JPS58108640A - 電子ビ−ム露光装置の偏向コイル - Google Patents

電子ビ−ム露光装置の偏向コイル

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Publication number
JPS58108640A
JPS58108640A JP56124581A JP12458181A JPS58108640A JP S58108640 A JPS58108640 A JP S58108640A JP 56124581 A JP56124581 A JP 56124581A JP 12458181 A JP12458181 A JP 12458181A JP S58108640 A JPS58108640 A JP S58108640A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
copper wire
deflecting coil
flat rolled
thickness
coil
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP56124581A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Yasuda
洋 安田
Nobumichi Takahata
高畑　宣道
Yoshinobu Ono
小野　義暢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP56124581A priority Critical patent/JPS58108640A/ja
Publication of JPS58108640A publication Critical patent/JPS58108640A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
    • H01J37/147—Arrangements for directing or deflecting the discharge along a desired path

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、電子ビーム露光装置の偏向コイルに関する。
電子ビーム露光装置においては、電子ビーム會試料の所
望の位置に照射するため、偏向コ示す溝２．２’ｆ有す
るボビン１に第１図（ｂ）に示すように銅線３會各溝２
．２′にサドル状に巻回してい−ｔｔｏ　Ｌかしながら
、このような従来の偏向コイルは、第１図（ｂ＋）にも
明らかなように、銅線３を均一に巻回することが難かし
く１、例えばボビン１０半径方向に延びる溝に銅線３０
束が断面形状三角形となるように巻回された。このよう
な銅線の巻かれ方はコイル内での発生磁界の均−性金乱
す原因となり、従ってこのような偏向コールを用いて電
子ビームの偏向を行なうと、いわゆるステイグと呼ばれ
る偏向ぼけが生じた。
本発明は従来のこのような欠点を解決し、発生磁界の均
一な偏向コイルを提供することを目的とする。
かかる本発明の目的は、本発明によれば電子ビームを所
望の角度だけ偏向するための偏向コイルにおいて、重ね
巻きされた平圧延被覆銅線を設けることにより達成され
る。
以下、図面を用いて本発明を説明する。
え 第ｊ図は本発明の一実施例の一実施例を示す図で、第２
図（ａ＞はその斜視図、第２図（ｂ）は銅線の断面図で
ある。第２図（ａ）に示すように、所定の治具音用いて
、第２図（ｂ）にその断面図を示す平圧延被覆銅線２０
ケ巻回した後１図示しない円筒状の治具に押しあてて湾
曲させる。
平圧延被覆銅線２０は、第２図（ｂ）に示すように幅δ
がαρ咽、厚さｂが００９簡の平圧延銅線２１に２０μ
ｍの厚さでポリエステルやポリ１ミドの被覆材全被覆し
、更に熱硬化性の接着材２３をｌＯμｍ程度被覆する。
従ってこのような平圧延被覆銅線２０全巻回し、加熱［
７て接着した後、上記のように湾曲させる。
このようにして形成された偏向コイルは精度が２０μｍ
程度に抑えることができるので、従来に比らべて均一な
磁界を発生するととができ、よって電子ビームの偏向ぼ
けを小さくして高精度のバター／を描画することが可能
となる。
【図面の簡単な説明】
第１図は、従来の偏向コイルを示す図、第２図は本発明
の一実施例を示す図である。 ２０：平圧延被覆銅線、２１：平圧延銅線、２２：被覆
材、　　　　　２３：接着材代理人　弁理士　松　岡　
宏四部 悼　１　図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 電子ビームを所望の角度だけ偏向するための偏向コイル
    において、重ね巻きされた平圧延被覆銅線を有すること
    １ｉ７特徴とする電子ビーム露光装置の偏向コイル。
JP56124581A 1981-08-08 1981-08-08 電子ビ−ム露光装置の偏向コイル Pending JPS58108640A (ja)

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JP56124581A JPS58108640A (ja) 1981-08-08 1981-08-08 電子ビ−ム露光装置の偏向コイル

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JPS58108640A true JPS58108640A (ja) 1983-06-28

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20190279787A1 (en) * 2016-09-26 2019-09-12 Autonetworks Technologies, Ltd. Flat wire, flat wire multilayer body, and fixing structure for flat wire

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4927996A (ja) * 1972-07-10 1974-03-12

Patent Citations (1)

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JPS4927996A (ja) * 1972-07-10 1974-03-12

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