JPS60249292A - 高周波加熱装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、高周波加熱装置の均一加熱構成に関２へ− するものである。

従来例の構成とその問題点 従来の例えば第１図に示すこの種の高周波加熱装置にお
いては、マグネトロン２から照射された高周波を加熱室
１内に導く導波管３が加熱室１の側壁外側に設けられて
おり、高周波を加熱室１内に照射する給電口６が加熱室
１側壁に設けられている。

マグネトロン２から照射された高周波は加熱室１側壁外
側に設けられた導波管３を通り、加熱室１側壁に設けら
れた給電口６から加熱室１内に給電される。加熱室１内
には被加熱物９が収納され回転台１１に置かれてあり、
被加熱物９の高周波のむらによる加熱むらをなくするた
めに、加熱室１の外底部に設けられた駆動用モータ１ｏ
により、駆動用軸１６を介して回転する構造となってい
る。

しかし々から被加熱物９の大きす笈び形状によって、局
部的に加熱されたり加熱不足のいわゆる加熱むらけ解消
されなかった。これは加熱室１内の有効寸法いっばいの
被加熱物９の調理を可能とするため回転台１１および駆
動用モータ１ｏを加熱室１の底部中央に設ける必要があ
り、その結果回転台１１上の被加熱物９け中心から遠ざ
かるほど電界パターンの強弱を通過するので均一加熱で
き、中心は同一場所で回転してるだけなので加熱室１内
の電界パターンの強弱で決ってしまい回転台１１を回転
させている効宋があられれない。従って被加熱物９が小
さい場合は回転台１１の中央に置いても調理の時間が多
少変わるだけで加熱むらけ生じないが、被加熱物９の平
面面積の大きくうすいものあるいは高さの高いものにつ
いては加熱むらが生じる。この加熱むらについては基本
的な解明がされておらず、どのタイプの高周波加熱装置
にあってもこの加熱むらを解消する共通的な構成が判明
されてないのが現状である。

発明の目的 そこで本発明け、］二記従来の欠点である加熱むらを解
消することのできる高周波加熱装置を提供するものであ
る。

発明の構成 この目的を達成するために本発明の高周波加熱装置け、
加熱室のＬ壁面の中央部に加熱室内側に突出する突出部
を形成する構成で、回転台の中央の電界強さを均一化し
、被加熱物の形状、大きさ等による加熱むらを解消する
ものである。

実施例の説明 以五不発明の一実施例について、図面を参照しながら説
明する。第２図は本発明の一実施例における高周波加熱
装置の正面断面図を示すものである。第２図において、
マグネトロン２から照射された高周波を加熱室１内に導
く導波管３が加熱室１の側壁外側に設けられており、高
周波を加熱室１内に照射する給電口６が加熱室１側壁に
設けられている。加熱室１の上壁面４ｔＩ′ｉ加熱室１
内に高ｇ７、口ｄの突出部を設けている。この突出部の
中央と回転台１１の中央は、はぼ同軸上に位置する。加
熱室１内には電熱加熱するためのヒータ１２．１３が被
加熱物９の上下に配置されである。

１ヒータ１２けヒータホルダー１６で保持されていて、
加熱室１のｔ壁４の突出部はヒータホルダ５ヘ一′ −１６よりも低くしている。本実施例ではこの突出部の
高さノを約６鰭程度としている。この突出部の高さノの
寸法は厳密には被加熱物９の種類および加熱室１の大き
さ、形状等によって実験的にめることが最も望ましいが
現実的には牛乳、スポンジケーキ等を基本として妥当な
数値を選択する。

また、本実施例によれば突出部を正方形状にしたが、円
形状でもよい。

前記の構成においてけ、マグネトロン２から照射された
高周波は導波管３を通り給電口６より供給される。加熱
室１内に供給された高周波は被加熱物９に直接吸収され
るもの、あるいは加熱室１の壁面に反射したのち被加熱
物９へ吸収されるものなどがある。

特に上壁面の突出部４と回転台１１の中央をほぼ同軸占
に構成したことで、回転台１１の中央部の電界パターン
を容易に変えることが可能となる。

これは加熱室１の上壁面４の突出部の高さを変えること
により、上壁面と底壁面との空間に生じ６ベージ る電界の１強」、「弱」の位置が変わるためで、前記の
ように実験的に容易にめられる。また加熱室１内から被
加熱物９を容易に出し入れすることができるように、加
熱室１内は被加熱物９０大きさよりもかなり余裕をもだ
せである。実質的に有効な加熱室１の寸法は、加熱室１
内の突出部を除いた寸法で本実施例によれば加熱室１底
壁面りに設けられた回転台１１からＬヒータ１２を保持
するヒータホルダ１６の先端までである。加熱むら解消
のために設けた加熱室り壁の突出部４の高さをヒータホ
ルダ１６の先端よりも低い位置にすることで、実質的に
有効な加熱室内の寸法は変わらない。

従って実質的な加熱室内の寸法を変えないで被加熱物９
の種類および形状による加熱むらが減少し、特に平面面
積の大きくうすい被加熱物９及び高さのある被加熱物９
の過加熱状態を解消することができた。

また第３図に示すように、マグネトロン２や電源部品７
を加熱室１の上部に配置する縦型の高周７八 波加熱装置については、コンパクト化ということで電源
部品７と加熱室１の北壁４及び電源部品７と外か（の空
間をできるだけ小さくとっである。

そこで電源投入時に磁気振動かおこっていた。本実施例
によると加熱室１内に北壁を突出させているので、突出
部の］二部に電源部品７を配置することにより空間がと
れ磁気振動も激減するものである。

発明の効果 以上のように本発明によれば、回転台の中央とほぼ同軸
上に加熱室の上壁面の一部を加熱室内に突出させ、この
突出部をヒータを保持するヒータホルダーよりも低くす
るこ吉により、実質的な加熱室内の有効寸法を変えずに
回転台の中央部の電界強度を調整し、平均化でき被加熱
物の種類、大きさ、形状等による加熱むらを減少して調
理仕りりのすぐれた高周波加熱装置を提供できるもので
ある。

ざらに加熱室の形状、寸法に対応して突出部の高さを種
々変えることにより種々の容量の高周波加熱装置に適応
できるもので、新規な部品を加えることなく簡単な構成
によって調理性能を向トすることができるなどの効果を
有するものである。

また、電源部品等を加熱室のＬ部に配置した縦型高周波
加熱装置については、突出部のＬ部に電源部品を配置す
ることで、磁気振動対策にもなる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の高周波加熱装置の正面断面図、第２図は
本発明の一実施例を示す高周波加熱装置の正面断面図、
第３図は本発明の他の一実施例を示す高周波加熱装置の
正面断面図である。 １・・・・・・加熱室、２・・・・・・マグネトロン、
３・・・・・・導波管、４・・・・・・加熱室上壁、６
・・・・・・給電口、７・・・・・・電源部品、１１・
・・・・・回転台。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 本体内に被加熱物を収納する加熱室と、加熱室内に高周
   波を供給する高周波発振器と、前記高周波発振器から発
   振された高周波を加熱室内に導（導波管と、前記高周波
   発振器に電力を供給する電源部品と加熱室内底面に回転
   自在に設けられた回転台と、電熱加熱するためのヒータ
   と、前記ヒーターを保持するヒーターホルダーとを備え
   、前記回転台の中央とほぼ同軸上に加熱室り壁の一部を
   加熱室内に突出する構成としたことを特徴とする高周波
   加熱装置。 加熱室内に突出した突出部を上ヒーターを保持するヒー
   ターホルダーよりも低く構成した特許請求の範囲第１項
   記載の高周波加熱装置。