングリコール残基を示し、ｎは１〜２
０の整数を示す）で表わされるポリプロピレングリコー
ル及びその誘導体、ポリエチレングリコール及びその誘
導体などのアルキレングリコール誘導体並びにジオクチ
ルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジブチルフタレ
ート、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフェニ
ルフォスフェート、ビフェニルジフェニルフォスフェー
ト等が挙げられる。

【００４３】可塑剤の配合量は、（ａ）成分の配合量が
１００重量部として、１０〜９０重量部とすることが好
ましく、２０〜８０重量部とすることがより好ましく、
３０〜７０重量部とすることが特に好ましい。この配合
量が、１０重量部未満では、感光性エレメントとした場
合に、フィルム形成性が低下する等の傾向があり、９０
重量部を超えると、感光性を含有する感光性樹脂組成物
の感度が不十分となる傾向がある。

【００４４】また、本発明に用いられる蛍光体を含有す
る感光性樹脂組成物には、染料、発色剤、可塑剤、顔
料、重合禁止剤、表面改質剤、安定剤、密着性付与剤、
熱硬化剤等を必要に応じて添加することができる。

【００４５】本発明に用いられる感光性エレメントは、
支持体フィルム上に、前記蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層を有するものである。

【００４６】感光性エレメントの蛍光体を含有する感光
性樹脂組成物層の支持体フィルムとしては、化学的及び
熱的に安定であり、また、可とう性の物質で構成され
た、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボ
ネート、ポリエチレン、ポリプロピレン等が挙げられ、
その中でも、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ンが好ましく、ポリエチレンテレフタレートがより好ま
しい。この支持体フィルムの厚さは、５〜１００μｍと
することが好ましく、１０〜８０μｍとすることがより
好ましい。

【００４７】感光性エレメントは、蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層を構成する前記各成分を溶解又は分散
可能な溶剤に、溶解又は混合させることにより得られた
前記の均一に分散した溶液を支持体フィルム上に、塗
布、乾燥することにより得ることができる。

【００４８】本発明に用いられる蛍光体を含有する感光
性樹脂組成物を構成する前記各成分を溶解又は分散可能
な溶剤としては、例えば、トルエン、アセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルセロソ
ルブ、エチルセロソルブ、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メ
チルピロリドン、ジメチルホルムアミド、テトラメチル
スルホン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノブチルエーテル、クロロホル
ム、塩化メチレン、メチルアルコール、エチルアルコー
ル等が挙げられる。これらは単独で又は２種以上を組み
合わせて使用される。

【００４９】塗布方法としては、例えば、ドクターブレ
ードコーティング法、ミヤアバーコーティング法、ロー
ルコーティング法、スクリーンコーティング法、スピナ
ーコーティング法、インクジェットコーティング法、ス
プレーコーティング法、ディップコーティング法、グラ
ビアコーティング法、カーテンコーティング法等を用い
ることができる。

【００５０】乾燥方法としては、公知の乾燥方法を用い
て乾燥することができ、乾燥温度は、６０〜１３０℃と
することが好ましく、乾燥時間は３分〜１時間とするこ
とが好ましい。

【００５１】感光性エレメントの蛍光体を有する感光性
樹脂組成物層の厚さは、特に制限はないが、１０〜２０
０μｍとすることが好ましく、２０〜１００μｍとする
ことがより好ましく、３０〜８０μｍとすることが特に
好ましい。この厚さが、１０μｍ未満では、焼成後の蛍
光体パターンが薄くなり、発光効率が低下する傾向があ
り、２００μｍを超えると、焼成後の蛍光体パターンが
厚くなり、蛍光面の発光面積が縮小して発光効率が低下
する傾向がある。

【００５２】本発明に用いられる蛍光体を含有する感光
性樹脂組成物は、１００℃での粘度が、１〜１×１０⁹
Ｐａ・ｓｅｃとすることが好ましく、２〜１×１０⁸Ｐ
ａ・ｓｅｃとすることがより好ましく、５〜１×１０⁷
Ｐａ・ｓｅｃとすることが特に好ましく、１０〜１×１
０⁶Ｐａ・ｓｅｃとすることが極めて好ましい。この１
００℃での粘度が１Ｐａ・ｓｅｃ未満では、室温での粘
度が低くなり過ぎて感光性エレメントとした場合に、蛍
光体を含有する感光性樹脂組成物層が流動により端部か
らしみ出す傾向にあり、フィルム形成性が低下する傾向
がある。また、１×１０⁹Ｐａ・ｓｅｃを超えると、後
述する凹凸を有する基板の凹部内面への蛍光体を含有す
る感光性樹脂組成物層の形成性が低下する傾向がある。

【００５３】感光性エレメントの蛍光体を含有する感光
性樹脂組成物層の上には、さらに剥離可能なカバーフィ
ルムを積層することができる。カバーフィルムとして
は、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリカーボネート等が挙げられ、支持体フ
ィルムと蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層との接着
力よりも、カバーフィルムと蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層との接着力の方が小さいものであることが好
ましい。このようにして得られる感光性エレメントは、
ロール状に巻いて保管可能とすることができる。

【００５４】また、感光性エレメントは、支持体フィル
ム上に熱可塑性樹脂層を有し、その上に蛍光体を含有す
る感光性樹脂組成物層を有するものであってもよい。こ
こで、支持体フィルムとしては、前記した蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層を有する感光性エレメントに用
いられる支持体フィルムと同様のものを使用することが
できる。

【００５５】上記熱可塑性樹脂層を構成する樹脂として
は、加熱圧着時の温度で軟化するものであれば特に制限
はなく、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リスチレン、ポリビニルトルエン、ポリアクリル酸エス
テル、、ポリメタクリル酸エステル、エチレンと酢酸ビ
ニルの共重合体、エチレンとアクリル酸エステルの共重
合体、塩化ビニルと酢酸ビニルの共重合体、スチレンと
アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルとの共重
合体、ビニルトルエンとアクリル酸エステル又はメタク
リル酸エステルとの共重合体、ポリビニルアルコール系
樹脂（ポリアクリル酸エステル又はポリメタクリル酸エ
ステルの加水分解物、ポリ酢酸ビニルの加水分解物、エ
チレンと酢酸ビニルとの共重合体の加水分解物、エチレ
ンとアクリル酸エステルとの共重合体の加水分解物、塩
化ビニルと酢酸ビニルとの共重合体の加水分解物、スチ
レンとアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルと
の共重合体の加水分解物、ビニルトルエンとアクリル酸
エステル又はメタクリル酸エステルとの共重合体の加水
分解物等）、カルボキシアルキルセルロースの水溶性
塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボキシアルキル
でん粉の水溶性塩、ポリビニルピロリドン、不飽和カル
ボン酸とこれらと共重合可能な不飽和単量体を共重合す
ることにより得られるカルボキシル基を有する樹脂など
が挙げられる。

【００５６】また、熱可塑性樹脂層は、後述する現像工
程において、熱可塑性樹脂層及び蛍光体を含有する感光
性樹脂組成物層が、同一の現像液を使用して現像できる
ものであることが、工程を少なくできる点から好まし
い。

【００５７】同一の現像液で現像できるものとしては、
水又はアルカリ水溶液に可溶なものが挙げられる。

【００５８】水又はアルカリ水溶液に可溶な熱可塑性樹
脂層を構成する樹脂としては、例えば、ポリビニルアル
コール系樹脂（ポリアクリル酸エステル又はポリメタク
リル酸エステルの加水分解物、ポリ酢酸ビニルの加水分
解物、エチレンと酢酸ビニルとの共重合体の加水分解
物、エチレンとアクリル酸エステルとの共重合体の加水
分解物、塩化ビニルと酢酸ビニルとの共重合体の加水分
解物、スチレンとアクリル酸エステル又はメタクリル酸
エステルとの共重合体の加水分解物、ビニルトルエンと
アクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルとの共重
合体の加水分解物等）、カルボキシアルキルセルロース
の水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボキシ
アルキルでん粉の水溶性塩、ポリビニルピロリドン、不
飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な不飽和単量体を
共重合することにより得られるカルボキシル基を有する
樹脂などが挙げられる。

【００５９】不飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な
不飽和単量体を共重合することにより得られるカルボキ
シル基を有する樹脂としては、例えば、不飽和カルボン
酸（アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル
酸、イタコン酸等）と、アクリル酸メチル、メタクリル
酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、ア
クリル酸ｎ−プロピル、メタクリル酸ｎ−プロピル、ア
クリル酸ｉｓｏ−プロピル、メタクリル酸ｉｓｏ−プロ
ピル、アクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ｎ−ブチ
ル、アクリル酸ｉｓｏ−ブチル、メタクリル酸ｉｓｏ−
ブチル、アクリル酸ｓｅｃ−ブチル、メタクリル酸ｓｅ
ｃ−ブチル、アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、メタクリル
酸ｔｅｒｔ−ブチル、アクリル酸ペンチル、メタクリル
酸ペンチル、アクリル酸ヘキシル、メタクリル酸ヘキシ
ル、アクリル酸ヘプチル、メタクリル酸ヘプチル、アク
リル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸２−エチルヘ
キシル、アクリル酸オクチル、メタクリル酸オクチル、
アクリル酸ノニル、メタクリル酸ノニル、アクリル酸デ
シル、メタクリル酸デシル、アクリル酸ドデシル、メタ
クリル酸ドデシル、アクリル酸テトラデシル、メタクリ
ル酸テトラデシル、アクリル酸ヘキサデシル、メタクリ
ル酸ヘキサデシル、アクリル酸オクタデシル、メタクリ
ル酸オクタデシル、アクリル酸エイコシル、メタクリル
酸エイコシル、アクリル酸ドコシル、メタクリル酸ドコ
シル、アクリル酸シクロペンチル、メタクリル酸シクロ
ペンチル、アクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸シ
クロヘキシル、アクリル酸シクロヘプチル、メタクリル
酸シクロヘプチル、アクリル酸ベンジル、メタクリル酸
ベンジル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸フェニ
ル、アクリル酸メトキシエチル、メタクリル酸メトキシ
エチル、アクリル酸メトキシジエチレングリコール、メ
タクリル酸メトキシジエチレングリコール、アクリル酸
メトキシジプロピレングリコール、メタクリル酸メトキ
シジプロピレングリコール、アクリル酸メトキシトリエ
チレングリコール、メタクリル酸メトキシトリエチレン
グリコール、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、メタク
リル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸ジメチルアミ
ノエチル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、アクリ
ル酸ジエチルアミノエチル、メタクリル酸ジエチルアミ
ノエチル、アクリル酸ジメチルアミノプロピル、メタク
リル酸ジメチルアミノプロピル、アクリル酸２−クロロ
エチル、メタクリル酸２−クロロエチル、アクリル酸２
−フルオロエチル、メタクリル酸２−フルオロエチル、
アクリル酸２−シアノエチル、メタクリル酸２−シアノ
エチル、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエ
ン、塩化ビニル、酢酸ビニル、Ｎ−ビニルピロリドン、
ブタジエン、イソプレン、クロロプレン、アクリルアミ
ド、メタクリルアミド、アクリロニトリル、メタクリロ
ニトリル等のビニル単量体とを共重合して得られるビニ
ル共重合体などを使用することが好ましい。

【００６０】不飽和カルボン酸とこれらと共重合可能な
不飽和単量体を共重合することにより得られるカルボキ
シル基を有する樹脂は、重量平均分子量が、５，０００
〜３００，０００とすることが好ましく、２０，０００
〜１５０，０００とすることがより好ましい。この重量
平均分子量が、５，０００未満では、感光性エレメント
とした場合にフィルム形成性及び可とう性が低下する傾
向があり、３００，０００を超えると、現像性（不要部
が現像により、容易に除去できる性質）が低下する傾向
がある。なお、重量平均分子量は、ゲルパーミエーショ
ンクロマトグラフィー法により測定し、標準ポリスチレ
ン検量線を用いて換算した値である。

【００６１】また、アルカリ水溶液に可溶な熱可塑性樹
脂層として、現像液により現像可能となるように、不飽
和カルボン酸とこれらと共重合可能な不飽和単量体を共
重合することにより得られるカルボキシル基を有する樹
脂のカルボキシル基含有率（酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）で
規定できる）を適宜調整することができる。

【００６２】例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等
のアルカリ水溶液を用いて現像する場合には、酸価を９
０〜２６０とすることが好ましい。この酸価が、９０未
満では、現像が困難となる傾向があり、２６０を超える
と、耐現像液性が低下する傾向がある。

【００６３】また、水又はアルカリ水溶液と１種以上の
有機溶剤とからなる水系現像液を用いて現像する場合に
は、酸価を１６〜２６０とすることが好ましい。この酸
価が、１６未満では、現像が困難となる傾向があり、２
６０を超えると、耐現像液性が低下する傾向がある。

【００６４】また、熱可塑性樹脂層のフィルム性を良好
なものとするために、上記した熱可塑性樹脂層を構成す
る樹脂中に、可塑剤を添加することができる。

【００６５】可塑剤としては、前記の蛍光体を含有する
感光性樹脂組成物層を構成する感光性樹脂組成物に使用
可能な可塑剤の全てを用いることができる。

【００６６】可塑剤の配合量は、熱可塑性樹脂層を構成
する樹脂の総量が１００重量部として、１０〜９０重量
部とすることが好ましく、２０〜８０重量部とすること
がより好ましく、３０〜７０重量部とすることが特に好
ましい。この配合量が、１０重量部未満では、感光性エ
レメントとした場合に、フィルム形成性が低下する等の
傾向があり、９０重量部を超えると、感光性エレメント
にした場合に、熱可塑性樹脂層が流動によって端部から
しみ出す傾向がある。

【００６７】また、蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層を構成する感光性樹脂組成物中の（ｂ）活性光の照射
により遊離ラジカルを生成する光開始剤の熱可塑性樹脂
層へのマイグレーションを防止するために、熱可塑性樹
脂層を構成する樹脂中に、蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層を構成する感光性樹脂組成物中の（ｂ）活性光
の照射により遊離ラジカルを生成する光開始剤と同種、
同量の活性光の照射により遊離ラジカルを生成する光開
始剤を添加することもできる。

【００６８】本発明における支持体フィルム上に熱可塑
性樹脂層を設ける方法としては、前記熱可塑性樹脂層を
構成する樹脂を溶解する溶剤に、溶解又は混合させるこ
とにより、均一な溶液とし、前記した支持体フィルム上
に、ナイフコート法、ロールコー卜法、スプレーコート
法、グラビアコート法、バーコート法、カーテンコート
法等の公知の塗布方法を用いて、塗布、乾燥することに
より形成することができる。

【００６９】熱可塑性樹脂層を構成する樹脂を溶解する
溶剤としては、例えば、水、トルエン、アセトン、メチ
ルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルセロ
ソルブ、エチルセロソルブ、γ−ブチロラクトン、Ｎ−
メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、テトラメチ
ルスルホン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、
ジエチレングリコールモノブチルエーテル、クロロホル
ム、塩化メチレン、メチルアルコール、エチルアルコー
ル等が挙げられる。これらは単独で又は２種以上を組み
合わせて使用される。

【００７０】熱可塑性樹脂層の厚さは、特に制限はない
が、ＰＤＰ用基板の空間への埋め込み性の点から、１０
〜２００μｍとすることが好ましく、２０〜１００μｍ
とすることがより好ましい。

【００７１】支持体フィルム上に、熱可塑性樹脂層を有
し、その上に蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を有
する感光性エレメントは、蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層を構成する前記各成分を溶解又は分散可能な溶
剤に、溶解又は混合させることにより、均一に分散した
溶液とし、前記で設けた熱可塑性樹脂層の上に塗布、乾
燥することにより得ることができる。

【００７２】蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を構
成する前記各成分を溶解又は分散可能な溶剤に、溶解又
は混合させることにより、均一に分散した溶液とし、前
記で設けた熱可塑性樹脂層の上に塗布、乾燥する方法
は、前記した支持体フィルム上に、蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層を有する感光性エレメントを得る方法
と同様の方法を用いることができる。

【００７３】感光性エレメントの蛍光体を含有する感光
性樹脂組成物層の厚さは、特に制限はないが、１０〜１
００μｍとすることが好ましく、２０〜８０μｍとする
ことがより好ましい。この厚さが、１０μｍ未満では、
焼成後の蛍光体パターンが薄くなり、発光効率が低下す
る傾向があり、１００μｍを超えると、焼成後の蛍光体
パターンが厚くなり、蛍光面の発光面積が縮小して発光
効率が低下する傾向がある。

【００７４】感光性エレメントの蛍光体を含有する感光
性樹脂組成物層の上には、さらに剥離可能なカバーフィ
ルムをを積層することができる。

【００７５】カバーフィルムとしては、ポリエチレン、
ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカ
ーボネート等が挙げられ、支持体フィルムと熱可塑性樹
脂層との接着力よりも、カバーフィルムと蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層との接着力の方が小さいもので
あることが好ましい。

【００７６】また、感光性エレメントは、蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層を構成する前記各成分を溶解又
は分散可能な前記溶剤に、溶解又は混合させることによ
り、均一な溶液とし、前記した支持体フィルム上に、ナ
イフコート法、ロールコー卜法、スプレーコート法、グ
ラビアコート法、バーコート法、カーテンコート法等の
公知の塗布方法を用いて、塗布、乾燥することにより蛍
光体を含有する感光性樹脂組成物層を形成した後、この
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層と前記支持体フィ
ルム上に設けた熱可塑性樹脂層が接するように張り合せ
ることにより得ることもできる。このようにして得られ
る感光性エレメントは、ロール状に巻いて保管可能とす
ることができる。

【００７７】以下、本発明のプラズマディスプレイパネ
ル用背面板の製造法の各工程についてて詳述する。な
お、図３及び図４は、本発明における蛍光体パターンの
形成法の各工程を示した模式図である。

【００７８】［（Ｉ）バリアリブが形成されたプラズマ
ディスプレイパネル用基板上に、（Ａ）蛍光体を含有す
る感光性樹脂組成物層を形成する工程］バリアリブ２が
形成されたＰＤＰ用基板１上に、前記（Ａ）蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層５を形成させた状態を図３
（ＩＩＩ）に示した。

【００７９】本発明におけるＰＤＰ用基板１としては、
例えば、透明な接着のための表面処理を施していてもよ
い、ガラス板、合成樹脂等の基板に、電極及びバリアリ
ブが形成されたものなどが挙げられる。バリアリブの形
成には、特に制限なく、公知の材料を使用できるが、例
えば、シリカ、熱硬化性樹脂、低融点ガラス（酸化鉛
等）、溶剤などを含むリブ材を用いることができる。

【００８０】また、ＰＤＰ用基板には、電極及びバリア
リブの他に、必要に応じて、誘電膜、絶縁膜、補助電
極、抵抗体等が形成されていてもよい。

【００８１】これらのものを、基板へ形成する方法とし
ては、特に制限はなく、例えば、基板に、蒸着、スパッ
タリング、メッキ、塗布、印刷等の方法で電極を形成す
ることができ、印刷法、サンドブラスト法、埋め込み等
の方法でバリアリブを形成することができる。バリアリ
ブは、通常、高さが２０〜５００μｍ、幅が２０〜２０
０μｍとされる。

【００８２】バリアリブで囲まれた放電空間の形状に
は、特に制限はなく、格子状、ストライプ状、ハニカム
状、３角形状、楕円形状等が可能であるが、通常図１及
び図２に示すように、格子状又はストライプ状の放電空
間が形成される。

【００８３】図１及び図２において、基板１上にはバリ
アリブ２が形成されており、図１では格子状放電空間３
が、図２ではストライプ状放電空間４が形成されてい
る。放電空間の大きさは、ＰＤＰの大きさと解像度によ
って決められ、通常図１のような格子状放電空間であれ
ば、縦及び横の長さは、５０μｍ〜１ｍｍとなり、図２
のようなストライプ状放電空間であれば、間隔は３０μ
ｍ〜１ｍｍとなる。

【００８４】図３（ＩＩＩ）において、バリアリブ２が
形成されたＰＤＰ用基板１の上に、（Ａ）蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層５を形成させる方法としては、
例えば、これを構成する前記各成分を溶解又は分散可能
な溶剤に、溶解又は混合させることにより均一に分散し
た溶液とし、前記ＰＤＰ用基板上に、塗布、乾燥するこ
とにより得ることができる。

【００８５】前記各成分を溶解又は分解可能な溶剤とし
ては、例えば、トルエン、アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、メチルセロソルブ、エチ
ルセロソルブ、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリ
ドン、ジメチルホルムアミド、テトラメチルスルホン、
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレング
リコールモノブチルエーテル、クロロホルム、塩化メチ
レン、メチルアルコール、エチルアルコール等が挙げら
れる。これらは単独で又は２種以上を組み合わせて使用
される。

【００８６】塗布方法としては、例えば、ドクターブレ
ードコーティング法、ミヤアバーコーティング法、ロー
ルコーティング法、スクリーンコーティング法、スピナ
ーコーティング法、インクジェットコーティング法、ス
プレーコーティング法、ディップコーティング法、グラ
ビアコーティング法、カーテンコーティング法等を用い
ることができる。

【００８７】乾燥方法としては、公知の乾燥方法を用い
て、乾燥することができ、乾燥温度は、４０〜１３０℃
とすることが好ましく、乾燥時間は１０〜９０分間とす
ることが好ましい。

【００８８】また、図３（ＩＩＩ）において、バリアリ
ブ２が形成されたＰＤＰ用基板１上に、（Ａ）蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物層５を形成させる方法として
は、例えば、感光性エレメントを用いる方法により得る
こともできる。

【００８９】感光性エレメントを用いる方法とは、バリ
アリブが形成されたプラズマディスプレイパネル用基板
上に、感光性エレメントの（Ａ）蛍光体を含有する感光
性樹脂組成物層の上部に（Ｂ）熱可塑性樹脂層が配置さ
れた状態で、（Ｂ）層上から加熱圧着する方法などが挙
げられる。

【００９０】感光性エレメントを用いる場合は、感光性
エレメントにカバーフィルムが存在しているときは、そ
のカバーフィルムを除去後、ＰＤＰ用基板のバリアリブ
を形成した面に、感光性エレメントの（Ａ）蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層５が接するように、載せただ
けでもよく、圧着ロール等で加圧させてもよく、減圧下
において積層することもできる。バリアリブ２が形成さ
れたＰＤＰ用基板１上に、前記感光性エレメントの
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層５を積層さ
せた状態を図３（Ｉ）に示した。

【００９１】加圧する場合の圧着圧力は、線圧で５０〜
１×１０⁵Ｎ／ｍとすることが好ましく、２．５×１０²
〜５×１０⁴Ｎ／ｍとすることがより好ましく、５×１
０²〜４×１０⁴Ｎ／ｍとすることが特に好ましい。この
圧着圧力が、５０Ｎ／ｍ未満では、（Ａ）蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層５のＰＤＰ基板の空間への埋め
込み性が低下する傾向があり、１×１０⁵Ｎ／ｍを超え
ると、ＰＤＰ用基板のバリアリブが破壊される傾向があ
る。

【００９２】また、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層５の空間への埋め込み性をさらに向上させる点
から、上記圧着ロールの表面が、ゴム、プラスチック等
の柔軟性に富んだ材質のものを使用することもできる。
なお、柔軟性に富んだ材質の層の厚さは、２００〜４０
０μｍとすることが好ましい。

【００９３】また、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層５の空間への埋め込み性をさらに向上させる点
から、加熱ロール等により感光性エレメントを加熱しな
がら、ＰＤＰ用基板のバリアリブを形成した面に圧着し
て積層することもできる。

【００９４】加熱圧着時の加熱温度は、１０〜１３０℃
とすることが好ましく、２０〜１２０℃とすることがよ
り好ましく、３０〜１１０℃とすることが特に好まし
い。この加熱温度が、１０℃未満では、（Ａ）蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物層５が、ＰＤＰ基板上に十分
に密着できない傾向があり、１３０℃を超えると、
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層５が熱硬化
する傾向がある。

【００９５】また、加熱圧着時の圧着圧力は、線圧で５
０〜１×１０⁵Ｎ／ｍとすることが好ましく、２．５×
１０²〜５×１０⁴Ｎ／ｍとすることがより好ましく、５
×１０²〜４×１０⁴Ｎ／ｍとすることが特に好ましい。
この圧着圧力が、５０Ｎ／ｍ未満では、（Ａ）蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物層５のＰＤＰ基板の空間への
埋め込み性が低下する傾向があり、１×１０⁵Ｎ／ｍを
超えると、ＰＤＰ用基板のバリアリブが破壊される傾向
がある。

【００９６】感光性エレメントを前記のように加熱すれ
ば、バリアリブを形成したＰＤＰ用基板を予熱処理する
ことは必要ではないが、（Ａ）蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物層５の空間への埋め込み性をさらに向上させ
る点から、前記ＰＤＰ用基板の予熱処理を行うことが好
ましい。

【００９７】さらに、同様の目的で、５×１０⁴Ｐａ以
下の減圧下で、上記した圧着及び加熱圧着の操作を行う
こともできる。

【００９８】また、このように積層が完了した後、３０
〜１５０℃の範囲で、１〜１２０分間、加熱することも
できる。この際、支持体フィルムを必要に応じて除去す
ることもできる。

【００９９】（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層５の上部に、（Ｂ）熱可塑性樹脂層６を配置し、加熱
圧着しながら（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層５及び（Ｂ）熱可塑性樹脂層６を積層させた状態を図
３（ＩＩ）に示した。

【０１００】図３（ＩＩ）において、（Ａ）蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層５の上部に、（Ｂ）熱可塑性
樹脂層６を配置し、加熱圧着させる方法としては、例え
ば、図３（Ｉ）の状態の（Ａ）蛍光体を含有する感光性
樹脂組成物層５の上に、支持体フィルムが存在している
場合には、支持体フィルムを除去後、（Ａ）蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層５の上部に、（Ｂ）熱可塑性
樹脂層６（カバーフィルムが存在しているときは、その
カバーフィルムを除去した後）を配置し、加熱ロール７
等により加熱圧着する方法などが挙げられる。

【０１０１】加熱圧着時の加熱温度は、１０〜１３０℃
とすることが好ましく、２０〜１２０℃とすることがよ
り好ましく、３０〜１１０℃とすることが特に好まし
い。この加熱温度が、１０℃未満では、（Ａ）蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物層５のＰＤＰ基板の空間への
埋め込み性が低下する傾向があり、１３０℃を超える
と、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層５が熱
硬化する傾向がある。

【０１０２】また、加熱圧着時の圧着圧力は、線圧で５
０〜１×１０⁵Ｎ／ｍとすることが好ましく２．５×１
０²〜５×１０⁴Ｎ／ｍとすることがより好ましく、５×
１０ ²〜４×１０⁴Ｎ／ｍとすることが特に好ましい。こ
の圧着圧力が、５０Ｎ／ｍ未満では、（Ａ）蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層５のＰＤＰ基板の空間への埋
め込み性が低下する傾向があり、１×１０⁵Ｎ／ｍを超
えると、ＰＤＰ用基板のバリアリブが破壊される傾向が
ある。

【０１０３】（Ｂ）熱可塑性樹脂層６を前記のように加
熱すれば、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
５を積層したＰＤＰ用基板を予熱処理することは必要で
はないが、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
５の空間への埋め込み性をさらに向上させる点から、
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層５を積層し
たＰＤＰ用基板を予熱処理することが好ましい。このと
きの予熱温度は、３０〜１３０℃とすることが好まし
く、また、予熱時間は０．５〜２０分間とすることが好
ましい。

【０１０４】また、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層５の空間への埋め込み性をさらに向上させる点
から、上記圧着ロールの表面が、ゴム、プラスチック等
の柔軟性に富んだ材質のものを使用することもできる。
なお、柔軟性に富んだ材質の層の厚さは、２００〜４０
０μｍとすることが好ましい。

【０１０５】さらに同様の目的で、５×１０⁴Ｐａ以下
の減圧下で、上記した圧着及び加熱圧着操作を行うこと
もできる。

【０１０６】また、積層が完了した後、３０〜１５０℃
の範囲で、１〜１２０分間加熱することもできる。この
とき、（Ｂ）熱可塑性樹脂６の上に支持体フィルムが存
在する場合には、その支持体フィルムを必要に応じて除
去してもよい。

【０１０７】このようにして、（Ａ）蛍光体を含有する
感光性樹脂組成物層５をＰＤＰ用基板の空間に均一に形
成することができる。

【０１０８】また、本発明における（Ｉ）工程では、
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層５と（Ｂ）
熱可塑性樹脂層６とを、２層同時に加熱圧着しながら積
層させることもできる。２層同時に加熱圧着させるとき
の加熱圧着条件としては、上記（Ｂ）熱可塑性樹脂層６
を加熱圧着させるときの条件を用いることができる。

【０１０９】また、バリアリブ２が形成されたＰＤＰ用
基板１上に、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層５を積層させる方法としては、例えば、支持体フィル
ム上に、（Ｂ）熱可塑性樹脂層を有し、その上に、
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を有する感
光性エレメントを用いる方法により得ることもできる。

【０１１０】バリアリブ２が形成されたプラズマディス
プレイパネル用基板（ＰＤＰ用基板）１上に、（Ｂ）熱
可塑性樹脂層６及び（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層５を含む本発明の感光性エレメントを、加熱ロ
ール７を用いて積層させた状態を図４に示した。

【０１１１】図４（ＩＩ）（ＩＩＩ）の工程において、
バリアリブ２が形成されたＰＤＰ用基板１上に（Ｂ）熱
可塑性樹脂層６及び（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層５を含む本発明の感光性エレメントを積層させ
る方法としては、例えば、感光性エレメントにカバーフ
ィルムが存在しているときは、このカバーフィルムを除
去後、ＰＤＰ用基板のバリアリブを形成した面に、
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層５が接する
ように、加熱ロール７で加熱圧着させること等により積
層することができる。

【０１１２】加熱圧着時の加熱温度は、１０〜１３０℃
とすることが好ましく、２０〜１２０℃とすることがよ
り好ましく、３０〜１１０℃とすることが特に好まし
い。この加熱温度が、１０℃未満では、（Ａ）蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物層５のＰＤＰ基板の空間への
埋め込み性が低下する傾向があり、１３０℃を超える
と、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層５が熱
硬化する傾向がある。

【０１１３】また、加熱圧着時の圧着圧力は、線圧で５
０〜１×１０⁵Ｎ／ｍとすることが好ましく２．５×１
０²〜５×１０⁴Ｎ／ｍとすることがより好ましく、５×
１０ ²〜４×１０⁴Ｎ／ｍとすることが特に好ましい。こ
の圧着圧力が、５０Ｎ／ｍ未満では、（Ａ）蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物層５のＰＤＰ基板の空間への埋
め込み性が低下する傾向があり、１×１０⁵Ｎ／ｍを超
えると、ＰＤＰ用基板のバリアリブが破壊される傾向が
ある。

【０１１４】（Ｂ）熱可塑性樹脂層６及び（Ａ）蛍光体
を含有する感光性樹脂組成物層５含む本発明の感光性エ
レメントを前記のように加熱すれば、ＰＤＰ用基板を予
熱処理することは必要ではないが、（Ａ）蛍光体を含有
する感光性樹脂組成物層５の空間への埋め込み性をさら
に向上させる点から、ＰＤＰ用基板を予熱処理すること
が好ましい。このときの予熱温度は、３０〜１３０℃と
することが好ましく、また、予熱時間は０．５〜２０分
間とすることが好ましい。

【０１１５】また、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層５の空間への埋め込み性をさらに向上させる点
から、上記圧着ロールの表面が、ゴム、プラスチック等
の柔軟性に富んだ材質のものを使用することもできる。
なお、柔軟性に富んだ材質の層の厚さは、２００〜４０
０μｍとすることが好ましい。

【０１１６】さらに同様の目的で、５×１０⁴ＰＡ以下
の減圧下で、上記した圧着及び加熱圧着操作を行うこと
もできる。

【０１１７】また、積層が完了した後、３０〜１５０℃
の範囲で、１〜１２０分間加熱することもできる。この
とき、（Ｂ）熱可塑性樹脂層６の上に支持体フィルムが
存在する場合には、その支持体フィルムを必要に応じて
除去してもよい。

【０１１８】このようにして、（Ａ）蛍光体を含有する
感光性樹脂組成物層５をＰＤＰ用基板の空間に均一に形
成することができる。

【０１１９】また、前記した加熱圧着時の加熱条件、圧
着圧力条件及びＰＤＰ用基板の予備加熱条件や、（Ｂ）
熱可塑性樹脂層６の膜厚など各条件の組み合わせを変え
ることにより、図５に示すような状態に積層することも
できる。なお、図５は、本発明の蛍光体パターンの製造
法における、（Ｉ）工程終了後の一例である。

【０１２０】なお、感光性エレメントを積層させる前の
ＰＤＰ用基板作製時において加熱により、ＰＤＰ用基板
の全体又は部分的な収縮が発生する場合と、ＰＤＰ用基
板の収縮がほとんど発生しない場合があり、ＰＤＰ用基
板の全体又は部分的な収縮が発生する場合においては、
後述する（ＩＩ）活性光線を像的に照射する工程におい
ての位置合わせ精度の裕度を大きくする点から、図３
（ＩＶ）に示すように凸部の上部に感光性樹脂組成物層
５がほとんど残存しないように凹部内面に積層させるこ
とが好ましく、また、ＰＤＰ用基板の収縮がほとんど発
生しない場合においては、図５に示すように凸部の上部
に感光性樹脂組成物層５が残存する状態で積層させても
よい。

【０１２１】［（ＩＩ）蛍光体を含有する感光性樹脂組
成物層に活性光線を像的に照射する工程］活性光線９を
像的に照射する状態を図３（ＩＶ）に示した。図３（Ｉ
Ｖ）の工程において、活性光線９を像的に照射する方法
としては、図３（ＩＩＩ）の状態の（Ｂ）熱可塑性樹脂
層６上部に、ネガフィルム、ポジフィルム等のフォトマ
スク８を介して、活性光線７を像的に照射することがで
きる。このとき、（Ｂ）熱可塑性樹脂層６の上に支持体
フィルムが存在する場合は、その支持体フィルムを積層
したまま活性光線９を像的に照射してもよく、また、支
持体フィルムを除去した後に活性光線９を像的に照射し
てもよい。

【０１２２】なお、このとき、（Ｂ）熱可塑性樹脂層６
が、前記した感光性樹脂組成物である場合には、（Ｂ）
熱可塑性樹脂層６及び（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層５は、同時に光硬化することになる。

【０１２３】また、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂
組成物層５を溶解しない水、アルカリ水溶液、半溶剤水
溶液、半溶剤アルカリ水溶液、有機溶剤等を用いて、
（Ｂ）熱可塑性樹脂層６を溶解により除去した後、ネガ
フィルム、ポジフィルム等フォトマスク８を介して、活
性光線９を像的に照射することもできる。

【０１２４】活性光線９としては、公知の活性光源が使
用でき、例えば、カーボンアーク、水銀蒸気アーク、キ
セノンアーク、その他から発生する光等が挙げられる。

【０１２５】光開始剤の感受性は、通常、紫外線領域に
おいて最大であるので、その場合の活性光源は、紫外線
を有効に放射するものにすべきである。また、光開始剤
が可視光線に感受するもの、例えば、９，１０−フェナ
ンスレンキノン等でである場合には、活性光線９として
は、可視光が用いられ、その光源としては、前記のもの
以外に写真用フラッド電球、太陽ランプ等も使用するこ
とができる。

【０１２６】［（ＩＩＩ）現像により蛍光体を含有する
感光性樹脂組成物層の不要部を選択的に除去してパター
ンを形成する工程］現像により不要部を除去した状態を
図３（Ｖ）に示した。なお、図３（Ｖ）において、５′
は光硬化後の蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層であ
る。

【０１２７】図３（Ｖ）の工程において、現像方法とし
ては、例えば、図３（ＩＶ）の状態の後、（Ｂ）熱可塑
性樹脂層６の上に支持体フィルムが存在する場合には、
これを除去した後、アルカリ水溶液、水系現像液、有機
溶剤等の公知の現像液を用いて、スプレー、揺動浸漬、
ブラッシング、スクラッビング等の公知方法により現像
を行い、不要部を除去する方法等が挙げられる。本発明
においては、（ＩＩＩ）現像により不要部を除去する工
程において、遷移金属イオン、硫酸イオン、亜硫酸イオ
ン、硝酸イオン、亜硝酸イオン、塩素イオン及び塩素の
含有量が重量濃度でそれぞれ５００ｐｐｍ未満、好まし
くは２００ｐｐｍ未満である現像液を使用することを特
徴とする。また、これらのイオンと塩素の合計量は好ま
しくは、２０００ｐｐｍ未満、より好ましくは５００ｐ
ｐｍ未満とすることが望ましい。このような現像液は、
例えばイオン交換水を用いることにより得られる。

【０１２８】不要部を除去する場合には、まず、（Ａ）
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層５を溶解しない
水、アルカリ水溶液、水系現像液、有機溶剤等を用い
て、（Ｂ）熱可塑性樹脂層６を溶解により除去した後
に、現像液を用いて、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層５の不要部を除去してもよく、また、（Ｂ）
熱可塑性樹脂層６が、前記した（Ｂ）熱可塑性樹脂層６
及び（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層５が、
同一の現像液を使用して現像できるものである場合に
は、その現像液を用いて（Ｂ）熱可塑性樹脂組成物層６
及び（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物５の不要
部を一工程で除去することもできる。

【０１２９】また、（Ｂ）熱可塑性樹脂層６及び（Ａ）
蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層５の不要部を除去
する方法として、ドライ現像にて、それぞれ単独に又は
一工程で行うこともできる。

【０１３０】アルカリ水溶液の塩基としては、水酸化ア
ルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウムの水酸化物
等）、炭酸アルカリ（リチウム、ナトリウム又はカリウ
ムの炭酸塩若しくは重炭酸塩等）、アルカリ金属リン酸
塩（リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等）、アルカリ
金属ピロリン酸塩（ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸
カリウム等）、水酸化テトラメチルアンモニウム、トリ
エタノールアミンなどが挙げられ、中でも、炭酸ナトリ
ウム、水酸化テトラメチルアンモニウム等が好ましいも
のとして挙げられる。

【０１３１】現像液に用いるアルカリ水溶液のｐＨは、
９〜１１とすることが好ましく、また、その温度は、
（Ｂ）熱可塑性樹脂層６及び（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層５の現像性に合わせて調整することが
できる。

【０１３２】また、アルカリ水溶液中には、表面活性
剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤を
混入させることができる。

【０１３３】水系現像液としては、水又はアルカリ水溶
液と１種以上の有機溶剤とからなるものが挙げられる。

【０１３４】ここで、アルカリ水溶液の塩基としては、
前記物質以外に、例えば、ホウ砂、メタケイ酸ナトリウ
ム、エタノールアミン、エチレンジアミン、ジエチレン
トリアミン、２−アミノ−２−ヒドロキシメチル−１，
３−プロパンジオール、１，３−ジアミノプロパノール
−２−モルホリン、水酸化テトラメチルアンモニウム等
が挙げられる。

【０１３５】水系現像液のｐＨは、８〜１２とすること
が好ましく、９〜１０とすることがより好ましい。

【０１３６】有機溶剤としては、例えば、アセトンアル
コール、アセトン、酢酸エチル、炭素数１〜４のアルコ
キシ基をもつアルコキシエタノール、エチルアルコー
ル、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、ジエ
チレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリ
コールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
ブチルエーテル等が挙げられる。これらは、単独で又は
２種類以上を組み合わせて使用される。有機溶剤の濃度
は、通常、２〜９０重量％の範囲とされ、また、その温
度は、現像性にあわせて調整することができる。

【０１３７】また、水系現像液中には、界面活性剤、消
泡剤等を少量混入することができる。

【０１３８】単独で用いる有機溶剤現像液としては、例
えば、１，１，１−トリクロロエタン、Ｎ−メチルピロ
リドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、シクロヘキサ
ノン、メチルイソブチルケトン、γ−ブチロラクトン等
が挙げられる。これらの有機溶剤には、引火防止のた
め、１〜２０重量％の範囲で水を添加してもよい。

【０１３９】また、現像液、蛍光体の劣化を防止する目
的で、光硬化後の蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
５′、及び、（Ｂ）熱可塑性樹脂層６が前記した感光性
樹脂組成物である場合には、光硬化後の熱可塑性樹脂層
に残存したアルカリ水溶液の塩基を、有機酸又は無機酸
又はこれらの酸水溶液を用いて、スプレー、誘導浸漬、
ブラッシング、スクラッピング等の公知方法により酸処
理（中和処理）することができる。

【０１４０】酸としては、例えば、飽和脂肪酸、不飽和
脂肪酸、脂肪族二塩基酸、芳香族二塩基酸、脂肪族三塩
基酸、芳香族三塩基酸等の有機酸及び無機酸が挙げられ
る。

【０１４１】具体的な有機酸としては、例えば、ぎ酸、
酢酸、クロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、プ
ロピオン酸、カプリン酸、ウンデカン酸、ラウリン酸、
トリデカン酸、ミリスチン酸、ペンタデカン酸、パルミ
チン酸、ヘプタデカン酸、ステアリン酸、ノナデカン
酸、アラキジン酸、パルミトオレイン酸、オレイン酸、
エライジン酸、リノレン酸、リノール酸、しゅう酸、マ
ロン酸、メチルマロン酸、エチルマロン酸、マロン酸モ
ノメチル、マロン酸モノエチル、こはく酸、メチルこは
く酸、アジピン酸、メチルアジピン酸、ピメリン酸、ス
ベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、マレイン酸、イ
タコン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ト
リメリト酸、クエン酸、サリチル酸、ピルビン酸、リン
ゴ酸等が挙げられる。

【０１４２】また、具体的な無機酸としては、例えば、
硫酸、塩酸、硝酸等が挙げられる。酸処理に用いる酸水
溶液のｐＨは、２〜６とすることが好ましいが、酸水溶
液のｐＨ及び温度は、光硬化後の蛍光体を含有する感光
性樹脂組成物層５′及びＰＤＰ用基板の耐酸性（酸に対
して劣化しない耐久性）に合わせて調整することができ
る。

【０１４３】また、現像後、ＰＤＰ用基板の空間の表面
における蛍光体含有フォトレジストの密着性及び耐薬品
性を向上させる目的で、高圧水銀ランプ等による紫外線
照射や加熱を行うこともできる。このときの、紫外線の
照射量は、通常０．２〜１０Ｊ／ｃｍ² であり、照射
の際に、加熱を伴うこともできる。また、加熱時の温度
は、６０〜１８０℃とすることが好ましく、１００〜１
８０℃とすることがより好ましい。また、加熱時間は、
１５〜９０分間とすることが好ましい。

【０１４４】これらの紫外線の照射と加熱は、照射と加
熱を別々に行ってもよく、どちらを先に行ってもよい。

【０１４５】［（ＩＶ）前記パターンから焼成により不
要分を除去して蛍光体パターンを形成する工程］焼成に
より不要部を除去した後の蛍光体パターンを形成した状
態を図３（ＶＩ）に示した。なお、図３（ＶＩ）におい
て、１０は蛍光体パターンである。

【０１４６】図３（ＶＩ）の工程において、焼成方法と
しては、特に制限はなく、公知の焼成方法を使用し、蛍
光体及び結着剤以外の不要物を除去し、蛍光体パターン
を形成することができる。

【０１４７】このときの焼成温度は、３５０〜８００℃
とすることが好ましく、４００〜６００℃とすることが
より好ましい。また、焼成時間は３〜１２０分間とする
ことが好ましく、５〜９０分間とすることがより好まし
い。

【０１４８】本発明の蛍光体パターンの製造法は、工程
数を低減できる等の点から、前記本発明における（Ｉ）
〜（ＩＩＩ）の各工程を１色毎に繰り返して、赤色、緑
色及び青色に発色する蛍光体を含有する感光性樹組成物
からなる多色パターンを形成した後、（ＩＶ）の工程を
行い多色パターンを形成することが好ましい。

【０１４９】本発明において、赤色、緑色及び青色に発
色するそれぞれの蛍光体を単独で有する（Ａ）蛍光体を
含有する感光性樹脂組成物層５は、赤色、緑色、青色の
各色について、どの様な順番でも行うことができる。

【０１５０】本発明における（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の各工
程を１色毎に繰り返して、赤色、緑色及び青色に発色す
る蛍光体を含有する感光性樹組成物からなる多色パター
ンを形成した状態を図６に示した。なお、図６におい
て、５′ａは１色目のパターン、５′ｂは２色目のパタ
ーン及び５′ｃは３色目のパターンである。

【０１５１】また、本発明における（ＩＶ）の工程を行
い多色パターンを形成した状態を図７に示した。なお、
図７において、１０ａは１色目の蛍光体パターン、１０
ｂは２色目の蛍光体パターン及び１０ｃは３色目の蛍光
体パターンである。

【０１５２】また、本発明の蛍光体パターン製造法は、
膜べりの抑制等の点から、前記本発明における（Ｉ）〜
（ＩＶ）の各工程を１色毎に繰り返して、赤色、緑色及
び青色に発色する多色の蛍光体パターンを形成すること
が好ましい。

【０１５３】

【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。

【０１５４】製造例１ ［高分子結合剤の溶液（ａ−１）の作製］撹拌機、還流
冷却機、不活性ガス導入管及び温度計を備えたフラスコ
に、表１に示す（１）を仕込み、窒素ガス雰囲気下で８
０℃に昇温し、反応温度を８０±２℃に保ちながら、表
１に示す（２）を４時間かけて均一に滴下した。

【０１５５】（２）の滴下後、８０℃±２℃で６時間撹
拌を続け、重量平均分子量８０，０００、酸価が１３０
ＫＯＨ／ｇの高分子結合剤の溶液（ａ−１）（固形分４
５．５重量％）を得た。

【０１５６】

【表１】 製造例２ ［（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を含む感
光性エレメント（Ａ−１）の作製］表２に示す材料を混
合し、ライカイ機を用いて１５分間混合し、蛍光体を含
有する感光性樹脂組成物溶液を調製した。

【０１５７】

【表２】 得られた溶液を、２０μｍの厚さのポリエチレンテレフ
タレートフィルム上に均一に塗布し、８０〜１１０℃の
熱風対流式乾燥機で１０分間乾燥して溶剤を除去し、
（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を形成し
た。得られた（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物
層の乾燥後の厚さは、５０μｍであった。

【０１５８】次いで、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層の上に、厚さが２５μｍのポリエチレンフィ
ルムをカバーフィルムとして張り合わせて、（Ａ）蛍光
体を含有する感光性樹脂組成物層を含む感光性エレメン
ト（Ａ−１）を作製した。

【０１５９】製造例３ ［（Ｂ）熱可塑性樹脂層用溶液（Ｂ−１）の作製］表３
に示す材料を配合し、（Ｂ）熱可塑性樹脂層用溶液を作
製した。得られた溶液を、２０μｍの厚さのポリエチレ
ンテレフタレートフィルム上に均一に塗布し、８０〜１
１０℃の熱風対流式乾燥機で１０分間乾燥して溶剤を除
去し、（Ｂ）熱可塑性樹脂層を形成した。得られた
（Ｂ）熱可塑性樹脂層の乾燥後の厚さは、５０μｍであ
った。

【０１６０】次いで、（Ｂ）熱可塑性樹脂層の上に、厚
さが２５μｍのポリエチレンフィルムをカバーフィルム
として張り合わせて、（Ｂ）熱可塑性樹脂層を含む感光
性エレメント（Ｂ−１）を作製した。

【０１６１】

【表３】 実施例１ ［（Ｉ）バリアリブが形成されたプラズマディスプレイ
パネル用基板の凹凸表面に、（Ａ）蛍光体を含有する感
光性樹脂組成物層を形成する工程］ＰＤＰ用基板（スト
ライプ状バリアリブ、バリアリブ間の開口幅１５０μ
ｍ、バリアリブの幅７０μｍ、バリアリブの高さ１５０
μｍ）のバリアリブが形成された側に、製造例２で得ら
れた（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を含む
感光性エレメント（Ａ−１）を、ポリエチレンフィルム
を剥がしながら、真空ラミネータ（日立化成工業（株）
製、商品名ＶＬＭ−１型）を用いて、ヒートシュー温度
が３０℃、ラミネート速度が１．５ｍ／分、気圧が４０
００Ｐａ以下、圧着圧力が線圧で２．５×１０³Ｎ／ｍ
で積層した。

【０１６２】次いで、（Ａ）蛍光体を含有する感光性樹
脂組成物層を含む感光性エレメント（Ａ−１）のポリエ
チレンテレフタレートフィルムを剥離し、（Ａ）蛍光体
を含有する感光性樹脂組成物層上に、製造例３で得られ
た（Ｂ）熱可塑性樹脂層を含むフィルム（Ｂ−１）を、
ポリエチレンフィルムを剥がしながら、ラミネータ（日
立化成工業（株）製、商品名ＨＬＭ−３０００型）を用
いて、ラミネート温度が１１０℃、ラミネート速度が
０．５ｍ／分、圧着圧力が線圧で５×１０³Ｎ／ｍで積
層した。

【０１６３】［（ＩＩ）活性光線を像的に照射する工
程］次に、（Ｂ）熱可塑性樹脂層を含むフィルム（Ｂ−
１）のポリエチレンテレフタレートフィルム上に、試験
用フォトマスクを密着させて、（株）オーク製作所製Ｈ
ＭＷ−２０１ＧＸ型露光機を使用し、１００ｍＪ／ｃｍ
²で活性光線を像的に照射した。

【０１６４】［（ＩＩＩ）現像により不要部を除去する
工程］次いで、活性光線の照射後、常温で１時間放置し
た後、イオン交換水を使用した１重量％炭酸ナトリウム
水溶液を用いて、３０℃で１２０秒間スプレー現像し
た。現像後、１００℃で１０分間乾燥し、東芝電材
（株）製東芝紫外線照射装置を使用して、３Ｊ／ｃｍ²
の紫外線照射を行った後、１５０℃で３０分間加熱し
た。

【０１６５】なお現像液中の鉄イオンは２ｐｐｍ、硫酸
イオンは２ｐｐｍ、亜硫酸イオンは４ｐｐｍ、硝酸イオ
ンは５ｐｐｍ、亜硝酸イオンは４ｐｐｍ、塩素イオンは
４ｐｐｍ及び塩素は１００ｐｐｍであった。

【０１６６】［（ＩＶ）焼成により不要分を除去する工
程］次いで、４８０℃で２０分間加熱処理（焼成）を行
い、不必要な樹脂成分を除去し、ＰＤＰ用基板の空間に
蛍光体パターンを形成させた。

【０１６７】比較例１ 実施例１において、［（ＩＩＩ）現像により不要部を除
去する工程］中で用いる現像液を水道水を使用した１重
量％炭酸ナトリウム水溶液に代えた以外は、、実施例１
と同様に蛍光体パターンを形成させた。

【０１６８】なお現像液中の鉄イオンは８００ｐｐｍ、
硫酸イオンは２ｐｐｍ、亜硫酸イオンは４ｐｐｍ、硝酸
イオンは５ｐｐｍ、亜硝酸イオンは４ｐｐｍ、塩素イオ
ンは３００ｐｐｍ及び塩素は６００ｐｐｍであった。

【０１６９】［蛍光体パターンの発光輝度の評価］実施
例１及び比較例１で得られた蛍光体パターンの蛍光体の
みを取り出し、その蛍光体粉を成形器でペレット状に成
形し、波長２５４ｎｍの紫外線を照射し、発光した可視
光線を輝度計で測定した。また、何ら処理していない蛍
光体分を４８０℃で２０分間加熱したものを同様にペレ
ット状に成形し、波長２５４ｎｍの紫外線を照射し、発
光した可視光線を輝度計で測定し、これを基準にして得
られた前記蛍光体パターンの蛍光体のみの発光輝度の低
下率を求めたところ、蛍光体パターンの発光輝度低下
は、実施例１では１％の低下であったが、比較例１では
３０％低下した。この結果から、本発明の現像液を使用
して形成した蛍光体パターンの発光輝度の低下が少ない
ことが分かる。一方、本発明の現像液を使用せずに形成
した蛍光体パターンの発光輝度の低下が著しいことが分
かる。

【０１７０】

【発明の効果】本発明によれば、高精度で均一な形状の
蛍光体パターンを作業性良く形成でき、ＰＤＰとして発
光させた場合の蛍光体輝度劣化を防止できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】バリアリブが形成されたＰＤＰ用基板の一例を
示した模式図である。

【図２】バリアリブが形成されたＰＤＰ用基板の一例を
示した模式図である。

【図３】本発明の蛍光体パターンの製造法の各工程を示
した模式図である。

【図４】本発明の蛍光体パターンの製造法の各工程を示
した模式図である。

【図５】蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層を形成し
た状態を示した模式図の一例である。

【図６】蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層からなる
多色パターンを形成した状態を示した模式図である。

【図７】多色の蛍光体パターンを形成した状態を示した
模式図である。

【符号の説明】

１ 基板 ２ バリアリブ ３ 格子状放電空間 ４ ストライプ状放電空間 ５ 蛍光体を有する感光性樹脂組成物層 ５′光硬化後の蛍光体を有する感光性樹脂組成物層 ５′ａ １色目のパターン ５′ｂ ２色目の蛍光体パターン ５′ｃ ３色目の蛍光体パターン ６ 熱可塑性樹脂層 ７ 加熱ロール ８ フォトマスク ９ 活性光線 １０ 蛍光体パターン １０ａ １色目の蛍光体パターン １０ｂ ２色目の蛍光体パターン １０ｃ ３色目の蛍光体パターン

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 野尻 剛 茨城県日立市東町４丁目13番１号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内 (72)発明者 芦沢 寅之助 茨城県日立市東町４丁目13番１号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内 (72)発明者 田井 誠司 茨城県日立市東町４丁目13番１号 日立化 成工業株式会社茨城研究所内 (72)発明者 向 郁夫 茨城県日立市東町４丁目13番１号 日立化 成工業株式会社山崎工場内 (72)発明者 板垣 勝俊 茨城県日立市東町４丁目13番１号 日立化 成工業株式会社山崎工場内

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ｉ）バリアリブが形成されたプラズマ
   ディスプレイパネル用基板上に、蛍光体を含有する感光
   性樹脂組成物層を形成する工程、（ＩＩ）蛍光体を含有
   する感光性樹脂組成物層に活性光線を像的に照射する工
   程、（ＩＩＩ）現像により蛍光体を含有する感光性樹脂
   組成物層の不要部を選択的に除去してパターンを形成す
   る工程及び（ＩＶ）前記パターンから焼成により不要分
   を除去して蛍光体パターンを形成する工程を含むプラズ
   マディスプレイパネル用背面板の製造法において、（Ｉ
   ＩＩ）現像により蛍光体を含有する感光性樹脂組成物層
   の不要部を選択的に除去してパターンを形成する工程に
   おいて、遷移金属イオン、硫酸イオン、亜硫酸イオン、
   硝酸イオン、亜硝酸イオン、塩素イオン及び塩素の各含
   有量が重量濃度でそれぞれ５００ｐｐｍ未満である現像
   液を使用することを特徴とするプラズマディスプレイパ
   ネル用背面板の製造法。