JPS589981A - Vacuum deposition device - Google Patents

Vacuum deposition device

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JPS589981A
JPS589981A JP11263982A JP11263982A JPS589981A JP S589981 A JPS589981 A JP S589981A JP 11263982 A JP11263982 A JP 11263982A JP 11263982 A JP11263982 A JP 11263982A JP S589981 A JPS589981 A JP S589981A
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JP
Japan
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crucible
cathode
plasma
magnetic field
hollow cathode
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Application number
JP11263982A
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Japanese (ja)
Inventor
エツクハルト・ゲルニツツ
アヒム・ルンク
フランク・シユラ−デ
リユ−デイゲル・ウイルベルク
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
BEBU HOOHIBAAKUUMU DORESUDEN
HOOHIBAAKUUMU DORESUDEN VEB
Original Assignee
BEBU HOOHIBAAKUUMU DORESUDEN
HOOHIBAAKUUMU DORESUDEN VEB
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Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/36Gas-filled discharge tubes for cleaning surfaces while plating with ions of materials introduced into the discharge, e.g. introduced by evaporation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • C23C14/32Vacuum evaporation by explosion; by evaporation and subsequent ionisation of the vapours, e.g. ion-plating

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、特にプラズマの性質を利用した蒸着技術にお
いて利用される真空蒸着装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a vacuum evaporation apparatus used particularly in evaporation techniques that utilize the properties of plasma.

、プラズマの性質を利用した蒸着技術においては、中空
陰極電弧放電のプラズマを材料の蒸発とイオン化のため
に利用する装置が公知になっている◎この際陰極は、陽
極として接続されているるつぼの上方に位置するか或い
はるつぼの垂線に対して一定の角度をなす様に配置され
ている0後者の場合には、陰極から流出するプラズマの
射線は、該射線に直交する磁場により方向を変換さ゛れ
る。陽極面に与えられる出力(PA)の最大値は、文献
により公知の装置においては全出力の50チになってい
る。
In the vapor deposition technology that utilizes the properties of plasma, there is a known device that uses hollow cathode arc discharge plasma to evaporate and ionize the material. In the latter case, the plasma rays exiting from the cathode are redirected by a magnetic field perpendicular to the rays. It will be done. The maximum value of the power (PA) applied to the anode surface is 50 degrees of the total power in devices known from the literature.

文献により公知の装置の根本思想は、適当な寸法を持ち
一方の端が冷却されている融触点の高い材料から成る小
管を通り、排気された排気鐘の内部の気体が流動すると
いうことにある。
The basic idea of the device known from the literature is that the gas inside the evacuated exhaust bell flows through a small tube of suitable dimensions and made of a material with a high melting point, which is cooled at one end. be.

陰極として接続された小管と陽極との間に十分高い電圧
を加えることによりこれら双方の電極の間にグロー放電
が発生する。電流が十分に大きい様に選定されると、陰
極の冷却されていない端が加熱され、電子の熱放射が廃
生じそしてグロー放電がいわゆる中空陰極電弧放電に移
行する。中空陰極電弧放電のプラズマの中の、放電々流
(IB)と放電々圧(UB)によって形成される全エネ
ルギーPB:tJB・よりの一部が陽極に与えられそし
て陽極るつぼの中に存在する材料の蒸発に利用される。
By applying a sufficiently high voltage between the small tube connected as a cathode and the anode, a glow discharge is generated between these two electrodes. If the current is selected to be sufficiently large, the uncooled end of the cathode is heated, thermal radiation of electrons is discontinued and the glow discharge transforms into a so-called hollow cathode arc discharge. A part of the total energy PB:tJB formed by the electric discharge current (IB) and electric discharge pressure (UB) in the plasma of the hollow cathode electric arc discharge is given to the anode and is present in the anode crucible. Used for evaporation of materials.

上記した如き比較的僅かなエネルギー利用率のほかに、
従来公知になっている装置は次の様な欠点を持っている
。即ち、特に陽極の上方に陰極が配置されている場合に
は、るつぼから蒸発した材料又は活性ガスの作用によっ
て陰極が影響を受は又は汚されることが避けられないと
いう欠点を持っている。また、るつぼの内容の溶融面の
直径を連続的に規定することを可能ならしめている装置
は従来知られていない。−従来公知の装置の運転は排気
鐘を排気した後でおよそ次の4つの過程により行われる
In addition to the relatively low energy utilization rate mentioned above,
The devices known so far have the following drawbacks. This has the disadvantage, particularly when the cathode is arranged above the anode, that the cathode is unavoidably influenced or contaminated by the action of the material evaporated from the crucible or the active gas. Furthermore, no device is known heretofore which makes it possible to continuously define the diameter of the melting surface of the contents of the crucible. - The operation of the previously known device, after evacuation of the exhaust bell, takes place approximately through the following four steps:

1、 気体の装入率を多く設定し、 2、陰極と陽極との間に、大電流によるグロー放電(5
乃至10A)を発生させるため、必要な高い放電々圧を
供給する付加的な回路網装置を介して高い電圧(1乃至
2 KV)が加えられ、 3、 更に電弧を維持する装置が接続され(Ue70V
、■=100乃至200A)、 4、 中空陰極電弧放電が開始された後で気体の装入率
を予定値に減少させる。
1. Set a high gas charging rate, 2. Glow discharge with a large current between the cathode and anode (5
A high voltage (1 to 2 KV) is applied via an additional network device to provide the necessary high discharge voltage (3 to 10 A), and a device for maintaining the electric arc is connected ( Ue70V
,■=100-200A), 4. After the hollow cathode arc discharge is started, reduce the gas charging rate to the predetermined value.

上記の如〈従来技術が持っている欠点と、グロー放電が
熱電弧に移行するのは阻止するため、特殊な遮蔽と隔離
とが必要であるという状態は、中空陰極電弧放電のプラ
ズマ射線を材料の蒸発と蒸着とに利用する装置が工業的
には未だ使用されていないためであると思われる。
As mentioned above, the drawbacks of the prior art and the need for special shielding and isolation to prevent the transition of the glow discharge into a thermoelectric arc is that the plasma rays of the hollow cathode arc discharge are This is thought to be because the equipment used for evaporation and vapor deposition of is not yet in use industrially.

本発明の目的は、プラズマの性質を利用した蒸着に万能
的に使用可能でありそして公知の装置の如き欠点を持っ
ていない蒸発源を開発することである。
The aim of the invention is to develop an evaporation source which can be used universally for evaporation using the properties of plasma and which does not have the disadvantages of known devices.

本発明の課題は、陽極/陰極の配置とプラズマ射線の誘
導を最良のものにすることにより、溶融面の直径を連続
的に規正することを可能ならしめ、その際エネルギー利
用率が少(とも80チにまで改良された、簡単に操作さ
れる装置を創成することである。陰極の蒸発と反応する
気体による消耗を阻止することによって、陰極の耐久時
間を少くとも5割だけ増加させるものとする。電気供給
装置の費用は増加させないものとする。
The object of the invention is to make it possible to continuously adjust the diameter of the melting surface by optimizing the arrangement of the anode/cathode and the guidance of the plasma radiation, with a low energy efficiency (at least The purpose of the present invention is to create an easily operated device that is improved to 80 cm.By preventing the evaporation of the cathode and its consumption by the reacting gases, the lifetime of the cathode is increased by at least 50%. The cost of electricity supply equipment shall not be increased.

本発明により上記の課題は次の様にして解決される。即
ち、それ自体公知の中空陰極が水で冷却されている蒸発
るつぼから距離を隔てた側方に配置され、中空陰極が作
動する際に発生しそして直交する磁場によってるつぼの
内容の表面に向けられるプラズマ射線が7乃至2oCr
rLの長さになっていること、中空陰極の上方の空間は
、プラズマ射線を貫通させるため、直径が8乃至20m
7Hの直径の開口を有する覆い室で境界されていること
、陽極として接続されている蒸発るつぼは絶縁ブロック
を介して蒸発器の基板上に固定されそして、溶融面の直
径を連続的に規正するための縦方向の磁場を形成する、
鉄で遮蔽されたレンズの形態のコイルに取巻かれている
ことにより解決される。
The above problems are solved by the present invention as follows. That is, a hollow cathode, known per se, is placed laterally at a distance from a water-cooled evaporation crucible and is directed towards the surface of the contents of the crucible by a magnetic field generated and orthogonal to the hollow cathode when it is actuated. Plasma radiation is 7 to 2oCr
The space above the hollow cathode has a diameter of 8 to 20 m to allow the plasma rays to penetrate.
The evaporation crucible, connected as an anode, is fixed on the substrate of the evaporator via an insulating block and is bounded by a cover chamber with an opening of diameter 7H and continuously regulates the diameter of the melting surface. forming a longitudinal magnetic field for,
The solution is to surround the coil in the form of an iron-shielded lens.

るつぼと電気的に絶縁されている、縦方向の磁場を形成
するコイルはそれの鉄の遮蔽の内側の直径の所に、溶融
体の表面の高さの位置にあり、円周に沿ったスリットを
有し、そのことにより高い密度の磁場が発生する〇 るつぼとコイルの系は1つの容器によってるつぼの上方
の開口の所まで完全に取囲まれそして容易に解i可能な
結会要素により基板に固定されている。陰極に対しては
直交する磁場を形成するコイルが配置されており、この
コイルは覆い板によってプラズマの作用から保護されて
いる。直交する磁場を形成するコイルの両側面には、容
器に弱磁性の板が配置され、プラズマ射線の方向を変え
るのに役立っている。
A coil forming a longitudinal magnetic field, electrically insulated from the crucible, is located at the inner diameter of its iron shield, at the level of the surface of the melt, and a slit along the circumference The crucible-coil system is completely surrounded by one container up to the upper opening of the crucible and is connected to the substrate by an easily releasable connecting element. is fixed. A coil generating a magnetic field perpendicular to the cathode is arranged, which coil is protected from the action of the plasma by a cover plate. On either side of the coils, which create orthogonal magnetic fields, weakly magnetic plates are placed in the container to help redirect the plasma beam.

本発明の装置の運転は次の過程に従って行われる。The operation of the device of the invention is carried out according to the following steps.

1、 気体装入率の予定値の設定、 2、 陰極の加熱、 6、 電弧を維持させる電圧の接続。1. Setting the planned value of gas charging rate, 2. Heating the cathode; 6. Connection of voltage to maintain electric arc.

気体圧力又は気体装入率を設定した後で、中空陰極が必
要な陰極温度に熱せられる。陰極がその温度に達し電子
を放射すると、これらの電子は加えられている電圧によ
り放電気体をイオン化することができる。イオン化の過
程は、補助陽極の回路に配置されている電流計により観
梨可能になっている。この際補助陽極として排気鐘が用
いられ、該排気鐘には陽極電力が5オームの抵抗を介し
て加えられている。
After setting the gas pressure or gas charge rate, the hollow cathode is heated to the required cathode temperature. When the cathode reaches its temperature and emits electrons, these electrons can ionize the discharge body due to the applied voltage. The ionization process can be monitored by an ammeter placed in the circuit of the auxiliary anode. In this case, an exhaust bell is used as an auxiliary anode, and anode power is applied to the exhaust bell via a 5 ohm resistor.

約10アンペアの放電々流で放電が安定する。The discharge becomes stable with a discharge current of approximately 10 amperes.

制限抵抗の電圧ジによって蒸発器の電圧の状態が変化さ
せられ、斯くして放電々流の一部がるつぼ陽極に収容さ
れる。この際電流計で電流の減少が観察される。この電
流の減少は蒸発器の安定した運転を示している。次に補
助陽極はるつぼ陽極から切り離されそして望み通りの蒸
発器出力が設定される。
The voltage of the limiting resistor changes the voltage state of the evaporator, so that a portion of the discharge stream is admitted to the crucible anode. At this time, a decrease in current is observed with an ammeter. This decrease in current indicates stable operation of the evaporator. The auxiliary anode is then disconnected from the crucible anode and the desired evaporator output is set.

本発明は次の記述において実施例−により詳細に説明さ
れる。添附図は本発明による装置の縦断面図である。こ
の装置は大体において4つの部分から成り、これらの部
分は、陰極配置1、るつぼ陽極2、方向変゛換板4を有
する直交する磁場を形成するコイル6および縦方向磁場
を形成するコイル5である。るつぼ陽極2から側方に位
置する陰極配置1までの距離は、プラズマ射線の長さが
10確になる様に選ばれる。
The invention will be explained in more detail by way of example in the following description. The accompanying drawing shows a longitudinal section through the device according to the invention. The device consists essentially of four parts: a cathode arrangement 1, a crucible anode 2, a coil 6 for forming an orthogonal magnetic field with a directional plate 4, and a coil 5 for forming a longitudinal magnetic field. be. The distance from the crucible anode 2 to the laterally located cathode arrangement 1 is chosen such that the length of the plasma ray is 10 cm.

接続導線6を有するるつぼ陽極2は絶縁ブロックを介し
て蒸発器基板8に固定され、該基板は陰極配置1によっ
て排気鐘9に保持されている。陰極配置1の上方には、
開口11を有する覆い室10が配置され、該開口は特に
15闘の直径を有している。容器12は本発明の装置を
あらゆる方向から取囲みそして保護している。
A crucible anode 2 with a connecting conductor 6 is fixed via an insulating block to an evaporator substrate 8, which is held on an exhaust bell 9 by means of a cathode arrangement 1. Above cathode arrangement 1,
A cover chamber 10 with an opening 11 is arranged, which opening preferably has a diameter of 15 mm. Container 12 surrounds and protects the device of the invention from all sides.

また覆い板15は直交する磁場を形成するコイル3をプ
ラズマ射線の作用から保護子るものである。これらの部
分を相互に結合する装置は容易に解離可能な差込み又は
ねじ結合として形成 □され、従ってず早くそして簡単
な組み立ておよ′ □び分解が可能になっている。
The cover plate 15 also protects the coil 3, which forms orthogonal magnetic fields, from the action of plasma radiation. The devices connecting these parts to each other are designed as easily releasable bayonet or screw connections, thus allowing quick and simple assembly and disassembly.

縦方向磁場を形成するコイル5の鉄の遮蔽の:′内側に
設けられたスリット14は、装入の間にるつぼの中の溶
融物の表面の高さが低下しても、連続的な溶融面の直径
の規正に影響しない′様に配置される。しかしこのスリ
ットの巾はるつぼの直径に依存して4乃至10朋よりも
巾広く形成してはならない。しかしまた、それ自体公知
の補給装置又は配量装置を介してるつぼに連続的な補給
を行うことも可能である。
The slits 14 provided on the inside of the iron shielding of the coils 5 which form the longitudinal magnetic field ensure that continuous melting is achieved even if the surface height of the melt in the crucible decreases during charging. It is arranged in such a way that it does not affect the regulation of the surface diameter. However, the width of this slit must not be wider than 4 to 10 mm, depending on the diameter of the crucible. However, it is also possible to continuously replenish the crucible via replenishing or dosing devices which are known per se.

本発明による装置は従来公知の技術水準に対して二三の
重要な技術的および経済的な特徴を持っており、従って
この装置を特にプラズマの性質を利用した蒸着に用いる
ことは有望である。
The device according to the invention has a few important technical and economical features compared to the state of the art known up to now, so that it is particularly promising for use in plasma-based vapor deposition.

陰極から陽極に至る距離を空間的に短く配置しそしてプ
ラズマ射線の長さを特に10crILに限定したことに
より、エネルギー利用率が約80係に増加された。陰極
の上方に覆い室を配置したことは、この室の内部に高い
圧力を発生させ、該圧力は、直径15mmの開口と協働
して排気鐘からの気体の侵入を著しく阻止している0斯
くして陰極は反応する方法を実施する際に腐蝕されるこ
とがない。何故ならば導入された反応する気体によって
発生する酸化、加炭、ニトロ化が避けられそして陰極の
耐久時間が著しく大になるからである。
By arranging the distance from the cathode to the anode to be spatially short and by specifically limiting the length of the plasma ray to 10 crIL, the energy utilization factor was increased by a factor of about 80. The placement of the cover chamber above the cathode creates a high pressure inside this chamber which, in conjunction with the 15 mm diameter opening, significantly prevents the ingress of gas from the exhaust bell. The cathode is thus not corroded when carrying out the reactive process. This is because the oxidation, carburization, and nitration caused by the introduced reacting gases are avoided and the lifetime of the cathode is significantly increased.

陰極からのプラズマ射線の射出開口がるつぼの融解物の
面よりも下にあるため、陰極の汚れが避けられ、それと
同時にまたるつぼ内の材料が蒸発した陰極の粒子で汚さ
れることが避けられる。゛ 基礎となる物質の表面に濃淡のある蒸着を行うことは不
可能である。何故ならばるつぼの上方の空間は蒸発する
材料のための自由空間だからである。
Since the exit opening for the plasma radiation from the cathode is below the surface of the melt in the crucible, fouling of the cathode is avoided and at the same time the material in the crucible is also prevented from becoming contaminated with particles of the evaporated cathode. ``It is impossible to perform a vapor deposition with shading on the surface of the underlying material. This is because the space above the crucible is free space for the material to evaporate.

鉄の容器に収容された縦方向の磁場を形成するためのコ
イルの特殊な形態とそれによって発生させられそして強
さが調節可能な密度の高い磁場は、プラズマ射線を導き
、そして束ねそして蒸発率を調節するのに役立つことは
言うまでもない。
A special form of coil for forming a longitudinal magnetic field housed in an iron container and the dense magnetic field generated by it and adjustable in strength guides and bundles the plasma rays and improves the evaporation rate. Needless to say, it is useful for adjusting the

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

添附図は本発明による装置の縦断面図である。 図において、 2−・・・・るつぼ、5・・・・・縦方向磁場を形成す
るコイル□、9・・・・・・排気鐘、10・・・・・覆
い室、11・・・開口、14・・・・・・スリット で
ある。
The accompanying drawing shows a longitudinal section through the device according to the invention. In the figure, 2... Crucible, 5... Coil □ that forms a longitudinal magnetic field, 9... Exhaust bell, 10... Cover chamber, 11... Opening , 14... slit.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)中空陰極、水で冷却されている銅製るつぼおよびプ
ラズマ射線に直交する磁場を用いた真空蒸着装置におい
て、中空陰極が銅製るつぼから距離を隔てた側方に配置
され、中空陰極が作動する際に発生しそしてるつぼの内
容の表面に向けられるプラズマ射線が7乃至20確の長
さになっていること、中空陰極の上方の空間は、プラズ
マ射線を貫通させるため、直径が8乃至20mmの開口
aυを有する徨い室α■で境界されていることおよび銅
製のるつぼ(2)は、縦方向の磁場を形成するため、鉄
で遮蔽すれたレンズの形態のコイル(5)に取巻かれて
いることを特徴とする真空蒸着装置。 2)縦方向の磁場を形成す今コイル(5)はそれの鉄の
遮蔽の内側の直径の所に、プラズマ射線を集束させるた
め、巾が少くとも111XIで多くとも10朋のスリッ
トα荀を有することを特徴とする特許請求の範囲第1項
記載の装置。 5)運転開始のため排気鐘(9)が5オームの抵抗を介
して陽極電圧に連結されそしてこの遮断可能な回路に放
電が行われていることを知らせる告知装置が配置されて
いることを特徴とする特許請求の範囲第1項または第2
項記載の装置。
[Claims] 1) In a vacuum evaporation apparatus using a hollow cathode, a water-cooled copper crucible, and a magnetic field perpendicular to the plasma ray, the hollow cathode is disposed laterally at a distance from the copper crucible, The plasma ray generated when the hollow cathode is activated and directed onto the surface of the crucible contents has a length of 7 to 20 cm; the space above the hollow cathode has a diameter of is bounded by a wandering chamber α■ with an aperture aυ of 8 to 20 mm and the copper crucible (2) is fitted with a coil (5) in the form of an iron-shielded lens to form a longitudinal magnetic field. ) is surrounded by a vacuum evaporation device. 2) The current coil (5) forming the longitudinal magnetic field has a slit αxn of at least 111XI and at most 10mm wide to focus the plasma rays at the inner diameter of its iron shield. A device according to claim 1, characterized in that it comprises: 5) characterized in that, for the start of operation, the exhaust bell (9) is connected to the anode voltage via a 5 ohm resistor and that a notification device is arranged in this interruptible circuit to indicate that a discharge is taking place. Claim 1 or 2
Apparatus described in section.
JP11263982A 1981-07-01 1982-07-01 Vacuum deposition device Pending JPS589981A (en)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DD01J/23135 1981-07-01
DD23135881A DD201359A1 (en) 1981-07-01 1981-07-01 DEVICE FOR VACUUM STEAMING

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS589981A true JPS589981A (en) 1983-01-20

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ID=5532036

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JP11263982A Pending JPS589981A (en) 1981-07-01 1982-07-01 Vacuum deposition device

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DD (1) DD201359A1 (en)
DE (1) DE3222327A1 (en)

Families Citing this family (3)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63274762A (en) * 1987-05-01 1988-11-11 Ulvac Corp Device for forming reaction vapor-deposited film
DE4421045C2 (en) * 1994-06-17 1997-01-23 Dresden Vakuumtech Gmbh Device for the plasma-supported coating of substrates, in particular with electrically insulating material
DE19546827C2 (en) * 1995-12-15 1999-03-25 Fraunhofer Ges Forschung Device for generating dense plasmas in vacuum processes

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Publication number Publication date
DE3222327A1 (en) 1983-01-27
DD201359A1 (en) 1983-07-13

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