JPS60234991A - セパレ−タ利用の部分メツキ方法及びその装置 - Google Patents

セパレ−タ利用の部分メツキ方法及びその装置

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JPS60234991A
JPS60234991A JP9002984A JP9002984A JPS60234991A JP S60234991 A JPS60234991 A JP S60234991A JP 9002984 A JP9002984 A JP 9002984A JP 9002984 A JP9002984 A JP 9002984A JP S60234991 A JPS60234991 A JP S60234991A
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Yasuo Shimazu
島津 泰生
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Sonix Co Ltd
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SONITSUKUSU KK
Sonix Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、マルチ方式の噴射式部分メッキ手段であって
、例えば通信機器用コンタクタ等電気部品の接点やIC
用リート9フレームのボンディングエリア等を部分メッ
キする際に、第3の部材であるセパレータによりメッキ
液噴射ノズル及びマスク穴の配置間隔をその被メツキ部
の間隔に対応して自在に可変設定できるようにしたセパ
レータ利用の部分メッキ方法及びその装置に関する。
一般に、通信機器用交換器等に使用されるコンタクトや
プリント基板のリード部、或いはICリードフレームの
ボンディングエリアや、多極接続用のコネクター等の電
気接点部は、通常フープ状にスリットされた銅又は銅合
金素材をプレス加工によって打抜き曲加工した後、部分
メッキ手段によりその先端コンタクト部に金ヤ銀、白金
、パラジウム等の貴金属を部分メッキ処理するものであ
る。
例えば第1図に図示の如く通信機器に用いられているコ
ンタクタ1は、材厚が0.1〜0.5酊程度のタフピッ
チ銅板を幅員1.0〜3.0 sn程度の側面U字形状
にプレス加工してコンタクタ本体2を形成し、その曲面
底部3に厚さ数μ1面積0.3〜数U!の極微小部分メ
ッキ層4を処理できれば機能上充分である。
処が在来の部分メッキ手段は、第2図に図示の如くアノ
ード極に設定したノズル5から加圧されたメッキ液をカ
ソード極に設定したワーク(この場合はコンタクタ本体
2の曲面底部3)に向けて噴射させ電解メッキ処理する
ものであシ、被メツキ部の設定はメッキパターンに対応
した開口部を有するマスク6によシマスキングするもの
であるが、そのメッキ精度及び品位は極めて高度を要す
る処から、メッキ設備製作上にかなp問題があった。
例えば上記コンタクタ1の場合、現物は加工間隔(PO
)が2.541+mであシ、且つこれを40本同時に部
分メッキする必要があるため、第3図に図示の如く各ワ
ークに、対応してノズル5も40本も同じ間隔で配設し
なければならず、又、マスク6も同間隔で微細なマスク
穴7を穿設加工しなければならない。
つま9ワークの種類毎に専用化したノズル5及びマスク
7から成るメッキ装置を必要とするので、ワークの数だ
け専用メッキ装置を予め準備しなければならないことに
なる。
而かも、上記メッキ装置は、マスク6及びノズル5共、
耐熱性、耐薬品性及び耐久性を具備する素材、例えばセ
ラミックやステンレス鋼材等に微小精密加工をしなけれ
ばならないので、装置製造コストが嵩む上、ワークに対
応してその都度ノズル5やマスク6を交換し調整する必
要があるから、段取り工数が多大である。
又、ワークの被メッキ部間隔(Po)が接近していルト
ノスル5の外径寸法も規制されるので、微小間隔の部分
メッキが不可能な場合もある。
このような問題は、前記した通信機器用コンタクタ1を
処理する場合に特に影譬が大きい。
即ち、被メッキ物であるコンタクタ本体2は、多品種多
量生産する物であゃ、その各品種毎の形態は相似的なも
のや、被メッキ域間隔だけの相違、或いは被メツキ面積
だけが異なるものが多い。又、加工に際しては第4図に
図示の如くフープ材にパイロット穴8及びコンタクタ本
体2の外形を例えば前記したように254龍間隔で打抜
いた後、先端を曲加工した段階でその曲面底部3に部分
メッキ処理な行ない、次いで切断工程に廻すのが一般的
である。
従って、マスク6は第5図に図示したように単発的なマ
スク穴7を連設したシ、或いはクシ形にマスク大川切欠
部9を連設したマスク板10Aに、平板状の側板10B
を添設したマスク6(第6図参照)を利用することがで
きるが、これらの製造コストはかなシ嵩む上、コンタク
タ1の種類毎に準備しなければならない。
一方、ノズル5の方はマスク穴7に対応した個別のノズ
ル穴を加工するか、数個〜数十個のマスク穴7をカバー
する長溝状のノズル穴5Aを穿設する。(第7図参照) この製造コストもマスク6以上に高くなる上、コンタク
タ1の種類毎に準備する必要がある。而かもメッキに際
しては、メッキ液流が干渉したり、乱流や渦流の発生及
びマスキング部分での滞留現象によって電流密度が著し
く劣化し、又マスキング部分のメッキ液浸潤によるハレ
ーシロンと相俟ってメッキ品位や効率が極端に低下する
惧れがあり、歩留りの低下と、段取り工数及び処理工数
の多大化と、設備費の嵩みが相俟ってメッキ処理コスト
が高くなると云う問題があった。
本発明は斜上の諸問題点に鑑み成されたもので、その第
1の目的とする処は、ワークの種類に対応して任意数の
部分的マスキング域を自在に可変設定できるようにし、
且つノズルからのメッキ液流束も各部分的マスキング載
録に対応する状態に分けるようにしてマルチ式部分メッ
キを可能ならしめ、メッキ処理段取り工数やメッキ処理
工数を大巾に低減させたセパレータ利用の部分メッキ方
法の提供にある。又、本発明の他の目的とする処は、単
lこスリ、トや長溝穴を形成しただけのマスクと、この
スリットや長溝穴と対峙したノズルの開口面に第3の部
材であるセパレータを立設し、且つ該セパレータをマス
クとノズルで挾持するようにして、マスクは固よりノズ
ルに対する複雑且つ精密な加工を要せずに多数の部分メ
ッキを同時処理可能とし、単一の装置で多種のワークに
対応できるようにした低摩な部分メッキ装置の提供にあ
る。
更に、本発明の他の目的とする処は、被メッキ物に当接
したマスク乃至マスクホルダーと外套−によって密閉空
間を形成し、且つこの中にノズルを配設すると共に負圧
状態を保持せしめ、上記セパレータの介装と相俟って高
品位の部分メッキを廉価に処理し得るようにした部分メ
ッキ装置の提供にある。
以下に本発明の実施例を第8図以下に基づき説明する。
先ずワーク11の被メツキ域をマスキングするマスク1
2Aは、マスクホルダー13により保持させてあり、該
マスクホルダー13の下段には、メッキ液を噴射するノ
ズル14Aを保持し且つメッキ液排除穴15を有するノ
ズルホルダー16を設け、更に該ノズルホルダー16の
下段に配置され上記メッキ液排除穴15と連通するチャ
ンバー17を有し且つ底部に連通孔18を有する外套−
19と、該外套−19の下段に連設され上記連通孔18
と連通ずる気液分離器20と、この気液分離器20に連
結し、上記マスクホルダー13及びノズルホルダー16
乃至外套−19のチャンバー17内を負圧状態に保持す
る吸引機構21とから成るものであり、気液分離器2o
は図示しないメッキ液タンクにも接続し、このメッキ液
タンクに回収されたメッキ液は上記ノズル14Aに再供
給されるようにしである。(以上第8図参照)尚、上記
装置に於いて、外套画19及び気液分離器20や吸引機
構21は固定式とし、ノズルホルダー16及びマスクホ
ルダー13は着脱交換自在としである。次に上記各部の
構造を詳述する。
先ずマスクホルダー13は第9図で示されるように、ス
テンレス鋼等の素材で平形−状に形成さね、その表面側
には凹部22が形成され、且っ該凹部22の中央に所定
幅員の長溝%が形成されている。又、内面側は空胴で上
記長111123の処は第8図に図示の如く逆テーパー
状に形成されている。
又、該マスクホルダー13の凹部22には、アルミニウ
ム等の金属で成形し且つその外表面全域をフッ素樹脂等
の絶縁物でコーティングしたもの、或いはガラスやセラ
ミック又は硬質ゴム等の非導電性素材で成形された薄平
板状のマスク本体24を複数並設して嵌入し、両マスク
本体24の中央部に被メツキパターンの幅員に対応する
幅員(W、)のスリット25が形成されるようにしであ
る。
即ち、両マスク本体Uの一方は平帯板状に形成され、且
つ他方は上記スリット250幅員(W、)に相当するコ
字形の切欠部が形成されていて、両者を継合わせるとこ
の切欠部分がスリット25になる。
尚、このマスク本体24のスリット25もその底部を逆
テーパー状と成し、マスクホルダー13の長溝nのテー
パ一部と連続する形態にしである。
一方、ノズルホルダー16は上記マスクホルダー13と
連結可能な平枠状に形成されていて、その中央には長#
#詔と対応する長方形有底―状の液供給溝26が形成さ
れ、該液供給溝26はその側壁に穿設されたメッキ液供
給穴27と連通ずるようにしてあり、又液供給溝26の
両側に長方形状のメッキ液排除穴15を形成しである。
更に、このノズルホルダー16に組込むノズル14Aは
、平板状の側板あと、前記マスク本体24のスリット2
5と対応する長さの噴射溝29が形成された平面コ字状
のノズル本体30から成り、両者を合体しビス等により
緊締し、該噴射溝29と前記液供給溝26とを連通ずる
状態でノズル14Aをノズルホルダー16に連結固定す
る。
又、上記ノズル14Aとマスクホルダー13との間には
、ガラスやセラミック又は硬質ゴム等の絶縁物製剛体、
或いは、アルミニウム等の金属の外表面にフッ素樹脂等
の絶縁物をコーティングした素材により正面凸形に成形
されたセ、6レータ31Aを第10図に図示の如く介装
してありて、該セ、Fレータ31Aの頂部32の幅員(
WO)は前記マスク13のスリット25内に臨ませるこ
とができる寸法でl)、又底部33は前記ノズル14の
噴射溝29を跨架できる幅上記セパレータ31Aは、ワ
ーク11の被メツキ部数に応じ次数量だけ使用するもの
で、その配置間隔を被メツ、キ部の間隔に対応させ、ノ
ズル14Aとマスク12人との間にシリコンゴム等のシ
ール材(図示せず)を介して挾持させるが、接着剤を用
いてノズル14Aに接着固定するか、或いはビス止め等
の機械的手段によシノズル14Aに固着しても良い。
特に本発明にあっては、ノズル14A、 14B、 1
4Cとワーク11との極間距離を接近させた方が良く、
セノξレータ31 A、 31 B、 31 C,31
Dの固持の確実化は勿論であるが、この極間距離を11
1m1以下にすることで高電界強度が得られ、極微小部
分メッキが可能となる。
又、このセパレータ31AJこよシ仕切られたノズル開
口部面積は、同じく該セパレータ31Aで以って仕切ら
れたマスク開口部面積より大としである。
つまシ、マスク12^のスリットあの幅員(W、)と、
ノズル14Aの噴射溝290幅員(W、)とは、w、<
 w、の関係がある。
次に外套−19は、前記した如くそのチャンバξ−17
の底部に設けられた連通孔18乃至気液分離器20を介
して真空ポンプ等の吸引機構21に接続され、該吸引機
構21の駆動により前記マスクホルダー13乃至ノズル
ホルダー16のメッキ液排除穴15及び外套−19のチ
ャンバー17内を所定の負圧状態にすることができるよ
うにしである。
尚、上記気液分離器20の底部に連結されたメッキ液夕
/りは、図示しないノミイブ及び加圧用ポンプ機構を介
して前記ノズルホルダー16のメッキ液供給穴27に接
続してあって、メッキ液給送閉回路を構成してあシ、メ
ッキ液の循環使用を可能にしである。
紙上の構成に於いて、メッキ処理に先立ち、先ずワーク
11の被メツキパター/に応じて必要数のセノξレータ
31Aを前記した手段によりノズルホルダー16に配設
し、ノズル開口部の設定とマスキングを同時に完了させ
る一方、ワーク11をカソード極側とし、又、ノズル1
4Aをアノード極側にして夫々に所定の直流電圧を印加
する。
次いでワーク11をマスク12Aに密着配置した後、吸
引機構21を作動させマスクホルダー13内及び外套−
19のチャンバー17内を負圧状態にする一方、メッキ
液加圧用のポンプ機構の駆動音こよって、メッキ液をノ
ズルホルダー16のメッキ液供給穴27乃至液供給溝2
6を経てセパレータ31Aによって仕切られた各ノズル
開口部から噴射させる。この時セパレータ31Aの頂部
32はワーク11のガイド9となシ、又側壁面が空気遮
断する状態となる。而してメッキ液はワーク11の被メ
ツキ部に衝突し電解メッキが行なわれるが、使用済及び
余剰のメッキ液は負圧により強制排除される迄め、ノズ
ル14A及びマスク13の近傍で滞留し背圧状態になる
ことを完全に防止し、且つメッキ液の強制吸引排除によ
シメソキ液は常に新鮮な状態であるから、メッキ電流密
度が上昇し高効率でメッキ処理が行なえる上、マスキン
グ部に於いてメッキ液がワーク11とマスク12Aの間
に浸潤するのを防止できるのでハレーシコンの無い高品
位のメッキ層が得られる。
尚、ワーク110種類がリート9フレームのインナーv
−トjのボンディングエリア等であって極微小部分メッ
キで済む場合は、被メッキ面とノズル14Aの間隔を1
11I+以下に極接近させてメッキ液を噴射させるが、
この場合でもこのわづかな隙間に滞留し易い余剰メッキ
液も負圧の為瞬間的に吸引排除され、被メッキ面には新
鮮なメッキ液が供給されるので、例えばメッキ面積が0
.3〜1.0削2でメッキ厚1μ程度のメッキ処理が可
能である。
上記の余剰乃至使用済のメッキ液は、気液混合状態で外
套1i19のチャンバー17を経て気液分離器20に流
入し、そこで分離されたメッキ液はメッキ液タンクに回
収される。
勿論、ワーク11の順送とメッキ液加圧ポンプ機構とは
共に連動させることで、上記部分メッキな高速で連続処
理できる上、ワーク11の種類を変更する場合は、セパ
レータ31Aの数及び配置間隔を適宜変更配設するだけ
で済むので、段取シエ数が大巾に低減できる。而かもマ
スク本体24やノズル14A及びセパレータ31Aの構
造が極めて簡素化され且つ加工精度も緩和できるのでそ
の製造コスト及びメンテナンスコストが極めて廉価にな
り、メッキ効率の向上と相俟ってメッキ処理費の大巾な
低廉化が可能となる。
次に、本発明の他の実施例について説明する。
先ずマスク14Bは、平板状のマスク板41に長方形の
マスク穴42を穿設し、これを前記セパレータ31A乃
至後述のセパレーターの頂部で所定間隔に仕切9被メ、
キ域を夫々正確にマスキングするようにしである。(第
11図参照) 他方第2実施例に係るノズル14Bは、予め被メツキ部
の配置間隔に対応して切欠溝51を所定数連設したノズ
ル本体52と、その切欠溝51を閉塞可能゛な側板53
とから成り、両者を連結固定する構造である。(第12
図参照) 又、第3実施例に係るノズル14Cは、ノズル本体ヌに
同じく被メツキ部の配置間隔に対応してノズル穴55を
所定数連設してあり、必要に応じてノズル本体シの両側
壁面に直線状のガイド溝Iを刻設しである。(第13図
参照) 更に、前記第1実施例に係るノズル14Aは、セパレー
タ31Aを装備させる際にこれを固定し易くするため、
ノズル本体30及び側板あに夫々所定間隔で平行なホー
ルド溝57を多数形成しても良い。
(第14図参照) 勿論、これは第2実施例及び第3実施例の両ノズル14
B、14Cにも適用可能で、例えば第15図に図示のよ
うに個別に形成されたノズル穴5の両隣シにホール4ド
溝57を穿設したノズル14C′としても良い。
次に第2実施例に係る七ノぞレータ31Bは、材質も硬
質塩化ビニル樹脂やポリカーボネイト樹脂製で平坦な頂
部61を有し底部62はノズル14A、 14B。
14Cに跨設状態で装着可能としてあり、装着すると頂
部61がマスク12A、 12Bのマスキング面と同一
面になるようにしてあって、その側壁面63で空気遮断
を行なうようにしである。、(第16図参照)又、第3
実施例に係るセパレータ31Cは、頂部例が突出してお
シその頂部側面なテーノで一面65としてワーク11の
移送案内し易いようにしてあり、且つ底部に脚部66を
形成してあって、ノズル14A。
14B、14Cに嵌め込むことができるようにしである
(第17図参照) 勿論、上記テーパー面団は必要不可欠なものでは無く、
平板状でも良い。
更に第4実施例に係るセパレータ31Dは、平坦な頂部
伝を有し底部には脚部6を突設させその内側にはリゾ6
9を形成し、前記ノズル14Cのガイド溝団に該リプ6
9を挿入しスライドさせるようにしである。(第18図
参照) 以上説明したマスク12A、 12Bとノズル14A、
 14B。
14C及びセパレータ31A、 31B、 31C,3
1Dの各組合せは、ワーク11の種類に応じて適宜決定
するものであって、例えば前記したコンタクタ1の場合
は、第1.第3実施例のセノξレータ31A、31Cを
用いて、ワーク11のガイV及び位置決めを正確に設定
する一方、IC等のリードフレームのボンディングエリ
ア等にメッキする場合社、第2.第4実施例の七ノξレ
ータ31B、31Dを使用することになる。
尚、ノズルホルダー16も第1実施例のそれに特定され
るものではなく、例えば第19図に図示の如く、長方体
状の―状のホルダ一本体71に、メッキ液給送ロア2を
穿設する一方、上部に前記ノズル14Bの切欠溝51や
、ノズル14Cのノズル穴5に対応した透孔73を連設
したものを16’とし、これを外套1m19に取付け、
ホルダ一本体71の外周空間部をメッキ液排除通路74
としても良い。
又、前記ノズル14A、 14B、 14Cをノズルホ
ルダー16.16’に装着する場合、その表面にビス止
めや接着する以外に、ノズルホルダー16.16’へ埋
設するように嵌入しても良い。
尚、上記各実施例共、マスク及びマスクホルダーは、完
全密閉構造であり外気を遮断しているが、マスク及び/
又はマスクホルダーに外気導入溝を形成して、そこから
流入する外気流によシマスフ近傍のメッキ液の飛散を防
止したり、余剰メッキ液の強制排除等をしても良い。又
、外套−とマスク及びマスクホルダーで形成した密閉空
間内を負圧にしているが、これも、絶対必要条件ではな
く、該密閉空間内を通常の大気圧の状態にしても良いこ
と社勿論である。
以上述べたように本発明によれば、ワークの被メツキ部
をマスキングするマスクには、スリットや長方形のマス
ク穴叫極めて簡単な加工のみを行ない、該スリットやマ
スク穴をワークに対応して所定間隔及び面積に仕切るセ
パレータをノズルに装着し、且つこれによって各被メッ
キ部夫々のメ、キ液噴射流路も形成するようにしである
から、メッキ装置の製造コストが廉価で済み、メッキ処
理時の段取シ工数の大巾削減が可能となシ、又、メッキ
精度や品位の高度維持ができるので歩留りも向上するた
めメッキ処理コストの低廉化が期し得る。
更に、コンタクタやリードフレーム等のように多種多様
性を有し且つ多量に高速処理を要するワークζこ対して
、その対応性に優れる上、メンテナンスやランニングコ
ストの点でも極めて有効的である等幾多の著効を奏する
ものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は部分メッキのワークの1つであるコンタクタの
部分拡大斜視図、第2図は同上コンタクタに部分メッキ
する場合の在来手段を示す要部拡大縦断面説明図、第3
図はマルチ式部分メッキの在来手段を示す部分縦断説明
図、第4図はマルチ式部分メッキの対象物品の1つであ
るコンタクタのプレス加工状態を示す部分斜視図、第5
図はマルチ式部分メッキに使用する在来のマスクの平面
図、第6図は同上マスクの他の実施態様を示す斜視図、
第7図はマルチ式部分メッキに多用される在来のノズル
を示す部分斜視図である。 第8図以下はいずれも本発明の部分メッキ装置の実施例
に係るもので、第8図は部分メッキ装置の概要構成を示
す縦断面図、第9図は同上部分メッキ装置の分解斜視図
、第10図は同部分メッキ装置のセパレータの装着態様
を示す部分斜視図、第11図は第2実施例に係るマスク
の斜視図、第12図は第2実施例のノズルの斜視図、第
13図は第3実施例のノズルの斜視図、第14図は第1
実施例に係るノズルの他の実施態様を示すノズルの要部
斜視図、第15図は同上第2実施例に係るノズルの他の
実施態様を示すノズルの要部斜視図、第16図はセパレ
ータの第2実施例を示す拡大斜視図、第17図はセノξ
レータの第3実施例を示す拡大斜視図、第18図はセパ
レータの第4実施例を示す拡大斜視図、第19図はノズ
ルホルダーの他の実施例を示す斜視図である。 11 ・・・ ・・・ ワーク 12A、 12B・・ マスク 13 ・・・・ ・ マスクホルタ− 14A、 14B、 14C・・ノズル16、16’ 
・ ノズルホルダー 17 ・・ チャンノZ− 19・・・・・ 外套― 24 マスク本体 25 ・・ ・ ・・ スリット 29 ・・ 噴射溝 30.52 ・ ノズル本体 31A、 31B、31C,31D ・ セパレータ4
1 ・ ・・ ・ マスク板 42 −・・ ・・ マスク穴 53 ・ 側 板 55 ・ ノズル穴 I ・ ・ ガイド9溝 57 ・ −ホールド溝 71 ・ ・ ・・ ホルダ一本体 第16図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (11マスクとノズルの間に第3の部材である絶縁物製
    のセパレータを任意数介装し、マスクによりマスキング
    された広域被メツキ部を所定数に区割してその各々を部
    分被メツキ部に設定し、且つノズルから噴射されるメッ
    キ液流束も所定数に分けてその夫々が上記部分被メツキ
    部をターゲットとするメッキ液流となるようにしたこと
    を特徴とする七)ξレータ利用の部分メッキ方法。 (2) 被メッキ物に密着するマスクに、広域範囲を包
    括してマスキングするためのスリットや長溝大勢を形成
    し、メッキ液を噴射するノズル側には絶縁物製のセパレ
    ータを任意数立設シ、該セパレータをマスクとノズルに
    より挟持せしめた部分メッキ装[、 (31セノ九〜夕は、その頂部をマスクの長溝等から突
    出せしめ、部分メッキ域の設定とワークのガイドとを兼
    備せしめたことを特徴とする特許請求の範囲第2項記載
    の部分メッキ装置。 <4) セパレータは、その頂部を平坦に形成し、且つ
    該平坦面をマスクの長溝等内のみに臨ませ、平面的なワ
    ークに密着せしめて部分被メツキ域を設定するようにし
    たことを特徴とする特許請求の範囲第2項記載の部分メ
    ッキ装置。 (5) セパレータは、その底部を平坦に形成しノズル
    開口部表面に載置固定するようにしたことを特徴とする
    特許請求の範囲第2項記載の部分メッキ装置。 (6) セパレータは、その底部にノズルの幅員より広
    い間隔で複数の脚部を突設し、ノズル開口部に跨設せし
    め固定するようにしたことを特徴とする特許請求の範囲
    第2項記載の部分メッキ装置It。 (7) マスクは、複数の長方形平板状マスク板を所定
    の間隙を残して並設し、該間隙で被メツキ部の全域を包
    括してマスキングするようにしたことを特徴とする特許
    請求の範囲第2項記載の部分メッキ装置。 (8) マスクは、平板状のマスク本体に、被メツキ部
    の広域が包括してマスキング可能な長溝穴を穿設したこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第2項記載の部分メッキ
    装置。 (9) ノズルは、上記広域包括マスキング範囲より稍
    々長いコ字形切欠部が形成されたノズル本体に、平板状
    の側板を添合して長溝穴状のノズル穴を形成せしめたこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第2項記載の部分メッキ
    装置。 a鋳 ノズルは、所定数の狭幅コ字形状切欠溝がクシ形
    に連設されたノズル本体に、平板状の側板な添合して多
    数のノズル穴を連設せしめたことを特徴とする特許請求
    の範囲第2項記載の部分メッキ装置。 (Iυ ノズルは、一体的に成形されたノズル本体に、
    任意数のノズル穴を連設して穿設させたことを特徴とす
    る特許請求の範囲第2項記載の部分メッキ装置。 Qの ノズルには、前記セパレータが嵌合可能なホール
    ト9溝を任意数連設させたことを特徴とする特許請求の
    範囲第2項記載の部分メッキ装置。 0階 ノズルには、その側壁面に水平直線状のガイド溝
    を形成し、且つセパレータの脚部内側には該ガイド溝に
    係入するリプを突設させたことを特徴とする特許請求の
    範囲第6項記載の部分メッキ装置。 (14セパレータは、ガラス又はセラミック等の絶縁性
    剛体素材で成形させたことを特徴とする特許請求の範囲
    第3項乃至第6項のいづれかに記載した部分メッキ装置
    。 (l!9 セパレ=りは、金属製素材で成形し且つその
    外表面全部をフッ素樹脂等の耐熱耐薬品性素材によりコ
    ーティングしたことを特徴とする特許請求の範囲第3項
    乃至第6項のいづれかに記載した部分メッキ装置。 αe ワークに密着させ広域の被メツキ域が設定可能な
    マスクを着脱交換自在に保持するマスクホルダーと、メ
    ッキ液噴射ノズルを固定保持し、且つメッキ液排除部を
    有し上記マスクホルダーに連結可能なノズルホルダーと
    、該ノズルホルダーと連結され前記マスクホルダーと相
    俟って密閉空間を形成する外套−と、該外套−に連通し
    上記密閉空間内を所定の負圧値に維持する吸引機構とを
    具備し、且つ前記ノズルとマスクの間に任意数のセ・ξ
    レータを立設挾持させて成る部分メッキ装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2657199A1 (fr) * 1990-01-16 1991-07-19 Burndy Electra Nv Installation de placage d'elements de contact electriques.
BE1005582A5 (nl) * 1990-01-16 1993-11-09 Burndy Electra Nv Inrichting voor het plateren van elektrische contactelementen.

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