JPS58207364A - 化学めつき液 - Google Patents

化学めつき液

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Publication number
JPS58207364A
JPS58207364A JP8933282A JP8933282A JPS58207364A JP S58207364 A JPS58207364 A JP S58207364A JP 8933282 A JP8933282 A JP 8933282A JP 8933282 A JP8933282 A JP 8933282A JP S58207364 A JPS58207364 A JP S58207364A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plating solution
buffer
nickel
glycine
plating
Prior art date
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Pending
Application number
JP8933282A
Other languages
English (en)
Inventor
Tokuzo Kanbe
神戸 徳蔵
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
Agency of Industrial Science and Technology
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Filing date
Publication date
Application filed by Agency of Industrial Science and Technology filed Critical Agency of Industrial Science and Technology
Priority to JP8933282A priority Critical patent/JPS58207364A/ja
Publication of JPS58207364A publication Critical patent/JPS58207364A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31Coating with metals
    • C23C18/32Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron
    • C23C18/34Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron using reducing agents
    • C23C18/36Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron using reducing agents using hypophosphites

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
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  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、可溶性のニッケル又はコバル)JMと、次亜
リン酸塩と、pH緩衝剤とを主成分とする化学めっき液
の改良に関し、その目的は、化学めっき液の寿命を長期
化することにある。
従来、前記したような成分組成の化学めっき液は知られ
ており、自動車工業、カメラ工業や電子部品工業などに
おいて広く利用されている。このような化学めっき液は
、その金属析出速度を高めるために、通常、中性付近の
pH条件下で用いられるが、この場合、めっき液は、消
費成分を補充しながら3〜4時間繰返し使用すると、分
解し、亜リン酸ニッケル又はコバルト塩の沈殿を生じ、
その寿命を終える。このようなめつき液の分解を防止す
るには、めっき液のpHを通常5以下の酸性条件に調節
することが有効であるが、しかしながら、この場合には
めつき液からの金属析出速度が小さくなるという問題が
生じる。
本発明者は、従来のめつき液とは異なり、中性付近のp
H条件下での使用によっても、長時間にわたって分解す
ることのないめっき液を開発すべく鋭意研究を重ねた結
果、グリシンの添加によりその目的が達成されることを
見出し、本発明を完成するに到った。
即ち、本発明によれば、可溶性のニッケル又はコバルト
塩と、次亜リン酸塩と、pH緩衝剤とを主成分、とする
化学めっき液において、グリシンを添加したことを特徴
とする長寿命化された化学めっき液が提供される。
本発明のめつき敵に使用されるニッケル几1又はコバル
ト塩としては、めっき液に可溶性のもの、例えば、硫酸
塩、塩酸塩、硝酸塩などの無機酸地が一般に適用される
。次亜リン酸塩としては、慣用のもの、例えばナトリウ
ム塩が適用され、このものは還元剤として作用する。p
H緩衝剤としでは、酢酸、クエン酸、コハク酸などの有
機酸、あるいはそれらの塩(通常−アルカリ金属塩)が
□単独あるいは適当に組合されて適用される。壕だ、め
っき液中のニッケル又はコバルトイオンの量は、金属塩
換算で、10〜200 fi’/ /−%好ましくは2
0〜toosl−/lであり、次亜リン酸塩濃度は、0
3〜50LiF/l、好ましくは05〜30 !/lで
ある。pH緩衝剤は所望のめつき液のpHが安定するよ
うな量が適用され、通常、5〜300y/l、好ましく
は10〜i o o 17tの量である。
本発明においては、前記のような金属塩、還几剤及びp
H緩衝剤を含む従来のめつき液に対して、グリシンを添
加することを特徴とする。グリ、ンの添加量は、通常、
5〜2oof!−/l、好ましくは10〜1ooy7t
である。本発明においては、このグリシンは、pH緩衝
剤としてのクエン酸塩と組合吃て用いる時に、特にすぐ
れた効果を示す。
次に、本発明を実施例によりさらに詳細に説明する。
実施例1 以下に示す成分組成のめつき液間〜(ト)を調製した。
囚 硫酸ニッケル・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・30 C1−/l )次亜リン酸ナト
リウム・・・・・・・・・・・・・10 (P/l )
クエン酸ナトリウム・・・・・・・・・・・・・・・・
・・2o(fI/l)酢酸ナトリウム・・・・・・  
・・・・・・・・・・・20 (f/l )pH・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・ 6匡1 硫酸ニッケル・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・3o(y/l)次亜リン酸ナトリウム・
・・・・・・・・・・・・・・10 (y−/l )り
んご酸・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・20(y−/l)こけ(酸・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・20CF!−/1)pH・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・ 6硫酸ニツケル・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・30 (g/l )次
亜リン酸ナトリウム・・・・・・・・・・・・ 10(
S//7)グリシン・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・20(!i’/7
)回 硫酸ニッケル・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・3o(9/j)次亜リン酸ナトリウム
・・・・・・・・・・・・・・・10 (!/1 )グ
リシン・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・20 (ff/l−’)クエン
酸ナトリウム・・・・・・・・・・・・・・・・・・2
0(F!/l)p■■・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 
6(6) 硫酸ニッケル・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・3o(P/z)次亜リン酸ナトリウム
・・・・・・・・・・・・・・・1O(y/l)グリシ
ン・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・20 (J/l )こはく酸ナトリ
ウム・・・・・・・・・・・・・・・・・・20 (!
/l )pH・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・ 6なお、
前記めっき液間及び(6)は従来のもので、めっき液間
、回及び(ト)は本発明のものである、。
次に、前記各めっき液中に、被めっき物(軟鋼板、全表
面積60 c#I)を浸漬して、温度80℃の条件で化
学めっき処理を施した。この場合のめつき速度Cm9/
60Cd/30分)とめつき時間との関連を次表に示す
なお、この場合のめつき処理においては、30分毎に、
消費した星に対応するニッケル塩と次亜第  1  表 第1表に示した結果から、本発明のめっき液IC1〜(
ト)は、従来のめつき液間叉び(6)に比較して、・そ
の寿命において著しく長期化されていることがわかる。
実施例2 実施例1で示した本発明のめつき液じ〕〜Uにお・いて
、グリシンの量と有機酸塩の址とを種々変えたり外は同
様にしてめっき処理を行った。その結果を第2表に示す
なお、このめっき処理においては、グリシンと有機酸塩
との祉が各々205’以下の場合には、めっき時間の経
過に従って、白色の沈殿を生じた。
この白色の沈殿は、めっき液の寿命に害を与えるもので
はなく、この沈殿を濾紙により除去した後した。
実施例3 めっき液として以下に示す成分組成のものを調製した。
1F、1 硫H’:1 /Zルト・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・30 (fil )次亜リン
酸ナトリウム・・・・・・・・・・・・・・・1o (
P/l)酒石酸ナトリウム・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・40 (P/l )はう酸・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・2o(P/1)pH・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・ 7(pH>8で沈でん) (6) 硫酸コバルト・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・30 (fi−/l )次亜リン酸ナ
トリウム・・・・・・・・・・・・・・・10 (P/
l )クリシン・・・・・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・40 (f//l )
クエン酸ナトリウム・・・・・・・・・・・・・・・・
・・2o(P/1)pH・・・・・・・・・・・・・・
・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・
 9これらのめつき液を用いて温度90℃でめっき処理
を行った。その結果を第3表に示す。
第  3  表 なお、前記において、Fは従来めっき液で、Gは、本発
明のものである。
特許出願人  工業技術院長  石 坂 誠 −・指定
代理人 工業技術院製品科学研究所長高橋教i−iJ

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)  可溶性のニッケル又はコバルト塩と、次曲リ
    ン酸塩と、pH緩衝剤とを主成分とする化学め一つき液
    において、該めっき液中にグリシンを添加したことを特
    徴とする長寿命化された化学めっき液。
  2. (2)  pH緩衝剤としてクエン酸ナトリウムを用い
    る特許請求の範囲第1項の化学めっき液。
JP8933282A 1982-05-25 1982-05-25 化学めつき液 Pending JPS58207364A (ja)

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JP8933282A JPS58207364A (ja) 1982-05-25 1982-05-25 化学めつき液

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JPS58207364A true JPS58207364A (ja) 1983-12-02

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6270580A (ja) * 1985-09-24 1987-04-01 Nec Corp 無電解めつき浴
JPS62246145A (ja) * 1984-05-16 1987-10-27 アライド―ケライト・カンパニー 無電解沈着磁気記録媒体法
JPH01108384A (ja) * 1987-09-16 1989-04-25 Philips Gloeilampenfab:Nv 基体の表面に金属を局部的に設ける方法
JPH0611544A (ja) * 1993-04-28 1994-01-21 Hitachi Ltd テストパターン発生装置

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JPS6270580A (ja) * 1985-09-24 1987-04-01 Nec Corp 無電解めつき浴
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