JPS5815971A - 3−メチル−3−(o−メトキシフエノキシ)−ベンゾ−2,4−ジオキサシクロヘキサノンの製造法 - Google Patents
3−メチル−3−(o−メトキシフエノキシ)−ベンゾ−2,4−ジオキサシクロヘキサノンの製造法Info
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- JPS5815971A JPS5815971A JP57099096A JP9909682A JPS5815971A JP S5815971 A JPS5815971 A JP S5815971A JP 57099096 A JP57099096 A JP 57099096A JP 9909682 A JP9909682 A JP 9909682A JP S5815971 A JPS5815971 A JP S5815971A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は式(■):
で表わされる6−メチル−3−(0−メトキシフェノキ
シ)−ベンゾ−2,4−ジオキサシクロヘキサノンの新
規な製造法に関する。
シ)−ベンゾ−2,4−ジオキサシクロヘキサノンの新
規な製造法に関する。
式(I)で表わされる化合物は、鎮咳作用、解熱作用、
抗炎症作用を有し、薬理学的に重要な物質である。
抗炎症作用を有し、薬理学的に重要な物質である。
ベルギー特許第890751号明細書に開示されている
化合物(1)の製造法は、ピリジンの存在下アセチルサ
リチロイルクロライドを低温(θ〜4°0)に保ってえ
られた生成物と2−メトキシフェノール(一般名グアヤ
コール)を反応させる方法である。しかしながらこの製
造法では、多くのばあい化合物(I)の代わりにアセチ
ルサリチル酸2−メトキシフェニルしかえられなし1゜
アセチルサリチロイルクシライドを低温に保っている間
にアセチルサリチロイルクシライドは異性体に変化し、
2−メトキシフェノールと反応して化合物(I)を生じ
ると思われる。しかしながらこの転化条件は確定的でな
く通常の方法では再現できない。実験室段階におけるこ
の欠点は工業規模の製造においては許容できないものと
なる。該製造法の追試験から判明したことは、化合物(
1)は数パーセントのオーダーでしかえられず、しかも
そのときの収率はきわめて低いものであった(前記ベル
ギー特許第890731号明細書における実施例には収
率′51%とある)。
化合物(1)の製造法は、ピリジンの存在下アセチルサ
リチロイルクロライドを低温(θ〜4°0)に保ってえ
られた生成物と2−メトキシフェノール(一般名グアヤ
コール)を反応させる方法である。しかしながらこの製
造法では、多くのばあい化合物(I)の代わりにアセチ
ルサリチル酸2−メトキシフェニルしかえられなし1゜
アセチルサリチロイルクシライドを低温に保っている間
にアセチルサリチロイルクシライドは異性体に変化し、
2−メトキシフェノールと反応して化合物(I)を生じ
ると思われる。しかしながらこの転化条件は確定的でな
く通常の方法では再現できない。実験室段階におけるこ
の欠点は工業規模の製造においては許容できないものと
なる。該製造法の追試験から判明したことは、化合物(
1)は数パーセントのオーダーでしかえられず、しかも
そのときの収率はきわめて低いものであった(前記ベル
ギー特許第890731号明細書における実施例には収
率′51%とある)。
本発明者は鋭意研究を重ねた結果、前記化合物(I)を
高収率かつ高純度でうろことのできる製造法を見出した
。
高収率かつ高純度でうろことのできる製造法を見出した
。
すなわち本発明の製造法は、アセチルサリチロイルクシ
ライドを理論量の5〜60重量囁過剰量の2−メトキシ
フェノールと、不活性溶媒中、温度40〜150°Oの
範囲内で12〜48時間反応させることを特徴とするも
のである。以下、この製造法を第1の製造法という。
ライドを理論量の5〜60重量囁過剰量の2−メトキシ
フェノールと、不活性溶媒中、温度40〜150°Oの
範囲内で12〜48時間反応させることを特徴とするも
のである。以下、この製造法を第1の製造法という。
つぎに本発明の第1の製造法の好ましい実施態様を示す
。
。
(、)不活性有機溶媒に溶解したアセチルサリチロイル
クシライドの溶液に、ピリジンまたは他の第6級塩基の
非存在下、過剰量(5〜50%)の2−メトキシフェノ
ールを加える。
クシライドの溶液に、ピリジンまたは他の第6級塩基の
非存在下、過剰量(5〜50%)の2−メトキシフェノ
ールを加える。
(b)反応液を40〜150°0の温度範囲内で反応が
完了するまで12〜48時間加熱する。
完了するまで12〜48時間加熱する。
えられた溶液をアンモニア水、つづいて水で洗浄し、有
機層を蒸発させると化合物(I)が高収率かつ高純度で
えられる。
機層を蒸発させると化合物(I)が高収率かつ高純度で
えられる。
この製造法に用いる有機溶媒は不活性溶媒であればよく
、芳香族炭化水素および脂肪族の塩素化炭化水素、たと
えばベンゼン、トルエン、キシレン、り田ロホルム、ジ
クロルメタンおよびテトラクロルエタンなどが好ましい
。とくにジクロルメタンが好ましい。
、芳香族炭化水素および脂肪族の塩素化炭化水素、たと
えばベンゼン、トルエン、キシレン、り田ロホルム、ジ
クロルメタンおよびテトラクロルエタンなどが好ましい
。とくにジクロルメタンが好ましい。
前記化合物(I)はさらに、アセチルサリチル酸を一般
式(1): (式中、R工、〜および−は同じかまたは異なり、水素
原子、ハレゲン原子または炭素数1〜3のアルキル基を
示す)で表わされる無水物と、非プレトン性溶媒中、温
度約20〜70°0で反応させ、えられた澄明な溶液を
室温で10分間ないし12時間放置し、その後2−メト
キシフェノールの実質的理論量を加え、温度10〜40
°aの範囲内で1〜48時間反応させることによっても
高収率かつ高純度でえられる。以下、この製造法を第2
の製造法という。
式(1): (式中、R工、〜および−は同じかまたは異なり、水素
原子、ハレゲン原子または炭素数1〜3のアルキル基を
示す)で表わされる無水物と、非プレトン性溶媒中、温
度約20〜70°0で反応させ、えられた澄明な溶液を
室温で10分間ないし12時間放置し、その後2−メト
キシフェノールの実質的理論量を加え、温度10〜40
°aの範囲内で1〜48時間反応させることによっても
高収率かつ高純度でえられる。以下、この製造法を第2
の製造法という。
つぎに第2の製造法の好ましい実施態様を説明する。
(a)アセチルサリチル酸を前記式(1)で表わされる
無水物の理論量と非プロトン性溶媒、好ましくは水と相
互不溶性溶媒中、温度約20〜70°0で反応させる。
無水物の理論量と非プロトン性溶媒、好ましくは水と相
互不溶性溶媒中、温度約20〜70°0で反応させる。
(1))えられた澄明な溶液を室温で10分間ないし1
2時間放置する。
2時間放置する。
(0) 実it 的理論量の2−メトキシフェノールを
加え、えられた混合物を10〜40°0で、1〜48時
間放置する。
加え、えられた混合物を10〜40°0で、1〜48時
間放置する。
かくしてえられた溶液を水、好ましくはMaHOO,水
溶液で洗浄する。化合物<1)は有機層から簡単に抽出
される。
溶液で洗浄する。化合物<1)は有機層から簡単に抽出
される。
無水物(1)としては、たとえば無水酢酸、無水プロピ
オン酸、無水酪酸、無水イソ酪酸、無水ジクロロ酢酸、
無水トリク四口酢酸、無水トリフルオロ酢酸または無水
α、α−シクロロブ四ピオン酸よりなる群から選ばれた
1種または数種が使用でき、とくに好ましいものは無水
トリクロロ酢酸または無水トリフルオロ酢酸である。ま
1[としてはベンゼン、トルエン、キシレンが好ましい
。
オン酸、無水酪酸、無水イソ酪酸、無水ジクロロ酢酸、
無水トリク四口酢酸、無水トリフルオロ酢酸または無水
α、α−シクロロブ四ピオン酸よりなる群から選ばれた
1種または数種が使用でき、とくに好ましいものは無水
トリクロロ酢酸または無水トリフルオロ酢酸である。ま
1[としてはベンゼン、トルエン、キシレンが好ましい
。
本発明の製造法はいずれも再現可能であり、化合物(1
)をきわめて高収率かつ高純度でうろことができる。
)をきわめて高収率かつ高純度でうろことができる。
以下に実施例を示すが、本発明はかかる実施例のみに限
定されない。
定されない。
実施例1
507容の反応器に7セチルサリチシイルクレライド6
.8q (54,2モル)とジクロルメタン227に溶
解した2−メトキシフェノール5.66kg(45,6
モル)を入れた。この溶液を還流温度で48時間加熱し
た。そののち加熱を止め、反応混合物が室温になるまで
放置し、10%の水酸化アンモニウム101を加え完全
に攪拌した。有機層を分離し、水で洗浄したのち攪拌し
、再度有機層を分離した。この有機層を減圧下で蒸発さ
せ、油状の残渣9.74kgをえた。冷却したエタノー
ルを加えるとこの油状の残渣は凝固した。えられた残渣
6.80に9をエタノールから再結晶し、化合物(I)
5.70kl(収率58%)を精製物としてえた。この
ものの融点は76〜74旬であった。この精製物は市販
のサンプルと分光学的データおよび定性分析的データが
同一であった。
.8q (54,2モル)とジクロルメタン227に溶
解した2−メトキシフェノール5.66kg(45,6
モル)を入れた。この溶液を還流温度で48時間加熱し
た。そののち加熱を止め、反応混合物が室温になるまで
放置し、10%の水酸化アンモニウム101を加え完全
に攪拌した。有機層を分離し、水で洗浄したのち攪拌し
、再度有機層を分離した。この有機層を減圧下で蒸発さ
せ、油状の残渣9.74kgをえた。冷却したエタノー
ルを加えるとこの油状の残渣は凝固した。えられた残渣
6.80に9をエタノールから再結晶し、化合物(I)
5.70kl(収率58%)を精製物としてえた。この
ものの融点は76〜74旬であった。この精製物は市販
のサンプルと分光学的データおよび定性分析的データが
同一であった。
実施例2
ジクロルメタンに代えてテトラフルロエタン20!を用
いたほかは実施例1と同様の方法で実験を行なった。温
度100°0で48時間加熱後、イソ7Paパノールか
ら再結晶することにより化合物が収率60%でえられた
。このものの融点は72〜74°Oであり、TLO(薄
層クロマトグラシイ−)により分析したところ、市販品
と同じ分析結果かえられた。
いたほかは実施例1と同様の方法で実験を行なった。温
度100°0で48時間加熱後、イソ7Paパノールか
ら再結晶することにより化合物が収率60%でえられた
。このものの融点は72〜74°Oであり、TLO(薄
層クロマトグラシイ−)により分析したところ、市販品
と同じ分析結果かえられた。
実施例3
ジクロルメタンに代えてトルエン22jヲ用いたはかは
実施例1と同様の方法で実験を行なった。還流温度で6
6時間加熱し、化合物(I)を収率57%でえた。この
ものの融点は72〜74°Oであった。TLOにより分
析し、化合物CI)であることを確認した。
実施例1と同様の方法で実験を行なった。還流温度で6
6時間加熱し、化合物(I)を収率57%でえた。この
ものの融点は72〜74°Oであった。TLOにより分
析し、化合物CI)であることを確認した。
実施例4
ベンゼン601にアセチルサリチル酸91Lgと無水シ
リ11酢酸15.54に9を加えた。温度を徐々に45
°0まで上げ、この温度で15分間維持すると澄明な溶
液かえられた。加熱を止め、2時間装置したのち、2−
メトキシフェノール6.2kgを加えた。室温で10時
間放置したのち、激しく攪拌しながら50に9の氷片と
5%のMσ3水溶液2001を加えた。有機層と分離し
、こめベンゼン溶液からなる有機層を減圧下で蒸発させ
、油状の粘稠物をえた。この粘稠物に高温のイソプロパ
ツール401を加え、約10旬で放置した。このイソプ
ロパツールからの再結晶により化合物(I)が8.5k
p (収率55%)えられた。このものの融点は72〜
74°0であり、TLOにより分析し、市販のサンプル
と同一であることを確認した。
リ11酢酸15.54に9を加えた。温度を徐々に45
°0まで上げ、この温度で15分間維持すると澄明な溶
液かえられた。加熱を止め、2時間装置したのち、2−
メトキシフェノール6.2kgを加えた。室温で10時
間放置したのち、激しく攪拌しながら50に9の氷片と
5%のMσ3水溶液2001を加えた。有機層と分離し
、こめベンゼン溶液からなる有機層を減圧下で蒸発させ
、油状の粘稠物をえた。この粘稠物に高温のイソプロパ
ツール401を加え、約10旬で放置した。このイソプ
ロパツールからの再結晶により化合物(I)が8.5k
p (収率55%)えられた。このものの融点は72〜
74°0であり、TLOにより分析し、市販のサンプル
と同一であることを確認した。
実施例5
無水トリクエリ酢酸に代えて無水酢酸の実質的に同当量
(5,6kp)を用いたほかは実施例4と同様の方法で
実験を行なった。残渣をイソプロパツールから再結晶す
ることにより化合物(1)が6.52kg (収率41
.1%)えられた。テLOにより分析し、化合物(I)
であることを確認した。
(5,6kp)を用いたほかは実施例4と同様の方法で
実験を行なった。残渣をイソプロパツールから再結晶す
ることにより化合物(1)が6.52kg (収率41
.1%)えられた。テLOにより分析し、化合物(I)
であることを確認した。
実施例6
ベンゼンに代えてトルエンを用いたほかは実施例4と同
様の方法で実験を行なった。2−メトキシフェノールを
加えたのち反応液を24時間放置し、化合物(I)を9
.44kp (収率61.3%)えた。
様の方法で実験を行なった。2−メトキシフェノールを
加えたのち反応液を24時間放置し、化合物(I)を9
.44kp (収率61.3%)えた。
このものは市販のサンプルとTLOのデータ1<同一で
あった。
あった。
実施例7
無水トリクロa酢酸に代えて無水トリフルオロ酸i!!
10.5kjpを用いたはかは実施例4と同様にして実
験を行ない、化合物(1)を8.61kg(収率56%
)えた。このものは市販のサンプルとTLOのデータが
同一であった。
10.5kjpを用いたはかは実施例4と同様にして実
験を行ない、化合物(1)を8.61kg(収率56%
)えた。このものは市販のサンプルとTLOのデータが
同一であった。
実施例8
ベンゼンに代えてトルエンを用い、かつ無水トリ11酢
酸に代えて無水プロピオン酸を用いたほかは実施例4と
同様にして実験を行ない、化合物(I)を5.95に9
(収率68.6%)えた。このものは市販のサンプルと
TLOのデータが同一であった。
酸に代えて無水プロピオン酸を用いたほかは実施例4と
同様にして実験を行ない、化合物(I)を5.95に9
(収率68.6%)えた。このものは市販のサンプルと
TLOのデータが同一であった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 アセチルサリチaイルクロライドを理論量の5〜3
0重量%過剰量の2−メトキシフェノールと、不活性溶
媒中、温度40〜150°Oの範囲内で12〜48時間
反応させることを特徴とする式(■): で表わされる6−メチル−5−(0−メトキシフェノキ
シ)−ベンゾ−2,4−ジオキサシクロヘキサノンの製
造法。 2 前記不活性溶媒が芳香族炭化水素または脂環式塩素
化炭化水素であることを特徴とする特許請求の範囲第1
項記載の製造法。 3 前記不活性溶媒がジクロロエタンであることを特徴
とする特許請求の範囲第1項記載の製造法。 4 前記反応を反応液の還流温度で行なうことを特徴と
する特許請求の範囲第1項記載の製造法。 5 アセチルサリチル酸を一般式(II):(式中、R
工、R2および−は同じかまたは異なり、水素原子、ハ
ロゲン原子または炭素数1〜3のアルキル基を示す)で
表わされる無水物と、非プロトン性溶媒中、温度約20
〜70oOで反応させ、えられた澄明な溶液を室温で1
0分間ないし12時間放置し、その後2−メトキシフェ
ノールの実質的理論量を加え、温度10〜40°0の範
囲内で1〜48時間反応させることを特徴とする式(■
): で表わされる6−メチル−3−(0−メトキシフェノキ
シ)−ベンゾ−2,4−ジオキサシクロヘキサノンの製
造法。 6 前記一般式(1)で表わされる無水物が無水酢酸、
無水トリクロロ酢酸および無水トリフルオル酢酸である
ことを特徴とする特許請求の範囲第5項記載の製造法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| IT22230A/81 | 1981-06-10 | ||
| IT22230/81A IT1137246B (it) | 1981-06-10 | 1981-06-10 | Procedimento per la preparazione di un derivato del 2,4-diossacicloesanone |
| IT24955A/81 | 1981-11-10 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5815971A true JPS5815971A (ja) | 1983-01-29 |
| JPS6041074B2 JPS6041074B2 (ja) | 1985-09-13 |
Family
ID=11193382
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57099096A Expired JPS6041074B2 (ja) | 1981-06-10 | 1982-06-08 | 3−メチル−3−(o−メトキシフエノキシ)−ベンゾ−2,4−ジオキサシクロヘキサノンの製造法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6041074B2 (ja) |
| KR (1) | KR850001225B1 (ja) |
| BE (1) | BE893455A (ja) |
| IT (1) | IT1137246B (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62226029A (ja) * | 1986-03-28 | 1987-10-05 | Tokyo Electric Co Ltd | ロ−ドセルの温度補正方法 |
-
1981
- 1981-06-10 IT IT22230/81A patent/IT1137246B/it active
-
1982
- 1982-06-08 JP JP57099096A patent/JPS6041074B2/ja not_active Expired
- 1982-06-09 BE BE2/59736A patent/BE893455A/nl not_active IP Right Cessation
- 1982-06-09 KR KR8202576A patent/KR850001225B1/ko not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| BE893455A (nl) | 1982-10-01 |
| KR840000523A (ko) | 1984-02-25 |
| JPS6041074B2 (ja) | 1985-09-13 |
| IT1137246B (it) | 1986-09-03 |
| IT8122230A0 (it) | 1981-06-10 |
| KR850001225B1 (ko) | 1985-08-23 |
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