JPS5926937A - 無水ガラスの製造方法 - Google Patents
無水ガラスの製造方法Info
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- JPS5926937A JPS5926937A JP13627282A JP13627282A JPS5926937A JP S5926937 A JPS5926937 A JP S5926937A JP 13627282 A JP13627282 A JP 13627282A JP 13627282 A JP13627282 A JP 13627282A JP S5926937 A JPS5926937 A JP S5926937A
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- gas
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- producing anhydrous
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/14—Other methods of shaping glass by gas- or vapour- phase reaction processes
- C03B19/1453—Thermal after-treatment of the shaped article, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、Ｇｅｌ ｐｌ ｓｂ、 Ｔａ、Ｎｂ、Ｚｒ。
Ａｔ、Ｓｎ、Ｎａ、Ｃａ、Ｂ等を少なくとも一種含む無
水の高シリカ系ガラスの製造方法に係シ、特に、ガラス
微粒子の集合体を焼結して透明ガラス体を作成するに好
適な無水ガラスの製法に関する。
水の高シリカ系ガラスの製造方法に係シ、特に、ガラス
微粒子の集合体を焼結して透明ガラス体を作成するに好
適な無水ガラスの製法に関する。
ガラス微粒子の果合体すなわち多孔質体を焼結して透明
ガラスとする場合に、多孔質体をＣＬｘに代表される・
・ロゲンガスにさらし、多孔質体を構成するガラス微粒
子のＯＨ基を７・ロゲン化して脱水する方法が従来知ら
れている（例えば特公昭４２−２３０３６）。
ガラスとする場合に、多孔質体をＣＬｘに代表される・
・ロゲンガスにさらし、多孔質体を構成するガラス微粒
子のＯＨ基を７・ロゲン化して脱水する方法が従来知ら
れている（例えば特公昭４２−２３０３６）。
この方法によシ、ガラス中のＯＨ基をｉ ｐｐｍ以下に
まで低減できるが、ハロゲンガスとして一般的によく利
用されているＣｔ２は、極めて有毒で、かつ高圧容器に
保管しなければならないなど取シ扱い上危険が伴なって
いた。また高圧ガスを減圧弁を通して圧力を下げる場合
は、減圧弁が金属製であるためＣ１２ガスにょシ腐触さ
れヤスく、ＦｅＣｔｓ等の不純物が混入され易かった。
まで低減できるが、ハロゲンガスとして一般的によく利
用されているＣｔ２は、極めて有毒で、かつ高圧容器に
保管しなければならないなど取シ扱い上危険が伴なって
いた。また高圧ガスを減圧弁を通して圧力を下げる場合
は、減圧弁が金属製であるためＣ１２ガスにょシ腐触さ
れヤスく、ＦｅＣｔｓ等の不純物が混入され易かった。
まだ、Ｃｔ２ガスを発生させルノに、ＣＣｔ４．５ＯＣ
１２などを熱分解する場合には、ＣあるいはＣＣｔ２゜
８０２ などが同時に発生するため、これらが多孔質体
内にとシ込まれ、透明ガラス化の際にガラス中の泡の原
因になる欠点があった。
１２などを熱分解する場合には、ＣあるいはＣＣｔ２゜
８０２ などが同時に発生するため、これらが多孔質体
内にとシ込まれ、透明ガラス化の際にガラス中の泡の原
因になる欠点があった。
特に、過剰にハロゲン化が行なわれた場合は、ＯＨ基と
置換したハロゲン瀘がガラスへの溶解度を越えるため、
透明ガラス化の段階でそのすべてがガラスに溶は込まず
、一部がガス化してガラスに泡を発生させる原因となる
現象があった。そこで、これを抑えるため、ハロゲン化
したのち、今度は酸化してハロゲンを除く方法がとられ
ている（例えば特願昭５５−４６００）。
置換したハロゲン瀘がガラスへの溶解度を越えるため、
透明ガラス化の段階でそのすべてがガラスに溶は込まず
、一部がガス化してガラスに泡を発生させる原因となる
現象があった。そこで、これを抑えるため、ハロゲン化
したのち、今度は酸化してハロゲンを除く方法がとられ
ている（例えば特願昭５５−４６００）。
この方法は、無添加の８ｆＯｘ微粒子には極めて有効な
方法であるが、ドーピング材の入ったガラス微粒子に適
用する場合には、酸化条件の選定が難かしく、酸化に用
いた０２が多孔質体中にとシ込まれ、気泡発生の原因に
なる欠点があった。
方法であるが、ドーピング材の入ったガラス微粒子に適
用する場合には、酸化条件の選定が難かしく、酸化に用
いた０２が多孔質体中にとシ込まれ、気泡発生の原因に
なる欠点があった。
本発明の目的はＯＨ基の除去に５ｉＣｔｎガスを用いて
上述したハロゲン化→酸化のプロセスを容易にするよう
な方法を提供することにあシ、かっとシ扱いが容易で安
全な方法を提供することにある。
上述したハロゲン化→酸化のプロセスを容易にするよう
な方法を提供することにあシ、かっとシ扱いが容易で安
全な方法を提供することにある。
上記目的を達成するだめの本発明の構成は、Ｑｅ、Ｐ、
Ｓｂ、Ｎｂ、 Ｚｒ、Ｔａ、８ｎ、ｋｔ＊Ｎａ、Ｃａ、
およびＢのうちの少なく共一種を含む高シリカ系ガラス
微粒子の果合体を焼結する前に６００〜ｉ ｏ ｏｏｃ
の５ｉｃｔ４蒸気に爆すことにある。以下、図面を用い
て詳述する。
Ｓｂ、Ｎｂ、 Ｚｒ、Ｔａ、８ｎ、ｋｔ＊Ｎａ、Ｃａ、
およびＢのうちの少なく共一種を含む高シリカ系ガラス
微粒子の果合体を焼結する前に６００〜ｉ ｏ ｏｏｃ
の５ｉｃｔ４蒸気に爆すことにある。以下、図面を用い
て詳述する。
第１図（ａ）〜（Ｃ）は本発明を説明するだめの模型図
である。
である。
第１図（ａ）は無添加のＳ ｉＱ２微粒子表面の原子結
合を表わしたもので、同図（ｂ）はＣ１２ガスにょシ表
面ＯＨ基を置換した状態を示す。まだ同図（Ｃ）は５ｉ
ｃｔａによ、？ＯＨ基を置換した表面の原子結合を示す
、無添加の５ｉｏｚにおいては、酸化の前段階では、表
面にある原子結合はいずれも５ｉ−Ｃｔであり、Ｏｚガ
スによる酸化に対しては同等の表面状態である。これに
対し、添加剤が入った５ｉｏｚガラス微粒子表面の原子
結合状態は、第２図（ａ）に示す如＜、５ｉ−ｏ結合の
池にＸ−Ｏ結合（ここでＸは添加原子の種類を示す）が
存在するため、ＯＨ基に対する結合も２種がある。この
ため、ＣＡ２ガスで／・ロゲン化する場合には、同図（
ｂ）に示す如（３ｉ−ＣＬとＸ−Ｃｔの２種の結合が生
成し、酸化に対しても同様である。
合を表わしたもので、同図（ｂ）はＣ１２ガスにょシ表
面ＯＨ基を置換した状態を示す。まだ同図（Ｃ）は５ｉ
ｃｔａによ、？ＯＨ基を置換した表面の原子結合を示す
、無添加の５ｉｏｚにおいては、酸化の前段階では、表
面にある原子結合はいずれも５ｉ−Ｃｔであり、Ｏｚガ
スによる酸化に対しては同等の表面状態である。これに
対し、添加剤が入った５ｉｏｚガラス微粒子表面の原子
結合状態は、第２図（ａ）に示す如＜、５ｉ−ｏ結合の
池にＸ−Ｏ結合（ここでＸは添加原子の種類を示す）が
存在するため、ＯＨ基に対する結合も２種がある。この
ため、ＣＡ２ガスで／・ロゲン化する場合には、同図（
ｂ）に示す如（３ｉ−ＣＬとＸ−Ｃｔの２種の結合が生
成し、酸化に対しても同様である。
５ｉＣ１ａガスでＯＨ除去を行なう場合には、同図（Ｃ
）に示すように表面に形成される結合は１種類になり、
酸化に対してもただ１種類の表面状態となる。
）に示すように表面に形成される結合は１種類になり、
酸化に対してもただ１種類の表面状態となる。
以上述べたようにＯＨ基を除去する方法としてＣ４２に
代表されるノ・ロゲンガスを用いることとＳ Ｉ Ｃ１
４を使用することとの間には、ガラス微粒子表面の原子
結合に大きな違いを生じさせる。このため、表面状態に
強く依存する焼結ガラス化や酸化反応に対しては大きな
影響が現われる。すなわち、５ｉＣ１４蒸気をＯＨ除去
に用いる場合には、添加物の種類に関係なく、はぼ一定
の条件（１０００〜１１００ ｔｒ ）で酸化反応を行
なえ、その後の焼結ガラス化を行えるのに対し、Ｃ６２
ガスをＯＨ除去に用いる場合には、添加物の種類に応じ
て酸化条件を選定する必ヅがある。これは、添加物Ｘに
対して生成するＸ−Ｃｔ結合の酸化反応条件が５ｉ−Ｃ
ｔの酸化反応条件と一般的には異なるだめ、ｘ’−ｃｔ
の酸化によって形成したＸ−０のためガラス微粒子相互
の焼結が速まったシ遅れたりするためである。
代表されるノ・ロゲンガスを用いることとＳ Ｉ Ｃ１
４を使用することとの間には、ガラス微粒子表面の原子
結合に大きな違いを生じさせる。このため、表面状態に
強く依存する焼結ガラス化や酸化反応に対しては大きな
影響が現われる。すなわち、５ｉＣ１４蒸気をＯＨ除去
に用いる場合には、添加物の種類に関係なく、はぼ一定
の条件（１０００〜１１００ ｔｒ ）で酸化反応を行
なえ、その後の焼結ガラス化を行えるのに対し、Ｃ６２
ガスをＯＨ除去に用いる場合には、添加物の種類に応じ
て酸化条件を選定する必ヅがある。これは、添加物Ｘに
対して生成するＸ−Ｃｔ結合の酸化反応条件が５ｉ−Ｃ
ｔの酸化反応条件と一般的には異なるだめ、ｘ’−ｃｔ
の酸化によって形成したＸ−０のためガラス微粒子相互
の焼結が速まったシ遅れたりするためである。
以下、図面により本発明の具体的実施例を詳細に説明す
る。第３図は本発明の実施方法を示す図で、１は反応管
、２は電気炉、３はガラス多孔質体、４は５ｉＣｔ４を
入れたバブラ、５，６．７は開閉弁である。
る。第３図は本発明の実施方法を示す図で、１は反応管
、２は電気炉、３はガラス多孔質体、４は５ｉＣｔ４を
入れたバブラ、５，６．７は開閉弁である。
一般的な動作としてはＯＨ除去を必要とする多孔質体試
料を電気炉の中に入れ、試料を適当な雰囲気（０２、不
活性ガス又は真空中）で加熱する。
料を電気炉の中に入れ、試料を適当な雰囲気（０２、不
活性ガス又は真空中）で加熱する。
次に、５ｉＣ１４が５ｉＱ２のＯＨ基と反応する６００
０以上（一般に６００〜１００ＯＣ）の温度になった時
点で５ｉｃｔａをキャリヤガスで多孔質体のある反応管
に送シ込み、適当な時間（５分から５時間）反応させる
。このときのキャリヤガスは不活性ガスが好ましいが、
これに拘束されない。また５ｉＣｔ４の濃度は５〜５０
ｖｏＬ％が望ましいがこれに限らない。
０以上（一般に６００〜１００ＯＣ）の温度になった時
点で５ｉｃｔａをキャリヤガスで多孔質体のある反応管
に送シ込み、適当な時間（５分から５時間）反応させる
。このときのキャリヤガスは不活性ガスが好ましいが、
これに拘束されない。また５ｉＣｔ４の濃度は５〜５０
ｖｏＬ％が望ましいがこれに限らない。
次に反応管への゛５ｉＣｔ４蒸気の送り込みを止め、Ｈ
ｅ雰囲気中で焼結ガラス化するか、または好塘しくは０
２中で６００〜１２００ｔＺ’（一般に９００〜ｘｔｏ
ｏｃ）の範囲で適当な時間酸化（０，５時間〜５０時間
）したのち、Ｈｅガス中で焼結しガラス体と得る。
ｅ雰囲気中で焼結ガラス化するか、または好塘しくは０
２中で６００〜１２００ｔＺ’（一般に９００〜ｘｔｏ
ｏｃ）の範囲で適当な時間酸化（０，５時間〜５０時間
）したのち、Ｈｅガス中で焼結しガラス体と得る。
以下、実施例につき、具体的に説明する。
実施例ｌ
５ｉＣ１４，ＧｅＣ１ａを原料にしてこれらの蒸気が９
：１の割合になるよう酸水素バーナの炎の中に送り込み
、支持棒の一端に連続的に堆積させたスートロッド直径
５０咽φを反応αの中に入れ、８００Ｃで３０分間Ｉ
Ｑ ｖｏＬ％の５ｉＣＡ４蒸気に爆した。その後、Ｈｅ
中で電気炉温度を１００″Ｃ／ｈの割合で１３００ｒま
で昇温して透明ガラス体を得た。この透明体には、気泡
はまったく見い出されなかった。一方、同様にして作成
したスートロッドを１０％のＣ１２ガスを使って、上と
同様な処理を行ない、ガラスを作成したところ、ガラス
体には１〜２Ｔｒｍの気泡が数個見られ、ノ＜−すで強
熱した場合にはその数が増加した。
：１の割合になるよう酸水素バーナの炎の中に送り込み
、支持棒の一端に連続的に堆積させたスートロッド直径
５０咽φを反応αの中に入れ、８００Ｃで３０分間Ｉ
Ｑ ｖｏＬ％の５ｉＣＡ４蒸気に爆した。その後、Ｈｅ
中で電気炉温度を１００″Ｃ／ｈの割合で１３００ｒま
で昇温して透明ガラス体を得た。この透明体には、気泡
はまったく見い出されなかった。一方、同様にして作成
したスートロッドを１０％のＣ１２ガスを使って、上と
同様な処理を行ない、ガラスを作成したところ、ガラス
体には１〜２Ｔｒｍの気泡が数個見られ、ノ＜−すで強
熱した場合にはその数が増加した。
実施例２
Ｓｉ （ＯＣＨ３）４１５．２ ｇ、 Ｇｅ （ＯＣＨ
３） ４ １．９ｇ１をＣｌ−１３０Ｈ１６ｒｄに溶解
した液に５Ｘ１０−”モル／ｌのＮＨ４ＯＨ液を７．２
−滴下し、混合液を作った。これを内径１０φの容器に
入れ、ゲル化させ、乾燥して添加ゲルを作成した。この
ゲル奪、一方は５ ｖａｔ％の５ｉＣ１＜蒸気に、他方
は、５ｖｏＡ％のＣ１２蒸気に８００ｔＺ’、３０分間
さらし、次に０２ガスの捏囲気で１０’５０Ｕ、１０ｈ
酸化を行ない、その後Ｈｅ雰囲気中で１３００１；まで
昇温（昇温速度５０Ｃ／ｈ）を行なった。この結果、Ｃ
１２，５ｒＣｔ＜共に透明なガラスが得られたが、Ｃ１
２ガスで処理したガラスは酸水素バーナで強熱すると発
泡が起シ透明性を消失（−だ。しかし、５ｉＣｔ４蒸気
で処理したガラスは、バーナの強熱に対しても安定であ
った。また残留ｏＨ＝はどちらも５ｐｐｍ以下でめった
。 ′実施例３ 市販の分相ガラスの中間生成物である多孔質体を使用し
て実施例２と同様な条件（焼結温度は１２０（Ｉ’）で
ガラス化を行なった。多孔質体の組成はＳｉ□ｚ約９７
ｗｔ％、Ｂ２Ｏ３約３ｗｔ％その他にＮａ、 Ｃａ等を
極く微量に會んでいた。
３） ４ １．９ｇ１をＣｌ−１３０Ｈ１６ｒｄに溶解
した液に５Ｘ１０−”モル／ｌのＮＨ４ＯＨ液を７．２
−滴下し、混合液を作った。これを内径１０φの容器に
入れ、ゲル化させ、乾燥して添加ゲルを作成した。この
ゲル奪、一方は５ ｖａｔ％の５ｉＣ１＜蒸気に、他方
は、５ｖｏＡ％のＣ１２蒸気に８００ｔＺ’、３０分間
さらし、次に０２ガスの捏囲気で１０’５０Ｕ、１０ｈ
酸化を行ない、その後Ｈｅ雰囲気中で１３００１；まで
昇温（昇温速度５０Ｃ／ｈ）を行なった。この結果、Ｃ
１２，５ｒＣｔ＜共に透明なガラスが得られたが、Ｃ１
２ガスで処理したガラスは酸水素バーナで強熱すると発
泡が起シ透明性を消失（−だ。しかし、５ｉＣｔ４蒸気
で処理したガラスは、バーナの強熱に対しても安定であ
った。また残留ｏＨ＝はどちらも５ｐｐｍ以下でめった
。 ′実施例３ 市販の分相ガラスの中間生成物である多孔質体を使用し
て実施例２と同様な条件（焼結温度は１２０（Ｉ’）で
ガラス化を行なった。多孔質体の組成はＳｉ□ｚ約９７
ｗｔ％、Ｂ２Ｏ３約３ｗｔ％その他にＮａ、 Ｃａ等を
極く微量に會んでいた。
どちらも透明ガラス体となったが、実７姉例２と同じく
Ｃｔ２ガス処理のガラスではバーナ強熱で発泡が著しか
った。これに対し、５ｉＣｔ４処理のガラスでは、バー
ナ加熱によシ発泡は皆無ではなかったが、その数は数個
以内と極めて少なかった。
Ｃｔ２ガス処理のガラスではバーナ強熱で発泡が著しか
った。これに対し、５ｉＣｔ４処理のガラスでは、バー
ナ加熱によシ発泡は皆無ではなかったが、その数は数個
以内と極めて少なかった。
以上、実施例では添加物としてＧｅ、Ｂを例にとって説
明したが、その他の添加物として、Ｐ。
明したが、その他の添加物として、Ｐ。
Ｓｂ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ａ７．Ｃａ等を含んだ
ガラス微粒子の果合体に対しても全く同様に適用でき良
好な効果が得られた。また添力旧勿としては、これら列
記したものに限らず、本発明と同様なプロセスを経て無
水ガラスを作成するものに対しては、同様な効果を期待
できることはいうまでもない。
ガラス微粒子の果合体に対しても全く同様に適用でき良
好な効果が得られた。また添力旧勿としては、これら列
記したものに限らず、本発明と同様なプロセスを経て無
水ガラスを作成するものに対しては、同様な効果を期待
できることはいうまでもない。
実施ρ０１では、スートロッドを第１図に示すような横
型の電気炉に入れて処理する方法が示されているが、こ
の装置に限らず、スートロッドを垂直にしたまま、ゾー
ンを斜けて焼結する。いわゆる光フアイバ母材作製に用
いられている気相軸付装置にも本発明法を適用できるこ
とはいうまでもない。
型の電気炉に入れて処理する方法が示されているが、こ
の装置に限らず、スートロッドを垂直にしたまま、ゾー
ンを斜けて焼結する。いわゆる光フアイバ母材作製に用
いられている気相軸付装置にも本発明法を適用できるこ
とはいうまでもない。
以上述べた如く、本発明の５ｉＣｔ４蒸気を用いる方法
によれば、従来のＣｔ２ガスを用いる方法に比べ、焼結
ガラスの発泡を低減でき、しかも高圧ガス容器を用いる
危険もなく取り扱いが容易であシ、多孔質体から無水ガ
ラスを作成するに貢献が極めて大きい。
によれば、従来のＣｔ２ガスを用いる方法に比べ、焼結
ガラスの発泡を低減でき、しかも高圧ガス容器を用いる
危険もなく取り扱いが容易であシ、多孔質体から無水ガ
ラスを作成するに貢献が極めて大きい。
第１図は本発明を説明するだめの概念図、第２図は本発
明の他の実施例を説明するだめの概念図、第３図は本発
明を実施する装置の構成図である。 １・・・反応管、２・・・電気炉、３・・・集合体、４
・・・バブＹ （図 （０Ｌ〕 −Ｓｌ−ｏ −ｓＨ− （す （Ｃ） ｌ α 一Σｉ−θ−、Ｓｉ − 第 ２ 図 り （す ｃＬｃＩ２ −５７−θ−λ−θ−Σ、゛− 第 ３ 図 第１頁の続き ■出 願 人 日立電線株式会社 東京都千代田区丸の内２丁目１ 番２号
明の他の実施例を説明するだめの概念図、第３図は本発
明を実施する装置の構成図である。 １・・・反応管、２・・・電気炉、３・・・集合体、４
・・・バブＹ （図 （０Ｌ〕 −Ｓｌ−ｏ −ｓＨ− （す （Ｃ） ｌ α 一Σｉ−θ−、Ｓｉ − 第 ２ 図 り （す ｃＬｃＩ２ −５７−θ−λ−θ−Σ、゛− 第 ３ 図 第１頁の続き ■出 願 人 日立電線株式会社 東京都千代田区丸の内２丁目１ 番２号
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 り、Ｇ ｅ＋ Ｐ ＋ Ｓ ｂ ＋ Ｎ ｂ ｇ Ｚ
ｒ ｐ Ｔ ａ ＋ Ｓ ｎ Ｈｋｔ、Ｎａｌ Ｃａｌ
Ｂのうちの少なくとも一種を含む高シリカ系ガラス微
粒子の果合体を焼結によって透明ガラ４化するガラスの
製造方法において、上記集合体を焼結する前に６００Ｃ
〜１０００Ｃの温度範囲で５ｉＣ１ａの蒸気に前記果合
体を爆すことを特徴とする無水Ｗラスの製造方法。 ２、特許請求の範囲第１項において、上記集合体を６０
０〜１０００ｔ：’の温度範囲で５ＩＣ１ａの蒸気にさ
らしたのち、さらに９００〜１２００Ｃの温度で０２含
有雰囲気にさらすことを特徴とする無水ガラスの製造方
法。 ３、前記集合体として、火炎加水分解反応によって支持
棒の一端にガラス微粒子を堆積させたものを用いること
を特徴とする特許請求の範囲第１項に係わる製造方法。 ４、前記集合体として、金属アルコキシドの加水分解で
得られるゲルを用いることを特徴とする特許請求の範囲
第１項の無水ガラスの製造方法。 ５、前記果合体として、分相法で得られる多孔質体を用
いることを特徴とする特許請求の範囲第１項の無水ガラ
スの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13627282A JPS5926937A (ja) | 1982-08-06 | 1982-08-06 | 無水ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13627282A JPS5926937A (ja) | 1982-08-06 | 1982-08-06 | 無水ガラスの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5926937A true JPS5926937A (ja) | 1984-02-13 |
Family
ID=15171311
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13627282A Pending JPS5926937A (ja) | 1982-08-06 | 1982-08-06 | 無水ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5926937A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54127914A (en) * | 1978-03-29 | 1979-10-04 | Nippon Telegraph & Telephone | Production of anhydrous glass material for optical fibers |
| JPS56104732A (en) * | 1980-01-21 | 1981-08-20 | Hitachi Ltd | Preparation of silica glass |
-
1982
- 1982-08-06 JP JP13627282A patent/JPS5926937A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54127914A (en) * | 1978-03-29 | 1979-10-04 | Nippon Telegraph & Telephone | Production of anhydrous glass material for optical fibers |
| JPS56104732A (en) * | 1980-01-21 | 1981-08-20 | Hitachi Ltd | Preparation of silica glass |
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