JPS60117856U - スパツタリング装置 - Google Patents

スパツタリング装置

Info

Publication number
JPS60117856U
JPS60117856U JP565484U JP565484U JPS60117856U JP S60117856 U JPS60117856 U JP S60117856U JP 565484 U JP565484 U JP 565484U JP 565484 U JP565484 U JP 565484U JP S60117856 U JPS60117856 U JP S60117856U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate holder
anode
sputtered particles
cathode
utility
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP565484U
Other languages
English (en)
Inventor
今岡　英一郎
上間　恒明
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu General Ltd
Original Assignee
Fujitsu General Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu General Ltd filed Critical Fujitsu General Ltd
Priority to JP565484U priority Critical patent/JPS60117856U/ja
Publication of JPS60117856U publication Critical patent/JPS60117856U/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は従来のスパッタリング装置の構成図、第２図は
第１図のチェンバ内部を示すもので一部を切欠いた斜視
図、第３図は本考案によるスパッタリング装置の一実施
例を示す構成図、第４図は第３図のチェンバ内部を示す
もので一部を切欠いた斜視図、第５図は第４図のアノー
ドの他の実施例を示す斜視図、第６図は第４図のアノー
ドのさらに他の実施例を示す斜視図である。 図中、１，１１はチェンバ（減圧容器）、２゜２０はシ
ャッタ、３は窓、４．．１６はターゲットホルダ（カソ
ード）、５．．１〜５ａ４　ｇ　　５ｂ１〜５ｂ４９１
５８１〜１５ａ４〜１５．、　、　１５ｂ、〜１５．。 は基板、６，１２は基板ホルダ、７，２７は高圧直流電
源（スパッタ電源）、１３は回転軸、４２．１７はター
ゲ゛ット、１８は網目、１９はアノード、２１は中心穴
、２２は管軸、２３は円板、２４１〜２４．は格子、２
５□〜２５ｏ−１は隙間、２６は円孔、２８は直流電源
（バイアス電源）、２９は穴、３０は平板。

Claims (4)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. （１）減圧容器内でカソードからスパッタされたスパッ
    タ粒子を基板ホルダ上の基板の表面に付着せしめるスパ
    ッタリング装置において、該基板ホルダを回転可能な柱
    状体で形成し、該基板ホルダの外周面に該基板を取付け
    、該基板ホルタの外周面と該カソードとの間に、該基板
    ホルダと回転中心軸を同一とする回転可能な筒状シャッ
    タを設け、該筒状シャツータと該カソードとの間にスパ
    ッタ粒子を通過せしめるための通過孔を多数形成したア
    ノードを設け、該アノードと該カソードとの間にスパッ
    タ電源を接続し、該アノードと該基板ホルダとの間に該
    基板ホルダを負バイアスとするためのバイアス電源を接
    続してなることを特徴とするスパッタリング装置。
  2. （２）実用新案登録請求の範囲第１項記載においてアノ
    ードは網体で形成し、この網体の網目をスパッタ粒子の
    通過孔としてなるスパッタリング装置。
  3. （３）実用新案登録請求の範囲第１項記載においてアノ
    ードは多数の格子で形成し、これらの格子相互間の隙間
    をスパッタ粒子の通過孔としてなるスパッタリング装置
    。
  4. （４）実用新案登録請求の範囲第１項記載においてアノ
    ードは多数の円孔を穿設した板体で形成しこれらの穿設
    円孔をスパッタ粒子の通過孔としてなるスパッタリング
    装置。
JP565484U 1984-01-19 1984-01-19 スパツタリング装置 Pending JPS60117856U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP565484U JPS60117856U (ja) 1984-01-19 1984-01-19 スパツタリング装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP565484U JPS60117856U (ja) 1984-01-19 1984-01-19 スパツタリング装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS60117856U true JPS60117856U (ja) 1985-08-09

Family

ID=30482356

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP565484U Pending JPS60117856U (ja) 1984-01-19 1984-01-19 スパツタリング装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS60117856U (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6299461A (ja) * 1985-10-25 1987-05-08 Hitachi Ltd 薄膜形成装置および薄膜形成方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5538919A (en) * 1978-09-05 1980-03-18 Nec Corp Sputtering apparatus
JPS58752A (ja) * 1981-06-25 1983-01-05 Orient Watch Co Ltd 酸素ガス検知組成物

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5538919A (en) * 1978-09-05 1980-03-18 Nec Corp Sputtering apparatus
JPS58752A (ja) * 1981-06-25 1983-01-05 Orient Watch Co Ltd 酸素ガス検知組成物

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6299461A (ja) * 1985-10-25 1987-05-08 Hitachi Ltd 薄膜形成装置および薄膜形成方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS60117856U (ja) スパツタリング装置
JPS59178367U (ja) スパツタリング装置
JPS5956738U (ja) スパツタ用タ−ゲツト
JPH0343233Y2 (ja)
JPH0231054U (ja)
JPS6123254U (ja) 回転陽極ｘ線管
JPS58165718U (ja) レコ−ド盤用除電器
JPS6215566U (ja)
JPS6127333U (ja) スパツタ用ウエ−ハホルダ
JPS58101871U (ja) 真空蒸着装置
JPS60185653U (ja) 真空蒸着装置
JPS63109321U (ja)
JPS6093757U (ja) スパツタリング装置
JPS5928033Y2 (ja) スパツタリング装置
JPS58188304U (ja) キヤスタ−用ホイル
JPS635635U (ja)
JPS6279873U (ja)
JPS5973774U (ja) 一葉回転双曲面模型
JPS5980470U (ja) スパツタリング装置用陰極
JPS58172434U (ja) イオン化成膜装置
JPS62110263U (ja)
JPS59169348U (ja) 真空蒸着装置の基板加熱体
JPS6362874A (ja) 薄膜磁気デイスク用ホルダ−
JPH0357955U (ja)
JPS5826733U (ja) 金属薄膜磁気記録媒体の製造装置