JPS58203054A - 印字の製造方法 - Google Patents

印字の製造方法

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JPS58203054A
JPS58203054A JP8760382A JP8760382A JPS58203054A JP S58203054 A JPS58203054 A JP S58203054A JP 8760382 A JP8760382 A JP 8760382A JP 8760382 A JP8760382 A JP 8760382A JP S58203054 A JPS58203054 A JP S58203054A
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JP
Japan
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resist film
etching
resist
character
primary
Prior art date
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JP8760382A
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English (en)
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JPH029940B2 (ja
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Toshiaki Haniyu
羽生 利明
Mitsuharu Kobayashi
光春 小林
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Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
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Publication date
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41BMACHINES OR ACCESSORIES FOR MAKING, SETTING, OR DISTRIBUTING TYPE; TYPE; PHOTOGRAPHIC OR PHOTOELECTRIC COMPOSING DEVICES
    • B41B1/00Elements or appliances for hand composition; Chases, quoins, or galleys

Landscapes

  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、タイプライタ−用の活字、ライ/プリンター
用の印字べ、ルトのように金属材料に文字、数字、記号
等を浮彫りしてなる印字の製造方法に関する。
近年のオフィス機器の多様化、処理情報の増加にともな
い、情報機器の端末機としてのラインプリンター等の需
要が増えている。かかるラインプリンター用の印字ドラ
ムや印字ベルトは、円筒状や帯状の金属材料にフォトエ
ツチング技術を駆使して、文字、数字、記号等の印字パ
ターンを凸状に浮彫シして造られるのが一般的である。
しかしながら、かかるフォトエツチング技術には、サイ
ドエツチングという現像があシ、通常のフォトエツチン
グ法にて印字を作成すると、第1図の断面に示すような
欠点を生じた。
すなわち、第1図に赴いて、印字(1)は金属材料をエ
ツチングして凸状に形成され、その上面(2)にて所望
の平面的な印字のパターンを形成してなるものである。
しかし、このような印字fi+はサイド干ツチングによ
)その側面(3)にえぐれを生じ、上面(2)の幅よ多
側面(3)の幅が狭くなるというオーパ−ハング状態と
なっている。また、上面(2)の端部(矢印で示す)に
はナイフの刃のように鋭角が形成されてしまうものであ
る。
第1図のようなオーパーツ・/グ状態では、機械的強度
が弱く、長期間の使用や外からの衡撃等によシ印字パタ
ー/に欠けを生じる慣れがあり、またその鋭角的な上面
(2)の端部によって、印字されるべき紙面やインキリ
ボンをかつけてしまうという欠点があった。
本発明は以上のような欠点を生じない印字パターンを製
造するため鋭意工夫したものであシ、本発明によれば、
太字パターンのレジスト膜による第一段階のエツチング
のあと、細字パター/のレジス)lliKよる第二段階
のエツチングを行ない、レジスト剥離後、軽度のエツチ
ングを行なって印字端部の鋭角に丸みをもたせる第三段
階のエツチングを行なうことを%徴とする印字パターン
の製造方法である。
本発明の製造方法を工程順に示す第2図から第7図に従
い更に詳細に説明すると、第2図において、金桐材料(
4)の表面の所定位置に細字パター/の第二次レジスト
膜(51と、その上を覆うように太字パターンの第一次
レジスト膜(6)を形成してなる。
この二種のレジスト膜+51 +6)は、一方が水溶性
レジストであるならば、他方を有機溶媒可溶性レジスト
とするという具合に1第一次レシスト膜(6)を除去す
るための剥膜液によっては第二次レジスト膜(5)が侵
されないようKすることが肝要である。かかるレジスト
材料膜 せて第一段階のエツチングを行ない第3図に示すように
、太字パターンの第一次レジスト膜(6)の形状に応じ
た凸部(7)を残して金属材料(4)の表面を適当深度
までエツチングする。この状態では、い・わゆるパウダ
レスエツチング法を用いたとしても、図に示すように凸
部(7)の側面にサイドエツチングによる多少のえぐれ
が生じるが、これは後述の如く解決される。すなわち、
第4図に示すように1太字パターンの第一次レジスト膜
(6)を適当なレジスト剥膜液にて溶解除去して、細字
パターンの第二次レジスト膜(5)を露わKする。第4
図の状態で第二段階のエツチングを行ない、第5図に示
すようなエツチング深度にてエツチングを完了する。
図によれば、第一段階のエツチングによって大きく残存
していた凸部(7)の肩部(81(81Kよって、側面
のサイドエツチングは通常のエツチングに比べてそれほ
ど進行しない。そればかりか、凸部(7)のすそ野部分
+91 (9fがエツチングされずに残ることが示され
ている0すなわち、かかる二段階エツチングによってサ
イドエツチングはうまく党服されるものである。
第二次レジスト膜(5)を剥膜した状態を第6図に示す
◇この状態で印字αQは基材の金網材料(4)から凸出
して形成され、その上面01)は、細字パターンの第二
次レジスト膜(5)による第二段階のエラチン、グによ
シ、瘉めて精確な文字なシ数字、1号が浮彫シされてい
るものである。しかしながら、上面aηの端部(矢印で
示す)においてナイフの刃のような鋭角が形成されてい
るので、これに対して第三段躍のエツチングを行なう◇
この場合、特にレジスト膜を設ける必要はなく、むしろ
レジスト膜を設けないで行なうのが自然である。第三段
階のエツチングは、第一、二段階のエツチングで用いた
エツチング液と同じものを用いるとすれば、鋭角部に丸
みが生じる程度の短時間の軽度のエツチングで終了させ
るのが良い。
あるいは、エツチング能力の弱い液で軽度にエツチング
を行なう方法も有力である。
第7図に本発明の製造方法によシ完成をみた印字(2)
の断面を示す。図に示すように、本発明による印字(2
)KAれば、サイドエツチングによるオーバーハング状
態はほとんど解消され、側面にすそ野部分を有するので
、強度的に堅牢であシ、使用時に印字に欠は等が生じる
惧れがなくなるものである。またその上面(至)の端部
も丸みを呈し、インキリボンや紙面を破損したシしない
ものである・なお、第7図の状態から更に表面光沢を増
すため軽くバレル研磨を行なっても良い。
なお、説明が前後したが、本発明におけるレジスト[(
51+6)に用いることのできるレジスト材料の例をあ
げると、水溶性レジストとしては、グリユー。
ゼラチン、アラビアゴム、ポリビニルアルコール等の水
溶性樹脂に重クロム酸塩を添加して感光化したものなど
があり、他方の有機溶剤可溶性の水不溶性レジストとし
ては、ポリ桂皮酸エステル系のホトレジスト、例えばO
MR,TPR(東京応化工業■製) 、KTFR,KP
R(米国イーストマ/コダック社製)、塩化ゴム系ホト
レジスト例えばKMER(米国イーストマ/コダック社
製)などをあげることができるが、もちろんこれらに限
定されるものではない。
以下に本発明の実施例を述べる。
〔実施し1」〕 金膨材料として帯状のステンレス鋼を用い、これに多数
の種類の異なる文字、記号、数字を浮彫し、ラインプリ
ンター用の印字ベルトとするぺく、まずポリビニルアル
コール−重クロム酸アンモニウム系の水溶性ホトレジス
)を前記金属材料の両面に塗布し、うち裏面は全面露光
してエッチフグ防止層とし、表面に対して印字の・くタ
ーン露光を行ない未露光部のレジスト膜を現像除去して
細字パターンの第二次レジスト膜を形成した。次にポリ
桂皮酸エステル系のホトレジストOMR−83レジスト
を用いて同様の操作によシ太字パター/の第一次レジス
ト膜を第二次レジスト膜を覆うように正確に位置合せし
て形成した。
次に、塩化第二鉄の濃厚溶液(ボーメ濃度4り)Kて温
度48℃15分間の第一段階のスプレーエツチングを行
ない、OMR用剥膜液で一一次しシスト膜のみを剥膜し
、剥膜液にては完全に除去しきれない第一次レジスト膜
の残渣はトリクロルエチレンにて拭きこすることで完全
除去を期した。
この時、第二次レジスト膜は何ら侵さず、残存している
吃のである◇絞込て、前回と同じ塩化第二鉄液にて第二
段階のスプレーエツチング°を温度48℃10分間行な
った後、アルカリ液にて第二次レジスト膜を縮解除去し
、第三段階のエツチングとして、同じく塩化第二鉄液(
ボーメ濃度 :45°)Kて温度48℃で約30秒間の
スプレーエ   。
ッチングを行なったところ、図面の第7図に示すような
良好な断面形状を有する浮彫シ印字が得られた。
【図面の簡単な説明】
第1図は通常のフォトエツチング技術で製造された印字
を示す断面図であシ、第2図から第7図までは、本発明
の印字の製造方法の一例を工程順に示す概略断面図であ
る◎ fi+(2)@・・・印字 (21(II)(至)・・
・上面 (3)・・・側面(41・・・金属材料 (5
)・・・第二次レジスト膜(6)・・・第一次レジスト
膜 (7)・・・凸部 (8)用肩部(9)・・・すそ
野部分 特許出願人 凸版印刷株式会社 25

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (U 太字パターンの第一次レジスト膜用剥膜液によっ
    ては侵されない細字パター/の第二次レジスト膜を金属
    材料の表面に形成する工程、該細字パターンの第二次レ
    ジスト膜を覆うように太字パター/の第一次レジスト膜
    を形成する工程、金属材料に第一次レジスト膜による第
    一段階のエツチングを行なう工程、第一次レジスト膜を
    剥膜した後に金属材料に第二次レジスト膜による第二段
    階のエツチングを行なう工程、第二次レジスト膜を剥膜
    したのち、軽くエツチングすることによって印字上面の
    端部の鮒角部に丸み遣方法。 3.
JP8760382A 1982-05-24 1982-05-24 印字の製造方法 Granted JPS58203054A (ja)

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JPH029940B2 JPH029940B2 (ja) 1990-03-06

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JPH029940B2 (ja) 1990-03-06

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