JPS5820994B2 - タンカスイソユノ セツシヨクテキシヨリノタメノ レンゾクテキシヨリホウホウ オヨビ ソウチ - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は炭化水素油の接触処理のための連続処理方法お
よび装置に関する。

炭化水素油の接触処理のための方法において、使用され
る触媒の活性度は連続使用により低下する。

活性度のこのような低下の割合は触媒の性質、炭化水素
供給原料および処理条件に依る。

それ故にその割合が遅くて不都合な経済的な水準への触
媒床の活性の劣化が１年又は２年かかるかもしれないし
あるいは速くてその水準が数時間で到達されるかもしれ
ない。

これら両極端の間に不活性化割合の全範囲が存在する。

触媒活性の劣化割合が高い接触処理にεいては、再生時
間が運転時間の実質的な比率を占めるような度々の触媒
の再生が必要になる。

そのための生産における損失は受諾されることが一般に
できなくて従ってスウィング反応器機構（ｓｗｉｎｇ
−ｒｅａｃｔｏｒ ｓｙｓｔｅｍ）が１又はそれ以上の
他の反応器が再生される間に１又はそれ以上の反応器で
連続製造を可能とするために開発された。

しかしながらこれらの機構は比較的に大きくて複雑な設
備となり、それ故に高価である。

従って、本発明の目的は、新しい触媒がそこへ加えられ
そして消費された触媒が運転中に回収される／又は多数
の反応器内で行なわれる炭化水素油の接触処理のための
連続的処理を提供することである。

この手段においては実質的に一定な触媒活性を有する連
続接触処理を保持することが可能である。

その接触処理が行なわれる温度および圧力では、運転中
の反応器からの触媒の排出に関して、および液体および
気体炭化水素油からの触媒の分離および炭化水素油の導
入および炭化水素油の反応器からの回収に関して問題が
生ずる。

従って、本発明の更に一つの目的は、これらの運転が困
難なく行われうる方法を提供することである。

従って、本発明は、ファネル（ｆｕｎｎｅｌ ）の出口
の上の位置にスクリーンを有する触媒排出ファネルをそ
の底に有する反応器中で油を触媒床に通し、新しい触媒
が触媒床の頂部に導入され、そして消費触媒がその底で
排出されることを包含する炭化水素油の接触処理のため
の連続処理法に関する。

本発明による方法は気相での運転に又は液相での運転に
又は部分的に気相および部分的に液相での運転に使用で
きる。

油原料は、反応器の頂部に導入されて触媒床を降下流通
させるか反応器の底に導入されて触媒床を上昇流通させ
るかのどちらかである。

前者の場合油は触媒と並流で反応器中を通過して生成物
は触媒から分離されスクリーンを通って反応器から回収
され、後者では油はス。

クリーンを通って触媒床へ導入され触媒に対して向流で
通過し生成物は反応器の頂部で回収される。

運転の２つの型のどちらを用いるかは関係するその特殊
な接触処理の性質に依る。

本処理法は炭化水素油の多種の連続接触処理の。

ために使用できる。

これらの処理の例は接触クランキング、リホーミング、
重合、アルキル化および異性化である。

特に油が触媒床を水素含有ガスと共に通過させられる炭
化水素油の接触水素処理に適している。

こ・のような水素処理はあらゆる水素化、ハイドロクラ
ッキング、水素化脱硫および／又は水素化脱窒を包含す
る。

少なくとも部分的に液相の炭化水素油の接触水素処理は
本処理法によって有利に実施される。

それ故に、油原料は原油の大気又は真空蒸留から得られ
た溜出油又は残留油のような高沸点炭化水素油を含むこ
とができる。

石油留分の接触又は熱クランキングにより得られた重質
油もまたこの発明に従って実施される水素処理のために
非常に適している。

特別の態様において、本発明は残留油からの金属汚染物
の除去および残留油の水素化脱硫のため有利に使用でき
る。

周知であるように、残留油は、残留油が附されろ水添脱
硫処理の触媒活性を消す効果を有する高分子量の種々の
金属含有および金属不含成分を含有している。

最も重要な金属含有成分はニッケルおよびバナジウムを
含有する化合物であり、金属不含成分の樹脂、ポリアロ
マティクスおよびアスファルテン（ａｓｐｈａｌｔｅｎ
ｅ ）が重要である。

重質金属化合物の沈積および特にアスファルテンによっ
て起されるコークス生成は残留油中のイオウ含有化合物
を変換するための触媒の能力を烈しく減する。

残留油の固定床水添脱硫における金属による触媒汚染は
触媒が交換されるように処理を周期的に中断させること
を必要とする。

これらの周期的中断は重く汚染された残留油の場合は頻
繁になり、全く効果の無い運転に終る。

残留油の水添脱硫のための処理における予備段階として
の本処理法の適用は極めて都合よく連続的および有効な
運転のための方法を提供する。

そのような処理において残留油原料は、その中で油中の
金属汚染物が実質的に減少されて油中のイオウ含量か良
好に減少される発明による方法を行なうための／又はそ
れ以上の反応器で都合よくまず供給される。

次に実質的に脱金属化された油はその油が水素化脱硫さ
れる／又はそれ以上の固定床水素化脱硫反応器に供給さ
れる。

従って本処理を行なう反応器は、固定床の触媒を害する
金属汚染物の大部分を除去することにより、固定床反応
器のための保護反応器として働く。

本処理法は、実質的に一定量に脱金属化された残留油を
、そのためにそうでない場合に可能なよりも再生および
／又は触媒の交換をせずにはるかに長い期間運転させる
ことのできる固定床反応器に連続供給できる。

それのみならず保護反応器内の触媒が連続的に又は周期
的に除去され新しい触媒により交換されるから、保護反
応器中の触媒床の閉塞の可能性が妨げられる。

実質的に脱金属された供給原料で運転されるから同様に
次に続く固定床水素化脱硫反応器にとって適合している
。

触媒の供給と回収は通常周期的に行なわれるが場合によ
っては連続してもよい。

前者の場合では新しい触媒の供給は使用済みの触媒の回
収と同時に成し得る。

しかし実際にはこれはそれほど好適ではなく、まず使用
済みの触媒を回収しそれから直ちに同量の新しい触媒を
供給することが好ましい。

回収の次に供給の順序は必要ならば変えることかできる
。

各回収／供給時期には総触媒量（ｔｏｔａｌ ｃａｔａ
ｌｙｓｔ １ｎｖｅｎｔｏｒｙ）の０．１％および１０
０％の間が回収／供給され得る。

好ましくは回収／供給範囲は総触媒量の０．５％および
２０％の間に限定される。

各回収時期の持続期間は好ましくは０．５から３０分ま
で変化し、週当り回収時期の回数は好ましくは１から２
００まで変化する。

連続的触媒供給および回収の場合には、例えば触媒の劣
化の割合が高く従って相当する高い割合の触媒の補給が
必要な時に適しているのだが、新しい触媒が同じ割合で
加えられる間に時間当り総触媒量の０．１％および１０
０％の範囲が好ましく回収される。

しかしながら更に好ましくは総触媒量の０．５％および
２０％の範囲が時間当り回収され反応器に供給される。

本処理法に使用される触媒粒子の大きさは広範囲に変化
でき、触媒粒子直径は０．１から１０ミリメートルの範
囲に存在し得る。

しかしながら触媒粒子上又は触媒粒子中の活性位置と液
体および／又は気体との良好な接触を得るために触媒粒
子は好ましくは比較的小さな直径を有する。

そこで０．１から５ミリメートルの範囲の直径を有する
触媒粒子が好ましい。

以前に記述したように本処理法は炭化水素油の接触水素
化処理に極めて適している。

このような水素化処理に都合よく使用できる触媒は好ま
しくは耐火性酸化物担体に沈積された／又はそれ以上の
ＶＩＢ族金属（クロム、モリブデン、タングステン）お
よび／又は元素の周期律表の鉄族（鉄、ニッケル、コバ
ルト）および／又は１又はそれ以上のこのような金属の
酸化物および／又は硫化物を含む。

このような担体の例はアルミナ、シリカ、マグネシア、
チタニアおよびそれらの混合物である。

この発明の好ましい態様に応じて水素化処理に使用され
る反応条件は広い範囲内で変化できて、まず第１に使用
される炭化水素油供給原料の性質に依存する。

温度は３００℃と４７５℃の間で変えられ、総圧力は２
０から３５０ｋｇ／ｃｒｌである。

重量時間当りの空間速度は時間当り触媒の容積部当り新
しい油原料ｏ、ｉおよび１０重量部の間で変化できる。

反応器の底にある触媒排出ファネル（ｆｕｎｎｅｌ ）
は使用済み触媒が反応器の底から回収されるその時に反
応器を降下する触媒のマス−流動（ｍａｓｓ−ｆｌｏｗ
）を促進する如何なるファネル方式も包含できる。

マス−流動とは、反応器のこの部分のどの地点にも触媒
粒子が位置している反応器の円筒部において大体等しい
速度で触媒粒子が降下移動することを意味する。

これは全触媒粒子が反応器中において同一の滞在時間を
有し、従って底で回収される使用済み触媒が重質的に同
程度に劣化されることを意味する。

このような排出ファネルを使用しなければ、触媒粒子は
、反応器の中心の粒子が反応器の周辺のものより速く降
下し、反応器壁に近接する触媒部分が恐らく更に停滞す
るファネル流動（ｆｕｎｎｅｌ ｆｌｏｗ）で反応器
を降下する。

結果として比較的活性な触媒の実質的な割合が各回収時
期に回収され、これは反応器の能率の悪い運転に帰結す
る。

しかしながら、このような触媒排出ファネルの導入は反
応器からの気体および／又は液体の導入又は回収に関す
る問題を引起す。

ファネルの存在は触媒床の主要区域とファネルの底との
間に極めて高い圧力差を生ずる。

これらの状況においてもし気体又は液体の導入又は回収
がファネル出口又はノアネル出口下で行なわれるならば
不均整な圧力状態が場合により入口および／又は出口に
はびこり、これは次第にそこで液体および／又は気体の
波打ち効果（ｓｕｒｇｉｎｇ ｅｆｆｅｃｔ ）を導く
。

これらの望ましくない効果を打開するために、本処理法
は触媒排出ノアネル中にファネル出口の上の位置にその
位置と主要触媒床の間が比較的低い圧力差となるスクリ
ーンを取入れる。

従って液体および／又は気体は上記した波打ち効果に遭
遇しないで反応器に導入あるいは反応器から回収できる
。

スクリーンの形およびスクリーンが水平面と作る角度は
極めて広範囲である。

しかしながら実際的経済的理由からスクリーンは一般的
に平たくて、スクリーンの水平面との角度は４５°と１
８０℃の間である。

本発明の好ましい態様において触媒排出ファネルは、円
筒状スクリーン部分により下側の部分の頂部に上側の部
分の底が結合されている少なくとも２個の逆円錐形部分
で構成されている。

円錐形部分は、触媒の反応器を降下するマス−流動、お
よび触媒床を液体および／又は気体の場合による入口又
は出口から分離するスクリーン作用を容易にする。

この場合スクリーンの壁は触媒流の方向に対し平行、換
言すれば水平面に対し９０℃である。

この配置は、触媒流への抵抗が最小限になるから都合が
よい。

その粗製の性質のために反応器の触媒流動降下を促進し
ない織られたスクリーンが使用される所ではこの点は特
に重要である。

本発明に従って実施される如何なる処理法にお。

いても、使用される触媒排出ファネルの物理的特性は、
触媒の滑らかな排出が達せられるものである。

この点に関しては使用される触媒粒子の大きさが臨界的
に重要である。

ファネル出口の物理的大きさが、使用される触媒粒子の
特殊な大きさの。

ために橋形酸の技術で知られる現象により出口をふさぐ
ことがないようなものであることが必要である。

従って、特別のファネル出口の最小の特有直径は好まし
くは１０センチメートルより小さくない。

少なくとも１０センチメートルの直径を有、する円形フ
ァネル出口が本発明に好ましく使用される。

２又はそれ以上の逆円錐部分および１又はそれ以上の円
筒状スクリーン部分を含む触媒排出ファネルが本発明に
より好まれるように使用される時、反応器中の触媒のマ
ス−流動は、反応器のＪ垂直軸と５°および４５°の間
の角度を形成する円錐部分を使用することにより好まし
く生ぜしめられる。

本発明により実施される方法の大部分を含有する更に好
適な範囲は１０°と３５°の間である。

逆円錐部分が反応器の垂直軸と作る角度は同一で４ある
。

予期されるように、接触処理を行う反応器中に行きわた
る条件はスクリーンを徐々に腐食する作用を有する。

この腐食は運転中にスクリーンの衰弱又は破裂を起し得
るから、反応器の底に第２スクリーンを取入れることが
良好な保護手段である。

それがなかったら運転中の主スクリーンの衰弱により生
成物と共に反応器から触媒が一緒に回収されることにな
るから反応器が降下流で運転されている時にはこの第２
スクリーンは特に重要である。

使用されるスクリーンのメツシュ寸法は処理に使用され
る触媒粒子の寸法により変わるがもちろん触媒粒子寸法
より常に小さい。

従って１８と１７０のメツシュ寸法（ブリティッシュス
タンダードスクリーンシリーズ）が好ましく、更に好ま
しくは１８と８５の間のメツシュ寸法が使用される。

液体および／又は気体を反応器から反応器の底の上部の
位置に置かれたスクリーンを通して回収したり又は導入
する結果として反応器内のスクリーンの下方に実質的に
静止した油と触媒の混合物が存在する。

使用される高い反応器温度ではこの混合物中の炭化水素
油はコークス化し易くハイドロクラッキング反応は消費
された触媒の生成のために促進される。

これらのハイドロクラッキング反応は温度および圧力を
増し、そのコークス化は触媒の大きな固体塊の形成を生
起するような不都合な現象を導く。

このために触媒出口は容易にふさがれる。

これらの困難を打開するために新鮮な水素含有ガスが反
応器の底に有利に導入される。

これは２重の効果がある。

第１に、反応器の底の油はもはや静止しないで、気体に
より反応器の中心部に吹き上げられる。

従ってスクリーンの下部に見出される油は連続的に導入
され、不都合な反応は妨げられる。

第２に、導入される水素含有ガスの温度は好都合にも反
応器の底に見出される油と触媒の混合物の温度以下であ
るから、混合物はガスにより好ましくない反応がもはや
持続しない温度に冷却される。

反応器の底に良好に導入されるガス量は総油原料のトン
当り１０および４０００標準（ｎｏｒｍａｌ ）立方メ
ートルの間にあり、ガスの温度は好ましくは周囲温度（
ａｍｂｉｅｎｔ ）と３５０℃の間であり、２００℃以
下の温度が更に好ましい０ 上記の困難を新鮮な水素含有ガスの導入に代えてかある
いは新鮮な水素含有ガスの導入と組合わせて解消できる
他の方法は、反応器の底へ冷却油を導入することである
。

例えば水素含有ガス供給が不十分又は打切られる時のよ
うなある状況において、冷却油の導入は極めて望ましい
。

反応器の底に導入される冷却油の量は好ましくは総油原
料の１０％（重量）を超過せず、油の温度は好ましくは
周囲温度と３５０℃の間である。

更に好ましくは油は２００℃以下の温度を有する。

水素含有ガスおよび／又は冷却油の導入のための更にそ
の他の理由は反応器の底の炭化水素油と触媒混合物の温
度を触媒回収が容易にされる程度に下げることである。

触媒回収導管中に設置されたバルブは高反応器温度で運
転されるならば急速に腐食され易い。

しかしながらこれらバルブを通って回収される触媒混合
物の温度が３５０℃以下ならばこれらの腐食問題は実質
的に軽減される。

従って水素含有ガスおよび／又は冷却油の導入は、水素
含有ガスおよび／又は冷却油原料の入口の高さ以下に見
出される油および触媒の混合物の温度が３５０℃以下で
あるように好ましく調節される。

消費された触媒の排出は、触媒がその途中でまず固体−
ハンドリングバルブ（５ｏｌｉｄ−ｈａｎｄｌ ｉ−ｎ
ｇ ｖａｌｖｅ ）および続いて液体−および気体−密
閉高圧バルブ（１１ｑｕｉｄ −ａｎｄ ｇａｓ −ｔ
ｉｇｈｔｈｉｇｈ ｐｒｅｓｓｕｒｅ ｖａｌｖｅ）を
通過する導管を経由して有利に行なわれる。

どの様な適当な固体−ハンドリングバルブでも使用でき
るが好ましくはロータリーバルブである。

接触処理が行なわれる圧力では、触媒が反応器から回収
されない時期に液体−および気体−密閉高圧バルブが極
めて固く閉鎖されることが必要である。

しかしながらこの点でのこのバルブの効力はバルブが閉
鎖される時触媒粒子がバルブとそのシーテイング（ｓｅ
ａｔｉｎｇ ）の間で押し込められるならば実質的に減
少する。

従って液体−および気体−密閉高圧バルブをフラッシン
グ（ｆｌｕｓ−ｈｉｎｇ）して触媒粒子がバルブの閉鎖
を妨げないことを確保する手段を伴った導管を設けるこ
とは極めて有益である。

従ってこの目的のために冷却フラッシング油が固体−ハ
ンドリングバルブと液体−および気体−密閉高圧バルブ
との間に有利に導入された。

更に好ましくは使用されるフラッシング油は液体炭化水
素油原料の冷分岐流であり、又冷却生成物であってもよ
い。

導入される冷却油の量は好ましくは総油原料の１０重量
％を超過せず、そして多くの場合その量は１０％よりも
かなり少ないであろう。

冷却油の温度は周囲温度と３５０℃の間が適当であり、
２００℃以下の温度が好ましい。

発明は又前述した方法を実施するために適した装置にも
関係する。

この装置は（ａ） 新しい触媒および／又は液体およ
び／又は気体のための１又はそれ以上の入口を有する新
しい触媒のための高圧貯蔵容器、 （ｂ） そのファネルの出口の上の位置にスクリーン
を取付けている触媒排出ファネル、原料入口、生成物出
口をその底に有している高圧反応容器、（Ｃ） 使用
済め触媒および／又は液体および／又は気体のための１
又はそれ以上の出口を有する使用済みの触媒のための高
圧排出容器、 （ｄ） 前記（ａ）および（ｂ）に記載された容器に
結合し、少なくとも固体−ハンドリングバルブ、および
／又は高圧バルブを具備する導管、 （ｅ） 前記（ｂ）に記載された反応容器に面した固
体−ハンドリングバルブ、前記（Ｃ）に記載された排出
容器に面した液体−および気体−密閉高圧バルブ、およ
び２個のバルブの間で導管に結合し、液体−密閉高圧バ
ルブを備えている液体のための入口が具備されており、
前記（ｂ）および（Ｃ）に記載された容器と結合してい
る導管 を有する。

発明の好ましい態様において、触媒排出ファネルは、上
側の部分の底が円筒状スクリーン部分により下側部分の
頂部に連結されている少なくとも２個の逆円錐形部分か
ら成る。

排出中の触媒のブリッジ形成を避けるために、特殊なフ
ァネル出口の最小の特有長さくＣｈａｒ−ａｃｔｅｒｉ
ｓｔｉｃ ｌｅｎｇｔｈ ）は好ましくに１０センチメ
ートルより短かくない。

本発明に従って円形ファネル出口が選はれて使用される
ならば、ファネル出口の直径は好ましくは少なくとも１
０センチメートルである。

反応器を降下する触媒のマス流動を生せしめるために円
錐部分が反応器の垂直軸と作る角度は好ましくは５°と
４５°の間である。

円錐部が反応器の垂直軸と作る角度は更に好まれる態様
においても同様である。

前述された理由により、反応器の底に第２スクリースを
取入れるときは好ましい保護手段である。

使用されるスクリーンのメツシュ寸法は触媒粒子の寸法
よりも小さく、ｏ、ｉおよび１０ミリメートルの間が好
ましい。

前述されたように新しい水素含有ガスおよび／又は冷却
油を導入するための入口は反応器の底に存在する。

冷却油のための入口は又液体−および気体−高圧バルブ
をフラッシングするために排出導管の固体−ハンドリン
グバルブおよび液体−および気体−高圧バルブの間に存
在する。

好ましい態様において固体ハンドリングバルブはロータ
リーバルブである。

発明は種々の方法で行われ得るが、今度はバルブ、ポン
プ、制御手段その他等の付属品が全ては示されていない
図を参照して更に明確にされる。

本発明による処理法および装置が、残留油の水素化脱硫
のための処理における予備段階として残留油の脱金属の
ために好ましく使用される方法は図式的に図中に示され
た。

金属被汚染、イオウ含有残留油および水素含有、′ガス
の熱せられた混合物はライン１を経て保護反応器２の頂
部に通される。

混合物は保護反応器内に含有される触媒床を降下流で通
過し、脱金属化油およびガスは排出ファネル４の一部を
形成するスクリーン３により触媒から分離され、そして
第、′２スクリーン５を通り、ライン６により反応器か
ら去る。

その後油はライン６を通って図示されていない１又はそ
れ以上の固定床水素化脱硫反応器へ送る。

高圧水素パージガスはライン７、バルブ８およびライン
９を通って反応器の底へ導入され、。

ライン１０およびバルブ１１を通って反応器の頂部へ導
入される。

高圧フラッシュ油はライン１２、バルブ１３および１４
、およびライン９を通って反応器の底に導入される。

運転中の反応器への新しい触媒の導入は、低圧。

触媒供給容器１６および高圧触媒供給容器１７によりラ
イン１５を通って遂行される。

以下に記載される容器１６および１７および触媒排出容
器３２および３３は排出ファネルのように逆円錐形で用
意され得る。

運転の開始には、容器１６は図に示されていないフレア
ーシステム（ｆｌａｒｅ ｓｙｓｔｅｍ）とライン１８
を通して結ばれ、この中の圧力はほぼ大気圧であり、温
度は周囲温度であり；容器１７は完全に隔離され、増大
された温度および高圧で液体により満たされている。

新しい触媒を反応器に導入するために、容器１１はまず
ライン１９によりフレアーシステムと結合することによ
り減圧される。

容器１６はその時バルブ２３によりフレアーシステムか
ら隔離される。

新しい触媒はそれからバルブ２０を通って容器１６に入
れられ、その後再び隔離されその容器に入り込んでいる
酸素はライン２１から排出される。

その真空は容器１６のフレアーへの結合により破られて
、容器１６はライン２２を通して窒素により良好にパー
ジされる。

容器１７は次にフレアーから隔離され、バタフライバル
ブ２３が開かれて触媒が容器１７中に入って行く。

次に低圧フラッシュ油がライン２４を通して容器１７の
底に入れられ、ライン２５、容器１７およびバルブ２３
を通りライン２６に抜ける。

これは有力な保証を与えられるように触媒粒子のバルブ
２３のフラッシングを成し遂げる。

その後バルブ２３は閉じられて低圧フラッシュ油が止め
られる。

反応器と容器１７にほぼ等しい圧力状態を得るためにま
ずライン２γおよびライン２５および２８を通して容器
１７を高圧フラッシュ油供給システムと連結することに
よって次に触媒は反応器に導入される。

そこでバタフライバルブ２９が開かれ、反応器に必要な
量の触媒が供給されるようにロータリーバルブ３０があ
る回転数で回される。

そのシーテイング（ｓｅａｔｉｎｇ ）がフラッシュさ
れることを考慮した充分な時間の後にバルブ２９は閉じ
られて高圧フラッシュ油供給は止められる。

反応器からの消費された触媒の回収は、高圧触媒排出容
器３２および低圧触媒排出容器３３によりライン３１を
通して行なわれる。

運転の開始には、容器３２は完全に隔離され、昇温され
な温度および高圧で液体が満たされている。

容器３３はライン３４を通してフレアーに連絡し、そこ
の圧力はほぼ大気圧で温度は２５０℃以下である。

反応器から消費された触媒を回収するために、容器３２
はバタフライバルブ３５を開いて反応器の底と連結され
る。

それから高圧フラッシュ油がライン１２、バルブ１３、
ライン３６およびバルブ３５を通して容器３２へ通され
ライン３７を通してシステムから回収される。

消費された触媒の必要な量がロータリーバルブ３８をあ
る回数回転することによって反応器から回収される。

高圧フラッシュ油はバルブ３５のシーテイングのフラッ
シングを考慮して充分な時間の後に閉じられ、そしてバ
ルブ３５が閉じられる。

次に消費された触媒は、まずライン３９を通して容器３
２をフレアーシステムと結ぶことにより容器３２を減圧
して容器３２から容器３３へ移動させる。

その時容器３３はフレアーシステムから隔離され、バタ
フライバルブ４０を開くことにより容器３２に連結され
る。

低圧フラッシュ油が次にライン４１を通して容器３３の
底に入り容器３３、バルブ４０および容器３２を経由し
てライン３９を通ってフレアーシステムへ流れる。

重力の影響で全触媒は容器３３に入る。

バルブ４０のシーテイングはフラッシュされ、容器３２
は運転の終了には液体で満たされる。

その後バルブ４０は閉鎖され、低圧フラッシュ油供給は
止められる。

容器３３から液体を排除するｆこめに容器３３はライン
４２を通してフレアーシステムζこ連結され窒素がライ
ン３４を通じて容器３３の頂部に導入される。

液体が吹き出される時低圧蒸気がライン４３を通して容
器３３に導入され、ボールバルブ４４が開かれる。

触媒は次にバルブ４４を通して水が満たされた開放容器
（示されていない）中に排出される。

容器３３が抜取られた時バルブ４４は閉鎖され蒸気供給
は止められる。

高圧供給ライン４５は次に容器３２に連結され容器３２
中の圧力を反応圧力にまで持ってゆき、そこで閉じられ
る。

次の実施例は発明を更に明確にするであろう。

実施例 原油の大気圧蒸留で得られた残留油は次の特性を有して
いた。

初留点 ：２７４℃ ２１０°Ｆでの粘度 ：２６．ＩＣ 比重７°／４°Ｃ：９１８ゆ／ｄ イオウ含有量 ：３．９１％（重量）バナジウム
含有量 ：４９ｐｐｍ（重量）ニッケル含有量
： １３．４ｐｐｍ（重量）Ｃ６−アスファルテン：６
．１％（重量）この残留油が以前図の補助により説明さ
れた水素化脱硫処理のための開始物質として使用された
。

反応器に供給すれた新しい触媒はアルミナ担体上に２％
ｗｔＮｉおよび１６％ｗｔ ＭＯを含有していた。

この触媒の特性は：平均粒子寸法：０．８ｍｍ かさ密度 ： ４７０ｋｇ／ｌｒｉ” 反応器中に含有された触媒の重量は２１．２トンであり
、各回収時期に回収された全触媒量の百分率は２．２２
％であり、等量の新しい触媒が供給された。

１日当りの回収時期の数は１回であり、各時期は１０分
持続された。

消費された触媒のニッケル含量は８重量％であり、消費
された触媒のバナジウム含量は２９重量％であった。

触媒排出ファネルは、より大きい部分の底が直径２３５
センチメートルの円筒状スクリーンによってより小さい
部分の頂部に連結されている２個の逆円錐形部分から成
る。

スクリーンのメツシュ寸法は１５、針金の直径は０．４
龍であった。

円形ファネル出口の直径は１８センチメートルで、両円
錐部分が反応器の垂直軸と作る角度は４５°であった。

スクリーン、上側の円錐部分および下側の円錐部分の高
さはそれぞれ２０．５０および１１０センチメートルで
あった。

より大きい方の円錐形の頂部の直径は３３０センチメー
トルの反応器の内径と同じであった。

反応器の状態は： 平均温度 ＝４２０°Ｃ 平均圧力 ：１３０ｋｇ／雇ゲージ 平均空間速度 ： ４．、ｌ （油）／時間／ｍ°（触
媒）油の平均線速度：０．０１ｍ／秒 時間当り反応器に供給された油原料の量は１６７トンで
あり、油原料のトン当り５０ ＯＮｍ”の水素リッチガ
スが油原料と共に導入された。

水素リッチガス７５Ｎｍ１時間および冷却油原料２ Ｎ
ｍ ７時間が反応器の底に導入された。

水素リッチガスの温度は６０℃であり、冷却油原料の温
度は１５０℃であった。

水素リッチガスは水素８６重量％を含有し、残分は低沸
点炭化水素であった。

反応器を去る油流の金属含有量は１７．６ｐｐｍ（重量
）バナジウムおよび１．２ｐｐａ＋（重量）ニッケルで
あり、７０％の脱金属百分率を与えた。

反応器を去る油流のイオウ含有量は３．７１％（重量）
であり、５％の脱硫百分率を与えた。

処理法は金属汚染物およびイオウの上記の百分率を有す
る連続油流を提供した。

【図面の簡単な説明】

図面は、主要な付属器具および導管で概略的に示した残
留油を脱金属するための連続接触式装置のフローシート
である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ そのファネルの出口の上の位置にスクリーンを取り
   付けている触媒排出ファネルをその底に有している反応
   器内において触媒床に油を通し、新しい触媒が触媒床の
   頂部に導入され、消費された触媒がその底で回収される
   ことを含む炭化水素油の接触処理のための連続的処理法
   。 ２（ａ）新しい触媒および／又は液体および／又は気体
   のための／又はそれ以上の入口を有する新しい触媒のた
   めの高圧貯蔵容器、 （ｂ） そのファネルの出口の上の位置にスクリーン
   を取付けている触媒排出ファネル、原料入口および生成
   物出口をその底に有している高圧反応容器、 （Ｃ） 消費された触媒および／又は液体および／又
   は気体のための１又はそれ以上の出口を有する消費され
   た触媒のための高圧排出容器、 （ｄ） 少なくとも固体−ハンドリングバルブ、およ
   び／又は高圧バルブを具備している前記（ａ）および（
   ｂ）に記載された容器に結合している導管、（ｅ）前記
   （ｂ）に記載された反応容器に面した固体−ハンドリン
   グバルブ、前記（ｃ）に記載された排出容器に面した液
   体−および気体−密閉高圧バルブ、およびその２個のバ
   ルブの間で導管に結合し、液体−密閉高圧バルブを備え
   ている液体用入口が具備されている前記（ｂ）および（
   Ｃ）に記載された容器と結合している導管 を含むことを特徴とする特許請求の範囲１に記載された
   方法を実施するのに適した装置。