JPS58209717A - 液晶表示セル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、一般に液相表示（ＬＣＤ）装置、さらに具体
的にいえば、記憶効果をもつネマチックＬＣＤ装置に関
するものである。

〔背景技術〕

ライステンド・ネマチック（ＴＮ）表示装置や、ネマチ
ックないしコレステリンクホスト（母材）中に二色性染
料をゲスト（各村）として含むゲスト−ホスト表示装置
などの、直示式電界効果液晶表示（ＬＣＤ）装置が従来
から仰られている。これらの従来の■、ＣＤ装置は、Ｖ
　ｏ　ｎ　／　Ｖ　ｔ　ｈ比が高いｋぬに多重化容量が
限られている。ただし、Ｖ□ｎおよびｖｔｈは、それぞ
れ装置がオンになるとさおよび聞直の場合の２乗平均電
圧である。

その上、これらの従来のネマチックＬＣＤ装置は、記憶
効果ヲもたず、従ってその作動には直接ＰＥＬ励振／再
生回路が必要である。これらの理由から従来のネマチッ
クＬＣＤ装置は、一般にデジタル式腕時計の表示装置な
ど、情報・含量の小さい表示用にしか適していない１゜ 従来、ＴＮ型などの電界効果ＬＣＤセルは、例えば次の
ようにして作成されている。正の誘電與方性をもつ液晶
物質がＬＣ物質の分子が上側および下側基板と平行に、
七の間で９０’ねじれるように、平行な上側および下側
ガラス基板の間に挿入される。かかるＬＣＤセルが一対
の偏光子のｊｆｊｉに、偏光軸が互いに直角で交差する
ように配置される。この典型的な構造では、装置に衝突
した毘は、先ず一方の偏光子によって平面偏光される１
、次に七の偏光面がねじれた配置の液晶分子によって９
０°回転され、最後に光はもう一方の偏光ｆ″中中通通
過る。文字、数字、その他のパターンで形成された透明
な電極が上側および下側基板の内面に配置され、装置の
問直電圧よりも大きな電子を印加されている場合、ＬＣ
分子は、は線垂直な方向ないし電界の方向に配列される
。これらの条件の下では、入射光の偏光面は液晶分子に
よって回転されず、従って入射光は分析器によって遮断
される１、すなわちＬＣセル内のＬＣ媒体の方向を制御
して光の透過および遮断をもたらすことによってパター
ンが表示できる３、 記憶効果をもつスメクチンク液晶表示装置が知られてい
る。っこの型式のＬＣＤ装置は、情報全普通は透明な背
は中の散在領域の形で不定記憶する。

もつと具体的に言えば、情報は輝度変調されたレーザー
光線によって記録され、このレーザー光線がＬＣ物質を
加熱して、光散乱中心を作る。さらに詳細については、
例えは、Ａ、　Ｇ、ソ子−イ等の「レーザによってアド
レスされる液晶投射表示装置Ｊ　ＩＴ　Ｓ、　１．　Ｄ
紀要」第１９／１巻（１９７８年）、１〜７白を参照の
こと３、 負の誘電異方性をもつネマチック物質およびコレステリ
ンク物質の混合物における光学的記憶効宋カ、バイルマ
イヤーおよびゴルトマソヒャーによって観察され、「第
５７回Ｉ　ＥＥＥ紀要」第３４巻（１９６９年）に報告
きれた。バイルマイヤー等によれは、電圧の印加されて
いないザンブルは、当初比較的透明状態であった。充分
な大きさの直流または低周波交流電圧を印加すると、動
的散乱として矧られている強い散乱が誘導された。

電圧全取シ除くと、動的散乱は消えたが、準永久的前方
散乱状態が残った。記憶減衰時間は、数時間のオーダー
であると報告され７１ｒ、さらに音響筒波数信号を印加
することによって、散乱状態を消去して透明状聾に戻す
ことがでさた。

液晶表示状態ＶＣ幻する弱境界結合の効果が、「液晶表
示装置における弱境界結合効果の分析」と題するＮ、ネ
ーリング等の論文に報告されている１、この論文によれ
ば、液晶物質の基板に対する鴇ツノ性を制御することに
よって、ＬＣＤ装置の多重化容量を改善することができ
る。

これまで、液晶表示装置を作るのに、いくつかの種類の
表面処理（支術が使用され晒用されてきｆｃ、、例えば
、「液晶表示装置」と題するＭ、ナカザキ等の米国特許
第４１４０３７１号には摩擦または斜方蒸着によって形
成された配向制御構造を用いて結晶が少し傾けて配向さ
れ；／ｒＸＬＣＤ装置が記載されている１、 液晶物質分子の位置合せを制御するため、先？１技術に
よるＬＣＤ装置のあるものは、界面活性コーティングを
使用している。例えば、「表面位置合せ式液晶装置」と
題する、Ｄ、マイヤーホーファ等の米国特許第３９６７
８８３１には、液晶物質分子の位置合せ全制御する目的
で、ＬＣＤ装置囲壁の１つまたは複数の内面を、連続す
る傾斜した蒸着層で被覆することが記載されている。

表ｍ１摩擦技術全使用した先行技術によるもう１つのＬ
ＣＤ装置が、「ンイステノド・ネマチック電界効果液晶
表示セル」と題する、Ｋ、　　ヤノ等の米国特許第４０
８３０９９１に記載されている。

この特許によれは、ＬＣＤ装置の透明な絶縁膜の表面を
摩擦して、予め定めた方向に位置合せされた微小溝を形
成する。Ｌ　Ｉ）　Ｃ装置の２枚のガラス基板が、この
摩擦技術を用いて形成された微小溝をもつ透明な絶縁膜
を載せている。ざらに、ＬｃＤの光学効果の均質性全増
進させるためにこの摩擦技？＃をら用することが、「液
晶構成要素用電極」と題する、Ｍ、ビールマン等の米国
特許第３８９２４７１ｉでも記述され認められている。

液晶物質の基板にｉＪする異方性に対する表面処理の効
果についてＵ、Ｓ、　ナエムラの論文「ＭＢＢＡと表面
処理した基板の間での異方性相互作用」「ｖｌｌＴＩ！
学雑誌Ｊ　討ｍ　Ｃ３、第４Ｊｉｌｉ遺、第４巻、Ｃ５
−５１４〜５１８頁に記載されている。この論文では、
ＭＢＩ（Ａと様々な界面活性層を備えた基板との間の界
面で単純軸および係留強度係ｌ！！を測定したことが報
告さｎている１、 〔発明の概要〕 本発明の目的は改良されに直示式で高怪報８社のネマチ
ック液晶表示（ＬＣＤ）装置を提供することである。

本発明の第２の目的は、固有の記憶効ＦＪＩ：をもつ２
端了ＬＣＤセルを与えることである１、本発明の第６の
目的は適正な作動のｋぬに再生回路構成を必要としない
、低電圧低出力ＬＣＤセルを与えることである。

本発明の第４の目的は、記憶効果式ソイステッド・ネマ
チック（ＴＮ）ＬＣＤセルを与えることである。

本発明の第５の目的は、記憶効果式ネマチック均質ＬＣ
Ｄセルを与えることである。

本発明の教示によれば、液晶物質の基板に対する異方性
表面係留力が充分に弱くなるように、ＬＣＤ基板の表面
α埋を行う。さらに具体的にいえば、ＬＣ媒体を歪ませ
て活性状態にするため、印加された電界は、飽和状態に
まで励振する前に異方性表面係留（ＡＳＡ）力ならびに
ＬＣ長距離秩序化力０で逆って働く、ＬＣセルを励振し
て飽和状態ないし活動状態にさせ−ｚｅ、印加装置は、
ＬＣ長距離秩序化力と合わさってＬＣ媒体をその静上状
態に戻そうとするＡＳＡ力に内扉する。設計によってＡ
ＳＡ力を充分弱くしておくと、印加電界が、ＬＣセルを
充分長い期間その活動状態に励振さぜたｉ、Ｖｂｉａｓ
　の須にまで下がったとさ、記憶効果が生じる、ただし
Ｖｂｉａｓ　　は、ＬＣ長距離秩序化力と合わさるとＡ
ＳＡ刀よりも大きくなり、それによってセルが静上状態
に戻るの全防出できるように設計によって定ぬられてい
る。

本発明の以上のおよびその能の目的、特徴および利点を
明らかにするｘｉ、次に添付の図面に示す如き本発明の
好適な実り形態の例についてより詳しく説明する。

本発明の詳細を添付の図面に則して説明する３、〔実施
例の説明〕 本発明に基く、弱境界型記憶効果をもつ２電珍ＬＣＤ装
置の良好な実施例は、第１肉および第２図に示し斤如ぎ
ネマチック均質セル２０．または第３　ｃｊに示した如
きソイステンド・ネマチック（ＴＮ）セルのどちらかに
することができる１、どちらの実施例でも、表■処理に
よって異方性表面係留（ＡＳＡ）力は充分弱く設定され
、それによってセル２０．４０が外部から印加された電
界によって一時的に活動状態に励振された鏝、静止状態
に戻るの全防上する。

均質セル２０は、Δε＝ε１１−ε１２〉ＤまたはΔさ
く０のどちらであるかによって、２種の型式をとること
ができる。左だし、ε１１およびε１２は、それぞれり
、Ｃ分子の長軸に対して平行および垂１αな誘′１Ｌ率
である１、どちらの場合にも、ＬＣセル２Ｇは一対の基
板１Ｑ１そ１２それ上側および下側基板１００内面に形
成された上側および下側電極１２、および上側及び下側
電極の間に挿入された液晶物質１８を含んでいる。第１
図および第２図を冴照すると、セル２０は平面Ｚ二りと
２二ｄの間に閉じ込ぬられた厚さｄのネマチックＬ　Ｃ
層を含んでいる。

Δε〉０の場合には、静上状態でＬＣディレクターない
しＬＣ均質１８は、常にＸＺ平面中にあり、外部電界の
かからない」混合、ディレクターは至る所でＸ軸と平行
まｋはＸ軸に対して小さな傾斜角θをなしている。

第１あおよび第２図のＬＣセル２Ｄは、できればガラス
またはプラスチック製で、インジウム−酸化スズなどの
電極１２を形成する導電性コーティング全備えた基板１
０を営んでいる。

本発明の教示によれは、ＬＣ位置合せ層１４を電極１２
の内面に蒸着させることができる。位置合せ−１４によ
って、上側および下側電極１２の表面処理がもたらされ
、ＬＣ物質１Ｂの基板１Ｑに対する異方性表面係留（Ａ
ＳＡ　）力を臨界１百ｕ下に調節して、２電瘉均質ＬＣ
セル２０に記憶幼果全付与することができる。

Δε〉０の均質ＬＣセルでは、閾圃電ＦＥＶｔｈは次の
ようにして算出される。

ただしν′は次式全満足する。

ここで、ｋｌｌおよびに３３はそれぞれＩ、Ｃスプレィ
定数および曲げ弾性定数である。定数λは次式で表され
る。

πに３３ Ｃｄ　　　　　　　　　　　　　　　　　　（３）ただ
しＣは単位面積当りの異方性表面係留（ＡＳＡ）エネル
ギーである。

Ｌ、Ｃ？！ｌ質１８の分子を第１図に示す第１の配向配
置から第２図に示す第２の配向配置へ配向させるには、
電極１２に均する外部印加電Ｅ（崗示せず）を、飽和電
子レベルにまで上げて、重陽１２１’ｄ＋で２方向の飽
和′１「界を創出しなければならない。

この飽和′電圧は、次式によって決定できる。

ただし、ν″は次式を満足する。

ｃｏｔｈ［１／２　　ｙｒν”　］−λν″（５）また
に１１とに３３およびＣは、上記の定義による１゜ 本発明の教示によれば、第１図に示す如き多数のＬＣセ
ル２０を含むＬＣＤ装置を作動させるに当っては、各セ
ル２０に外部印加電圧源によって１綴圃電圧ｖｔｈ以下
の電圧Ｖｂｉａｇでバイアスをかけなければならない。

次に通常の同時行３−１または２−１行列アドレシング
体系を用いて、ＬＣセル２０をオンにする。これらのア
ドレシング体系は、当技術の通常の専門家にとって周矧
のものである。例えば、Ｂ、　Ｊ、レツヒナー等の「第
５９回ＩＥＥＥ紀要Ｊ１５６６（１９７１年）所載の論
文には、ＬＣＤ装置を励借させるための様々な多重式な
いし行列式アドレシング体系が記載されている１、 特定の画ｒ象素了（ＰＥＬ）をオンにするには、当該の
適当な行および列電極を選択して、印加電圧を上げる。

飽和電子にまで上がると、印加電界がＬＣ物質１８の基
板１ＤＫ対する異方性表面係留（Ａ’ＳＡ）力および液
晶１８の長距離秩序化力に逆゛らって働さ、液晶物質１
８を歪めさせてＬＣ分子を第１肉に示した第１の配向配
置から、第２図に示した第２の配向配置にスイッチさせ
る。印加電圧は飽和電圧レベルにまで上った鏝、静ＩＥ
レベルＶｂｉａａ　にまで下がる。

本発明の教示によれば、ＬＣ位置合せ層１４／Ｉｉ次の
ような適当な単位面積当りＡＳＡエネルギーをもたらす
ように設定される。

ＡＳＡ力をこの基儒に従って設定すると、Ｖｂｉａｓレ
ベルの印加電圧によって創出された印加電界が液晶１８
の長距離秩序化力と合わさって、セルが第２図の第２の
６ｃ’向配置から第１の配向配置へ戻るの全防止し、そ
れによってセル２０申に記憶効果−を生み出す１゜ ＬＣセル２０ば、一定のＶｂｉａｓ≦ｖｔｈの下で第２
の配向配置に留まるので、その適正な作動のために再生
回路は必要でない。

記憶された活動状態の消去、すなわち第２の配向配置か
ら第１の配置（静止状態）への回復は、バイアス電界ｔ
［り除くことによって、あるいはそれ’ｋＡｓＡが優勢
となるのに充分な低い値にまで下げることによって実現
できる。

良好な火砲例では、ＭＢＢＡ、すなわちΔε〈０の液晶
物質１８と使用して、記憶効果式均質ＬＣセル２０を作
ることができる。この場合、方程式（２１（３）　（５
）をΔさく０のＬＣ物質に、適用するには、これらの方
程式中の定数に１１およびに３３を互いに交換しなけれ
ばならない。その上、ＭＢＢＡではΔさくＯなので、か
かる均質ＬＣセル２ｏの静止状態は第２図に示した状態
であり、セル２゜が飽和になるまで励振された後のその
活動状態は第１図に示した状態となる。

この良好な実施例では、電極１２は、インジウム−酸ス
ス（１′ｌ″Ｕ）または他の適旨な導電性コーティング
でできている。界面活性剤ＤＭＯＡＰ（Ｎ１Ｎ−ジメチ
ル−Ｎ−オクタデシル−３−アミノプロビルイリメトキ
シルクロライド）を用いてＬＣ位置合せ層１４を形成す
る。

ＤＭＯＡＰｉ電極１２に付着させてＬＣ位置合せ層１４
を形成するための典型的な手順は、電極１２を含む基板
１０を完全に掃除して、有機および無機残渣を敗り除く
ことである。掃除の後、基板１０’ｉＤＭＯＡ’Ｐの希
溶液（典型的な場合、０１容積チの水溶液）に浸漬する
。基板′ｆｆ：浸した希溶液全室温で約５分間攪拌する
。次に基板１ｏを脱イオン水で水洗して、過剰のＩ）Ｍ
ＯＡＰＩ＠！り除ぐ。次に過剰の水を清浄なＮ２で取り
除さ、最後にＤＭＯＡＰでコーティングした基板１０を
さらに乾燥Ｎ２甲で典型的な場合では約１１０°Ｃで約
１時間硬化させる。

この良好な実施例では、減衰全反射法で測定したＣ　ｊ
ｉｉは、約１．　Ｉ　Ｘ　１００−２ｅｒ　／　ｃｍ２
である１、ｋｌｌが８．４Ｘ１０　　ダイン、ｋ３３が
９．５　Ｘ　１０　　ダインの場合、本発明の教示に基
〈記憶効果式均質ＬＣセルは、設計方程式（３）および
（６）を満たす産め、ＬＣ層の厚さｄが約１．２μｍな
いしそれ以下でなければならない。

別云として、艮好な実施例において、ＤＭＯＰ界面活性
コーティング１４を選択する代りにヘキサデシルアミン
金選択した場合には、Ｃ１１ｉｉは、約３、５　Ｘ　１
０　　ｅｒｇ　７ｃｍ２と測定さｈｆｒ。コノ場合、Ｌ
Ｃ物質１８としてＭＢＲＡを用いた記憶効果式均質ＬＣ
セル２０を生成する産めに約６．８μｍないしそれ以下
でなければならない。

前述のように、本発明の教示は、ツィステッドネマチッ
ク（ＴＮ）表示装置と呼ばれる別のクラスのＬＣ装置に
も適用できる。ＴＮＬＣＤ装置およびその使用は従来か
ら知られている。一般に、印加電圧がない場合、液晶物
質１８（第３図）の表面層は均質に位置合せされている
が、ＴＮセル４０の２枚の基板１０の間のねじれ角が９
０°になる。一方のセル壁面からもう１方のセル壁面へ
と連続回転が生じるように液晶全体が歪む１、ＴＮセル
４０がΔε〉０のＬＣ物質１８をもつ場合、問直電圧ｖ
ｔｈ２越える電極１２の印加電圧がネマチック・ディレ
クターをねじれない状態にし、均質ＬＣセルの場合につ
いて第２□□□に示しだのと同じように印加電界に平行
に位置合せさせる４、さらに詳しいことについては、Ｌ
、　　Ａ、　　グンドマンの論文「液晶表示装置Ｊｒ真
窄科学技術雑誌」第１０巻、第５’１＝（１ｑ７３年）
、８０４〜８２３自を参照のこと。

第３図を参照すると、弱境界型記憶効果式ＴＮＬＣセル
４０は、一対の基板１０それぞれ上ｇｌＩｌ基板および
下側基板１０の内面に形成された上側および下側電極１
２および上側電極と下側電極の間に挿入されに液晶物質
１８を含んでいる。第３図全参照すると、セル４０は平
面ｚ＝０とＺ＝ｄの間に閉じ込められた厚さｄのネマチ
ックＬＣ層を言んでいる１、へ発明の教示によれば、こ
のＬＣ位置合せ−１４によって、上側および下側ｉｍｆ
ｉｉｚの表面処理がでさ、ＬＣ物質１８の基板１０に対
する異方性％Ｉｆｎ（ＡＳＡ）刀が臨界Ｉｎ下に調節さ
れて、２電ｆｉＴＮセル４０に記憶効果全付与する。

第３（２）を参照すると、ＴＮセル４０の聞直電圧は、
下記の方程式から算出でさる１、゛ただし、ν′は次の
方程式を満足する。

（８） ここで、ｋ２２はネマチックＬＣ物質１日のねじれ弾性
定数であり、φＴはＴＮセル４０に対する初期ねじれの
角度を表す。それに対心する飽和電圧は、次式によって
求められる４、 ただし、ν″は次式を満足する４、 ｃｏｔｈ［１／２０２に２２−に３３）φＴ２／ｋ　３
３＋π２ν″２）１／２＝　　０２に２２−に３３）φ
Ｔンに３６＋π”ν””）　１／２　　　０ｎｎ方式（
８）およびσ０申の定数２は、前記の方程式（３）で表
されるものである。

記憶効果式ＴＮセル４０を作成するには、（２に２２−
に３３　）＜０でかもΔε〉０のネマチンクＬＣ物質な
いし混合物１８を使用するのが望ましい。

多数のＴＮセル４０を含む行列中の特定の画障素子全オ
ンにするには、当該の適当な行おまひ列電極を選択して
、印加電子を上げる。飽和宝玉にまで上がると、印加電
界は、ＬＣ物質１８の基板１０に灼するＡＳＡ力および
液晶１８の長距離秩序化力に逆らって働き、液晶物質１
８を歪めて、ＬＣディレクターを第３図に示Ｑた如き第
１のねじれた配向配置から第２図に示した如き第２のね
じれていない配向配置へとスイツチする。

印加電子は、飽和電圧に達した後、ｖＬｈまたはそれ以
下の静上レベルＶｂｉａｓにまで下がる。

記憶効果均質ＬＣセル２０の場合について前述したよう
にこの場合もＬＣ位置合せ層１４は、上記の設計方程式
６を満足するよう、な適当な単位面積当］ＡＳＡエネル
ギー（Ｃ）をもたらすように設定される。この基準に従
ってＡＳＡ力が設定さレルト、ｖｂｉａＳ　　レベルで
の印加電界は液晶１８の長距離秩序化力と合わさって、
液晶物質１８の基板１０に対するＡＳＡ力に刈抗し、セ
ルが第２南に示した第２の配向配置から第３図に示した
第１の配向配置に戻るのを防止し、それによってＴＮセ
ル４０中に記憶効果をもたらす１、ＴＮセルは一定Ｖｂ
ｉａｓ　　Ｏ下で第２の配向配置に留まるので再生は必
要でなく、その適正な作動のために再生回路を必要とし
ない。

この場合も、前述のように記憶された活動状態の消去な
いし第２の配向配置から第１の配向配置（静ＩＦ状態）
への回復は、バイアス電界全敗り除さ、あるいはそれを
ＡＳＡ力が優勢となるように光分低い直にまで下げるこ
とによって実現でさる５゜記憶効果式ＴＮＬＣセルの艮
好な実施例として、Δε〉０のネマチックＬＣ物質１８
．６ＣＢ（４−シアノ−４’　　−ｎ−へキシルビフェ
ニル）Ｆｆ史用して、記憶効果式ＴＮＣＬセル４０を作
ることができる３、６ＣＢでは、室温でｋ　１１　＝９
’Ｘ　１０−７ダイン、ｋ２２＝４．５ｘｔＤ　　ダイ
ン、ｋ３３＝１．２×１０　　ダインと測定された。Ｌ
Ｃ位置合せ層１４は、斜方の蒸着技術を用いてＳ　ｉ　
Ｏ２から形成することかでさる。

この記憶効襲式ＴＮセルの艮好な実施例では、Ｃ直は約
４．６ＸＩＤ　　エルグ／、、２　と測定される。１ｋ
１１、ｋ２２、ｋ３３の各パラメータが上記の６ＣＢと
一致する場合、ＴＮセルのＬＣ層の厚さｄは、設計方程
式６を満足するには約４１μｍ　ないしそれ以下でなけ
ればならない。

上記の艮好な実施例は、新しいクラスの記憶効果式ＬＣ
Ｄ装置をもたらす。本発明の教示に基く記憶効果式ＬＣ
Ｄセルの行列アレイヲ宮むＬＣＤ装置は、再生の必要が
な〈従来のＬＣＤ装置のような再生面ＩＭ構成の必要が
ない。

以上説明した本発明は、従来のＬＣＤ装置が非記憶式で
あったこと、またＶ３ａｔ／Ｖｔｈ比が高いために多重
化容量が低かったことによって、そのサイズが制限され
ていた大パネル型で高情報＠量のＬＣＤ装置を実現する
ために適用すると、特に有利である。

ＬＣ位置合一１ｆｆｅ１４は、界面活性コーティング技
術ならびに均質セル２０およびＴＮセル４０のための斜
方蒸着技術によって形成されるが、明らかなようにかか
るＬＣ位置合ぜ層１４はこれらの技術のどちらかまたは
両方全組合せて使用して形成する事ができる。別法とし
て、摩擦またはその池の適当な表面処理技術によっても
同じ効果を創り出せる。

記憶効果式均質ＬＣセル２０は、ＬＣ均質または混合物
１８としてＭ　Ｂ　１３　Ａを用いた場合について示し
説明してさたが、他のＬＣ混合物も可能である。記憶幼
果式均質ＬＣセルを作るための池の適当なＬＣ物質の例
として、市販されている２１種のＬＣ物質およびその重
要な特性を第−Ｉ表に列挙する。本発明の教示に基く記
憶効果均質ＬＣセルを作るには、設計方程式（６）の・
（ラメータλを第１表の４列目に示したパラメータλＳ
よりも大さくしなければならない。

記憶効果式ＴＮＬＣセル４０は、ＬＣ物質または混合物
１８として６ＣＢ’ｉ用いた場合について示し釈明して
さたが、その曲のＬＣ混合物も可能である１、記悔効果
式ＴＮＬＣセル４０を作るための曲の適当なＬＣ均質の
例として市販されている２０種のＬＣ’ｌ’ｌ質および
その重要な特性を第１表に列挙する。本発明の教示に基
く記憶効果式ＴＮＬＣセル４０を作るには、設計方程式
（６）のパラメータλを第２表の６列目に示したパラメ
ータλＳよりも大きくしなければならない、。

以上に説明した実施例の他の２つの主要なバリエーショ
ンについても指摘しておきたい。第１にネマチック’ｔ
ｌｆｔＴＮセル２０．４０（ホスト）に微量の色性染料
（ゲスト）ヲ加えて、いわゆるネマチフク・ホスト・ゲ
ストＬＣＤ１形成することができる。色性染料を加えた
弱境界型記憶ＬＣ″ｆ：形成するための設計基準は、基
本的に上記に説明した二色性染料を含まないものと同様
である。第２のバリエーションは微量のノナン酸コレス
テリルなどの非対称化合物および微量のアントラキニン
染料などの二色性染料を加えて、いわゆるコレステリン
ク−ネマチック相変化ゲスト−ホス）ＬＣＤを形成する
ことである。その詳細は例えばＢ。

Ｌ６　　ホワイトおよびＧ、　Ｎ、テーラ−「応用物理
学雑誌」第４５巻４７１８頁（１９７４年）、あ・よび
米国特許第３８３３２８７号に記載されている１、コレ
ステリック−ネマチック相変化ゲスト−ホストＬＣＤの
設計基準もまた上記に示し説明したＴＮセルとほぼ同僚
である。

以上に詳しく説明した本出願人の発明の明細な内容の教
示に基いて作った弱境界型記憶効果式ＬＣセル全組み込
んだＬＣ装置は、従来実現できなかつ左利点を待つこと
がわかる。今までに、示唆した出願人の発表した装置の
変化した形態および修正の池に、当技術の専門家には他
の多くの・；リエーションや修正は自明のはずであり、
従って本出願人の発明の範囲はここに示し、または示唆
した特定の実施例に限られるものと解釈すべきではない
。

寸　　寸　　　　　寸　　’Ｏ％０ は　　　　　　　　　　　寸　　口　　　　　　　　　
　　の（イ）　Ｃ）：　１４　Ｎ　Ｏ：ｉ　＋４”ｊ喝
旧　　の　　寸　　の　　ＬＮ　　　へ　　ｈ　　　１
％、　　　Ｉ”、、　　　ｌ”、、　　　　　　　　　
さ　　きべ−Ｃ３萌−Ｎ嗣−へ因のの因〜 ｒ　　　ｒ　　　Ｆ　　Ｉ−ｒ　　　−ヘ　　へ　　−
−〇　　〇　　−−〇 ｚｚｚ　　　　５−ｔ−ｃｚ　　　　ａｚ　　　　ｚｚ
日　−←　　Ｅ−ＩＦ−１←　Ｅ−Ｉ　　　Ｅ”ｈ　　
　Ｅ”Ｅ−１

【図面の簡単な説明】

第１図はＬ　Ｃディレクターが第１の配向配置にあると
きの、記憶効果式均質ＬＣセルの図面である１゜ 第２肉はｒ、０７″イレクターが第２の配向配置にある
とさの第１図に示したＬＣ＋ルまたは第３図に示したＴ
Ｎセルの＋Ｗ面である。 第３図は記憶効果式ＴＮセル４０中のＬＣディレクター
の第１のねじれた配向全例示的に示す簡略化した透視図
である。 １０・・・基板、１２・・・・電極、１８・・・・ＬＣ
物質、２０・・・ＬＣセル。 出願　人　インタブカ７ゴカル・ビジネス・マシーンズ
・コーポレーションＦＩＧ、１ ＦＩＧ、３

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 間隔を置いて配置された上側基板および下１１１ｆ１基
   板と、それぞれ該上側基板および下１ｌＩｌｌ基板の内
   面に形成された下側電極および下側電極と、該上側電極
   と下側電極の間に挿入された、ネマチック液晶′吻質と
   、付勢されたとき該液晶物質の分子を第１の配向配置か
   ら第２の配向配置へ配向ざぜる手段とを有し、上記配向
   させる手段が静ＩＥレベルにまで下がったとぎセルが第
   ２配向配置から該第１配向配置に戻るの盆防市できるよ
   うに液晶物質の基板に灼する異方性表面係留力を光分弱
   くするよう該上側基板および下側基板の表面処理全行な
   ったこと全特徴とする記憶効果式液晶入水セル３．