JPS60251681A - 表面弾性波フイルタ用ウエハの検査装置 - Google Patents
表面弾性波フイルタ用ウエハの検査装置Info
- Publication number
- JPS60251681A JPS60251681A JP59107620A JP10762084A JPS60251681A JP S60251681 A JPS60251681 A JP S60251681A JP 59107620 A JP59107620 A JP 59107620A JP 10762084 A JP10762084 A JP 10762084A JP S60251681 A JPS60251681 A JP S60251681A
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- JP
- Japan
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- wafer
- light
- angle
- defect
- ratio
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明はウェハ表面の欠陥をレーデ光によって検査する
装置に係り、特に表面弾性波フィルタ用箇ウェハを袷審
ナムｆ痕蓋ｈｒらｆ錆自１−ｆ検査装置に関するもので
ある。
装置に係り、特に表面弾性波フィルタ用箇ウェハを袷審
ナムｆ痕蓋ｈｒらｆ錆自１−ｆ検査装置に関するもので
ある。
従来、ウニ・・表面の欠陥（異物の付着を含む）を検査
する装置はＳｔウエノ・の検査用に作られたもので、被
検ウェハの表面に斜方向からレーザ光を照射する手段と
、該ウェハを垂直方向から観察してレーザ光を検出する
手段とからなり、上記の検出手段は光学系を備えた光電
子倍増管によって構成されている。
する装置はＳｔウエノ・の検査用に作られたもので、被
検ウェハの表面に斜方向からレーザ光を照射する手段と
、該ウェハを垂直方向から観察してレーザ光を検出する
手段とからなり、上記の検出手段は光学系を備えた光電
子倍増管によって構成されている。
上記の従来装置に１ってウエノ・表面を検査するには、
該ウェハ表面に対して斜方向からレーザ光を照射しつつ
ウェハ表面に対して垂直方向からレーザ光を観察する。
該ウェハ表面に対して斜方向からレーザ光を照射しつつ
ウェハ表面に対して垂直方向からレーザ光を観察する。
ウェハ表面に欠陥が無いときは、斜方向に照射されたレ
ーザ光が正反射して斜方向に出射するので、垂直方向か
らはレーデ光が検出されない。
ーザ光が正反射して斜方向に出射するので、垂直方向か
らはレーデ光が検出されない。
ウェハ表面に欠陥が有る。！−５斜方向に照射されたレ
ーで光が該欠陥によって散乱せしめられ、その一部は垂
直方向からも観測される。従って、垂直方向からレーザ
光を検知したときは、被検物であるウェハの被照射区域
に何らかの欠陥が有るものと１１断される。
ーで光が該欠陥によって散乱せしめられ、その一部は垂
直方向からも観測される。従って、垂直方向からレーザ
光を検知したときは、被検物であるウェハの被照射区域
に何らかの欠陥が有るものと１１断される。
ところが、上記の従来装置を用いてＬｉＴａＯ３やＬｉ
Ｎ ｂｏ ３などの表面弾性波フィルタ用のウェハを検
査すると、ウェハ表面に欠陥が無くても大きい背景雑音
光（バックグランド）を生じ、Ｓ／Ｎ比を低下させて欠
陥検出を困難ならしめるという問題が有る。
Ｎ ｂｏ ３などの表面弾性波フィルタ用のウェハを検
査すると、ウェハ表面に欠陥が無くても大きい背景雑音
光（バックグランド）を生じ、Ｓ／Ｎ比を低下させて欠
陥検出を困難ならしめるという問題が有る。
これらの表面弾性波フィルタ用つエノ・が、その表面を
鏡面仕上げしてあってもレーデ光を散乱させて背景雑音
光を生じて、欠陥による散乱光を隠してしまう理由は、
これらのウニ・・材料が強誘電体であるため、その内部
に粒状単結晶（ブレーン）が特定秩序で配列されていて
、ウエノ・内部に透過して散乱したレーザ光が表面反射
波と干渉を起こして斑点（スペックル）を生じる為であ
ると考えられる。
鏡面仕上げしてあってもレーデ光を散乱させて背景雑音
光を生じて、欠陥による散乱光を隠してしまう理由は、
これらのウニ・・材料が強誘電体であるため、その内部
に粒状単結晶（ブレーン）が特定秩序で配列されていて
、ウエノ・内部に透過して散乱したレーザ光が表面反射
波と干渉を起こして斑点（スペックル）を生じる為であ
ると考えられる。
本発明は上述の事情に対処して為埒れたものでその目的
とするところは、背景雑音光の悪影響を最少限まで抑制
して高いＳ／Ｎ比で欠陥を検出できる表面弾性波フィル
タ用つエノ・の表面欠陥検査装置を提供しようとするも
のである。
とするところは、背景雑音光の悪影響を最少限まで抑制
して高いＳ／Ｎ比で欠陥を検出できる表面弾性波フィル
タ用つエノ・の表面欠陥検査装置を提供しようとするも
のである。
上記の目的を達成するため、本発明の検査装置は、被検
査物であるウエノ・の表面に対して斜方向からレーデ光
を照射する手段と、上記ウエノ・のレーデ光照射区域を
ウエノ・表面に対して垂直方向から観察してレーデ光を
検出する為の光学系を備えた光素子とを設けたウエノ・
の検査装置に於て、前記のレーデ光照射手段は光軸の回
りに任意の角度に回動せしめ得るものとすると共に、光
軸の回りに任意の角度に回動じ得る偏光板を備えたもの
とし、かつ、前記の光学系に孔径を調節し得るピンホー
ルを設けたことを特徴とする。
査物であるウエノ・の表面に対して斜方向からレーデ光
を照射する手段と、上記ウエノ・のレーデ光照射区域を
ウエノ・表面に対して垂直方向から観察してレーデ光を
検出する為の光学系を備えた光素子とを設けたウエノ・
の検査装置に於て、前記のレーデ光照射手段は光軸の回
りに任意の角度に回動せしめ得るものとすると共に、光
軸の回りに任意の角度に回動じ得る偏光板を備えたもの
とし、かつ、前記の光学系に孔径を調節し得るピンホー
ルを設けたことを特徴とする。
次に、本発明の１実施例の構成を第１図について説明す
る。
る。
１はウェハ保持具で、被検物であるＬｉＴａＯ５ウェハ
２を載置して保持する０ ３はレーデ光検出手段で、その光軸をウニ・・表面に対
して垂直とし、レンズ３ａと光電子倍増管３ｂとを備え
ている。３Ｃは光電子倍増管の出力信号を表わしている
。上記レーデ光検出手段３を構成している光学系（レン
ズ３ａ等）の光軸上に孔径を調節し得るピンホール３ｄ
を設ける。このピンホールの孔径調節はピンホール板の
差換えによるものであっても良く、可変絞りを用いたも
のであっても良い。
２を載置して保持する０ ３はレーデ光検出手段で、その光軸をウニ・・表面に対
して垂直とし、レンズ３ａと光電子倍増管３ｂとを備え
ている。３Ｃは光電子倍増管の出力信号を表わしている
。上記レーデ光検出手段３を構成している光学系（レン
ズ３ａ等）の光軸上に孔径を調節し得るピンホール３ｄ
を設ける。このピンホールの孔径調節はピンホール板の
差換えによるものであっても良く、可変絞りを用いたも
のであっても良い。
４はレーデ光源で、その光軸Ｘをウエノ・２の表面に斜
交ぜしめて設置する。
交ぜしめて設置する。
４ａは上記のレーザ光源４に設けた直線偏光クングルモ
ードのＶ−デ発振器で、光軸Ｘの回りに任意角度で回動
せしめ得るように支承する。４ｂは光軸Ｘ上に設けた偏
光板で、光軸Ｘの回りに任意角度で回動せしめ得るよう
に支承する。
ードのＶ−デ発振器で、光軸Ｘの回りに任意角度で回動
せしめ得るように支承する。４ｂは光軸Ｘ上に設けた偏
光板で、光軸Ｘの回りに任意角度で回動せしめ得るよう
に支承する。
上に述べた実施例の使用方法について次に述べる。
Ｌ １Ｔａ０３ のウェハは前述の粒状単結晶の光学的
性質により、ロット毎に定まる特有の偏光特性を持って
いて、特定方向の偏光面で照射したとき異物による散乱
光が大きくなるという特性を有している（この特性はＬ
ｉＮｂＯ５ウェハも同様である）。
性質により、ロット毎に定まる特有の偏光特性を持って
いて、特定方向の偏光面で照射したとき異物による散乱
光が大きくなるという特性を有している（この特性はＬ
ｉＮｂＯ５ウェハも同様である）。
この特性を利用し、レーデ発振器４ａを回動させて異物
による散乱が最大となる角位置を実験的に探査してその
角度を固定する。本発明において「任意の角度に回動せ
しめ得る」とは、その任意角度を保持せしめ得ることを
も含む意である。
による散乱が最大となる角位置を実験的に探査してその
角度を固定する。本発明において「任意の角度に回動せ
しめ得る」とは、その任意角度を保持せしめ得ることを
も含む意である。
次いで偏光板４ｂを回動せしめて光量を調節する。回動
可能な偏光板４ｂは可変減衰手段としての機能を果たす
。
可能な偏光板４ｂは可変減衰手段としての機能を果たす
。
第２図は横軸に照射光強度をとり縦軸に散乱光強度をと
つ几図表である。
つ几図表である。
シグナル〆ルテーソカープ５は照射光強度に比例して直
線的に増加する。前述の斑点（スペックル）によるスペ
ックルノイズカーブ６は照射光強度の増加に伴って著し
く（非直線的に）増加する。
線的に増加する。前述の斑点（スペックル）によるスペ
ックルノイズカーブ６は照射光強度の増加に伴って著し
く（非直線的に）増加する。
従ってＳ／′Ｎ比カーブ７は照射光強度が成る一定値Ｃ
となる付近で最大値を示す。
となる付近で最大値を示す。
本発明装置を用いる場合は偏光板４ｂを回してレーデ照
射光強度がＣとなる点を探査して固定する。本実施例に
おいては、近似的に欠配のような簡易調節方法を用いる
と便利であることが確認された。即ち、乍光板４ｂを徐
々に回して照射強度を下げていったとき、検出すべき最
小異物を辛うじて検知できる点を探して角度を固定すれ
ば、はぼ最大のＳ／Ｎ比が得られる。
射光強度がＣとなる点を探査して固定する。本実施例に
おいては、近似的に欠配のような簡易調節方法を用いる
と便利であることが確認された。即ち、乍光板４ｂを徐
々に回して照射強度を下げていったとき、検出すべき最
小異物を辛うじて検知できる点を探して角度を固定すれ
ば、はぼ最大のＳ／Ｎ比が得られる。
次いでピンホール３ｄの孔径の調節について説明する。
一般に光電子倍増管３ｂは広い視野を有していて検出対
象である欠陥の大きさエリも広い範囲の背景雑音を捕捉
してＳ／Ｎ比を悪くする結果を招いている。
象である欠陥の大きさエリも広い範囲の背景雑音を捕捉
してＳ／Ｎ比を悪くする結果を招いている。
この実情に対処して本発明装置に設けたピンホール３ｄ
の孔径ｅ調節し、背景雑音に対する視野を狭める。
の孔径ｅ調節し、背景雑音に対する視野を狭める。
具体的には、検出しようとしている欠陥の大きさを勘案
し、該欠陥の大きさ程度まで視野を狭めると最大のＳ／
Ｎ比が得られる。
し、該欠陥の大きさ程度まで視野を狭めると最大のＳ／
Ｎ比が得られる。
ただし、視野を狭めると被検物表面を走査するピッチを
縮めなければならないので検査所要時間を増加させる傾
向があるから、本発明装置を工業生産において使用する
場合のピンホール孔の径は、欠陥の大きさと検査能率と
を比較検討して選定することが望ましい。
縮めなければならないので検査所要時間を増加させる傾
向があるから、本発明装置を工業生産において使用する
場合のピンホール孔の径は、欠陥の大きさと検査能率と
を比較検討して選定することが望ましい。
以上詳述したように、本発明のウェハ検査装置は、被検
食物であるウェハの表面に対して斜方向からレーザ光を
照射する手段と、上記ウェハのレーザ光照射区域をウェ
ハ表面に対して垂直方向から観察してＶ−ザ光を検出す
る為の光学系を備えた光素子とを設けたウェハの検査装
置に於て、前記のレーザ光照射手段は光軸の回りに任意
の角度に回動せしめ得るものとすると共に、光軸の回り
に任意の角度に回動し得る偏光板を備えたものとし、か
つ、前記の光学系に孔径を調節し得るピンホールを設け
ることにより、背景雑音光の悪影響を最少限まで抑制し
て高いＳＡ比で表面弾性波フィルタ用ウェハの表面欠陥
を検査することができるという優れた実用的効果を奏す
る。
食物であるウェハの表面に対して斜方向からレーザ光を
照射する手段と、上記ウェハのレーザ光照射区域をウェ
ハ表面に対して垂直方向から観察してＶ−ザ光を検出す
る為の光学系を備えた光素子とを設けたウェハの検査装
置に於て、前記のレーザ光照射手段は光軸の回りに任意
の角度に回動せしめ得るものとすると共に、光軸の回り
に任意の角度に回動し得る偏光板を備えたものとし、か
つ、前記の光学系に孔径を調節し得るピンホールを設け
ることにより、背景雑音光の悪影響を最少限まで抑制し
て高いＳＡ比で表面弾性波フィルタ用ウェハの表面欠陥
を検査することができるという優れた実用的効果を奏す
る。
第１図は本発明の検査装置の１実施例を模式化して描い
た構成説明図である。第２図は上記実施例の作用効果を
説明するための図表である。 １・・・ウェハ保持具、２・・・ＬｉＴａＯ５ウェハ、
３・・・レーデ光検出手段、３ａ・・・レーンズ、３ｂ
・・・光電子倍増管、３Ｃ・・・出力信号、３ｄ・・・
ピンホール、４・・・レーデ光源、４ａ・・・レーデ発
振器、４ｂ・・・偏光板、５・・・シグナル〆ルテージ
カーブ、６・・・スイツクルノイズカープ、７・・・Ｓ
／Ｎ比カーブ。 実用新案登録出願人 日立電子エンジニアリング株式会
社代理人 弁理士秋 本 正 実
た構成説明図である。第２図は上記実施例の作用効果を
説明するための図表である。 １・・・ウェハ保持具、２・・・ＬｉＴａＯ５ウェハ、
３・・・レーデ光検出手段、３ａ・・・レーンズ、３ｂ
・・・光電子倍増管、３Ｃ・・・出力信号、３ｄ・・・
ピンホール、４・・・レーデ光源、４ａ・・・レーデ発
振器、４ｂ・・・偏光板、５・・・シグナル〆ルテージ
カーブ、６・・・スイツクルノイズカープ、７・・・Ｓ
／Ｎ比カーブ。 実用新案登録出願人 日立電子エンジニアリング株式会
社代理人 弁理士秋 本 正 実
Claims (1)
- 被検査物であるウェハの表面に対して斜方向からＶ−ザ
光を照射する手段と、上記ウェハのレーザ光照射区域を
ウェハ表面に対して垂直方向から観察して、レーデ光を
検出する為の光学系を備えた光素子とを設けたウェハの
検査装置に於て、前記のレーデ光照射手段を光軸の回り
に任意の角度に回動せしめ得るものとすると共に、光軸
の回りに任意の角度に回動し得る偏光板を備えたものと
し、かつ、前記の光学系に孔径を調節し得るビンホール
を設けたことを特徴とする表面弾性波フィルタ用ウェハ
の検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59107620A JPS60251681A (ja) | 1984-05-29 | 1984-05-29 | 表面弾性波フイルタ用ウエハの検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59107620A JPS60251681A (ja) | 1984-05-29 | 1984-05-29 | 表面弾性波フイルタ用ウエハの検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60251681A true JPS60251681A (ja) | 1985-12-12 |
Family
ID=14463791
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59107620A Pending JPS60251681A (ja) | 1984-05-29 | 1984-05-29 | 表面弾性波フイルタ用ウエハの検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60251681A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50147286A (ja) * | 1974-05-15 | 1975-11-26 | ||
| JPS54101390A (en) * | 1978-01-27 | 1979-08-09 | Hitachi Ltd | Foreign matter inspector |
-
1984
- 1984-05-29 JP JP59107620A patent/JPS60251681A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS50147286A (ja) * | 1974-05-15 | 1975-11-26 | ||
| JPS54101390A (en) * | 1978-01-27 | 1979-08-09 | Hitachi Ltd | Foreign matter inspector |
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