JPS59170845A - 電子写真用感光体 - Google Patents

電子写真用感光体

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JPS59170845A
JPS59170845A JP4481683A JP4481683A JPS59170845A JP S59170845 A JPS59170845 A JP S59170845A JP 4481683 A JP4481683 A JP 4481683A JP 4481683 A JP4481683 A JP 4481683A JP S59170845 A JPS59170845 A JP S59170845A
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alkyl
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利光 萩原
Akio Yamaguchi
明夫 山口
Motoo Ban
伴 元雄
Haruki Tsuruta
鶴田 治樹
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Takasago Corp
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    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
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    • G03G5/02Charge-receiving layers
    • G03G5/04Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/06Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
    • G03G5/0601Acyclic or carbocyclic compounds
    • G03G5/0612Acyclic or carbocyclic compounds containing nitrogen

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は有機光導電性高分子物質にアルギル置換テトラ
シアノキノジメタンを含有する電子写真用感光体に関す
る。
一般に、導電性支持体上に光導電性感光層を設けること
によって作製される電子写真感光体を用いる画像形成法
は、重子写真と呼ばれてお秒、その画像形成プロセスは
、(1)暗所での感光体表面への帯電、(2)像島光に
よる静電潜像の形成、(3))ナーによる現像から成る
7、このような電子写真プロセスにおいて感光体に要求
され−る基本的な特性は次の如きものである5、 ■ 暗所において適当な電位に帯電でき、電荷を保持で
きること。
(2)光照射ICよって表面電位゛が速やかに減衰し、
残留電位が残らないこと。
(3)  可視光領域における幅広い分光感度を有する
こと。
0) 耐光性、耐久性に富むとと。
Q)無毒性であること。
■) 加工性(成膜性、透明性、可撓性、量産性など)
がすぐれでいること。
このような電子写真プロセスに用いられる感光体の光導
電性感光材料としては、セレン、硫化カドミニウム、酸
化亜鉛などの無機物質が知られているが、前記の感光体
に要求される諸性質を充分満足しているとは旨い難い。
また、電子写真プロセスが導入されて以来、有機光導電
性材料を用いた感光体についても種々の研究がなされて
いる。例えば、その一つとして、ポリビニルカルバゾー
ルを掲けることが出来る。ポリビニルカルバゾールの電
子写真プロセスへの使用昧、西独国特許出願公告第10
6,811号明細書および米国特許第3.037,86
1号明細書に示されている。しかし7ながら、ポリビニ
ルカルバゾールは光吸収領域が360mμより短波長側
にあるため、実際上、可視光に対する感度は極めて低く
、従って、増感を必要とする。
増感法には、増感色素を用いるスペクトル増感と、電子
受容性の強い物質(アクセプター)を用いる電荷移動錯
体形成による化学増感が1i>ル。ポリビニルカルバゾ
ールに対する色素増感としては、例えば、ビリリウム塩
色素による増感が特公昭48−25658号公報に示さ
れでいる。しかしなから、色素による増感は、感度も充
分でなく、繰り返しによる耐久性も充分ではない。電荷
移動錯体形成による化学増感どl−ては、例えばポリビ
ニルカルバゾール(!:2,4.7−ドリニトロンルオ
レノンとの電荷移動錯体を用いた感光体が西独国特許出
願公告第1,572,347号明細書及び米国特許第3
,484,237号明細書において公知である。
捷た、R,M+SchMffsrt : r IBM 
Journal ofResearch and De
velopment j 第15巻、第1号(1971
年)、75〜89頁によれば、2゜4.7−)リニトロ
フルオレノン以外の多くの物質は、ポリビニルカルバゾ
ールとの相溶性が悪く、大濃度の場合は光感度に有害な
影響を与えたと報告している。2.4.7−)リニトロ
フルオレノンは、ポリビニルカルバゾールの増感剤とし
”で有効であるが、ポリビニルカルバゾールの構成繰り
返し単位に対して等モル量、すなわち163重量%とい
う多量を使用する必要があり、また2、4.7−ドリニ
トロフルオレノンは比較的高価であり、生理活性が高い
という欠点を持っている。
本発明者は有機光導電性高分子物儂、例えば、ポリビニ
ルカルバゾールど電荷移動錯体を形成し得る種々の電子
受容性物質(アクセプタ−)を研究中のところ、次の一
般式[ID、(式中、R1,1り2は回−又は異って、
水素または炭素数1〜7個の直鎖状もしくは分岐状アル
キル基、シクロヘキシル基又はシクロ・\キシルメチル
基を示す。但し2、R1とR2が同時に水寧である場合
を除く) で表わされるアルキル置換テトラシアノキノジメタンが
光4 N件ポリマーに対し大きな増感効果を有し2、極
めて高感度の感光体を与えることを見出し7た。
無置換のテトラシアノキノジメタンがポリビニルカルバ
ゾールに対し電荷移動錯体を形成し、増感効果を南する
ことは、岡誠子ら二r ′+)N、子写真」第5巻、第
3月(1964年)、19〜25頁において公知である
。しかしながら、無置換デ(・ラシアノキノジメタンは
ポリビニルカルバゾールとの相溶性が悪く、増感効果も
充分であるとは云えない。−・般に、電子供与性物質(
ドヅー)と電荷移動錯体を形成する電子受容性物質(ア
クセプター)において、電子吸引性の置換基が結合し、
た場合、了クセブタ−の電子受容性が増大1〜、電荷移
動錯体をより一層形成しやすくなる。他方、アクセプタ
ーに電子供与性の置換基を結合した場合、アクセプター
の電子受容性は減少し、電荷移動錯体を形成しにくくな
ることはR9Foster; U Organic C
hange −TransferComplexes 
 j  (人cademie Press、Londo
n andNew York + 1969 )、20
1〜2O5頁に示されている。従って、アルキル基を有
しないテトラシアノキノジメタンに比較して、電子供与
性の置換基であるアルキル基が結合した本発明のアルキ
ル置換テトラシアノキノジメタンは、光導電性高分子物
質中のドナー成分と電荷移動錯体を形成しにくくなるこ
とが推定さノ1、るところである。しかるに本発明者の
研究によれば、アルキル置捗テトラシアノキノジメタン
は、1宵撲基を有しないテトラシアノ・−′ノジメタン
に比較1〜で光導電性高分子物質に対する相溶性が極め
て良く、シかも増感効果が1ぐれてお9、高感度の感光
体を力えるととがあきらかKなり、この事実は全く驚く
べきことである。
本発明は、かかる知見にもとづいて完成されたもので、
有機光導電性高分子物質に1前記一般式口〕でボされる
アルキル置換テトラシアノキノジメタンを含有せしめて
成る高感度の電子写真用感光体を提供するものである。
一般式CI)のR1及びR2であられされるア/1キル
基とし、では、メチル、エヂル、プロヒル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、1lee−ブチル、tert
−ブチル、n−アミル、イソアミル、8ec−アミAX
tert−アミル、D−ヘキシル、シクロヘギシA−、
シクロへキシルメチル等を挙けることが出来る。
つぎに1本発明の電子写真用感光体に使用されるアルキ
ル置換テトラシアノキノジメタンの代表的な化合物を例
示する。
例示化合物(1)2,5−ジエチル−7,7゜8.8−
デトラシアノキノジ メタン 例示化合物(212,5−ジ−n−プロピル−7,7,
8,8−テトラシア ノキノジメタン 例示化合物(3)2−h−へキジルーフ、7゜8.8−
テトラシアノキノジ メタン 例示化合物(4)2−シクロヘキシルメチル−7,7,
8,8−テトラシア ノキノジメタン 本発明のアルキル置換テトラシアノキノジメタンは次の
ごとくにして容易に合成することが出来る。すなわち、
2−メチA−−7,7,8,8−テトラシアノキノジメ
タン、2゜5−ジメチル−7,7,8,8−テトラシア
ノキノジメタン、2,5−ジエナル−797,8,8−
テトラシアノキノジ、メタン(例示化合物(11)、2
,5−ジイソプロピル−7゜7.8.8−テトラシアノ
キノジメタンの合成についてはJ、R9Anderse
nら: J、Chem、Soc、。
Perkim l 、(1979年)、3095〜30
98負、および、R,C,Whelandら: J、O
rg、Charn、。
第40巻、第21号、(1975年)、3101〜31
09頁に報告されている。これと同様の方法により、次
の式に示す工程にしたがい、アルキル置換テトラシアノ
キノジメタンを合成することが出来る。
Cl)     〔l)      CIV)[V:]
      CI) (式中)R1,R2は前記の意味を有する)すなわち、
アルキル置換ハイドロキノン[1)をパラジウム−アル
ミナを触媒として水素加圧下で完全に水添を行いアルキ
ル置換シクロヘキサン−1,4−ジオールl〕を得る。
これを硫酸−クロム酸で酸化してアルキル置換シクロヘ
キサジオンCIV)となし、次にβ−アラニンを触媒と
してマロンニトリルを縮合させアルキル置換ビスジシア
ノメチレンシクロヘキサン〔■〕をつくる。この化合物
〔■〕に臭素を付加させた後ピリジンを作用させて脱臭
化水素を行い目的とするアルギル置換テトラシアノキノ
ジメタン[1)を得る。
本発明に使用する有機光導電性高分子物質としては、一
般式〔l)で示されるアルキル置換テトラシアノキノジ
メタンをアクセプターとして電荷移動錯体を形成するド
ナー成分、例工ば、カルバゾール、ナフタレン、アント
ラセン、ピレン、ペリレンおよびとワラのハロゲン、低
級アルキル置換体などの成分を置換基と1−で含む高分
子物質を用いることが出来る。例えば、ポリビニA・カ
ルバゾール、ポリビニルナフタレン、ポリビニルアント
ラセン、ポリビニルピレン、ポリビニルペリレンなどの
ビニルポリマー;ポリカルバンリルエヂルビニルエーデ
ル、ポリアントリルメチルヒニルエーデル、ポリビニル
メチルビニルエーテルナトのビニルエーテルポリマー;
ポリグリシジルカルバゾールなどのエポキシ樹脂;さら
には前記ドナー成分を置換基として含むポリアクリル酸
エステルおよびポリメタアクリル酸エステルなどの重合
体、またはその共重合体が挙げられる。なかでも、好ま
しいものとしてはポリ−N−ビニルカルバゾール、if
c、N−ビニルカルバゾールとスチレン、アクリロニト
リル、メタクリロニトリル、塩化ビニル、アクリル酸メ
チル、メタクリル酸メチルなどとの共重合体であるポリ
−N−ビニルカルバゾール共重合体が挙けられる。
本発明の電子写真用感光体H1例えばアルミニウムなど
の金属板、またね金属箔、アルミニウムなどの金属を蒸
着したグラスチックフィルム、あるいは導電処理を施と
した紙などの導電性支持体の上蹟、前述の有機光導電性
高分子物質と、アルキル置換テトラシアノキノジメタン
とを適些な有機溶剤に溶解させ、塗布し、乾燥すること
によって作製される。。
有機光導電性高分子物質とアルキル置換テトラシアノキ
ノジメタンとの混合割合は、有機光導電性高分子中のド
ナー成分を含む構成単位1モル当す0.001〜2.0
モA・、好見しくけ001〜1.1モルである。o、o
oiモルを下まわる量では目的とする効果が得られず、
また2、0モルを上まわる量でv、Il&光体表面への
帯tftの減少、暗減衰の増大、機械的強度の減少等を
引き起すので好ましくない。
有機光導電性高分子物質およびアルキル置換テトラシア
ノキノジメタンを溶解させる有機溶剤としてはベンセン
またはトルエン、キシレン、クロルベンセンナトの置換
ベンセン類、アセトン、メチルエチルケトン、ジェチル
ク゛トンlどのケトン類、酢酸エチルなどのエステルa
、[化メチレン、クロロホルム、ジクロルエタンなどの
ハロゲン化物およびこれらの混合物を用いることが出来
る。これらの溶剤中に、必要に応じて、フィルム形成性
結合剤すなわちポリニスデル樹脂、ポリ塩化ビニ/l−
樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン樹
脂、ポリカーボネート樹脂などが用いられる。導電性支
持体上への塗布は通常の方法、例えばドクターブ1/−
ド、ワイヤーバーナどを用いて行うことが出来る。この
際、必要があれば、導電性支持体と感光層の間に、例え
はカゼイン、ポリビニルアルコール、ポリビニルピレン
ドン、ポリアミドなどから成る接着層を般社ることが用
法る。感光層の厚さは3〜50μ、好ましくは5〜20
μである。
以上の如く1〜で得られる本発明の電子写真用感光体は
、極めて高感度で、且、可撓性に富み、帯電露光により
特性が変化しないなどのすぐれた特長を有するものであ
る。
次に、本発明に使用し7た代表的化合物の合成例、実施
例、比較例により、本発明を説明するが、これにより本
発明の実施の態様が限定されるものではない。
合成例1 (2,5−ジ−n−プロピル−1,4−シクロ△、ギ号
ジ吋ンの合成) 2.5−ジ−n−プロピルハイドロキノン23r15%
パラジウム−アルミナ2り、イソプロパツール100−
を300−のオートクレーブに入れ、水素加圧(20K
2/c1n2)下、150℃で攪拌し、水素の吸収が停
止するまで反応を行った。1後、沖過し、炉液を減圧下
濃縮して粗2,5−ジーn−プロピル−1,4−シクロ
ベキザンジオール24yを得た。これをアセトン150
 ccに溶かし、無水クロム酸17.8 fを硫酸15
.2 m7!と水25、4 dに溶かした溶液を加え1
−室温下4時間反応さぜた。アセトンを減圧下留去し、
残渣をベンゼンで抽出し、ベンセン抽出液を水洗後、減
圧下濃縮して粗結晶21.4rを得た。
これをヘキサンから再結晶[,7て2,5−n−プロピ
ル−1,4−シクロヘギザジオン15.91を得た。融
点84℃、理論収率69.5先、合成例2 (2−n−へキシル−1,4−シクロヘキシジオンの合
成) 合成例1において用いた2、5−ジーn−ブiffビル
ハイドロキノンに替えて2−n−へキシルハイドロキノ
ン22.6?を用いfCニかt、1、合成例1と同様に
して2−n−へキシル−1,4−シクロへA−ヤシオン
19.1yを得た。融点49℃、νII論収車83.5
%。
合成例3 (2−シクロヘキシルメチル−1,4−シクロヘキザジ
牙ンの合成) 合成例1において用いだ2,5−ジ−n−フロビルハイ
ドロキノンに替えて2−ベンジルハイド+1キノン23
5’を用いたはかは、合成例1と1=1様にして2−シ
クロへキシルメチ3−1.4−ジシクロへキャジオン3
−5.8rを得た。融点88℃、理論収率65,0%3
゜合成例4 (1,4−ビスジシアノメチレン−2,5−ジ−n−プ
ロビルシクロヘキサンの合成)合成例1で得た2、5−
ジ−n−プロピル−1,4−シクロヘキ仁像ン9.8r
とマロンニトリル6.61、β−アラニン0.21、水
15献の混合物を95〜103℃でi 0 [gi−間
反応させfCo冷後1水、エーテルを加えて攪拌し、生
成した結晶を沖取し、これをアセトニトリルから再結晶
して1,4−ビスジシアノメチレン−2,5−ジ−n−
プロピルシクロヘキサン9.6iを得た。融点241℃
、理論収率66.0%。
合成例5 (l、4−ビスジシアノメチレン−2−n−へキシルシ
クロヘキサンの合成) 合成例4におい−C用いた2、5−ジ−n−ゾロビル−
1,4−シクロヘキサジオンに替えて、合成例2によっ
て得た2−n−へキシル−1,4−シクロヘキザジオン
9.82を用いたほかは合成例4ど同様にして、1.4
−ビスジシアノメチレン−2−n−へキシルシクロヘキ
サン1o51を得た。融点87℃、理論収率72%。
合成例6 (1,4−ビスジシアノメチレン−2−シクロヘキシル
メチルシクロヘキサンの合成)合成例4において用いた
2、5−ジ−n−プロピル−1,4−シクロヘキリジオ
ンに替えて、合成例3によって得た2−シクロヘキシル
メチル−1,4−シクロへキザジオン10.4rを用い
たほかは、合成例4と同様にして、1,4−ビスジシ了
ノメヂレy−2−シクロヘキシルメチルシクロヘキザン
10,6Vを得た。融点154℃、理論収率70.0%
合成例7 (2,5−ジーn−7,7,8,8−プトラシアノギノ
ジメタン:例示化合物(2)の合成)合成例4によって
得た1、4−ビスジシアノメチレン−2,5−ジ−n−
ノロビルシクロヘキサン62をアセトニトリル80−に
溶かし、臭素6.42を含有するアセトニトリル20−
を室温下に滴下し、次に、水冷下ピリジン6.42を含
有するアセトニトリル1〇−をゆつ゛くり満月した。室
温で18時間攪拌した後、冷水150 mlを除々に加
え、3時間攪拌した。生成した結晶を戸数し、水、エー
テルで洗浄後、アセトニトリルから再結晶して、2.5
−ジ−n−プロピル−7,7,8,8−デトラシ了ノキ
ノジメタン4.11を得た。
融点155℃、理論収率71.2%。
合成例8 (2−n−へキジルーフ、7.8.8−デトラシアノキ
ノジメタン:例示化合物(3)の合成) 合成例7において用いた1、4−ヒスジシアノメチレン
−2,5−ジーn−プロピルシクロヘキサンに替えて、
合成例5によって得た1、4−ビスジシアノメチレン−
2−n−へキシルシクロヘキサン5.81を用いた#丘
かは、合成例7と同様にして、2−n−へギシルー7.
7.8.8−テトラシアノキノジメタン3.61を得た
。融点117℃、理論収率62.8%。
合成例9 (2−シクロヘキシA・メチル−7,7,8,8−デト
ラシアノキノジメタン:例示化合物(4)の合成) 合成例7において用いた1、4−ビスジシアノメチレン
−2,5−ジ−n−プロビルシクロヘキサンに替えて、
合成例6によって得*i、4−ビスジシアノメチレン−
2−シクロヘキシルメチルシクロヘキサン6tを用いh
−ほかは、合成例7と同様にして、2−シクロへキシル
メ・ブルーフ 、7,8.8−テトラシアノキノジメタ
ン1.5fを得た。融点137℃、理論収率25.4%
実施例J 2つのポリ−N−ビニルカルバゾールの10%クロルベ
ンゼン溶液19.3fを用意し、これに、それぞれ2,
5−ジエチル−7,7,8,8−テトラシアノキノジメ
タン(例示化合物(1))の23.6■および236■
を溶解させ、ドナー成分tなわちカルバシーA−1モル
当り0,01モルおよび0,1モルの濃度の溶液を調製
した。これらを、それぞれアルミニウムを蒸着したポリ
エステルフィルム上にドクターブレードを用いて塗布し
、45℃で乾燥して15μの厚さになるように感光体を
作製した。この感光体をターシテーブル型の表面電位測
定器を用いて一6KVのコロナ放電を30秒間行って帯
電せしめ、10秒間暗所に放置した。この時の表面室1
位をvoとする。こtにタングステン光を照射して、そ
の表面11位がVoの1/2になるまでの露光量、すな
わち半減露光量E1/2を求めた。この結果、第1表に
示す成績を得た。
実施例2 実施例1に用いた2、5−ジエチル−7゜7.8.8−
テトラシアノキノジメタンに替えて、2,5−ジ−n−
プロピル−7,7゜8.8−テトラシアノキノジメタン
(例示化合物(2))の28.8 wqおよび288q
を用いて、実施例1と1h1様にして得た成績を第1表
に示す。
実施例3 実施例1に用いた2、5−ジエチル−7゜7.8.8−
テトラシアノキノジメタンに替えて、2−n−へキジル
ーフ、7.8.8−テトラシアノキノジメタン(例示化
合物(3))の28.8■および288■を用いて、実
施例1と同様にしで得た成績を第1表に示す。
実施例4 実施例1に用いた2、5−ジエチル−7゜7.8.8−
テトラシアノキノジメタンに替えて、2−シクロヘキシ
ルメチ” −7+ 7 +8.8−テトラシアノキノジ
メタン(例示化合物(4))の30,4■および304
M1iを用いて、実施例1と同様にして得た成績を第1
表に示す。
比較例1 2つのポリ−N−ビニルカルバゾールの10%クロルベ
ンゼン溶液19.3 fを用意し、これに、それぞれ7
.7.8.8−テトラシアノキノジメタン(以下、比較
化合物という)の1.2rqおよび4.3岬を加えて、
ドナー成分カルバゾール1モルに対して0.006モル
および0021モルの溶液を調製した。前者は完全に溶
解したが、後者は溶解が不充分で、不溶分が認められた
。これらを用いて実施例1と同様にして得た成績を第1
表に示す。
以下候白 実施例5〜8 実施例1〜4において作製した感光材料について、実施
例1に示した試験法のうち一6KVのコロナ放電を−1
−5KVのコロナ放電に代えたtlかは同様にし1第2
表に示す成績を得た。
比較例2 比較例1において作製した感光材料(但12、比較化合
物を0.021モル%使用したものは溶解性がわるく、
製品とするには不適当であるので、これを除いた)Kつ
いて、実施例5〜8と同様に試験した。その結果を第2
表に示す。
以下余白

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 有機光導電性高分子物質に、次の一般式〔1〕、(式中
    、R1、R2に同−又は異って、水素または炭素数1〜
    7個の直鎖状もしくは分岐状アルギル基、シクIffヘ
    キシル基又はシクロヘキシルメチル基を示す。但し、R
    1とR2が同時に水素である場合を除く) で表わされるアルキル置換テトラシアノキノジメタンを
    含有することを特徴とする電子写真用感光体。
JP4481683A 1983-03-17 1983-03-17 Denshishashinyokankotai Expired - Lifetime JPH0233152B2 (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61194059A (ja) * 1985-02-23 1986-08-28 Nippon Kanko Shikiso Kenkyusho:Kk 長鎖アルキル基を有するテトラシアノキノジメタン及びラングミュアブロジェット膜用材料
JPS6226260A (ja) * 1985-07-27 1987-02-04 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The 7,7,8,8−テトラシアノキノジメタン−2,5−イレン−(3−プロピオン酸)類およびその製造法
JPS6226259A (ja) * 1985-07-27 1987-02-04 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The 2,5−ビス(ジシアノメチレン)シクロヘキサン−1,4−イレン−(3−プロピオン酸)類およびその製造法
JPS62207249A (ja) * 1986-03-06 1987-09-11 Agency Of Ind Science & Technol 長鎖炭化水素基を有する電子受容体及びその電荷移動錯体化合物

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