JPS5924998B2 - 抗生物質sum−3およびその製造法 - Google Patents
抗生物質sum−3およびその製造法Info
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- JPS5924998B2 JPS5924998B2 JP53022790A JP2279078A JPS5924998B2 JP S5924998 B2 JPS5924998 B2 JP S5924998B2 JP 53022790 A JP53022790 A JP 53022790A JP 2279078 A JP2279078 A JP 2279078A JP S5924998 B2 JPS5924998 B2 JP S5924998B2
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- sum
- culture
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- acid
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/30—Against vector-borne diseases, e.g. mosquito-borne, fly-borne, tick-borne or waterborne diseases whose impact is exacerbated by climate change
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- Preparation Of Compounds By Using Micro-Organisms (AREA)
- Saccharide Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新抗性物質SUM−3およびその無毒性酸付加
塩ならびにその製造法に関する。
塩ならびにその製造法に関する。
抗性物質SUM−3の無毒性酸付加塩はSUM−3、1
分子と薬理的に許容される無毒性の酸1〜4当量との反
応により生成されるモノ、ジ、トリ、テトラ塩を意味す
る。該無毒性の酸としては塩酸、臭化水素酸、ヨク化水
素酸、硫酸、リン酸、炭酸、硝酸などの無機酸、酢酸、
フマル酸、リンゴ酸、クエン酸、マンデル酸、アスコル
ビン酸、酒石酸、コハク酸などの有機酸があげられる。
本発明者らは、種々の微生物を用いて抗性物質の生産性
について研究した。
分子と薬理的に許容される無毒性の酸1〜4当量との反
応により生成されるモノ、ジ、トリ、テトラ塩を意味す
る。該無毒性の酸としては塩酸、臭化水素酸、ヨク化水
素酸、硫酸、リン酸、炭酸、硝酸などの無機酸、酢酸、
フマル酸、リンゴ酸、クエン酸、マンデル酸、アスコル
ビン酸、酒石酸、コハク酸などの有機酸があげられる。
本発明者らは、種々の微生物を用いて抗性物質の生産性
について研究した。
その結果ミクロモノスポラ属に属するある種の微生物の
培養物中に既知の抗性物質とは種々のクロマトグラフィ
ーに於る挙動が異なる抗性物質が存在することを見い出
した。本発明者らは該物質を該培養物中より精製単離し
、その理化学的性状を調べた結果、該物質が、式 CH2NHCH3NHCH3 ウ。
培養物中に既知の抗性物質とは種々のクロマトグラフィ
ーに於る挙動が異なる抗性物質が存在することを見い出
した。本発明者らは該物質を該培養物中より精製単離し
、その理化学的性状を調べた結果、該物質が、式 CH2NHCH3NHCH3 ウ。
。。□二。N−。
N□OHで示される構造を有し、かつ該物質が新規な抗
生物質であることをみいだし、これを抗生物質フ SU
M−3と命名した。
生物質であることをみいだし、これを抗生物質フ SU
M−3と命名した。
以下、本抗生物質SUM−3ならびにその製造法につい
て詳細に説明する。
て詳細に説明する。
本発明にかかわる抗生物質SUM−3の遊離塩基の理化
学的性状は次の通りである。
学的性状は次の通りである。
5(1)塩基性の白色粉末
(2)元素分析値
C:49.51%
本物質の水溶液の紫外部吸収スペクトルは220360
nmの間で特徴的な吸収極大を示さず、末端吸収を示す
のみである。
nmの間で特徴的な吸収極大を示さず、末端吸収を示す
のみである。
(6)比旋光度
(7)本物質は、水にきわめて易溶、メタノールにも溶
け、エタノール、アセトンにもやや溶けるが、クロロホ
ルム、ベンゼン、酢酸エチル、酢酸ブチル、エーテル、
ブタノール、石油エーテル、n−ヘキサンなどの有機溶
媒には不溶である。
け、エタノール、アセトンにもやや溶けるが、クロロホ
ルム、ベンゼン、酢酸エチル、酢酸ブチル、エーテル、
ブタノール、石油エーテル、n−ヘキサンなどの有機溶
媒には不溶である。
(8)呈色反応:
ニンヒドリン反応:陽性
過マンガン酸カリ反応:陽性
エルソンモルガン反応:陰性
ビウレツト反応:陰性
(9)マススベクトルリ
本物質のマススペクトルは次のような分子イオンおよび
フラグメントイオンを与える。
フラグメントイオンを与える。
m/E464(M+),434,402−,351,3
47,334,323,306,290,289,27
2,192,160,1430(10)本物質のプロト
ン該磁気共鳴スペクトル(重水)(PDll.3)は次
の値を示す。
47,334,323,306,290,289,27
2,192,160,1430(10)本物質のプロト
ン該磁気共鳴スペクトル(重水)(PDll.3)は次
の値を示す。
δ1.20(3H,s),1.20〜1.90(5H,
m),1.90〜2.21(1H,m),2.31(3
H,s),2.50(3H,s),2.58(1H,d
J=10.8Hz),2.60(2H,dJ=6.6H
z),2.64〜3.10(2H,m),3.30(1
H,dJ=12.3Hz),3.31〜3.62(3H
,m),3.75(1H,d,dJ=3.9,10.8
Hz),4.05(1H,dJ二12.2Hz),3.
62〜4.11(2H,m),5.15(1H,dJ=
3.7Hz),5.27(1・H,dJ=3.9Hz)
(11)本物質の炭素核磁気共鳴スペクトルは次の値を
示す(δPpm)。
m),1.90〜2.21(1H,m),2.31(3
H,s),2.50(3H,s),2.58(1H,d
J=10.8Hz),2.60(2H,dJ=6.6H
z),2.64〜3.10(2H,m),3.30(1
H,dJ=12.3Hz),3.31〜3.62(3H
,m),3.75(1H,d,dJ=3.9,10.8
Hz),4.05(1H,dJ二12.2Hz),3.
62〜4.11(2H,m),5.15(1H,dJ=
3.7Hz),5.27(1・H,dJ=3.9Hz)
(11)本物質の炭素核磁気共鳴スペクトルは次の値を
示す(δPpm)。
(12)本物質の各種展開剤によるペーパークロマトグ
ラフイ一および薄層クロマトグラフイ一のRf値は、第
1〜第3表の通りである。
ラフイ一および薄層クロマトグラフイ一のRf値は、第
1〜第3表の通りである。
なお、既知抗生物質との比較のために、近縁と思われる
ものを選び、そのもののRf値を併記する。上昇式ペー
パークロマトグラフイ一(ペーパーとして東洋淵紙煮5
1を使用し28℃で展開)での抗生物質SUM−3のR
f値シリカゲル薄層クロマトグラフイ一〔E.Me−R
ck製 KieselGel6O(室温で行う。
ものを選び、そのもののRf値を併記する。上昇式ペー
パークロマトグラフイ一(ペーパーとして東洋淵紙煮5
1を使用し28℃で展開)での抗生物質SUM−3のR
f値シリカゲル薄層クロマトグラフイ一〔E.Me−R
ck製 KieselGel6O(室温で行う。
展開時間3時間)〕でのRf値※ 展開剤1:10%酢
酸アンモニウム、メタノール(1:1)(容量比)展開
剤:クロロホルム、メタノール、濃アンモニア水(1:
1:1)(容量比)の下層部※※ 特開昭54−592
02号公報に記載された抗生物質※※※ 原点からの該物質の距離 RfCl値= 1 原点からのジエンタマイシンC1の距離※※※※
特開昭53−56640号公報に記載された抗生物質
〔第 3表〕 展開剤として、クロロホルム、メタノール、17%アン
モニア水(2:1:1)(容量比)の下層部を用いた上
昇式ペーパークロマトグラフイ一(室温で行う。
酸アンモニウム、メタノール(1:1)(容量比)展開
剤:クロロホルム、メタノール、濃アンモニア水(1:
1:1)(容量比)の下層部※※ 特開昭54−592
02号公報に記載された抗生物質※※※ 原点からの該物質の距離 RfCl値= 1 原点からのジエンタマイシンC1の距離※※※※
特開昭53−56640号公報に記載された抗生物質
〔第 3表〕 展開剤として、クロロホルム、メタノール、17%アン
モニア水(2:1:1)(容量比)の下層部を用いた上
昇式ペーパークロマトグラフイ一(室温で行う。
展開時間12時間)でのRf値※ 特開昭53−566
40号公報に記載された抗生物質※※ 特開昭53−9
0241号公報に記載された抗生物質※※※ 特開昭5
3−144547号公報に記載された抗生物質※※※※
特開昭54−19939号公報に記載された抗生物質
※※※※※ 特開昭54−59202号公報に記載され
た抗生物質次に抗生物質SUM−3の抗菌スペクトル(
MICγ/a)を第4表に示す。
40号公報に記載された抗生物質※※ 特開昭53−9
0241号公報に記載された抗生物質※※※ 特開昭5
3−144547号公報に記載された抗生物質※※※※
特開昭54−19939号公報に記載された抗生物質
※※※※※ 特開昭54−59202号公報に記載され
た抗生物質次に抗生物質SUM−3の抗菌スペクトル(
MICγ/a)を第4表に示す。
測定はPH7.2の培地を使用し、寒天稀釈法による。
培地はハード・インフユージヨン・プロス(DifcO
)を用いた。※ ジエンタマイソンアセチルトランスフ
エラーゼタイプIを産生※※ ジエンタマイシンヌタレ
オチジルトランスフエラーゼを産生※※※ カナマイシ
ンアセチルトランスフエラーゼを産生このように抗生物
質SUM−3は広範囲のグラム陽性菌や陰性菌に対して
きわめて強い抗菌力を有している。
培地はハード・インフユージヨン・プロス(DifcO
)を用いた。※ ジエンタマイソンアセチルトランスフ
エラーゼタイプIを産生※※ ジエンタマイシンヌタレ
オチジルトランスフエラーゼを産生※※※ カナマイシ
ンアセチルトランスフエラーゼを産生このように抗生物
質SUM−3は広範囲のグラム陽性菌や陰性菌に対して
きわめて強い抗菌力を有している。
その広範囲で強力な抗菌性の中でも、従来有効な抗生物
質が少ないとされてきたプロテウス属やブシユードモナ
ス属の菌に対してもきわめて有効であることは著しい特
徴である。またいろいろな既知抗性物質に耐性なエツシ
エリヒア・コリに対しても強力な抗菌力を有している。
以上述べたようなきわめてすぐれた抗菌性を有する抗性
物質SUM−3は、抗菌性として医薬上有用である。
質が少ないとされてきたプロテウス属やブシユードモナ
ス属の菌に対してもきわめて有効であることは著しい特
徴である。またいろいろな既知抗性物質に耐性なエツシ
エリヒア・コリに対しても強力な抗菌力を有している。
以上述べたようなきわめてすぐれた抗菌性を有する抗性
物質SUM−3は、抗菌性として医薬上有用である。
さらに抗生物質SUM−3は実験室用ガラス器具および
装置の清掃など、衛生上の目的で洗滌剤に用いることも
できる。つぎに本物質を既知の抗生物質と比較してみる
。
装置の清掃など、衛生上の目的で洗滌剤に用いることも
できる。つぎに本物質を既知の抗生物質と比較してみる
。
ミウロモノスポラ属菌の生産する水溶性、塩基性で且つ
広範囲の抗菌スペクトルを有する抗生物質としては、ジ
エンタマイシンCOmplex(M.J.Weinst
einらAntimicrOb.Ag.ChemOth
er.,l963,lおよびD.J.COOperらJ
・Infect.Disll9,342,l969,J
.A.WeitzらAntimicrOb.Ag.Ch
emOther.,2,464,l972)、アンチバ
イオチツク煮460(特公昭46−16253号公報)
、シソマイシン(M.J.Weinsteinら、J.
AntibiOtics,23,55l,555,55
9,l97O)、ペルダマイシン(M.J.Weins
telnら、AntimicOrb.Ag.ChemO
ther.,7,246,l975)、アンチバイオチ
ツクG−52(J.A.Marquezら、J.Ant
iblOtics,24,483,l976、およびP
.J.L.Danielsら、J.AntibOtic
s,24,488,l976),XK一62−2(特公
昭50−39155号公報)、ホーテイマイシンA(特
公昭51−45675号公報)、ホーテイマイシンC(
特開昭52−18888号公報)、ホーテイマイシンD
(特開昭53−56640号公報に記載),XK−62
−3(特開昭53−144547号公報に記載),XK
−62−4(特願昭52−83038号明細書に記載)
,SU−2(特開昭54−59202号公報に記載)な
どの抗生物質がある。しかしながら第1,2および3表
に示されるように、ペーパークロマトグラフイ一及び薄
層クロマトグラフイ一の挙動に於て抗生物質SUM−3
は上記のいずれとも異つている。さらにミクロモノスポ
ラ属に属する微主物以外の放射菌が生産する水溶性、塩
基性で且つ広範囲の抗菌スペクトルを有する抗生物質と
して、ストレプトマイシン、リボスタマイシン、リビド
マイシン、ネオマイシン、カナマイシン、パロモマイシ
ン、ネブラマイシンなどがあげられるが、抗性物質SU
M−3は第3表から明らかなのごとく、Rf値において
これらの抗生物質とは区別される。さらに、PMRやC
MRlマススペクトルのデータから明らかになつた抗生
物質SUM−3の化学構造(前記)と同じ構造をもつ物
質は既知物質の中からは見出すことはできず、以上のこ
とから抗生物質SUM−3は新規な抗性物質と考えられ
る。
広範囲の抗菌スペクトルを有する抗生物質としては、ジ
エンタマイシンCOmplex(M.J.Weinst
einらAntimicrOb.Ag.ChemOth
er.,l963,lおよびD.J.COOperらJ
・Infect.Disll9,342,l969,J
.A.WeitzらAntimicrOb.Ag.Ch
emOther.,2,464,l972)、アンチバ
イオチツク煮460(特公昭46−16253号公報)
、シソマイシン(M.J.Weinsteinら、J.
AntibiOtics,23,55l,555,55
9,l97O)、ペルダマイシン(M.J.Weins
telnら、AntimicOrb.Ag.ChemO
ther.,7,246,l975)、アンチバイオチ
ツクG−52(J.A.Marquezら、J.Ant
iblOtics,24,483,l976、およびP
.J.L.Danielsら、J.AntibOtic
s,24,488,l976),XK一62−2(特公
昭50−39155号公報)、ホーテイマイシンA(特
公昭51−45675号公報)、ホーテイマイシンC(
特開昭52−18888号公報)、ホーテイマイシンD
(特開昭53−56640号公報に記載),XK−62
−3(特開昭53−144547号公報に記載),XK
−62−4(特願昭52−83038号明細書に記載)
,SU−2(特開昭54−59202号公報に記載)な
どの抗生物質がある。しかしながら第1,2および3表
に示されるように、ペーパークロマトグラフイ一及び薄
層クロマトグラフイ一の挙動に於て抗生物質SUM−3
は上記のいずれとも異つている。さらにミクロモノスポ
ラ属に属する微主物以外の放射菌が生産する水溶性、塩
基性で且つ広範囲の抗菌スペクトルを有する抗生物質と
して、ストレプトマイシン、リボスタマイシン、リビド
マイシン、ネオマイシン、カナマイシン、パロモマイシ
ン、ネブラマイシンなどがあげられるが、抗性物質SU
M−3は第3表から明らかなのごとく、Rf値において
これらの抗生物質とは区別される。さらに、PMRやC
MRlマススペクトルのデータから明らかになつた抗生
物質SUM−3の化学構造(前記)と同じ構造をもつ物
質は既知物質の中からは見出すことはできず、以上のこ
とから抗生物質SUM−3は新規な抗性物質と考えられ
る。
次に本発明における抗生物質SUM−3の製造法につい
て説明する。
て説明する。
抗生物質SUM−3はミクロモノスポラ属に属する抗生
物質SUM−3生産性菌株を栄養培地に培養し、培養物
中に抗性物質SUM−3を生成、蓄積せしめ、該培養物
から該抗生物質を採取することによつて得ることができ
る。
物質SUM−3生産性菌株を栄養培地に培養し、培養物
中に抗性物質SUM−3を生成、蓄積せしめ、該培養物
から該抗生物質を採取することによつて得ることができ
る。
本発明において利用される微生物としては、ミクロモノ
スポラ属に属する抗生物質SUM−3生産菌〔例えば、
ミクロモノスボラ・サガミエンシスSU−2(微工研菌
寄4230号),(NRRLll,l82)(特開昭5
4−59202号公報に記載)〕があげられる。
スポラ属に属する抗生物質SUM−3生産菌〔例えば、
ミクロモノスボラ・サガミエンシスSU−2(微工研菌
寄4230号),(NRRLll,l82)(特開昭5
4−59202号公報に記載)〕があげられる。
この菌種の菌学的性質は特公昭50−39155号に記
載されている。抗生物質SUM−3を製造するための培
養は次の方法により行なう。即ち本発明において用いる
微生物の培養においては通常の放射菌の培養法が一般に
用いられる。
載されている。抗生物質SUM−3を製造するための培
養は次の方法により行なう。即ち本発明において用いる
微生物の培養においては通常の放射菌の培養法が一般に
用いられる。
培養のための栄養源としてはいろいろのものが用いられ
る。炭素源としてはブドウ糖、澱粉、デキストリン、マ
ンノース、フラグドーズ、シユークローズ、糖蜜などが
単独または組み合わせて用いられる。無機および有機窒
素源としては塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、尿
素、硝酸アンモニウム、硝酸ナトリウム、などがまた天
然窒素源としてはペプトン、肉工キズ、酵母工キズ、乾
燥酵母、コーン、スチープ・りカー、大豆粉、カザミノ
酸、ソリユブルベジタブル・プロテイン、綿実ガスなど
が単独または組み合せて用いられる。そのほか必要に応
じて食塩、塩化カリウム、炭酸カルシウム、燐酸塩など
の無機塩類を適当に加えるほか、使用菌の生育や抗生物
質SUM−3の生産を促進する有機物や無機物を適当に
加えることができる。培養法としては、液体培養法、と
くに深部攪拌培養法がもつとも適している。
る。炭素源としてはブドウ糖、澱粉、デキストリン、マ
ンノース、フラグドーズ、シユークローズ、糖蜜などが
単独または組み合わせて用いられる。無機および有機窒
素源としては塩化アンモニウム、硫酸アンモニウム、尿
素、硝酸アンモニウム、硝酸ナトリウム、などがまた天
然窒素源としてはペプトン、肉工キズ、酵母工キズ、乾
燥酵母、コーン、スチープ・りカー、大豆粉、カザミノ
酸、ソリユブルベジタブル・プロテイン、綿実ガスなど
が単独または組み合せて用いられる。そのほか必要に応
じて食塩、塩化カリウム、炭酸カルシウム、燐酸塩など
の無機塩類を適当に加えるほか、使用菌の生育や抗生物
質SUM−3の生産を促進する有機物や無機物を適当に
加えることができる。培養法としては、液体培養法、と
くに深部攪拌培養法がもつとも適している。
培養温度は25〜400,pHは中性付近で培養するこ
とが望ましい。液体培養で通常1E1.ないし12日間
培養を行うと抗生物質SUM−3が培養液中に蓄積され
る。培養液中の生成量が最大に達したときに、培養を停
止し、培養液中より目的物を精製単離する。培養液から
の抗生物質SUM−3の精製単離は微生物代謝産物を、
その培養液から単離するためにふつう用いられる分離・
精製の方法が利用される。
とが望ましい。液体培養で通常1E1.ないし12日間
培養を行うと抗生物質SUM−3が培養液中に蓄積され
る。培養液中の生成量が最大に達したときに、培養を停
止し、培養液中より目的物を精製単離する。培養液から
の抗生物質SUM−3の精製単離は微生物代謝産物を、
その培養液から単離するためにふつう用いられる分離・
精製の方法が利用される。
抗生物質SUM−3は、前述の如く水溶性、塩基性物質
なので、いわゆる水溶性・塩基性抗生物質の精製によく
用いられる方法により精製を行うことができる。
なので、いわゆる水溶性・塩基性抗生物質の精製によく
用いられる方法により精製を行うことができる。
すなわちカチオン交換樹脂による吸脱着法、セルロース
カラムクロマトグラフイ一,セフアデツクスLH−20
カラムによる吸脱着法、シリカゲルクロマトグラフイ一
,カーボンクロマトグラフイ一などの方法を適当に組み
合わせて行うことができる。また本物質の遊離塩基はア
セトンに溶けるが、硫酸塩は同溶媒に溶けにくいので、
この点を利用して本物質の遊離塩基または硫酸塩を単離
・精製することができる。次に培養液から抗生物質SU
M−3の精製・単離の一例を示す。
カラムクロマトグラフイ一,セフアデツクスLH−20
カラムによる吸脱着法、シリカゲルクロマトグラフイ一
,カーボンクロマトグラフイ一などの方法を適当に組み
合わせて行うことができる。また本物質の遊離塩基はア
セトンに溶けるが、硫酸塩は同溶媒に溶けにくいので、
この点を利用して本物質の遊離塩基または硫酸塩を単離
・精製することができる。次に培養液から抗生物質SU
M−3の精製・単離の一例を示す。
培養終了後、倍養液から固形物を除き、得られる培溶淵
液を、弱アルカリ性に調整した後、カチオン交換樹脂ア
ンバーライトRC−50(口ーム・アンド・ハース社製
、U.S.A.)(NH4十型)に通して活性物質を吸
着し、水洗後2N−アンモニア水で活性物質を溶出する
。
液を、弱アルカリ性に調整した後、カチオン交換樹脂ア
ンバーライトRC−50(口ーム・アンド・ハース社製
、U.S.A.)(NH4十型)に通して活性物質を吸
着し、水洗後2N−アンモニア水で活性物質を溶出する
。
活性区分を集め減圧濃縮後、弱アルカリ性に調整し、こ
れをアンバーライトCG−50タイプl(ローム・アン
ド・ハース社製、U.S.A.)(NH4+)型に通し
て活性物質を吸着せしめる。水洗後稀アンモニア水で活
性物質を溶出する。数個の微量成分が溶出された後、抗
生物質SUM−3を含む活性区分が溶出されてくる。
れをアンバーライトCG−50タイプl(ローム・アン
ド・ハース社製、U.S.A.)(NH4+)型に通し
て活性物質を吸着せしめる。水洗後稀アンモニア水で活
性物質を溶出する。数個の微量成分が溶出された後、抗
生物質SUM−3を含む活性区分が溶出されてくる。
抗生物質SUM−3を含む活性区分を集め減圧下で濃縮
乾固して粗抗生物質SUM−3の白色粉末を得る。つぎ
にこれを水に溶かし弱アルカリ性に調整し、バイオレツ
クス70(バイオラットLab.製、U.S.A.)に
通して吸着させた後、水洗後、稀アンモニア水で活性区
分を溶出する。数個の微量成分が溶出された後、抗生物
質SUM−3が溶出されてくる。この区分を集めて減圧
濃縮し、残渣を少量の水に溶かし、凍結乾燥を行うこと
により精製された抗生物質SUM−3を得ることができ
る。上記の精製工程中の活性区分(抗生物質SUM一3
)の動向は、東洋P紙煮51を用い上昇式ペーパークロ
マトグラフイ一によりチエツクする。
乾固して粗抗生物質SUM−3の白色粉末を得る。つぎ
にこれを水に溶かし弱アルカリ性に調整し、バイオレツ
クス70(バイオラットLab.製、U.S.A.)に
通して吸着させた後、水洗後、稀アンモニア水で活性区
分を溶出する。数個の微量成分が溶出された後、抗生物
質SUM−3が溶出されてくる。この区分を集めて減圧
濃縮し、残渣を少量の水に溶かし、凍結乾燥を行うこと
により精製された抗生物質SUM−3を得ることができ
る。上記の精製工程中の活性区分(抗生物質SUM一3
)の動向は、東洋P紙煮51を用い上昇式ペーパークロ
マトグラフイ一によりチエツクする。
展開溶媒としては、クロロホルム、メタノール、17%
アンモニア水(容量比2:1:1)の下層を用い、6〜
16時間室温にて展開する。なお本発明化合物である抗
生物質SUM−3は抗生物質XK−62−2(サガミシ
ン特公昭50一39155号公報に記載)を原料として
実施例3に示す工程により化学的にも合成できる。
アンモニア水(容量比2:1:1)の下層を用い、6〜
16時間室温にて展開する。なお本発明化合物である抗
生物質SUM−3は抗生物質XK−62−2(サガミシ
ン特公昭50一39155号公報に記載)を原料として
実施例3に示す工程により化学的にも合成できる。
すなわち抗生物質XK−62−2の1位のアミノ基以外
のアミノ基を保護した後に公知の手法を用いて1位のア
ミノ基を水酸基に変換し、アミノ保護基を除去する事に
より抗生物質SUM−3を合成することができる。以下
に実施例によつて本発明の抗生物質SUM3の製造法に
ついて具体的に説明するが、これらは単なる一例であつ
て何ら本発明を限定するものではない。
のアミノ基を保護した後に公知の手法を用いて1位のア
ミノ基を水酸基に変換し、アミノ保護基を除去する事に
より抗生物質SUM−3を合成することができる。以下
に実施例によつて本発明の抗生物質SUM3の製造法に
ついて具体的に説明するが、これらは単なる一例であつ
て何ら本発明を限定するものではない。
〔実施例 1〕
A.ミクロモノスポラ・サガミエンシスSU−2の培養
:種菌としてミクロモノスポラ・サガミエンシス(Mi
crOmOnOspOrasagamiensis)S
U−2(微工研菌寄第4230号NRRLll,l82
)を用いた。
:種菌としてミクロモノスポラ・サガミエンシス(Mi
crOmOnOspOrasagamiensis)S
U−2(微工研菌寄第4230号NRRLll,l82
)を用いた。
第1種培地としては、スタビローズK〔松谷化学(株)
製〕2%(W/)(以下同じ)、グルコース0,5%、
ペプトン0,5%、酵母工キズ0.5%、肉工キズ0.
3%、炭酸カルシウム0.2%(殺菌前PH8.O)の
培地を用いた。
製〕2%(W/)(以下同じ)、グルコース0,5%、
ペプトン0,5%、酵母工キズ0.5%、肉工キズ0.
3%、炭酸カルシウム0.2%(殺菌前PH8.O)の
培地を用いた。
種菌1白金耳を、大型試験管中10dの上記培地に植菌
し、30℃で3日間振盪培養する。この種培養液10m
1を21バツフル付きエルレンマイヤーフラスコ中に入
つた350m1の第2種培地に植菌する。第2種培地の
組成は第1種培地の組成と同じである。第2種培養は3
0℃で2日間振盪培養する。この種培養液1.51(フ
ラスコ5本分)を301容量のジヤーフアーメンタ一中
の第3種倍地151に植菌し、34℃で24時間通気攪
拌方式(回転数250rpm、通気量151/Mln)
により培養を行う。第3種培地の組成は第1種培地の組
成と同じである。最後にこの第3種培養液152を30
01容量のタンク中の発酵培地1501に植菌する。発
酵培地組成はスタビローズK4%、ソイビーンミール(
SOybeanmeal)1%、フアーマメデイア(P
harmamedia)(TradersOilMil
COmpany製U.S.A.)2%、大豆カゼイン0
.5%、燐酸2カリウム0.025%、硫酸マグネシウ
ム0.05%、カルシウムフィチッ0.2%、コーンオ
イル(COrnOil)0.1%、硫酸第1鉄0.01
5%,L−グルタミン0.0001%,L−シスチン0
.005%,β−アラニン0.005%、ニコチン酸0
.0005%、パントテン酸カルシウム0,0005%
、硫酸亜鉛(7水塩)0.0005%、カリウム明ばん
(24水塩)0.001%、モリブデン酸アンモニウム
(4水塩)0.025%(殺菌前PH8.O)の培地を
用いた。この発酵は30℃で3日間通気攪拌培養方式(
回転数180rpm、通気量1501/Min)により
行う。B.抗生物質SUM−3の精製単離 前記培養終了後、培養液のPHを12N一硫酸でPH2
Oに調整し、80℃で10分間加熱撹拌する。
し、30℃で3日間振盪培養する。この種培養液10m
1を21バツフル付きエルレンマイヤーフラスコ中に入
つた350m1の第2種培地に植菌する。第2種培地の
組成は第1種培地の組成と同じである。第2種培養は3
0℃で2日間振盪培養する。この種培養液1.51(フ
ラスコ5本分)を301容量のジヤーフアーメンタ一中
の第3種倍地151に植菌し、34℃で24時間通気攪
拌方式(回転数250rpm、通気量151/Mln)
により培養を行う。第3種培地の組成は第1種培地の組
成と同じである。最後にこの第3種培養液152を30
01容量のタンク中の発酵培地1501に植菌する。発
酵培地組成はスタビローズK4%、ソイビーンミール(
SOybeanmeal)1%、フアーマメデイア(P
harmamedia)(TradersOilMil
COmpany製U.S.A.)2%、大豆カゼイン0
.5%、燐酸2カリウム0.025%、硫酸マグネシウ
ム0.05%、カルシウムフィチッ0.2%、コーンオ
イル(COrnOil)0.1%、硫酸第1鉄0.01
5%,L−グルタミン0.0001%,L−シスチン0
.005%,β−アラニン0.005%、ニコチン酸0
.0005%、パントテン酸カルシウム0,0005%
、硫酸亜鉛(7水塩)0.0005%、カリウム明ばん
(24水塩)0.001%、モリブデン酸アンモニウム
(4水塩)0.025%(殺菌前PH8.O)の培地を
用いた。この発酵は30℃で3日間通気攪拌培養方式(
回転数180rpm、通気量1501/Min)により
行う。B.抗生物質SUM−3の精製単離 前記培養終了後、培養液のPHを12N一硫酸でPH2
Oに調整し、80℃で10分間加熱撹拌する。
そののち淵過助剤としてラジオライト+600〔昭和化
学工業(株)製〕を2K7加え、菌体を淵別する。この
淵液をダイヤイオンHRK−25(三菱化成製)(NH
誌型)101を充填したカラムに通し、流水液は捨てる
。水で樹脂を洗滌後2N−アンモニア水で溶出し、活性
物質のある画分を減圧下で301まで濃縮する。濃縮液
を6N塩酸でPH8.Oに調整したのちアンバーライト
IRC−50(NH4+型)41を充填したカラムに通
し、水洗後、2N−アンモニア水で溶出し、活性区分を
減圧下で乾固する。残渣を水に溶かし、PH8.Oに調
整した後アンバーライトCG−50タイブI(NH4l
型)200Tn1を充填したカラムに通し、水洗後0.
2M一塩化アンモニウムを含む0.1Nアンモニア水に
て溶出する。始めに数個の微量成分が溶出されたあと活
性区分として本物質を含む活性区分が溶出されてくる。
この画分を集めて6N塩酸にてPH7.8に調整後アン
バーライトRC5O(NHj型)50m1を充填したカ
ラムに通塔し、水洗後1N−アンモニア水で溶出する。
活性物質を含む区分を濃縮し、凍結乾燥を行なうと、粗
粉末56.3W1fが得られた。これを少量の水に溶か
し、PH7.8に調整後、バイオレツクス70(NH4
+型)10m1を充填したカラムに通し、水洗後、0.
1M酢酸アンモニウムを含む0.06N−アンモニア水
で溶出する。溶出画分を5aずつ分取し、活性区分を前
述の方法にて検出し抗生物質SUM−3に相当する画分
を集める。この画分を6N塩酸でPH7.7に調整し、
アンバーライトCG−50タイプI(NH4+型)10
m1を充填したカラムに通し、水洗後1−N′アンモニ
ア水で溶出し、活性区分を集めて減圧下で濃縮後、凍結
乾燥を行う抗生物質SUM−3の遊離塩基5.5巧の精
製標品が得られた。
学工業(株)製〕を2K7加え、菌体を淵別する。この
淵液をダイヤイオンHRK−25(三菱化成製)(NH
誌型)101を充填したカラムに通し、流水液は捨てる
。水で樹脂を洗滌後2N−アンモニア水で溶出し、活性
物質のある画分を減圧下で301まで濃縮する。濃縮液
を6N塩酸でPH8.Oに調整したのちアンバーライト
IRC−50(NH4+型)41を充填したカラムに通
し、水洗後、2N−アンモニア水で溶出し、活性区分を
減圧下で乾固する。残渣を水に溶かし、PH8.Oに調
整した後アンバーライトCG−50タイブI(NH4l
型)200Tn1を充填したカラムに通し、水洗後0.
2M一塩化アンモニウムを含む0.1Nアンモニア水に
て溶出する。始めに数個の微量成分が溶出されたあと活
性区分として本物質を含む活性区分が溶出されてくる。
この画分を集めて6N塩酸にてPH7.8に調整後アン
バーライトRC5O(NHj型)50m1を充填したカ
ラムに通塔し、水洗後1N−アンモニア水で溶出する。
活性物質を含む区分を濃縮し、凍結乾燥を行なうと、粗
粉末56.3W1fが得られた。これを少量の水に溶か
し、PH7.8に調整後、バイオレツクス70(NH4
+型)10m1を充填したカラムに通し、水洗後、0.
1M酢酸アンモニウムを含む0.06N−アンモニア水
で溶出する。溶出画分を5aずつ分取し、活性区分を前
述の方法にて検出し抗生物質SUM−3に相当する画分
を集める。この画分を6N塩酸でPH7.7に調整し、
アンバーライトCG−50タイプI(NH4+型)10
m1を充填したカラムに通し、水洗後1−N′アンモニ
ア水で溶出し、活性区分を集めて減圧下で濃縮後、凍結
乾燥を行う抗生物質SUM−3の遊離塩基5.5巧の精
製標品が得られた。
実施例 2
実施例1と同様に実施して得られた抗生物質SUM−3
遊離塩基5巧を水2TL1に溶かし、0.05N硫酸0
.9T11を加える。
遊離塩基5巧を水2TL1に溶かし、0.05N硫酸0
.9T11を加える。
この溶液を凍結乾燥することにより抗生物質SUM−3
硫酸塩の粉末707nvが得られた。実施例 3 抗生物質SUM−3の合成: A.l−N−t−ブトキシカルボニル一2′,6′ジ一
N−ベンジルオキシカルボニルXK−62−2の調製:
27,6′−ジ一N−ベンジルオキシカルボニルーXK
−62−2(特開昭50−101336号公報に記載)
1.49を20m1のテトラヒドロフランに溶解し、t
−ブチル−S−4,6−ジメチルピリミジン−2−イル
チオカルボネート480巧を加え室温にて18時間放置
した。
硫酸塩の粉末707nvが得られた。実施例 3 抗生物質SUM−3の合成: A.l−N−t−ブトキシカルボニル一2′,6′ジ一
N−ベンジルオキシカルボニルXK−62−2の調製:
27,6′−ジ一N−ベンジルオキシカルボニルーXK
−62−2(特開昭50−101336号公報に記載)
1.49を20m1のテトラヒドロフランに溶解し、t
−ブチル−S−4,6−ジメチルピリミジン−2−イル
チオカルボネート480巧を加え室温にて18時間放置
した。
反応混合物を濃縮し、残渣に10m1のクロロホルムを
加えこれを溶解し、シリカゲル(Kiese−1ge1
60E.タルク社製以下シリカゲルは同一のものを使用
した。)809を充填した内径2,5?のカラムに通す
。溶出はクロロホルム−メタノール(10:1容量比)
で行つた。20dずつのフラクシヨンに集めフラクシヨ
ン64〜94を合せ溶媒を留去すると960ηの白色粉
末が得られた。
加えこれを溶解し、シリカゲル(Kiese−1ge1
60E.タルク社製以下シリカゲルは同一のものを使用
した。)809を充填した内径2,5?のカラムに通す
。溶出はクロロホルム−メタノール(10:1容量比)
で行つた。20dずつのフラクシヨンに集めフラクシヨ
ン64〜94を合せ溶媒を留去すると960ηの白色粉
末が得られた。
この粉末は下記の性質を示し、1−N−t−ブトキシカ
ルボニル一2′,6′−ジ一N−ベンジルオキシカルボ
ニルXK−62−2と同定した。収率60.3%00・
シリカゲル薄層クロマトグラフイ一(以下TLCと略す
)のRf値(展開剤クロロホルムリメタノール:14%
アスモニア水4:1:1の下層) 0.66○核磁気共
鳴吸収スペクトル(メタノールD4) δ(Ppm)1.10(3H,s),1.43(9H,
s),2.53(3H,s)2.93(3H,s),5
.01(4H,s),7.27(5H,s),7.33
(5H,s)B.3,2′,6′,3′Lテトラ−N−
ベンジルオキシカルボニルXK−62−2の調製:前記
A工程によつて得られた、1−N−t−ブトキシカルボ
ニル21,6′−ジ一N−ベンジルオキシカルボニル一
XK−62−2900mfを45dのテトラヒドロフラ
ンに溶解し、室温にて680W9(2,5倍モル)のN
−ベンジルオキシカルボニルオキシコハク酸イミドを加
え攪拌しつつ8時間反応させる。
ルボニル一2′,6′−ジ一N−ベンジルオキシカルボ
ニルXK−62−2と同定した。収率60.3%00・
シリカゲル薄層クロマトグラフイ一(以下TLCと略す
)のRf値(展開剤クロロホルムリメタノール:14%
アスモニア水4:1:1の下層) 0.66○核磁気共
鳴吸収スペクトル(メタノールD4) δ(Ppm)1.10(3H,s),1.43(9H,
s),2.53(3H,s)2.93(3H,s),5
.01(4H,s),7.27(5H,s),7.33
(5H,s)B.3,2′,6′,3′Lテトラ−N−
ベンジルオキシカルボニルXK−62−2の調製:前記
A工程によつて得られた、1−N−t−ブトキシカルボ
ニル21,6′−ジ一N−ベンジルオキシカルボニル一
XK−62−2900mfを45dのテトラヒドロフラ
ンに溶解し、室温にて680W9(2,5倍モル)のN
−ベンジルオキシカルボニルオキシコハク酸イミドを加
え攪拌しつつ8時間反応させる。
反応混合物を濃縮乾固し、得られた淡黄色粉末を10W
LIのクロロホルムに溶解し、トリフルオロ酢酸5aを
加え、室温にて30分放置する。反応混合物を濃縮し、
残渣に酢酸エチル100m1を加え、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液100dにて2回、水100dにて2回、
洗滌後、酢酸エチル層を分離し、溶媒を留去する。以下
前記のA項と同様にシリカゲルカラムクロマトグラフイ
一により精製し、フラクシヨン12〜50を合せ溶媒を
留去すると840THiの白色粉末が得られた。この粉
末は次の物性値を示し、3,2′,6′,3″−テトラ
N−ベンジルオキシカルボニルXK−62−2と同定し
た。収率77.6%○ シリカゲルTLCORf値(展
開剤クロロホルムリメタノール=9:1) 0.37○
核磁気共鳴吸収スペクトル(メタノールD4) δ(Ppm)1.02(3H,s),2,83(3H,
s),3.06(3H,s),5.07(6H,s)5
.13(2H,s),7.34(20H,s)C.抗生
物質SUM−3の合成:上記B工程によつて得られた3
,2′,6′,3″テトラ−N−ベンジルオキシカルボ
ニルXK62−2600〜を50%酢酸水溶液1571
L1!とテトラヒドロフラン15dの混合溶液に溶解し
、氷令しつつ、30%亜硝酸ナトリウム水溶液3aを滴
下後同温度にて1時間攪拌を続ける。
LIのクロロホルムに溶解し、トリフルオロ酢酸5aを
加え、室温にて30分放置する。反応混合物を濃縮し、
残渣に酢酸エチル100m1を加え、飽和炭酸水素ナト
リウム水溶液100dにて2回、水100dにて2回、
洗滌後、酢酸エチル層を分離し、溶媒を留去する。以下
前記のA項と同様にシリカゲルカラムクロマトグラフイ
一により精製し、フラクシヨン12〜50を合せ溶媒を
留去すると840THiの白色粉末が得られた。この粉
末は次の物性値を示し、3,2′,6′,3″−テトラ
N−ベンジルオキシカルボニルXK−62−2と同定し
た。収率77.6%○ シリカゲルTLCORf値(展
開剤クロロホルムリメタノール=9:1) 0.37○
核磁気共鳴吸収スペクトル(メタノールD4) δ(Ppm)1.02(3H,s),2,83(3H,
s),3.06(3H,s),5.07(6H,s)5
.13(2H,s),7.34(20H,s)C.抗生
物質SUM−3の合成:上記B工程によつて得られた3
,2′,6′,3″テトラ−N−ベンジルオキシカルボ
ニルXK62−2600〜を50%酢酸水溶液1571
L1!とテトラヒドロフラン15dの混合溶液に溶解し
、氷令しつつ、30%亜硝酸ナトリウム水溶液3aを滴
下後同温度にて1時間攪拌を続ける。
反応混合物を1007n1の水中にそそぎ、酢酸エチル
100dにて2回抽出する。酢酸エチル層を飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液100m1、水100aで洗滌後分
離し、溶媒を留去する。残渣を50W11のメタノール
に溶解し、2N塩酸0.5TfL1とパラジウム炭酸触
媒100T11fを加え、常温常圧にて水素を通気させ
ながら3時間還元水素化分解を行う。触媒を淵過して得
られる淵液を濃縮し、残渣に50m1の水を加え、1N
水酸化ナトリウムにてPH6に調整する。この水溶液ア
ンバーライトCG−50(NH4+型)100aを充填
した内径2,5cmのカラムに通す。カラムを水500
m1にて洗滌し次いで0.2Nアンモニア水にて溶出し
、10Tn1ずつのフラクシヨンに集める。フラクシヨ
ン20〜46を合せ、アンモニア水を留去すると63W
!fの白色粉末が得られた。この粉末は物性値、生物活
性共に発酵によつて得られた抗生物質SUM−3と完全
に一致し、抗生物質SUM−3と同定した。
100dにて2回抽出する。酢酸エチル層を飽和炭酸水
素ナトリウム水溶液100m1、水100aで洗滌後分
離し、溶媒を留去する。残渣を50W11のメタノール
に溶解し、2N塩酸0.5TfL1とパラジウム炭酸触
媒100T11fを加え、常温常圧にて水素を通気させ
ながら3時間還元水素化分解を行う。触媒を淵過して得
られる淵液を濃縮し、残渣に50m1の水を加え、1N
水酸化ナトリウムにてPH6に調整する。この水溶液ア
ンバーライトCG−50(NH4+型)100aを充填
した内径2,5cmのカラムに通す。カラムを水500
m1にて洗滌し次いで0.2Nアンモニア水にて溶出し
、10Tn1ずつのフラクシヨンに集める。フラクシヨ
ン20〜46を合せ、アンモニア水を留去すると63W
!fの白色粉末が得られた。この粉末は物性値、生物活
性共に発酵によつて得られた抗生物質SUM−3と完全
に一致し、抗生物質SUM−3と同定した。
(収率22.6%)なお前記の処理において、フラクシ
ヨン50〜72を合せ溶媒を留去すると105mfの白
色粉末が得られ、この粉末は下記物性値を示し、1−デ
アミノ一1−エピハイドロキシ−XK62−2(1−エ
ピ−SUM−3)と同定した。
ヨン50〜72を合せ溶媒を留去すると105mfの白
色粉末が得られ、この粉末は下記物性値を示し、1−デ
アミノ一1−エピハイドロキシ−XK62−2(1−エ
ピ−SUM−3)と同定した。
(収率37.7%)(1)シリカゲルTLC(7)Rf
値 展開剤;クロロホルム、メタノール、濃アンモニア水(
1:1:1)(容量比)の下層RfC2:0,88 (2)施光度 〔α〕青=+196.5((C=0.2,H20)(3
)核磁気共鳴吸収スペクトル(重水)δ(Ppm)1.
20(3H,s)1.3〜1.8(6H,m)2,32
(3H,s)2.50(3H,s)5,04(1H,d
)5.15(1H,d)(4) C−13核磁気共鳴吸
収スペクトル(重水)(5)マススペクトル (m/e
)464(M+),435,402,351,347,
334,323,306,290,289,272,1
92,160,143(6)元素分析値、分子量、分子
式は、抗生物質SUM−3と同じである。
値 展開剤;クロロホルム、メタノール、濃アンモニア水(
1:1:1)(容量比)の下層RfC2:0,88 (2)施光度 〔α〕青=+196.5((C=0.2,H20)(3
)核磁気共鳴吸収スペクトル(重水)δ(Ppm)1.
20(3H,s)1.3〜1.8(6H,m)2,32
(3H,s)2.50(3H,s)5,04(1H,d
)5.15(1H,d)(4) C−13核磁気共鳴吸
収スペクトル(重水)(5)マススペクトル (m/e
)464(M+),435,402,351,347,
334,323,306,290,289,272,1
92,160,143(6)元素分析値、分子量、分子
式は、抗生物質SUM−3と同じである。
以上から1−エピ山SUM−3はSUM
3と同じ平面構造をもつものであることが明らかにされ
た。
た。
1−エピ−SUM−3の抗菌スペクトル
(MIC,γ/d)。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で示される抗性物質SUM−3およびその無毒性酸付加
塩。 2 ミクロモノスポラ属に属する抗性物質SUM−3生
産菌を栄養培地に培養し、培養液中に抗生物質SUM−
3を生成せしめ、該培養物から該抗生物質を採取するこ
とを特徴とする抗生物質SUM−3の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53022790A JPS5924998B2 (ja) | 1978-03-02 | 1978-03-02 | 抗生物質sum−3およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP53022790A JPS5924998B2 (ja) | 1978-03-02 | 1978-03-02 | 抗生物質sum−3およびその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS54117477A JPS54117477A (en) | 1979-09-12 |
| JPS5924998B2 true JPS5924998B2 (ja) | 1984-06-13 |
Family
ID=12092467
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP53022790A Expired JPS5924998B2 (ja) | 1978-03-02 | 1978-03-02 | 抗生物質sum−3およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5924998B2 (ja) |
-
1978
- 1978-03-02 JP JP53022790A patent/JPS5924998B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS54117477A (en) | 1979-09-12 |
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