JPS59113624A - インライン型露光装置 - Google Patents
インライン型露光装置Info
- Publication number
- JPS59113624A JPS59113624A JP57224278A JP22427882A JPS59113624A JP S59113624 A JPS59113624 A JP S59113624A JP 57224278 A JP57224278 A JP 57224278A JP 22427882 A JP22427882 A JP 22427882A JP S59113624 A JPS59113624 A JP S59113624A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- substrate
- printed
- exposure
- masks
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
- G03F7/70741—Handling masks outside exposure position, e.g. reticle libraries
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Library & Information Science (AREA)
- Pile Receivers (AREA)
- Sheets, Magazines, And Separation Thereof (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Warehouses Or Storage Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、半導体や回路基板の露光に使用するマスクを
自動的に交換するインライン型露光装置に関するもので
ある。
自動的に交換するインライン型露光装置に関するもので
ある。
従来例の構成とその問題点
従来のインライン型露光装置は、第１図にその具体構成
を示すように、基板供給部１から基板搬送部２へ被焼付
基層３が供給され、露光部４へ搬送される。露光部４で
、被焼付基板３はマスク６との間で位置合わせが行なわ
れ、次いで露光が行なわれる。露光が終了後、被焼付基
板３は基板３は基板搬送部２により搬送され、基板収納
部６へ収納されるというような構成となっていた。
を示すように、基板供給部１から基板搬送部２へ被焼付
基層３が供給され、露光部４へ搬送される。露光部４で
、被焼付基板３はマスク６との間で位置合わせが行なわ
れ、次いで露光が行なわれる。露光が終了後、被焼付基
板３は基板３は基板搬送部２により搬送され、基板収納
部６へ収納されるというような構成となっていた。
しかしながら、上記のような構成では、マスク６の自動
交換機能がないので、マスクの交換は人手によって行な
わなければならないため省力化が計りにぐいという欠点
を有５していた。
交換機能がないので、マスクの交換は人手によって行な
わなければならないため省力化が計りにぐいという欠点
を有５していた。
発明の目的
本発明は上記欠点に鑑み、マスクの交換を自動的に行な
う小型のインライン型露光装置を提供するものである。
う小型のインライン型露光装置を提供するものである。
発明の構成
本発明は、露光用回路バタンか印刷されたマスクを直線
的に搬送するマスク搬送手段と、上記マスフ搬送手段の
下方に位置し、前記マスク搬送手段と平行を方向に被焼
付基板を搬送する基板搬送手段と、前記マスク搬送手段
及び前記基板搬送手段上に位置し、前記マスクに印刷さ
れた露光用回路バタン金上記被焼付基板に焼き付ける露
光手段と、前記マスク搬送手段に上方から順次下降しな
がらマスクを供給するマスク供給手段と、前記マスク搬
送手段の下方から順次上昇しながらマスクを収納するマ
スク収納手段とを構成されておりマスクの交換が自動的
に行なえる小型の露光装置を提供するものである。
的に搬送するマスク搬送手段と、上記マスフ搬送手段の
下方に位置し、前記マスク搬送手段と平行を方向に被焼
付基板を搬送する基板搬送手段と、前記マスク搬送手段
及び前記基板搬送手段上に位置し、前記マスクに印刷さ
れた露光用回路バタン金上記被焼付基板に焼き付ける露
光手段と、前記マスク搬送手段に上方から順次下降しな
がらマスクを供給するマスク供給手段と、前記マスク搬
送手段の下方から順次上昇しながらマスクを収納するマ
スク収納手段とを構成されておりマスクの交換が自動的
に行なえる小型の露光装置を提供するものである。
実施例の説明
以下本発明の一実施例について図面を参照しながら説明
する。
する。
第２図は本発明の第一の実施例におけるインライン型露
光装置の斜視図を示すものである。第２図において、７
は被焼付基板、８１露光用回路バタンか印刷されたマス
ク、９は上記被焼付基板７と上記マスク８を位置合わせ
し、上記マスク８［印刷された露光用回路バタンを上記
被焼付基板７に焼きつける露光部、１０は上記マスク８
を搬送するマスク搬送ベルト、１１は上記マスク搬送ベ
ルト１０に上方から順次下降しながら上記マスク８を供
給するマスク供給手段、１２は上記マスク搬送ベルト１
０の下方から順次上昇しながらマスク８を収納するマス
ク収納手段、１３は上記マスク搬送手段１０の下方に位
置し、上記マスク搬′送ベルト１ｏと平行な方向に上記
被焼付基板７を搬送する基板搬送ベルト、１４は上記被
焼付基板７を上方から順次下降しながら基鈑搬送ベルト
３に供給する基板供給手段、１６は上記基板搬送ベルト
１３の下方から順次上昇しながら被焼付基板７を収納す
る基板収納手段で〜ある。
光装置の斜視図を示すものである。第２図において、７
は被焼付基板、８１露光用回路バタンか印刷されたマス
ク、９は上記被焼付基板７と上記マスク８を位置合わせ
し、上記マスク８［印刷された露光用回路バタンを上記
被焼付基板７に焼きつける露光部、１０は上記マスク８
を搬送するマスク搬送ベルト、１１は上記マスク搬送ベ
ルト１０に上方から順次下降しながら上記マスク８を供
給するマスク供給手段、１２は上記マスク搬送ベルト１
０の下方から順次上昇しながらマスク８を収納するマス
ク収納手段、１３は上記マスク搬送手段１０の下方に位
置し、上記マスク搬′送ベルト１ｏと平行な方向に上記
被焼付基板７を搬送する基板搬送ベルト、１４は上記被
焼付基板７を上方から順次下降しながら基鈑搬送ベルト
３に供給する基板供給手段、１６は上記基板搬送ベルト
１３の下方から順次上昇しながら被焼付基板７を収納す
る基板収納手段で〜ある。
以上のように構成されたインライン型露光装置について
以下にその動作を説明する。まず、マスク供給手段１１
からマスク搬送ベルト１０にマスク８が供給され、露光
部９まで搬送されて、露光部９に固定される。次に基板
供給手段１４から被焼付基板７が基板搬送ベルト１３に
供給され、露光部９まで搬送され、露光部９で上記マス
ク８との間で位置合わせが行なわれ露光が行なわれる。
以下にその動作を説明する。まず、マスク供給手段１１
からマスク搬送ベルト１０にマスク８が供給され、露光
部９まで搬送されて、露光部９に固定される。次に基板
供給手段１４から被焼付基板７が基板搬送ベルト１３に
供給され、露光部９まで搬送され、露光部９で上記マス
ク８との間で位置合わせが行なわれ露光が行なわれる。
露光完了後、被焼付基板７は基板搬送ベルト１３により
搬送され、基板収納手段１５に収納される。
搬送され、基板収納手段１５に収納される。
一方マスク８はマスク搬送ベルト１０により搬送されマ
スク収納手段１２に収納される。
スク収納手段１２に収納される。
次に基板搬送ベルトとマスク搬送ベルトの位置関係を第
３図に基づいて説明する。
３図に基づいて説明する。
第３図において、７ａは被焼付基板、８ａはマスク、１
３ａは基板搬送ベルト、１０ａはマスク搬送ベルト、１
６はマスク搬送ベルト駆動モータ、１７は基板搬送ベル
ト駆動モータである。マスク８ａと被焼付基板７ａは平
行な方向に搬送されるが、基板搬送ベルト るためマスク８ａと被焼付基板は搬送途中で接触するこ
とはない。
３ａは基板搬送ベルト、１０ａはマスク搬送ベルト、１
６はマスク搬送ベルト駆動モータ、１７は基板搬送ベル
ト駆動モータである。マスク８ａと被焼付基板７ａは平
行な方向に搬送されるが、基板搬送ベルト るためマスク８ａと被焼付基板は搬送途中で接触するこ
とはない。
次にマスク供給手段の構造について説明する。
第４図で７ｂは被焼付基板、８ｂはマスク、１３ｂは基
板搬送ベルト１０ｂはマスク搬送ベルト、１１ｂはマス
ク供給手段、１８はマスク供給手段１１ａの内側に両方
から設けられた一対の突起である。上記一対の突起１８
間の距離は、マスク搬送ベルト１ｏｂの幅よりも大きく
なっている。新しいマスク８ｂがマスク搬送ベル）１０
ｂに供給されるときには、マスク供給手段１１ａが下降
し突起１８がマスク搬送ベルト１０ｂの位置にきたとき
、マスク８ｂは、マスク搬゛送ベルト１ｏｂに乗り、搬
送される。このとき１対の突起１８間の距離はマスク搬
送ベルト１０ｂの幅よりも大きいため、マスク供給手段
１１ａとマスク搬送ベルト１ｏｂは接触しない。壕だ、
マスクを収納する手段も同様の構造であるが、この場合
マスクが搬送されてくると、マスク収納手段が一段ずつ
上昇してマスクを収納する。
板搬送ベルト１０ｂはマスク搬送ベルト、１１ｂはマス
ク供給手段、１８はマスク供給手段１１ａの内側に両方
から設けられた一対の突起である。上記一対の突起１８
間の距離は、マスク搬送ベルト１ｏｂの幅よりも大きく
なっている。新しいマスク８ｂがマスク搬送ベル）１０
ｂに供給されるときには、マスク供給手段１１ａが下降
し突起１８がマスク搬送ベルト１０ｂの位置にきたとき
、マスク８ｂは、マスク搬゛送ベルト１ｏｂに乗り、搬
送される。このとき１対の突起１８間の距離はマスク搬
送ベルト１０ｂの幅よりも大きいため、マスク供給手段
１１ａとマスク搬送ベルト１ｏｂは接触しない。壕だ、
マスクを収納する手段も同様の構造であるが、この場合
マスクが搬送されてくると、マスク収納手段が一段ずつ
上昇してマスクを収納する。
以上のように本実施例によれは、マスク８をｉ線的に搬
送するマスク搬送ベルト１０と、上記マスク搬送ベルト
１０の下方に位置し、上記マスク搬送ベルト１０と平行
な方向に被焼付基板７を搬送する基板搬送ベルト１３と
、上記マスク８に印−刷された露光用回路パタンを上記
被焼付基板７に焼きつける露光手段９と、上記マスク搬
送ベルト１０に上方から順次下降しながらマスク８を供
給する妥スク供給手段１１と、上記マスク搬送ベルト１
０の下方から順次上昇しながらマスク８を収納するマス
ク収納手段１２を設けることにより、マスクの交換を自
動的に行なうことができる。なお、本実施例において、
マスク搬送ベルト１０、基板搬送ベルト１３はそれぞれ
エアーコンベアなどにしてもよい。
送するマスク搬送ベルト１０と、上記マスク搬送ベルト
１０の下方に位置し、上記マスク搬送ベルト１０と平行
な方向に被焼付基板７を搬送する基板搬送ベルト１３と
、上記マスク８に印−刷された露光用回路パタンを上記
被焼付基板７に焼きつける露光手段９と、上記マスク搬
送ベルト１０に上方から順次下降しながらマスク８を供
給する妥スク供給手段１１と、上記マスク搬送ベルト１
０の下方から順次上昇しながらマスク８を収納するマス
ク収納手段１２を設けることにより、マスクの交換を自
動的に行なうことができる。なお、本実施例において、
マスク搬送ベルト１０、基板搬送ベルト１３はそれぞれ
エアーコンベアなどにしてもよい。
また一連の工程の中に露光装置を組み込む場合°には、
基板供給手段１４及び基板収納手段１６を取り除き、基
板搬送ベルト１３を延長しベルトに−より前工程を連結
し、前工程を終えた被焼付基板７が基鈑搬送ベルト１３
により露光部９へ搬送され露光完了後、基板搬送ベルト
１３により後工程へ直接銀°送されるというような構成
も可能である。
基板供給手段１４及び基板収納手段１６を取り除き、基
板搬送ベルト１３を延長しベルトに−より前工程を連結
し、前工程を終えた被焼付基板７が基鈑搬送ベルト１３
により露光部９へ搬送され露光完了後、基板搬送ベルト
１３により後工程へ直接銀°送されるというような構成
も可能である。
発明の効果
以上のように本発明は、露光用回路バタンか印刷された
マスクを直線的に搬゛送するマスク搬送手段と、上記マ
スク搬送手段の下方に位置し上記マスク搬送手段と平行
な方向に被焼付基板を搬送する基板搬送手段と、上記マ
スク搬送手段及び上記基板搬送手段上に位置し、上記マ
スクに印刷された露光用回路バタンを上記被焼付基板に
焼きつける露光手段と、上記マスク搬゛送手段に上方か
ら順次下降しながらマスクを供給するマスク供給手段と
、上記マスク搬送手段の下方から順次上昇しながらマス
クを収納するマスク収納手段とを備えることにより、自
動的にマスクを交換できる小型の露光装置を提供するも
のである。
マスクを直線的に搬゛送するマスク搬送手段と、上記マ
スク搬送手段の下方に位置し上記マスク搬送手段と平行
な方向に被焼付基板を搬送する基板搬送手段と、上記マ
スク搬送手段及び上記基板搬送手段上に位置し、上記マ
スクに印刷された露光用回路バタンを上記被焼付基板に
焼きつける露光手段と、上記マスク搬゛送手段に上方か
ら順次下降しながらマスクを供給するマスク供給手段と
、上記マスク搬送手段の下方から順次上昇しながらマス
クを収納するマスク収納手段とを備えることにより、自
動的にマスクを交換できる小型の露光装置を提供するも
のである。
第１図は従来のインライン型露光装置の斜視図、第２図
は本発明の〜実施例におけるインライン型露光装置の斜
視図、第３図は基板搬送ベルトとマスク搬送ベルトの斜
視図、第４図はマスク供給手段の断面図である。 １・・・・・基板供給手段、２・・・・・・基板搬送手
段、３・・・・・・被焼付基板、４・・・・・・露光部
、６・・・・・マスク、６・・・・・・基板収納手段、
７．了ａ、７ｂ・・・・・被焼付基板、８．８ａ、８ｂ
・・・・・・マ′スク、９・・・・・露光部、１０．１
０ａ、１０ｂ・・・・・・マスク搬送ベルト、１１゜１
１８山中マスク供給手段、１２・・・・・・マスク収納
手段、１３，１３ａ、１３ｂ・・曲基板搬送ベルト、１
４・・・・・基板供給手段、１５・・川・基板収納手段
、１６・川・・マスク搬送ベルト駆動モータ、１７・・
・・・・基板搬送ベルト駆動モータ、１８・・・・・・
突起。
は本発明の〜実施例におけるインライン型露光装置の斜
視図、第３図は基板搬送ベルトとマスク搬送ベルトの斜
視図、第４図はマスク供給手段の断面図である。 １・・・・・基板供給手段、２・・・・・・基板搬送手
段、３・・・・・・被焼付基板、４・・・・・・露光部
、６・・・・・マスク、６・・・・・・基板収納手段、
７．了ａ、７ｂ・・・・・被焼付基板、８．８ａ、８ｂ
・・・・・・マ′スク、９・・・・・露光部、１０．１
０ａ、１０ｂ・・・・・・マスク搬送ベルト、１１゜１
１８山中マスク供給手段、１２・・・・・・マスク収納
手段、１３，１３ａ、１３ｂ・・曲基板搬送ベルト、１
４・・・・・基板供給手段、１５・・川・基板収納手段
、１６・川・・マスク搬送ベルト駆動モータ、１７・・
・・・・基板搬送ベルト駆動モータ、１８・・・・・・
突起。
Claims (1)
- 露光用バタンか印刷されたマスクを直線的に搬送するマ
スク搬送手段と、このマスク搬送手段の下方に設けられ
、前記マスク搬送手段と平行な方向に被焼付基板を搬送
する基板搬゛送手段と、前記マスク搬送手段及び前記基
板搬゛送手股上に設けられ、前記マスクに印刷された露
光用バタンを前記被焼付基板に焼き付ける霧光手段と、
前記マスク搬送手段に上方から順次下降しながらマスク
を供給するマスク供給手段と、前記マスク搬送手段の下
方から順次上昇しながらマスクを収納するマスク収納手
段とを備えたインライン型露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57224278A JPS59113624A (ja) | 1982-12-20 | 1982-12-20 | インライン型露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57224278A JPS59113624A (ja) | 1982-12-20 | 1982-12-20 | インライン型露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59113624A true JPS59113624A (ja) | 1984-06-30 |
| JPS6330777B2 JPS6330777B2 (ja) | 1988-06-21 |
Family
ID=16811264
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57224278A Granted JPS59113624A (ja) | 1982-12-20 | 1982-12-20 | インライン型露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59113624A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61177726A (ja) * | 1985-02-01 | 1986-08-09 | Hitachi Ltd | 半導体用露光装置 |
| JP2003015308A (ja) * | 2001-06-28 | 2003-01-17 | Dainippon Printing Co Ltd | 露光装置 |
-
1982
- 1982-12-20 JP JP57224278A patent/JPS59113624A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61177726A (ja) * | 1985-02-01 | 1986-08-09 | Hitachi Ltd | 半導体用露光装置 |
| JP2003015308A (ja) * | 2001-06-28 | 2003-01-17 | Dainippon Printing Co Ltd | 露光装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6330777B2 (ja) | 1988-06-21 |
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