JPS5817401A - ペンタゴナルダハプリズム - Google Patents
ペンタゴナルダハプリズムInfo
- Publication number
- JPS5817401A JPS5817401A JP11568881A JP11568881A JPS5817401A JP S5817401 A JPS5817401 A JP S5817401A JP 11568881 A JP11568881 A JP 11568881A JP 11568881 A JP11568881 A JP 11568881A JP S5817401 A JPS5817401 A JP S5817401A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reflective film
- reflective
- pentaprism
- roof
- optical system
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/04—Prisms
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Viewfinders (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、−眼レフレックスカメラのファインダ光学系
その他の光学系に用いるペンタゴナルダ・・プリズム(
以下ペンタプリズムと略称する)の改良に関する°もの
である。
その他の光学系に用いるペンタゴナルダ・・プリズム(
以下ペンタプリズムと略称する)の改良に関する°もの
である。
従来のペンタプリズムは、底部入射面より入射した光像
を左右反転させるいわゆるダノ・面と称する90°稜角
部を構成する二つの反射面と、このダハ面からの光像を
受はプリズム後方外に反射させる前側反射面の3つの反
射面のそれぞれに反射率を向上させるべくアルはニウム
、銀等の反射膜を付与しである。
を左右反転させるいわゆるダノ・面と称する90°稜角
部を構成する二つの反射面と、このダハ面からの光像を
受はプリズム後方外に反射させる前側反射面の3つの反
射面のそれぞれに反射率を向上させるべくアルはニウム
、銀等の反射膜を付与しである。
しかしながら、このようにペンタプリズムの3つの反射
面のすべてに反射膜を付与することに伴ない次のような
問題が生ずる。すなわち、第1に反射膜の蒸着に際しダ
ハ面および前側反射面のそれぞれに別個の蒸着マスクを
使用し、それぞれの面を蒸着するごとに蒸着源に対して
セットし直す必要があるので、蒸着作業を2回に分けて
行なわねばならないなど反射膜蒸着コストが高くつくこ
と、第2にこのように形成された反射膜を保護するため
た金属や誘電体の蒸着や塗膜によるバックコートが必要
となシその処理コストが高くつぐこと、第3に反射膜の
腐食や傷等による目視不良が生じ易いこと、第4VCペ
ンタプリズムの素材としてプラスチック等ガラス以外の
物質が用いられる場合、蒸着や塗装の際の加温や溶剤の
作用によってペンタプリズム本体特に光像の影響が大き
い90°稜角部に形状変化や物性変化を生じ、品質の低
下や不良の発生を招く、など種々の問題が生する。
面のすべてに反射膜を付与することに伴ない次のような
問題が生ずる。すなわち、第1に反射膜の蒸着に際しダ
ハ面および前側反射面のそれぞれに別個の蒸着マスクを
使用し、それぞれの面を蒸着するごとに蒸着源に対して
セットし直す必要があるので、蒸着作業を2回に分けて
行なわねばならないなど反射膜蒸着コストが高くつくこ
と、第2にこのように形成された反射膜を保護するため
た金属や誘電体の蒸着や塗膜によるバックコートが必要
となシその処理コストが高くつぐこと、第3に反射膜の
腐食や傷等による目視不良が生じ易いこと、第4VCペ
ンタプリズムの素材としてプラスチック等ガラス以外の
物質が用いられる場合、蒸着や塗装の際の加温や溶剤の
作用によってペンタプリズム本体特に光像の影響が大き
い90°稜角部に形状変化や物性変化を生じ、品質の低
下や不良の発生を招く、など種々の問題が生する。
本発明は、このような問題に対処するためになされたも
ので、コストを低減すると共に不良率を一低減し且つト
ータルでの品質を向上せしめて、高精度を要する光学機
能部品への適用を可能にするペンタプリズムを提供する
ことを目的としている。
ので、コストを低減すると共に不良率を一低減し且つト
ータルでの品質を向上せしめて、高精度を要する光学機
能部品への適用を可能にするペンタプリズムを提供する
ことを目的としている。
すなわち、本発明の特徴とするところは、−眼レフレッ
クスカメラのファインダ光学系その他の光学系に用いる
ペンタプリズムにおいて、90゜稜角部を構成するダハ
面には反射膜を付与せず、前側反射面にのみ反射膜を付
与することにある。
クスカメラのファインダ光学系その他の光学系に用いる
ペンタプリズムにおいて、90゜稜角部を構成するダハ
面には反射膜を付与せず、前側反射面にのみ反射膜を付
与することにある。
以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。
第1図および第2図は、高精度を要する光学機能部品と
してのいわゆる一眼レフレックスカメラのファインダ光
学系に広く使用されているぺ/タブリズムに本発明を適
用した場合の一実施例の構成を示す側面図および正面図
である。
してのいわゆる一眼レフレックスカメラのファインダ光
学系に広く使用されているぺ/タブリズムに本発明を適
用した場合の一実施例の構成を示す側面図および正面図
である。
第1図および第2図において、lは例えばガラスまたは
アクリル樹脂、アクリルの変性樹脂、AS(アクリルニ
トリル−スチレン)樹脂、スチロール樹脂等の合成樹脂
を素材とするペンタプリズムである。このペンタプリズ
ム1は底部入射面la、90°稜角部1bを構成するダ
メ1面ICおよびld、前側反射面1e、前側上斜面i
f、左右両側面1gおよびlh、射出面目の8つの平面
をもって方角屋根形に形成されている。これらの面のう
ち、ダ/′−面1c、ldおよび前側反射面1eの3つ
の平面は光像な反射する機能をもつ反射面であって、こ
れらの反射面のうち、90°稜角部1bを構成するダノ
・面ICおよび1dには何ら反射膜を付与することなく
、図示A側から入射しダハ面1 c、ldで反射された
反射光像を受けて図示B方向へ反射する前側反射面1e
にのみアルミニラ4または銀等の反射膜2を蒸着、スノ
(ツタリングにより付与しである。
アクリル樹脂、アクリルの変性樹脂、AS(アクリルニ
トリル−スチレン)樹脂、スチロール樹脂等の合成樹脂
を素材とするペンタプリズムである。このペンタプリズ
ム1は底部入射面la、90°稜角部1bを構成するダ
メ1面ICおよびld、前側反射面1e、前側上斜面i
f、左右両側面1gおよびlh、射出面目の8つの平面
をもって方角屋根形に形成されている。これらの面のう
ち、ダ/′−面1c、ldおよび前側反射面1eの3つ
の平面は光像な反射する機能をもつ反射面であって、こ
れらの反射面のうち、90°稜角部1bを構成するダノ
・面ICおよび1dには何ら反射膜を付与することなく
、図示A側から入射しダハ面1 c、ldで反射された
反射光像を受けて図示B方向へ反射する前側反射面1e
にのみアルミニラ4または銀等の反射膜2を蒸着、スノ
(ツタリングにより付与しである。
このような構成よりなるペンタプリズムは、タ゛ハ面I
Cお;よび1dには従来のペンタプリズムのごとき反射
膜が付与されていないので若干の反射光量の減少は伴な
うものの反射膜が付与されたものと比較した場合、プリ
ズムの材質と反射面の状態によって若干の差はあるが、
5%以内の反射光量減にとどまり、例えば−眼レフレッ
クスカメラのファインダー系として使用した場合の問題
は何ら生ぜず、充分なる実用性能を発揮し得る。
Cお;よび1dには従来のペンタプリズムのごとき反射
膜が付与されていないので若干の反射光量の減少は伴な
うものの反射膜が付与されたものと比較した場合、プリ
ズムの材質と反射面の状態によって若干の差はあるが、
5%以内の反射光量減にとどまり、例えば−眼レフレッ
クスカメラのファインダー系として使用した場合の問題
は何ら生ぜず、充分なる実用性能を発揮し得る。
因みに、上記実施例に示した構成において、ダーハ面1
c、ldにアルミニウム蒸着による反射膜を付与した場
合としない場合についての実験例を示す。すなわち、第
3図および第4図はペンタプリズム(ガラスを素材とし
たもの)の第1図に示すA側に方眼紙(テストチャート
)を配置し、これをB側から撮影したときの写真であり
、第3図はダハ面1c、ldおよび前側反射面1eに、
第4図は前側反射面1eにのみ反射膜を付与した場合の
それぞれの写真を示している。これらの写真によれば、
ダノ・面1c、ldに反射膜を付与した場合としない場
合において、目視的な光像の変化および明るさの差は見
られず、ファインダ光学系その他の光学系として問題な
く使用できること力(実証された。
c、ldにアルミニウム蒸着による反射膜を付与した場
合としない場合についての実験例を示す。すなわち、第
3図および第4図はペンタプリズム(ガラスを素材とし
たもの)の第1図に示すA側に方眼紙(テストチャート
)を配置し、これをB側から撮影したときの写真であり
、第3図はダハ面1c、ldおよび前側反射面1eに、
第4図は前側反射面1eにのみ反射膜を付与した場合の
それぞれの写真を示している。これらの写真によれば、
ダノ・面1c、ldに反射膜を付与した場合としない場
合において、目視的な光像の変化および明るさの差は見
られず、ファインダ光学系その他の光学系として問題な
く使用できること力(実証された。
しかも、ダ/%面1c、ldの反射膜の付与を省略でき
るから蒸着マスクは1個でよく、従来2回に分けて行な
われていた蒸着作業が1回で済み従って反射膜蒸着のた
めのコストが低減できるという利点がある。また、ダノ
・面1c、ldの傷やくもり等の欠陥が反射膜の付与処
理によって顕在化し目視的不良を生ずるという危険性も
蒸着面が少ない分だけ従来のものより軽減されるという
利点がある。
るから蒸着マスクは1個でよく、従来2回に分けて行な
われていた蒸着作業が1回で済み従って反射膜蒸着のた
めのコストが低減できるという利点がある。また、ダノ
・面1c、ldの傷やくもり等の欠陥が反射膜の付与処
理によって顕在化し目視的不良を生ずるという危険性も
蒸着面が少ない分だけ従来のものより軽減されるという
利点がある。
更にまた、従来のもののようにダノ・面1c。
1dに反射膜を付与した場合、この反射膜保護のための
バックコートが不可欠なものとなっていたが、上記実施
例によれば、これを省略することができ、その分コスト
の低減を図ることができる。
バックコートが不可欠なものとなっていたが、上記実施
例によれば、これを省略することができ、その分コスト
の低減を図ることができる。
更に加えて、ダノ・面1c、ldに関し蒸着や塗装作業
を省略できるので、加温や溶剤の付着によって形状変化
や物性変化等を生じることもなく、高い歩留りで高品質
のペンタプリズムカl得られる。
を省略できるので、加温や溶剤の付着によって形状変化
や物性変化等を生じることもなく、高い歩留りで高品質
のペンタプリズムカl得られる。
なお、本発明は上述した実施例に限定されるものではな
くその要旨を変更しない範囲での箇々の変形実施が可能
である。
くその要旨を変更しない範囲での箇々の変形実施が可能
である。
例えば、ダハ面3.4はバックコートを施すことなく使
用可能であるが、取扱中における損傷の防止、外部光の
入射によるハレーションの防止等の観点より塗装、テー
プの貼付、保護カバーの装着等を行なうことが望ましい
。また前側反射面1eについても同様の目的のために同
様の処置を、 施してもよい。
用可能であるが、取扱中における損傷の防止、外部光の
入射によるハレーションの防止等の観点より塗装、テー
プの貼付、保護カバーの装着等を行なうことが望ましい
。また前側反射面1eについても同様の目的のために同
様の処置を、 施してもよい。
以上詳述のように、本発明によれば、ダハ面の反射膜付
与を省略化することによりコストを低減すると共に不良
率を低減し且つトータルでの品質を向上せしめて、高精
度を要求される光学系に適用し得るペンタプリズムを提
供することができる。
与を省略化することによりコストを低減すると共に不良
率を低減し且つトータルでの品質を向上せしめて、高精
度を要求される光学系に適用し得るペンタプリズムを提
供することができる。
第1図および第2図は本発明の一実施例の構成を示すそ
れぞれ側面図および正面図、第3図および第4図は同実
施例の効果を説明するだめの写真である。 1、・・・・・・ペンタ(ゴナルダハ)プリズム。 1b・・・・・・90°稜角部。 lc、ld・・・・・・ダハ面。 1e・・・・・・前側反射面。 2・・・・・・反射膜。 特許出願人 株式会社 リコー 第 1 図 第 2 図 第 3 図 第 4 @ 手続補正督(方式) 昭和56年12月2tt日 ・特許庁長官島田春樹殿 1、事件の表示 昭和56年特許願第 115688 号2、発明の名称 ペンタゴナルダハプリズム 5補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所〒145 東京都太田区中馬込1丁目6番6号名
称 (674) 株式会社 リーフ −(発送日:同年
11月24日) 5、補正の対象 (11明細書第5頁第6行目乃至第加行目に「 因み、
に、上記実施例に・・・・・・・・・・・・川・・・実
証された。」 とある記載を 「−因みに、上記実施例に示した構成のペンタプリズム
において、ダハ面1c、ldにアルミニウム蒸着による
反射膜を付与した場合としない場合について、ペンタプ
リズムの第1図に示すA側に方眼紙を配置し、これをB
側から写真撮影をして比較してみたところ、両者間に目
視できる光像の変化および明るさの変化は見られず、フ
ァインダ光学系その他の光学系として問題なく使用でき
ることが確認できたJ」 と補正する。 (2) 同第7頁第16行目乃至第17行目に「 、
第3図および第4図は同実施例の効果を説明するための
写真」 とある1載を削除する。 (3) 図面の「第3図」および「第4図」を削除す
る。 7、添付書類の目録
れぞれ側面図および正面図、第3図および第4図は同実
施例の効果を説明するだめの写真である。 1、・・・・・・ペンタ(ゴナルダハ)プリズム。 1b・・・・・・90°稜角部。 lc、ld・・・・・・ダハ面。 1e・・・・・・前側反射面。 2・・・・・・反射膜。 特許出願人 株式会社 リコー 第 1 図 第 2 図 第 3 図 第 4 @ 手続補正督(方式) 昭和56年12月2tt日 ・特許庁長官島田春樹殿 1、事件の表示 昭和56年特許願第 115688 号2、発明の名称 ペンタゴナルダハプリズム 5補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所〒145 東京都太田区中馬込1丁目6番6号名
称 (674) 株式会社 リーフ −(発送日:同年
11月24日) 5、補正の対象 (11明細書第5頁第6行目乃至第加行目に「 因み、
に、上記実施例に・・・・・・・・・・・・川・・・実
証された。」 とある記載を 「−因みに、上記実施例に示した構成のペンタプリズム
において、ダハ面1c、ldにアルミニウム蒸着による
反射膜を付与した場合としない場合について、ペンタプ
リズムの第1図に示すA側に方眼紙を配置し、これをB
側から写真撮影をして比較してみたところ、両者間に目
視できる光像の変化および明るさの変化は見られず、フ
ァインダ光学系その他の光学系として問題なく使用でき
ることが確認できたJ」 と補正する。 (2) 同第7頁第16行目乃至第17行目に「 、
第3図および第4図は同実施例の効果を説明するための
写真」 とある1載を削除する。 (3) 図面の「第3図」および「第4図」を削除す
る。 7、添付書類の目録
Claims (1)
- −iレフレックスカメラのファインダ光学系その他の光
学系に用いるペンタゴナルダハプリズムにおいて、90
”稜角部を構成するダハ面には反射膜を付与せず前側反
射面にのみ反射膜を付与してなることを特徴とするペン
タゴナルダハプリズム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11568881A JPS5817401A (ja) | 1981-07-23 | 1981-07-23 | ペンタゴナルダハプリズム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11568881A JPS5817401A (ja) | 1981-07-23 | 1981-07-23 | ペンタゴナルダハプリズム |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5817401A true JPS5817401A (ja) | 1983-02-01 |
Family
ID=14668791
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11568881A Pending JPS5817401A (ja) | 1981-07-23 | 1981-07-23 | ペンタゴナルダハプリズム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5817401A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6126801A (ja) * | 1984-07-16 | 1986-02-06 | Mitsutoyo Mfg Co Ltd | マイクロメ−タ |
-
1981
- 1981-07-23 JP JP11568881A patent/JPS5817401A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6126801A (ja) * | 1984-07-16 | 1986-02-06 | Mitsutoyo Mfg Co Ltd | マイクロメ−タ |
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