JPS6054390A - 新規なセファロスポリン誘導体 - Google Patents
新規なセファロスポリン誘導体Info
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- JPS6054390A JPS6054390A JP58160236A JP16023683A JPS6054390A JP S6054390 A JPS6054390 A JP S6054390A JP 58160236 A JP58160236 A JP 58160236A JP 16023683 A JP16023683 A JP 16023683A JP S6054390 A JPS6054390 A JP S6054390A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Cephalosporin Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は下記の一般式で示される新規なセファ(式中、
R1は水素原子、低級アルカノイル基、低級アルコキシ
カルボニル基を、R2はNおよび場合によりSを含み、
かつ置換されてもよい5または6員複素環を、nは1.
2.3.4または5の整数を表わす) 一般式(1)において、R1で示される低級アルカノイ
ル基は炭素数5以下の直鎖状もしくは分枝状のアルカノ
イル基例えばホルミル、アセデル、プロピオニル、ブチ
リル、イソブチリル、バレリル、インバレリル、ピバリ
ル基を示し、またR1で示される低級アルコキシカルボ
ニル基中のアルキル部分は炭素数4以下のアルキル基例
えばメチル、エチル、プロピル、ブチル基を意味する。 R2が意味する5員複素環、6員複素環は、例えば]、
]3.4−チアジアゾールトリアゾール、テトラゾール
、1,2.4−トリアジンのごときであり、これらがメ
ルカプト基、水酸基、低級アルキル基、もしくはカルボ
キシル基または低級アルキル基で置換されてもよいアミ
ノ基で置換された低級アルキル基等で置換されている場
合も含む。 次に式(目)の化合物の塩としては、薬理上許容されう
る升席、l’l:の塩であって、例えばナトリウム塩、
カリウ11塩、カルシウム塩、アンモニウム塩、I・1
1エチルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、プロ力
イン1工糺アルギニン塩、塩酸塩、硫酸塩、シコウ酸塩
、ギ酸塩、トリクロ[1酢酸塩、トリフルオrJIll
I酸塩、メタンスルホン酸塩、トルエンスルポニノへ&
JIA等がIろげられる。 式(1)の化合物才;よびその塩はいずれも新規な化合
物で、ダラム陽性菌およびグラム陰性菌に対し7優11
.た抗菌力な有し特に耐性のグラ11陰性菌を^む広範
1111めグラ” l’344゛菌に対して極めて強い
抗菌力を右(−1、医薬として有用である。 次に本発明のセファロスポリン誘導体としては例えば次
のものがあげられる。 7β−(2−(3,4−ジアセトキシベンゾイルアミノ
)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)アセ1ヘ
アミド)−3−(+−メチル−I N−テトラゾール−
5−イルチオメチル)−3−セフェム−4−カルボン酸
。 7β−C2−(3,4−ジヒドロキシベンゾイルアミノ
)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド)−3−(1−メチル−1H−テ1〜ラゾールー5
−イルチオメチル)−3−セフェム−4−カルボン酸。 7β−(2−(3,4,5−トリアセトキシベンゾイル
アミノ)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)ア
セトアミド)−3−(1−メチル−IH−テトラゾール
−5−イルチオメチル)−3−セフェム−4−カルボン
酸。 7β−(2−(2,3−ジアセトキシベンゾイルアミノ
)’−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)アセト
アミド)−3−(]−]メチルーIH−テトラゾールー
5イルチオメチル)−3−セフェム−4−カルボン酸。 7β−(2−(3,4−ジェトキシカルボニルオキシベ
ンゾイルアミノ)−2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)アセトアミド)−3−(]−]メチルーIH−テ
トラゾール−5−イルチオメチル)−3−セフェム−4
−カルボン酸。 3− 7β−12−(:I、/I−ジヒドロキシベンゾイルア
ミノ)2−(2−アミノチアゾール−4−イル)アセ1
ヘアミド1−3〜N−(2−ジメチルアミノ)エヂルー
I I+−テ1へラブ−ルー5−イルチオメチル1−3
−セフェ11−4−カルボン酸。 7β−C2−(:1.4−ジアセ1〜キジベンゾイルア
ミノ)−2−(2−7ミノチアゾールー4−イル)アセ
1〜アミド1−1−(+−カルボキシメチル−1日−テ
1〜ラゾール−5−イルチオメチル−セフ:+: l−
− 4−カルボン酸。 7β−C2−(:1,4−ジアセ1〜キジベンゾイルア
ミノ)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)アセ
トアミド) 、’l C5−メチル−1.3.4−チア
ジアゾール−2−4ルチオメチル)−3−セフ ェ ノ
、− 4 − ノJJレボン酸,。 7 /I−C2−(:、/I−ジアセ1〜キジベンゾイ
ルアミノ)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
アセトアミド アゾール−4−(ルチAメチル)−3〜セフェム−4−
カルボン酸。 4− 7β−C2−(3.4−ジヒドロキシベンゾイルアミノ
)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド)−3− (2,5−ジヒドロ−6−ヒドロキシ−
2−メチル−5−オキソ−1,2。 4−トリアジン−3−イルチオメチル)−3−セフェム
−4−カルボン酸。 式(1)で表わされる化合物は次に示す方θ;により合
成することができる。 方法A (■)(−IN[) 〔式中、R3は水素原子またはアミノ基の保護基を、R
4は水素原子またはカルボキシル基の保護基を意味する
。R,、R2、nは前記と同意義〕化合物(or ’)
:lたけそのカルボキシル基における反応性誘導体と
化合物(11)またはその塩とを反応せしめ、す(に必
要に7.2.著して保護基を除去することにより本発明
の化合物臼)を得ることができる。 1、記反応に、1;い−U、カルボン酸である化合物(
Ill )k用いる場合に目、例えばN、N’−ジシク
「1ヘギシル力ルポジイミド、N、N’−ジエチル−力
ルボジイミト、N−シ9[1ヘキシル−N′−モルホリ
ノエチル力ルボジイミト、亜すン酸トリアルキルJステ
ル、ポリt1ン酸エチルエステル、オキシ塩化リン、オ
キザルクロリドなどの脱水縮合剤のイf在F l:h2
k’を行うのが々Yましい。 また化合物(Ill
)のカルボキシル1.(に、[日)る反応性誘導体を用
いる場合に1,1、反11?、: (’I誘導体として
、酸塩化物、酸9化物などの酸ハ「1ゲン化物;対称酸
無水物;クロル炭酸エステル、1−リメチル酢酸などの
カルボン酸との混合酸;Qi水物;N−ヒドロキシスク
シンイミド、■)−二I−ローノエノールなどとの活性
エステルなどが用いられる。 l’、ij+!のN−アシル化IηJ、i;は、不活性
溶媒中、塩基性試薬あるいはシリル化剤の存在下、また
は非存在下に一50℃〜50℃、好ましくは−2’O0
C〜30℃の温度で5分間〜24時間で行うことができ
る。 不活性溶媒としては、テトラヒドロフラン、アセトン、
ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、ジオキ
サン、ジクロロメタン、りし10ポルム、酢酸エチル、
ベンゼンあるいはこれらの混合溶媒があげられる。 塩基性試薬としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウムなどの水酸化アルカ■1、炭酸水素カリウム
、炭酸水素ナトリウムなどの炭酸水素アルカリ、トリエ
チルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、N−メチル
モルポリンなどの有機塩基があげられる。 シリル化剤としては、例えば、N、O−ビス(1−リメ
チルシリル)アセトアミド、ヘキサメチルジシラザン、
トリメチルシリルアセ1〜アミドなどがあげられる。 7一 式(11)中のアミノ基の保護基R3としてはホルミル
、クロ[17セチル、2 、2 、2− トリクロロエ
トキシカルボニル、1−ブトキシカルボニルリフェニル
メチル、1−ルメチルシリル基などがあげらお,る。ま
た力ルボギシル」↓の保護基R4としては、岨−ブチル
、ジフェニルメチル、P−ニトロベンジル、■)− メ
トキシベンジル、1−リメチルシリル、2,2.2−1
−リクロロエチル基などがあげら小,る。 )F発明の化合物臼)は11記の方法A以外に下記の力
θ、13にて#1i1iゾJ1′1できる。 また、例えば式(I)中のR,が水素である化合物等は
下記のh−法Cにても製造できる。 方−ηりYう 〔方法Bの式中、l?+ 、 R.2 、 R3 、n
は前記と同意義〕 8ー セファロスポリンの3位がアセトキシメチルである化合
物(ビ)を1〜10倍モルのチオール化合物(IV)と
有機溶媒中酸または酸の4=J加物の存在下または非存
在下、0〜100℃の温度で1〜24時間反応させると
セファロスポリンの3位がR3SCH2基の化合物が容
易に得られる。このものは必要に応じてカルボキシル基
をエステルとして保護した後精製し、必要に応じ保護基
を除去することにより本発明の化合物(1)を与える。 反応に使用することのできる有機溶媒としては反応に悪
影響を与えない全ての有機溶媒または反応試薬自体をあ
げることができ、例えばニトロメタン、ニトロエタンな
どのニトロアルカン類;ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸
などの有機カルボン酸類;アセトン、メチルエチルケト
ンなどのケトン類;ジエチルエーテル、ジオキサン、テ
トラヒドロフランなどのエーテル類またはこれらの混合
したものがあげられる。酸としては硫酸、メタンスルホ
ン酸、過塩素酸などのプロトン酸;三フッ化ホウ素、塩
化亜鉛、塩化第二スズ等のルイス酸などがあげられ、酸
の付加物として十記のルイス酸とジエチルエーテル、エ
チルアミン、酢酸などの錯塩があげI′:、れる。また
化合物(1′)と化合物(TV)との反応は木、緩衝液
中、炭酸水素ナトリウム、水酸化すトリウ71などの塩
も(の存在下、50〜70℃の反応Kl mで1〜1
(+ 11.7間の反応時間で行うこともできる。 〕l弘6 「方法Cの式中R5は低級アルキルあるいは低級アルコ
キシ基、R2、R3、R4、Rs 、nは前記と同意義
1 式(+)+’l+ +< 、が水素原子である化合物は
式(1”)の化合物に塩基を作用させることによっても
得らJl、る、1ス、−基と1.てけ炭酸、酢酸、リン
酸のごとき弱酸性物質のアルカリ金属塩;低級アルキル
アミンあるいけヒドロギシ低級アルカル金属塩;低級ア
ルキルアミンあるいはヒドロキシ低級アルキルアミンお
よびピペラジン、モルホリンなどの脂環式アミンのごと
き有機塩基があげられる。塩基の量は通常(1”)の2
〜20倍モルを使用し、反応溶媒としては水または水を
含有するメタノール、エタノール、ジオキサン、テトラ
ヒドロフランなどの有機溶媒があげられる。反応後必要
に応じ保護基を脱離することにより本発明の化合物(1
)を得る。 前記式(1)、(ビ)、(1”)、(IT
)中の2−アミノチアゾール基が結合する炭素原子の立
体配置はD体、L体またはラセミ体で存在し得る。 なおこれらの光学活性体は適当な光学活性の原料を用い
て製造することにより、あるいは光学分割することによ
り得られる。 本発明のセファロスポリン誘導体は新規物質であり、こ
れらのナトリウム塩の抗菌力を公知の代表的セファロス
ポリン化合物と比較し最小用11濃度(MTC1μg/
鵬Q)を第1表に示す。 11− 第1表 最小111+l二譲度(μg/IIIQ)〔菌
濃度10Gce11.s/m Q )13− 12− 参考例1 7β−(DL−2−アミノ−2−(2−クロロアセチル
アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−(
1−メチル−IH−テトラゾール−5−イルチオメチル
)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエス
テルの合成: / 7β−〔アンチ−2−メトキシイミノ−2−(2−クロ
ロアセチルアミノチアゾール−4−イル)アセトアミド
)−3−(1−メチル−IH−テトラゾール−5−イル
チオメチル)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒ
ドリルエステル1.56gをアセトン30 m Qに溶
解し、木3mmを加えた後溶液を一30℃に冷却しメタ
ンスルホン酸5mQを加え、温度を−35〜−15℃に
保ちつつ亜鉛末1.56gを加える。添加後さらに1.
5時j111撹拌を続け、次いで沈殿を濾別し濾液を炭
酸水素すトリウ11水溶液中に注ぎ酢酸エチルで抽出し
無水硫酸マグネシラlいで乾燥し7β−(DC−2−ア
ミノ−2−(2−4)ロロアセチルアミノチアゾール−
4−イル)アセ1−アミド)−3−(]−]メチルーI
II−テトラゾール5−イルチオメチル)−3−セフェ
ム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステルの酢酸エチ
ル溶液を得る。 参考例2 7β−[11+、−2−アミノ−2−(2−ホルムアミ
ドチアゾール−4−イル)アセトアミド]セファロスポ
ラン酸1−ブチルエステルの合成ニアβ−「シン−2−
メ]−キシイミノ−2−(2−ホルムアミドデアゾール
−4−イル)アセトアミド〕セファロスポラン酸t−ブ
チルエステル1.619gをエタノール60mfi及び
蟻酸6 m Qに溶解し、反応温度を25〜30℃に維
持するように冷却撹拌下、亜鉛末3.92 gを30分
間かけて加える。添加後室部で5分間撹拌し沈殿を濾別
し。 濾液に氷水を加え炭酸水素ナトリウムで中和する。 次いで酢酸エチル100mGで抽出し、水洗後無水硫酸
マグネシウムで乾燥すると7β−(r)L−2−アミノ
−2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)アセ
トアミド〕セファロスポラン酸i −ブチルエステルの
酢酸エチル溶液が得られる。 実施例1 7β−(DL−2−(3,4−ジアセトキシベンゾイル
アミノ)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)ア
セトアミド)−3−(+−メチル−IH−テトラゾール
−5−イルチオメチル)−3−セフェム−4−カルボン
酸の合成: 15− 3.4−ジアセトキシ安息香酸0.476gをベンゼン
8m(lに懸濁させ、ジメチルホルムアミド1滴、チオ
ニルク「1リド0.72mQを加え1時1111加熱還
流する。反応後溶媒を留去しさらにベンゼン5mQを加
え再度溶媒を留去すると3,4−ジアセ1−キシ安息香
酸クロリドが得られるのでこれを酢酸エチル3 m (
1,に溶解する。 参考例1により!iW造した7β−(1′)l−2−ア
ミノ−2−(2−クロ
R1は水素原子、低級アルカノイル基、低級アルコキシ
カルボニル基を、R2はNおよび場合によりSを含み、
かつ置換されてもよい5または6員複素環を、nは1.
2.3.4または5の整数を表わす) 一般式(1)において、R1で示される低級アルカノイ
ル基は炭素数5以下の直鎖状もしくは分枝状のアルカノ
イル基例えばホルミル、アセデル、プロピオニル、ブチ
リル、イソブチリル、バレリル、インバレリル、ピバリ
ル基を示し、またR1で示される低級アルコキシカルボ
ニル基中のアルキル部分は炭素数4以下のアルキル基例
えばメチル、エチル、プロピル、ブチル基を意味する。 R2が意味する5員複素環、6員複素環は、例えば]、
]3.4−チアジアゾールトリアゾール、テトラゾール
、1,2.4−トリアジンのごときであり、これらがメ
ルカプト基、水酸基、低級アルキル基、もしくはカルボ
キシル基または低級アルキル基で置換されてもよいアミ
ノ基で置換された低級アルキル基等で置換されている場
合も含む。 次に式(目)の化合物の塩としては、薬理上許容されう
る升席、l’l:の塩であって、例えばナトリウム塩、
カリウ11塩、カルシウム塩、アンモニウム塩、I・1
1エチルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、プロ力
イン1工糺アルギニン塩、塩酸塩、硫酸塩、シコウ酸塩
、ギ酸塩、トリクロ[1酢酸塩、トリフルオrJIll
I酸塩、メタンスルホン酸塩、トルエンスルポニノへ&
JIA等がIろげられる。 式(1)の化合物才;よびその塩はいずれも新規な化合
物で、ダラム陽性菌およびグラム陰性菌に対し7優11
.た抗菌力な有し特に耐性のグラ11陰性菌を^む広範
1111めグラ” l’344゛菌に対して極めて強い
抗菌力を右(−1、医薬として有用である。 次に本発明のセファロスポリン誘導体としては例えば次
のものがあげられる。 7β−(2−(3,4−ジアセトキシベンゾイルアミノ
)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)アセ1ヘ
アミド)−3−(+−メチル−I N−テトラゾール−
5−イルチオメチル)−3−セフェム−4−カルボン酸
。 7β−C2−(3,4−ジヒドロキシベンゾイルアミノ
)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド)−3−(1−メチル−1H−テ1〜ラゾールー5
−イルチオメチル)−3−セフェム−4−カルボン酸。 7β−(2−(3,4,5−トリアセトキシベンゾイル
アミノ)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)ア
セトアミド)−3−(1−メチル−IH−テトラゾール
−5−イルチオメチル)−3−セフェム−4−カルボン
酸。 7β−(2−(2,3−ジアセトキシベンゾイルアミノ
)’−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)アセト
アミド)−3−(]−]メチルーIH−テトラゾールー
5イルチオメチル)−3−セフェム−4−カルボン酸。 7β−(2−(3,4−ジェトキシカルボニルオキシベ
ンゾイルアミノ)−2−(2−アミノチアゾール−4−
イル)アセトアミド)−3−(]−]メチルーIH−テ
トラゾール−5−イルチオメチル)−3−セフェム−4
−カルボン酸。 3− 7β−12−(:I、/I−ジヒドロキシベンゾイルア
ミノ)2−(2−アミノチアゾール−4−イル)アセ1
ヘアミド1−3〜N−(2−ジメチルアミノ)エヂルー
I I+−テ1へラブ−ルー5−イルチオメチル1−3
−セフェ11−4−カルボン酸。 7β−C2−(:1.4−ジアセ1〜キジベンゾイルア
ミノ)−2−(2−7ミノチアゾールー4−イル)アセ
1〜アミド1−1−(+−カルボキシメチル−1日−テ
1〜ラゾール−5−イルチオメチル−セフ:+: l−
− 4−カルボン酸。 7β−C2−(:1,4−ジアセ1〜キジベンゾイルア
ミノ)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)アセ
トアミド) 、’l C5−メチル−1.3.4−チア
ジアゾール−2−4ルチオメチル)−3−セフ ェ ノ
、− 4 − ノJJレボン酸,。 7 /I−C2−(:、/I−ジアセ1〜キジベンゾイ
ルアミノ)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)
アセトアミド アゾール−4−(ルチAメチル)−3〜セフェム−4−
カルボン酸。 4− 7β−C2−(3.4−ジヒドロキシベンゾイルアミノ
)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)アセトア
ミド)−3− (2,5−ジヒドロ−6−ヒドロキシ−
2−メチル−5−オキソ−1,2。 4−トリアジン−3−イルチオメチル)−3−セフェム
−4−カルボン酸。 式(1)で表わされる化合物は次に示す方θ;により合
成することができる。 方法A (■)(−IN[) 〔式中、R3は水素原子またはアミノ基の保護基を、R
4は水素原子またはカルボキシル基の保護基を意味する
。R,、R2、nは前記と同意義〕化合物(or ’)
:lたけそのカルボキシル基における反応性誘導体と
化合物(11)またはその塩とを反応せしめ、す(に必
要に7.2.著して保護基を除去することにより本発明
の化合物臼)を得ることができる。 1、記反応に、1;い−U、カルボン酸である化合物(
Ill )k用いる場合に目、例えばN、N’−ジシク
「1ヘギシル力ルポジイミド、N、N’−ジエチル−力
ルボジイミト、N−シ9[1ヘキシル−N′−モルホリ
ノエチル力ルボジイミト、亜すン酸トリアルキルJステ
ル、ポリt1ン酸エチルエステル、オキシ塩化リン、オ
キザルクロリドなどの脱水縮合剤のイf在F l:h2
k’を行うのが々Yましい。 また化合物(Ill
)のカルボキシル1.(に、[日)る反応性誘導体を用
いる場合に1,1、反11?、: (’I誘導体として
、酸塩化物、酸9化物などの酸ハ「1ゲン化物;対称酸
無水物;クロル炭酸エステル、1−リメチル酢酸などの
カルボン酸との混合酸;Qi水物;N−ヒドロキシスク
シンイミド、■)−二I−ローノエノールなどとの活性
エステルなどが用いられる。 l’、ij+!のN−アシル化IηJ、i;は、不活性
溶媒中、塩基性試薬あるいはシリル化剤の存在下、また
は非存在下に一50℃〜50℃、好ましくは−2’O0
C〜30℃の温度で5分間〜24時間で行うことができ
る。 不活性溶媒としては、テトラヒドロフラン、アセトン、
ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、ジオキ
サン、ジクロロメタン、りし10ポルム、酢酸エチル、
ベンゼンあるいはこれらの混合溶媒があげられる。 塩基性試薬としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウムなどの水酸化アルカ■1、炭酸水素カリウム
、炭酸水素ナトリウムなどの炭酸水素アルカリ、トリエ
チルアミン、ピリジン、ジメチルアニリン、N−メチル
モルポリンなどの有機塩基があげられる。 シリル化剤としては、例えば、N、O−ビス(1−リメ
チルシリル)アセトアミド、ヘキサメチルジシラザン、
トリメチルシリルアセ1〜アミドなどがあげられる。 7一 式(11)中のアミノ基の保護基R3としてはホルミル
、クロ[17セチル、2 、2 、2− トリクロロエ
トキシカルボニル、1−ブトキシカルボニルリフェニル
メチル、1−ルメチルシリル基などがあげらお,る。ま
た力ルボギシル」↓の保護基R4としては、岨−ブチル
、ジフェニルメチル、P−ニトロベンジル、■)− メ
トキシベンジル、1−リメチルシリル、2,2.2−1
−リクロロエチル基などがあげら小,る。 )F発明の化合物臼)は11記の方法A以外に下記の力
θ、13にて#1i1iゾJ1′1できる。 また、例えば式(I)中のR,が水素である化合物等は
下記のh−法Cにても製造できる。 方−ηりYう 〔方法Bの式中、l?+ 、 R.2 、 R3 、n
は前記と同意義〕 8ー セファロスポリンの3位がアセトキシメチルである化合
物(ビ)を1〜10倍モルのチオール化合物(IV)と
有機溶媒中酸または酸の4=J加物の存在下または非存
在下、0〜100℃の温度で1〜24時間反応させると
セファロスポリンの3位がR3SCH2基の化合物が容
易に得られる。このものは必要に応じてカルボキシル基
をエステルとして保護した後精製し、必要に応じ保護基
を除去することにより本発明の化合物(1)を与える。 反応に使用することのできる有機溶媒としては反応に悪
影響を与えない全ての有機溶媒または反応試薬自体をあ
げることができ、例えばニトロメタン、ニトロエタンな
どのニトロアルカン類;ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸
などの有機カルボン酸類;アセトン、メチルエチルケト
ンなどのケトン類;ジエチルエーテル、ジオキサン、テ
トラヒドロフランなどのエーテル類またはこれらの混合
したものがあげられる。酸としては硫酸、メタンスルホ
ン酸、過塩素酸などのプロトン酸;三フッ化ホウ素、塩
化亜鉛、塩化第二スズ等のルイス酸などがあげられ、酸
の付加物として十記のルイス酸とジエチルエーテル、エ
チルアミン、酢酸などの錯塩があげI′:、れる。また
化合物(1′)と化合物(TV)との反応は木、緩衝液
中、炭酸水素ナトリウム、水酸化すトリウ71などの塩
も(の存在下、50〜70℃の反応Kl mで1〜1
(+ 11.7間の反応時間で行うこともできる。 〕l弘6 「方法Cの式中R5は低級アルキルあるいは低級アルコ
キシ基、R2、R3、R4、Rs 、nは前記と同意義
1 式(+)+’l+ +< 、が水素原子である化合物は
式(1”)の化合物に塩基を作用させることによっても
得らJl、る、1ス、−基と1.てけ炭酸、酢酸、リン
酸のごとき弱酸性物質のアルカリ金属塩;低級アルキル
アミンあるいけヒドロギシ低級アルカル金属塩;低級ア
ルキルアミンあるいはヒドロキシ低級アルキルアミンお
よびピペラジン、モルホリンなどの脂環式アミンのごと
き有機塩基があげられる。塩基の量は通常(1”)の2
〜20倍モルを使用し、反応溶媒としては水または水を
含有するメタノール、エタノール、ジオキサン、テトラ
ヒドロフランなどの有機溶媒があげられる。反応後必要
に応じ保護基を脱離することにより本発明の化合物(1
)を得る。 前記式(1)、(ビ)、(1”)、(IT
)中の2−アミノチアゾール基が結合する炭素原子の立
体配置はD体、L体またはラセミ体で存在し得る。 なおこれらの光学活性体は適当な光学活性の原料を用い
て製造することにより、あるいは光学分割することによ
り得られる。 本発明のセファロスポリン誘導体は新規物質であり、こ
れらのナトリウム塩の抗菌力を公知の代表的セファロス
ポリン化合物と比較し最小用11濃度(MTC1μg/
鵬Q)を第1表に示す。 11− 第1表 最小111+l二譲度(μg/IIIQ)〔菌
濃度10Gce11.s/m Q )13− 12− 参考例1 7β−(DL−2−アミノ−2−(2−クロロアセチル
アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−(
1−メチル−IH−テトラゾール−5−イルチオメチル
)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエス
テルの合成: / 7β−〔アンチ−2−メトキシイミノ−2−(2−クロ
ロアセチルアミノチアゾール−4−イル)アセトアミド
)−3−(1−メチル−IH−テトラゾール−5−イル
チオメチル)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒ
ドリルエステル1.56gをアセトン30 m Qに溶
解し、木3mmを加えた後溶液を一30℃に冷却しメタ
ンスルホン酸5mQを加え、温度を−35〜−15℃に
保ちつつ亜鉛末1.56gを加える。添加後さらに1.
5時j111撹拌を続け、次いで沈殿を濾別し濾液を炭
酸水素すトリウ11水溶液中に注ぎ酢酸エチルで抽出し
無水硫酸マグネシラlいで乾燥し7β−(DC−2−ア
ミノ−2−(2−4)ロロアセチルアミノチアゾール−
4−イル)アセ1−アミド)−3−(]−]メチルーI
II−テトラゾール5−イルチオメチル)−3−セフェ
ム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステルの酢酸エチ
ル溶液を得る。 参考例2 7β−[11+、−2−アミノ−2−(2−ホルムアミ
ドチアゾール−4−イル)アセトアミド]セファロスポ
ラン酸1−ブチルエステルの合成ニアβ−「シン−2−
メ]−キシイミノ−2−(2−ホルムアミドデアゾール
−4−イル)アセトアミド〕セファロスポラン酸t−ブ
チルエステル1.619gをエタノール60mfi及び
蟻酸6 m Qに溶解し、反応温度を25〜30℃に維
持するように冷却撹拌下、亜鉛末3.92 gを30分
間かけて加える。添加後室部で5分間撹拌し沈殿を濾別
し。 濾液に氷水を加え炭酸水素ナトリウムで中和する。 次いで酢酸エチル100mGで抽出し、水洗後無水硫酸
マグネシウムで乾燥すると7β−(r)L−2−アミノ
−2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)アセ
トアミド〕セファロスポラン酸i −ブチルエステルの
酢酸エチル溶液が得られる。 実施例1 7β−(DL−2−(3,4−ジアセトキシベンゾイル
アミノ)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)ア
セトアミド)−3−(+−メチル−IH−テトラゾール
−5−イルチオメチル)−3−セフェム−4−カルボン
酸の合成: 15− 3.4−ジアセトキシ安息香酸0.476gをベンゼン
8m(lに懸濁させ、ジメチルホルムアミド1滴、チオ
ニルク「1リド0.72mQを加え1時1111加熱還
流する。反応後溶媒を留去しさらにベンゼン5mQを加
え再度溶媒を留去すると3,4−ジアセ1−キシ安息香
酸クロリドが得られるのでこれを酢酸エチル3 m (
1,に溶解する。 参考例1により!iW造した7β−(1′)l−2−ア
ミノ−2−(2−クロ
【1アセチルアミノチアゾール−
4−イル)アセトアミド)−3−(1−メチル−I I
f−テ1−ラゾールー5−イルチオメチル)−3−セフ
ェ11−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステルの#l
iI:酸エチル酸液チル溶液で11!造した酸クロリド
の酢酸エチル溶液を加え室温で30分間撹拌する。反応
後反応溶液を水、IN−炭酸水素ナトリウム水溶液、飽
和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネジt′)lzで
乾燥後、誠圧濃縮しエチル二−テ16− ルを加えると7β−(f)L −2−(3、4−ジアセ
トキシベンゾイルアミノ)−2−(2−クロロアセチル
アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−(
1−メチル−IH−テトラゾール−5−イルチオメチル
)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエス
テルが沈殿として析出するので濾取する。収量1.05
g。 I R(KRr): 17B0,1540,1500,
1375,1205 c−−’NMR(CI)il、f
i :a : DMSOdo =4 : ])δ:2.
28(6H,3,2X 0COC113)3.86(3
H,s、テトラゾール1−C113)4.22(2H,
s、CQ Cl12CO)6.89(IH,s、−CO
OC!j円12)7.34(IOH,s、−COOCI
Ijjh、2)7β−Cot、 −2−(3、4−ジア
セトキシベンゾイルアミノ)−2−(2−クロロアセチ
ルアミノチアゾール−4−イル)アセトアミド]−3−
(+−メチル−IH−テトラゾール−5−イルチオメチ
ル)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル]
−ステル3.78 gをエタノール50mQに懸濁させ
チA尿素(: (18m にを加え60℃で3時間加熱
し反応後4くを加えて酢酸エチルで抽出し、水洗、無水
硫酸マグネシラlえて乾燥後溶媒を留去しシリアカゲル
カラ11り[1マドグラフイーに付し、塩化メチ1ノン
:アセ1−ン=20:Iσ)溶出部から7 tl 7
(叶−ニシー(1,−1−ジアセトキシづンゾイルアミ
ノ)−2−(2−アミメチ)′ゾールー4−イル)アセ
トアミド)−1it−メチル−ITl−テ1−ラ゛ブー
刀バー5−イルチオメチル11−4−カルボン酸ベンズ
ヒドリルエステル】。 7 6 1; を1!トろ,。 T R (1(llr) : I”/85, l’.+
:(n, 151111, I:175, 1205.
118511 N M R (r’m: It 、、: l耐Sn d
l! ==4 : 1)δ:2、28(1’ill,s
,2X OC(ICI13 ):1.8:R:III,
s,テトラゾールICI+3)1i.4ti(III,
・、、(アゾール5−CI+)+;.g5(団, s
、 − 1’.(10CIll”h 2 )7、 2n
rlllll,s,−C110+’:If即,)7β−
[DL − 2 −(3 、 4−ジアセトキシベンゾ
イルアミノ)−2− (2−アミノチアゾール−4ーイ
ル)アセトアミド]−3−(1−メチル−111−テト
ラゾール−5−イルチオメチル)−3−セフェム−4−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル2。 61gにトリフルオロ酢酸20mQ及びアニソール4
m Qを加え室温で30分間撹拌し、次いで反応液を減
圧濃縮し、残液に酢酸エチルを加えエーテル中に滴加す
ると7β−(DL− 2 −(3 、 4−ジアセトキ
シベンゾイルアミノ)−2− (2−アミノチアゾール
−4−イル)アセトアミド)−3−(1−メチル−]
]Hーテトラゾールー5ーイルチオメチル−3−セフェ
ム−4−カルボン酸の1〜リフルオロ酢酸塩が沈殿とし
て析出するので濾取する。収量2.1 4 g。 I R(KBr) : 1780,1635,1370
.1200 cm−1N M R(CDCQ 3 :
DMSO do =2 : 1)δ:2、26(6H,
s,2X OCOCH3)3、67(2H,s, 2−
CH2 ):l 、 C13 (:l11 、・、、テ
1へラゾール]−C貼)4、32(211,s,:l’
−CII* S−)Fi.7J fi.8(i(II
I,ar+r;h s,チアゾール5−C11)7 /
I −〔n+、− 2−I号,4−ジアセトキシベンゾ
イルアミノ)− 2 7 (、2−−、fミノチアゾー
ル−4−イル)アセ1ヘアミド1−1−(1−メチル−
IH.−テ1ーラゾールー5ーイルチオメチル)−3−
セフェム−4−カルボン、酸のトリフルオロ酢酸塩1.
62Fτを5mQの木に)1■濁させIN−炭酸水素ナ
トリウ11水溶液を加えて溶解しアンバーライトXA1
)−2カラ11クロマトグラフィーに付しエタノール:
水=5=1の溶出部を隼めると7β−(DL −2−(
3,/I−ジアセトキシベンゾイルアミノ)−2− (
2−−7ミノチアゾールー4−イル)アセ1ヘアミド]
−’A−( +ーメチル−IH−テトラゾール−5−、
イルチオメチル)−3−セフェlN−4−カルボン酸の
すトリウl,Ili1.16gが得られる。 21一 実施例2 7β−[DL−2−(3.4−ジヒドロキシベンゾイル
アミノ)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)ア
セトアミド]−1−(+ーメチル−1H−テトラゾール
−5−イルチオメチル)−3−セフェム−4−カルボン
酸の合成: 叫 実施例1に従って合成した7β−(DI、−L2−’(
3。 4−ジアセトキシベンゾイルアミノ) −2− (2−
アミツチアゾールー4−イル)アセトアミド〕−3−(
1−メチノI;− I H−テトラゾール−5−イルチ
オメチル)−3−′セフェムー4ーカルボン酸のトリフ
ルオロ酢酸塩409mgを1’N−炭酸水素ナトIJ
’7ム水溶□液10mflに溶解し室温で2。 5時間撹拌讐る。反応後アンバーライトX’Ar)−2
2− 2カラl+り
4−イル)アセトアミド)−3−(1−メチル−I I
f−テ1−ラゾールー5−イルチオメチル)−3−セフ
ェ11−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステルの#l
iI:酸エチル酸液チル溶液で11!造した酸クロリド
の酢酸エチル溶液を加え室温で30分間撹拌する。反応
後反応溶液を水、IN−炭酸水素ナトリウム水溶液、飽
和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネジt′)lzで
乾燥後、誠圧濃縮しエチル二−テ16− ルを加えると7β−(f)L −2−(3、4−ジアセ
トキシベンゾイルアミノ)−2−(2−クロロアセチル
アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド〕−3−(
1−メチル−IH−テトラゾール−5−イルチオメチル
)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエス
テルが沈殿として析出するので濾取する。収量1.05
g。 I R(KRr): 17B0,1540,1500,
1375,1205 c−−’NMR(CI)il、f
i :a : DMSOdo =4 : ])δ:2.
28(6H,3,2X 0COC113)3.86(3
H,s、テトラゾール1−C113)4.22(2H,
s、CQ Cl12CO)6.89(IH,s、−CO
OC!j円12)7.34(IOH,s、−COOCI
Ijjh、2)7β−Cot、 −2−(3、4−ジア
セトキシベンゾイルアミノ)−2−(2−クロロアセチ
ルアミノチアゾール−4−イル)アセトアミド]−3−
(+−メチル−IH−テトラゾール−5−イルチオメチ
ル)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリル]
−ステル3.78 gをエタノール50mQに懸濁させ
チA尿素(: (18m にを加え60℃で3時間加熱
し反応後4くを加えて酢酸エチルで抽出し、水洗、無水
硫酸マグネシラlえて乾燥後溶媒を留去しシリアカゲル
カラ11り[1マドグラフイーに付し、塩化メチ1ノン
:アセ1−ン=20:Iσ)溶出部から7 tl 7
(叶−ニシー(1,−1−ジアセトキシづンゾイルアミ
ノ)−2−(2−アミメチ)′ゾールー4−イル)アセ
トアミド)−1it−メチル−ITl−テ1−ラ゛ブー
刀バー5−イルチオメチル11−4−カルボン酸ベンズ
ヒドリルエステル】。 7 6 1; を1!トろ,。 T R (1(llr) : I”/85, l’.+
:(n, 151111, I:175, 1205.
118511 N M R (r’m: It 、、: l耐Sn d
l! ==4 : 1)δ:2、28(1’ill,s
,2X OC(ICI13 ):1.8:R:III,
s,テトラゾールICI+3)1i.4ti(III,
・、、(アゾール5−CI+)+;.g5(団, s
、 − 1’.(10CIll”h 2 )7、 2n
rlllll,s,−C110+’:If即,)7β−
[DL − 2 −(3 、 4−ジアセトキシベンゾ
イルアミノ)−2− (2−アミノチアゾール−4ーイ
ル)アセトアミド]−3−(1−メチル−111−テト
ラゾール−5−イルチオメチル)−3−セフェム−4−
カルボン酸ベンズヒドリルエステル2。 61gにトリフルオロ酢酸20mQ及びアニソール4
m Qを加え室温で30分間撹拌し、次いで反応液を減
圧濃縮し、残液に酢酸エチルを加えエーテル中に滴加す
ると7β−(DL− 2 −(3 、 4−ジアセトキ
シベンゾイルアミノ)−2− (2−アミノチアゾール
−4−イル)アセトアミド)−3−(1−メチル−]
]Hーテトラゾールー5ーイルチオメチル−3−セフェ
ム−4−カルボン酸の1〜リフルオロ酢酸塩が沈殿とし
て析出するので濾取する。収量2.1 4 g。 I R(KBr) : 1780,1635,1370
.1200 cm−1N M R(CDCQ 3 :
DMSO do =2 : 1)δ:2、26(6H,
s,2X OCOCH3)3、67(2H,s, 2−
CH2 ):l 、 C13 (:l11 、・、、テ
1へラゾール]−C貼)4、32(211,s,:l’
−CII* S−)Fi.7J fi.8(i(II
I,ar+r;h s,チアゾール5−C11)7 /
I −〔n+、− 2−I号,4−ジアセトキシベンゾ
イルアミノ)− 2 7 (、2−−、fミノチアゾー
ル−4−イル)アセ1ヘアミド1−1−(1−メチル−
IH.−テ1ーラゾールー5ーイルチオメチル)−3−
セフェム−4−カルボン、酸のトリフルオロ酢酸塩1.
62Fτを5mQの木に)1■濁させIN−炭酸水素ナ
トリウ11水溶液を加えて溶解しアンバーライトXA1
)−2カラ11クロマトグラフィーに付しエタノール:
水=5=1の溶出部を隼めると7β−(DL −2−(
3,/I−ジアセトキシベンゾイルアミノ)−2− (
2−−7ミノチアゾールー4−イル)アセ1ヘアミド]
−’A−( +ーメチル−IH−テトラゾール−5−、
イルチオメチル)−3−セフェlN−4−カルボン酸の
すトリウl,Ili1.16gが得られる。 21一 実施例2 7β−[DL−2−(3.4−ジヒドロキシベンゾイル
アミノ)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)ア
セトアミド]−1−(+ーメチル−1H−テトラゾール
−5−イルチオメチル)−3−セフェム−4−カルボン
酸の合成: 叫 実施例1に従って合成した7β−(DI、−L2−’(
3。 4−ジアセトキシベンゾイルアミノ) −2− (2−
アミツチアゾールー4−イル)アセトアミド〕−3−(
1−メチノI;− I H−テトラゾール−5−イルチ
オメチル)−3−′セフェムー4ーカルボン酸のトリフ
ルオロ酢酸塩409mgを1’N−炭酸水素ナトIJ
’7ム水溶□液10mflに溶解し室温で2。 5時間撹拌讐る。反応後アンバーライトX’Ar)−2
2− 2カラl+り
【17トグラフ5r−に伺しエタノール二
水=5:Ir/+溶出部を隼ぬると7β−(T)l−2
−<:+、i+=−ジヒト[Iギシベンゾイルアミノ)
−2−(2−アミノチアソール−4−イル)アセトアミ
1暑−:S−(+ −メチル−111−テトラゾール−
5−イルチオメチル)、−1−セフェ11−4−カルボ
ン酸のすトリウl* ’A人200 rn gが得られ
る。 1 ’R(Kllr) : 177n、11i110.
1520,13f15,1360.1290cm−’N
M R(lIMsf+ −+111 ) δ :j、
:lfi・−=:1.71(211,bro;nJ、2
C1h ):1.f12(:III、s、テトラゾー
ル1cH3)/1.21=4.fi3(211,bro
ad、3’ −Cll25−)fi、4!’1(III
、s、チアゾール5−C11)fi、 ri:l−7,
47(:ill、m、 号’香環CI+)実施例3 7β−rlll−2−(:l 、 /l 、 5−トリ
アセトキシベンゾイル)′ミノ) −2−(2−7ミノ
チアゾー)(i −4−r/l/) Y l□ドアミI
’)−3−(+−メチル−1H−テトラゾール−5−イ
ルチオメチル)−3−セフェム−4−カルボン酸の合成
:COCH3 実施例1と同様に、参考例】に従って7β−〔アンチ−
2−メトキシイミノ−2−(クロロアセチルアミノチア
ゾール−4−イル)アセ1ヘアミド〕セフアロスポラン
酸ベンズヒドリルエステル3゜77gから製造された7
β−[01,−2−アミノ−2−(2−クロロアセチル
アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド]セファロ
スポラン酸ベンズヒドリルエステルと3.4.5−1〜
リアセ1−ギシ安息香酸]、48gを反応させると、7
β−(:DL−2−(3,4,5−トリアセトキシベン
ゾイルアミノ)−2−(2−クロロアセチルアミノチア
ゾール−4−イル)アセトアミド)−3−(+−メチル
−L H−テトラゾール−5−イルチオメチル)23− −3−セ) x、 A −4−カルボン酸ペンズヒドリ
ル工人チルl 、 4 rl 、<が/、l’)られる
。 1 [く(旧1r) : 17!10.1550.1:
170.1185 r:m、−’N M R(CnC(
! +1 : IIMsO−clu =4 : I)δ
:2、 :!7 (9II 、 s 、 :l X (
1(二(lc113 )3.11/I(:ロ1.s、テ
1−ラゾールl−Cl+3)4、21 (211,s、
CQ C,Ijz CO)(i、8!’+(III、s
、 −1’:(10Cjj 円−2)7.1rl(団r
srチアゾール5−C11)7、:111(Illll
、s、 −C(lOcjj円12)7、 fit+ (
211、s 、芳香環C11)1−記のベンズヒドリル
エステル]、、30gを炭酸カルシラlz O、I :
l +=の存在下、実施例1と同様にチオ尿素1)、3
!′15gと1反応させると7β−[DL−2−(、:
l、 4 、5. l−リアセ1−キジベンゾイルアミ
ノ)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)ア1で
1〜アミド)−3−(+−メチル−1H−テ1〜ラゾー
ルー5−イルチオメチル)−3−セフェ11−4−カル
ボン酸ベンズヒドリルエステル724− Omgが得られる。 T R (Knr) : 1785,1525,137
5.1190 cm−’N M R (CDCΩ3)δ
: 2、23(9H,s,3XOCOCl13 )3、79
(3H,s,テトラゾール1− Cll 3 )6、3
8,6.43.(III,each s,チアゾール5
−1’:I+)6、90(Ill,s, COOClj
r’h2)7、3.2(IOH,s, COOCtl門
2)7、65(2H,s,芳香IIJ C H )上記
のベンズヒドリルエステル670mgにアニソール2m
Q及びトリフルオロ酢酸10m(lを加え実施例1と同
様に反応させると7β−(Ill. −2− (3,4
,5−トリアセトキシベンゾイルアミノ)−2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド)−3−(
1−メチル−I H−テトラゾール−5−イルチオメチ
ル)−3−セフェム−4−カルボン酸のトリフルオロ酢
酸塩568mgが得られる。 I R(KBr) : 1770,1630−1690
.1370.1190 am−’NMIシ(CI)CQ
:r : I)MsO(Fll =4 : 1)δ
:2.28(4111,s、’、IX(ICOCII:
* )3.6F+(211,S、2−1’:112 )
3.02(:III、s、テトラゾール1−CI+3)
4.35(211,s、3’ (Tl125 )1i、
74(III、s、−−チアゾール5−CI+)7.7
(i(Fll、s、 %’ ff zcl+)」―記で
得られた1〜リフルオロ酢酸塩467mgを実施例1と
111様にして炭酸水素ナトリウム水溶液に溶解しアン
バーライトXAn−2カラムクロマ1−グラフィーにて
精製するとナトリウム塩335111 gが得られる・
・ 実施例4 7β−(OL−2−(2,3−ジアセトキシベンゾイル
アミノ)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)ア
セトアミド)−3−(1−メチル−IH−テトラゾール
−5−イルチオメチル)−3=セフェム−4−カルボン
酸の合成: (1)2.3−ジアセトキシ安息香酸715mgをベン
ゼン10mQに懸濁させ、ジメチルホルムアミド1滴、
チオニルクロリド1.09sQを加え1時間加熱還流後
溶媒を減圧留去すると2,3−ジアセトキシ安息香酸ク
ロリドが得られる。 (2)7β−(OL−2−アミノ−2−(クロロアセチ
ルアミノチアゾール−4−イル)アセトアミド)−3−
(1−メチル−IH−テトラゾール−5−イルチオメチ
ル)−3−セフェム−4−カルボン酸トリフルオロ酢酸
塩1.348gを乾燥27− テ1ヘラヒトr、lフランl Om Qに懸濁させトリ
エチルアミン0 、28 m Q及びN、O−ビス(ト
リメチルシリル)アセトアミド1 m Qを加え室温で
30分間撹拌する6次いでこの溶液に(1)で調製した
酸クロリドのアセトン溶液(10sQ)tt加えI11
11℃30分間撹拌する。反応後酢酸エチルを加え水洗
、無水硫酸マグネシウムで乾燥し濾過する。濾液にジフ
ェニルジアゾメタン388mgを加え室温で12時間撹
拌し溶媒を減圧留去しシリカゲルカラムクロマ1〜グラ
フイーに付す。クロロボルム:アセl〜ン=5:1〜3
:1の部分を集めると7O−(Ill、 −2−(2、
3−ジアセトキシベンゾイルアミノ)−2−(2−クロ
ロアセチルアミノチアゾール−4−イル)アセトアミド
〕−3−(+−メチル−111−テトラゾール−5−イ
ルチオメチル)−:1−セフェム−4−カルボン酸ベン
ズヒドリルエステル494s+gが得られる。 I R(K1%r) : + 71111.17411
〜1670.1550. +465.1375゜12f
iO,1205cs+−1 N M R(C1l(’: Q 、、 )δ:28− 2.28.2.35(6H,each s 、2XOC
OCH3)3.60(28,broad、2−CH2)
3.80(3H,s、テトラゾールICH3)4、22
(28,g、CD CH2CO)6.90,6.93,
6.97(2H,each s、チアゾール5− CH
、−C00C4jPh 2 )7.35(IOH,s、
C00CtlPh* )7β−(DL−2−(2,3−
ジアセトキシベンゾイルアミノ)−2−(2−クロロア
セチルアミノチアゾール−4−イル)アセトアミド]−
3−(1−メチル−IH−テトラゾール−5−イルチオ
メチル)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリ
ルエステル804mgをテトラヒドロフラン2mj2及
びエタノール7mQの混合溶液に溶かし炭酸カルシウム
85mg及びチオ尿素129mgを加え70℃で1.5
時間撹拌し反応後酢酸エチルを加え水洗、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥し溶媒を留去する。残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付しクロロホルム:アセトン
=3:1〜2:1の溶出部を集めると7β−〔口1、−
2−(2,3−ジアセI・キジベンゾイルアミノ)−2
−(2−7ミノチアゾールー4−イル)アセ1−アミト
ド−3−(+−メチル−1■−テトラゾール−5−イル
チオメチル)−ご1−セフェ11−4−カルボン酸ベン
ズヒドリルエステル486mgが得られる。 11シ(Kllr) : I 741+1.17411
.16811. +620.1520.1460゜1:
17!i、 121i11.121111 cm−1N
114 R(CIICI+、 +1 ) 8 :2.
2B、2 、 :15 (611、O肛h s 、2X
OCOC113)3、fil(211j+roz+rl
、2−(’:+12 )3.80(:lll、s、テト
ラゾール1−Cl1:、)4.28(211,hroa
+l、3’ −C1125−)6.42(Ill、s、
チアゾール5−C11)ti、口:1(Ill、s、−
自1111’:jjl’b 2 )7、35 (101
1、s 、 −C(111+”、++!”!! 2 )
−1−讐i【;で<!l ’;れだベンズ【ニトリルエ
ステル111gにアニソールllIIQ及びトリフルオ
ロ酢酸5m Qを加え室’/1.Aで30分間撹拌し減
圧濃縮後酢酸エチル及びエチルエーテルを加えると7β
−〔Dl。 −2−(2.3−ジアセトキシベンゾイルアミノ)−
2−(2−アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド
)−3−(1−メチル−IH−テトラゾール−5−イル
チオメチル)−3−セフェム−4−カルボン酸のトリフ
ルオロ酢酸塩が沈殿として析出するので濾取する。収量
426mg。 I R(KBr) : 1780,1700−1640
.1525.1470,1370。 1200 cm−1 N M R (CDCQ 3 : I)MSO do
=4 : 1)δ:2、30(6H,each s 、
2XOCO(l13)3、67(28,broad,2
−CH2 )3、93(3H,s,テトラゾールICH
3)4、35(2H,broad,3’ −CH2 S
−)6、67、6.70(Ill,each s,チア
ゾール5−CI+)上記で得られたトリフルオロ酢酸塩
376mgを炭酸水素ナトリウム水溶液に溶かしアンバ
ーライトXAD−2カラムクロマトグラフィーに付しエ
タノール:水=5=1の溶出部を集めるとナトリウム塩
273mgが得られる。 31一 実施例5 7 /I−rll+.−2−(:l, /I−ジェトキ
シカルボニルオキシベンゾイルアミノ)−2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)アセトアミド)− 3 −
(1−メチル−11−テ1へラブ−ルー5−イルチオメ
チル)−3−セフェl,.ー4ーカルボン酸の合成:3
、4−ジェトキシカルボニルオキシ安息香酸1、+93
gをベンゼン10mQに懸濁させ、ジメチルボルムアミ
ド1滴、チオニルクロリドI。 45…Qを加え111,1間加熱還流する。反応後溶媒
を留去するど3,4−ジェトキシカルボニルオキシ安7
1、養醸クロリドが得られるのでこれを酢酸エチル5
m Qに溶かす。 参考例2により製造した7β−〔DI,−2−アミノ−
2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イ32− ル)アセトアミド〕セファロスポラン酸t−ブチルエス
テルの酢酸エチル溶液にピリジン2mQ及びジメチルア
セトアミド1 0mgを加え水冷撹拌下、上記で調製し
た酸クロリドの酢酸エチル溶液を加え、添加後回温度で
15分間撹拌する。反応後反応液を水、硫酸水素ナトリ
ウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を留去し残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに付し、クロロポル11:
アセトン=3:1の溶出部より7β−(DI、−2−
(3。 4−ジェトキシカルボニルオキシベンゾイルアミノ)−
2−(2−アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド
〕ーセファロスポラン酸t−ブチルエステル1.358
gを得る。 I R(KBr) : 1780,1730,1710
,1540,1500,1370。 1250 cm−’ N M R (CDC Q 3)δ: 1、37(6H, t 、C用3CH20−)1、50
(9H, s 、t−Bu) 2、07(3H,s,−OCOCH3):1.’l0(
211,1Iroad、2−Cl+2 )4.:13(
411,q 、(’、11:I Cl+20 )ri、
418 、7.115 (III 、 c!++c:
l+ s 、チアゾール5−C11)−1−記の1−ブ
チルエステル1.308gをアニソール2 rn Q及
びトリフルオロ酢酸10mQに溶かし室lIAで3C)
分間反)、’F;後減圧濃縮し残液に酢酸エチル次いで
エチルエーテルを加えると7β−〔01゜−1−(:N
、4−ジェトキシカルボニルオキシベンゾイルアミノ)
−2−(2−アミノチアゾール−4−rル)71に1へ
)′ミド〕量!ファロスポラン酸のトリフルオ「1酎酸
塩が析出するので濾取する。数置1.+70g。 T R(Kllr) : I 7Jln、 171(T
、 15411.151111. +37(1,125
0c+n−’N M 12 ((’、I)CD、 :)
: IIMS(1−11B =4 : ])δ:1、
:18(fill、 I; 、にII:+ C1120
−)2.117(:Ill、 s、 −11CflCI
I、1 ):1.’12111.broa+1,2−(
’:112 )4、コ15r411. (1、+Tll
:I C!+2 0 )7、15(III、s、チアゾ
ール5−C11)8.52(III、s、IIC(1−
)上記トリフルオロ酢酸塩1.12(Igにニトロメタ
ン20 m Q及び5−メルカプト−1−メチルテトラ
ゾール0.354 gを加え80℃で10時間撹拌し、
反応後減圧濃縮し残液をエチルエーテル中に滴下すると
粗7β−[rll、−2−(3,/l −ジェトキシカ
ルボニルオキシベンゾイルアミノ− 2−(2−ホルム
アミドチアゾール−4−イル)アセトアミド−3−(1
−メチル−I H−テ1ーラゾールー5ーイルチオメチ
ル)−3−セフェム−4−カルボン酸が析出するので濾
取しエチルエーテルで洗浄する。次いで沈殿をアセトン
30mQに溶かしジフェニルジアゾメタン291mgを
加え室温で一夜撹拌し減圧乾固し残渣をアセトン及び酢
酸エチルより再結すると7β−(Ill、−2−(3、
4−ジェトキシカルボニルオキシベンゾイルアミノ)−
2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)アセト
アミド−3−(1−メチル−1H−テトラゾール−5−
イルチオメチル)−3−セフェム−4−カルボン酸ベン
ズヒドリルエステルの結晶821mgが得られる。 35− T R (Knr) : 17811, 174n,1
7111.1540.151’l11,1370。 1260 0In−’ N M R.(CIIC 9 3 : IIMSO d
l+ ==4 : +)δ :1、38(611, l
; 、Cp.3 Cl12 (1−)3、02(21+
,bro;id s,2 Cl+2 )3、 8)1(
311 、 s 、テトラゾールICIHa)’1.2
11(211,s,3’ 17+12 5 )4、:1
3(4+1, q 、CI+:+ Clj* (1 )
6、4111(III,s, 円−、C!l−)7、1
5(III,s,チアゾール5−CI+)7、:15(
1011,s,j〕!!2Cll )8、47(III
,s,ItCO−) L記のベンズヒドリルエステル770mgをテトラヒト
[1フランIOmQ及びメタノール2 0 m Qのn
G合溶液に溶かしp − 1−ルエンスルホン酸−水和
物.i n 4 rn H;を加え室’11.Aで2時
間さらに40°Cで1時間撹拌した後溶媒を減圧留去し
残渣をアセトンより1−+1結するど7β−(nl、−
2− (3.4−ジエ1〜キシカlレボニlレオキジベ
ンゾイルアミノ)− 2−(2−7ミノチアゾールー4
−イル)アセト−36= アミド−3−(1−メチル−] +(−テトラゾール−
5−イルチオメチル)−3−セフェム−4−カルボン酸
ベンズヒドリルエステルの結晶434mgが得られる。 再結母液をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し
クロロポル15:アセ1ーンー3:1の溶出部を集める
と上記と同じベンズヒドリルエステルがさらに133m
g得られる。 T R(KBr): 17g0,1740,1680,
1530,IFiOO,+375。 1260 cvIl−’ NMR(COCO2:DMSO d8=2: I)δ:
1、37(68, t 、C用3 CH2 0−)3、
88(3+I,s,テトラゾール1−C113)4、2
7(2H,s,3’ CI2 S )4、32(4L
q 、CH3 Cバ,0−)6、55(IH,s,チア
ゾール5−CI+)6、90(IH,s,Php CF
j )7、38(IOH,s,Ph2CH) 上記のベンズヒドリルエステル4 3 1 m gをア
ニソール0.8mQ及びトリフルオロ酢酸4mQの混合
溶液に溶かし室温で30分間撹拌し反応後減圧濃縮する
。、残Ntに耐酸エチル法いでエチルニーデルを加λる
と7 II l’1ll−2−(3,4−ジエ1−キシ
カルボ二月ノオキシベンゾイルアミノ)−2−(2−7
ミノチアゾールー4−イル)アセ1−アミドー:(−(
+−メチlレー1日−テ1へラゾール−5−rルチオメ
チル)−:(−セフェ11−4−カルボン酸の1〜リフ
ルオロ酢酸塩が析出するので濾取する。IIV、 jd
−、3r; II m Hτ・+ R(Kllr) :
1780.172nへ1fi3n、+535.151
15,1370゜1260 cm−’ NMR(1”:11cl! :+ : IIMS Or
Il+ =4 : I) δ :C411(611,I
; 、Cjl:+ Cjl20 ):C711(211
,broad、2−C1h )3.07(:III、、
q、テトラゾールl−C113)4、:(5(/III
、 q 、Cll、Cl12 G−)4.40(211
,s、:(’ −C1125−)6.72,6.77(
Ill、eacl+ s、チアゾール5−C11)出願
人 科研製薬株式会社 −:l!1− 手続補正書(自発) 昭和59年1’l 74 ] 71] 特許庁長官 志賀 学 殿 1、事件の表示 昭和58年特許願第160236号 2、発明の名称 新規なセファロスポリン誘導体 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 郵便番号 113 住所 東京都文京区本駒込2丁目28番8号4、補正の
対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 5、補正の内容 (+)明細井第34頁12行目の[2−アミノチアソー
ル」を[2−ボルムアミドチアゾール]に;打市する。 (2)明細書第39頁最終[1の「2−アミノチアゾー
ル」を[2−ホルムアミドチアゾール」に訂正する。 (二ミ)明細−F第35T110 11行目の「セファ
ロスポラン酸の1ヘリフルオロ酢酸塩が析出する」を「
セファロスポラン酸が析出する」に訂正する、。 (4)明細外:36頁1行目の「−ヒ記トリフルオロ耐
酸塩」を用二記カルボン酸」と訂正する。 (5)明細書第39頁最終行に下記の文を加入する。 2− [実施例6 7β−(01,−2−(3,4,5−トリアセ1−キジ
ベンゾイルアミノ)−2−(2−アミノチアゾール−4
−イル)アセトアミド)−3−(]−]メチルー1 H
−テトラゾール−5−イルチオメチル)−3−セフェム
−4−カルボン酸の合成=3.4.5−トリアセトキシ
安息香酸4.44gをベンゼン30 m Qに懸濁させ
、ジメチルホル、ムアミド0.1mQ、チオニルクロラ
イド5.45 m Qを加え1時間加熱還流する。 反応後溶媒を留去すると3.4.5−1−リアセトキシ
安息香酸クロライドが得られるのでこれを酢酸エチル1
0mQに溶かす。 参考例2と同様にして7β−〔シン−2−メトキシイミ
ノ−2−(2−ホルムアミ1−チアゾール−4−イル)
アレ1−アミド〕セファロスポラン酸を一ブチルエステ
ル5.40gから調製した7β−[ロ1.−2−アミノ
−2−(2−ポル11アミドチアゾール−4−イル)ア
セトアミド〕セファロスポラン酸亀−ブチルエステルの
酢酸エチル溶液300mQにジメチル′yセトγミド2
5 m Oを加え、水冷撹拌ト、I・1111で調製し
た酸クロライドの酢酸エチル溶液を加え、氷冷ト20分
撹拌する。反応後、)Q応液を水、次いで飽和食11f
fi水で洗浄し無水硫酸マクネシウ11で乾燥後溶媒を
減圧留去しエチルエーテルをノ用えると、7β−自)1
.−2− (3,4゜5−トリアセ1〜キジベンゾイル
アミノ)−2−(2−ポル11アミドチアゾールー4−
イル)アセトアミド]セファ[1スボラン酸l−ブチル
エステルが沈殿するので濾取する。収tit5.50g
。 I R(Kllr) : 17911. I’105.
1540.1375. I 190 cm−’N M
R(CIICQ :+ )δ:2.07(:lIl、s
、 +Ic(IClh )2、:ll(!III、s、
:lX (Ic(11’:If3)7.14(III
、q、チアゾール5−C11)7.73(2H,s、芳
香環プロトン)8.46(IH,s、HCO) 上記のエステル15.80gにアニソール15mQ及び
トリフルオロ酢酸75mQを加え、室温にて30分撹拌
後、反応液を減圧濃縮し残留液を酢酸エチル40mQに
溶かしn−ヘキサン200mQとエチルエーテル100
m Qの混合溶液中に滴下すると7β−(1)L−2
−(3,4,5−トリアセトキシベンゾイルアミノ)−
2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)アセト
アミド〕セファロスポラン酸が沈殿するので濾取する。 収112゜0g0 IR(にBr) : 1790.1705,1540,
1375,1190 c+a−’N M R(CDCQ
3)δ: 2.07(3H,s、0COC113)2.31(91
(,5,3XOCOCH3)7.14(IH,s、チア
ゾール5−CI+)7.73(2)1.s、芳香環プロ
トン)8.46(1)1,5JlcO) 4− 1−記の7β−〔叶−2−(3,4,5−ドリアt!1
−ギシベンゾイルアミノ)−2−(2−ホルムアミドチ
アゾール−4−イル)アセl−アミド〕セファロスポラ
ン酸+2.(’logにニトロメタン150r11色及
び5−メルカプト−1−メチル−テトラゾール9.5(
IKを加え80℃にて3時間撹拌する。 反応後、反J、)、;液を半I11.になるまで減圧濃
縮し不溶の沈殿を濾別した後、濾液をエチルエーテル3
00 m ll、中に滴ドし財にT1−ヘキサン] 0
0 m Qを加え生成した7β−nu、−2−(3,4
,5−トリアセ1−ギシベンゾイルアミノ)−2−(2
−ホル11アミトチ゛ンゾール−4−イル)アセトアミ
ド〕−3−(+−メチル−I’11−テ1〜ラゾールー
5−イルチオメチル)−:S−セフェム−4−カルボン
酸の第11沈殿を濾取する。 次いで沈殿をエチルエーテルで洗浄後アセトン50 r
n D、に溶かしジフェニルジアゾメタンを少量ずつ赤
色がd“1えなくなるまで加える。反応後、反応液を減
圧乾固しシリカゲルカラ11クロマトグラ6− フィに付し、クロロホルム:アセトン=3:1の溶出部
を集め減圧乾固後酢酸エチルに溶かしn−ヘキサン中に
滴下すると7β−(Dl.、 − 2 − ( 3 。 4、5−トリアセトキシベンゾイルアミノ)−2−(2
−ホルムアミドチアゾール−4−イル)アセトアミド)
−3−(1−メチル−1 1(−テ1ーラゾールー5ー
イルチオメチル)−3−セフェム−4−カルボン酸ベン
ズヒドリルエステルが沈殿するので濾取する。収量7.
40g。 I R(KBr) : 1790.1?10,1535
,1485,1370.1180 cm−’N M R
(CDC Q 3)δ: 2、20, 2.26(9H,each s, 3XO
COC113 )3、79(31(、s,テトラゾール
IC113)6、88(IH, s, Phz C;0
6、94, 7.01(IH, each s,チアゾ
ール5−C11)7、31(IOH,s, Ph2CI
)7、71(21(、 s,芳香環プロトン)8、39
, 8.43(IH,each s,)ICO)上記7
β−(DL−2−(3,4.5−トリアセトキシベンゾ
イルアミノ)−2−(2−ホルムアミドチアゾール−4
−・イル)アセ1−アミド)−3−(l−メチル−Il
l−テトラゾール−5−イルチオメチル)−3−セフェ
11−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル7.40
gをアセトン15 m Qに溶かしメタノール75m庇
を加え、これにメタンスルホン酸(1,74gをメタノ
ール7mMに溶かした溶液を加える。添加後室温で1.
5時間撹拌し、^1.酸エチル4 +I n +n Q
を加え0.5N−炭酸水素す1−リウム水溶故40 m
Qを含む氷水、次いで飽和食塩水で洗浄jる。有機層
を無水硫酸マグネシラ11で乾燥後減圧乾固し、シリカ
ゲルカラムクロマ1−グラフィに付す。 クロ[1ホルム:アセ1〜ン=3:1の溶出部を集め減
圧乾固し、少畦の61:酸エチルに溶かしIt−へキサ
ン中に滴下すると7β−[111,−2−(3,4゜5
−トリアセトキシベンゾイルアミノ)−2−(2−アミ
ノチアゾール−4−イル)アセ1〜アミド〕−1−(+
−メチル−111−テトラゾール−5−イルチオメチル
)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエス
テルが沈殿するので濾取する。収量4.10g。 IR(にOr) : 1785,1525,1375.
1190 cm−’NMR(CDCQ3)δ: 2.23(911,s、3XOCOCH3)3.79(
3H,g、テトラゾールICH3)6.3g、 6.4
3(IH,each s、チアゾール5−C11)6.
90(IH,s、−COOCHPh2)7.32(10
11,s、 −COOCHPh* )7.65(211
,s、芳香環CI) 上記で得られたエステルのTR,NMRデータは実施例
3にて調製した7β−[01,−2−(3。 4.5−トリアセトキシベンゾイルアミノ)−2−(2
−アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド)−3−
(1−メチル−IH−テトラゾール−5−イルチオメチ
ル)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエ
ステルのものと一致した。 更に上記で得られたエステルを実施例3と同様にしてア
ニソールとトリフルオロ酢酸で処理する8− と”l1l−(Ill、−2−(3,4,5−トリアセ
トキシベンゾイルアミノ) −2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)アセトアミド)−3−(1−メチル−
1■−テトラゾール−5−イルチオメチル)−3−セフ
ェム−4−力Jレボン酸のトリフルオロ酢酸塩が得られ
る。」 11%願人科研製薬株式会社 9−
水=5:Ir/+溶出部を隼ぬると7β−(T)l−2
−<:+、i+=−ジヒト[Iギシベンゾイルアミノ)
−2−(2−アミノチアソール−4−イル)アセトアミ
1暑−:S−(+ −メチル−111−テトラゾール−
5−イルチオメチル)、−1−セフェ11−4−カルボ
ン酸のすトリウl* ’A人200 rn gが得られ
る。 1 ’R(Kllr) : 177n、11i110.
1520,13f15,1360.1290cm−’N
M R(lIMsf+ −+111 ) δ :j、
:lfi・−=:1.71(211,bro;nJ、2
C1h ):1.f12(:III、s、テトラゾー
ル1cH3)/1.21=4.fi3(211,bro
ad、3’ −Cll25−)fi、4!’1(III
、s、チアゾール5−C11)fi、 ri:l−7,
47(:ill、m、 号’香環CI+)実施例3 7β−rlll−2−(:l 、 /l 、 5−トリ
アセトキシベンゾイル)′ミノ) −2−(2−7ミノ
チアゾー)(i −4−r/l/) Y l□ドアミI
’)−3−(+−メチル−1H−テトラゾール−5−イ
ルチオメチル)−3−セフェム−4−カルボン酸の合成
:COCH3 実施例1と同様に、参考例】に従って7β−〔アンチ−
2−メトキシイミノ−2−(クロロアセチルアミノチア
ゾール−4−イル)アセ1ヘアミド〕セフアロスポラン
酸ベンズヒドリルエステル3゜77gから製造された7
β−[01,−2−アミノ−2−(2−クロロアセチル
アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド]セファロ
スポラン酸ベンズヒドリルエステルと3.4.5−1〜
リアセ1−ギシ安息香酸]、48gを反応させると、7
β−(:DL−2−(3,4,5−トリアセトキシベン
ゾイルアミノ)−2−(2−クロロアセチルアミノチア
ゾール−4−イル)アセトアミド)−3−(+−メチル
−L H−テトラゾール−5−イルチオメチル)23− −3−セ) x、 A −4−カルボン酸ペンズヒドリ
ル工人チルl 、 4 rl 、<が/、l’)られる
。 1 [く(旧1r) : 17!10.1550.1:
170.1185 r:m、−’N M R(CnC(
! +1 : IIMsO−clu =4 : I)δ
:2、 :!7 (9II 、 s 、 :l X (
1(二(lc113 )3.11/I(:ロ1.s、テ
1−ラゾールl−Cl+3)4、21 (211,s、
CQ C,Ijz CO)(i、8!’+(III、s
、 −1’:(10Cjj 円−2)7.1rl(団r
srチアゾール5−C11)7、:111(Illll
、s、 −C(lOcjj円12)7、 fit+ (
211、s 、芳香環C11)1−記のベンズヒドリル
エステル]、、30gを炭酸カルシラlz O、I :
l +=の存在下、実施例1と同様にチオ尿素1)、3
!′15gと1反応させると7β−[DL−2−(、:
l、 4 、5. l−リアセ1−キジベンゾイルアミ
ノ)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)ア1で
1〜アミド)−3−(+−メチル−1H−テ1〜ラゾー
ルー5−イルチオメチル)−3−セフェ11−4−カル
ボン酸ベンズヒドリルエステル724− Omgが得られる。 T R (Knr) : 1785,1525,137
5.1190 cm−’N M R (CDCΩ3)δ
: 2、23(9H,s,3XOCOCl13 )3、79
(3H,s,テトラゾール1− Cll 3 )6、3
8,6.43.(III,each s,チアゾール5
−1’:I+)6、90(Ill,s, COOClj
r’h2)7、3.2(IOH,s, COOCtl門
2)7、65(2H,s,芳香IIJ C H )上記
のベンズヒドリルエステル670mgにアニソール2m
Q及びトリフルオロ酢酸10m(lを加え実施例1と同
様に反応させると7β−(Ill. −2− (3,4
,5−トリアセトキシベンゾイルアミノ)−2−(2−
アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド)−3−(
1−メチル−I H−テトラゾール−5−イルチオメチ
ル)−3−セフェム−4−カルボン酸のトリフルオロ酢
酸塩568mgが得られる。 I R(KBr) : 1770,1630−1690
.1370.1190 am−’NMIシ(CI)CQ
:r : I)MsO(Fll =4 : 1)δ
:2.28(4111,s、’、IX(ICOCII:
* )3.6F+(211,S、2−1’:112 )
3.02(:III、s、テトラゾール1−CI+3)
4.35(211,s、3’ (Tl125 )1i、
74(III、s、−−チアゾール5−CI+)7.7
(i(Fll、s、 %’ ff zcl+)」―記で
得られた1〜リフルオロ酢酸塩467mgを実施例1と
111様にして炭酸水素ナトリウム水溶液に溶解しアン
バーライトXAn−2カラムクロマ1−グラフィーにて
精製するとナトリウム塩335111 gが得られる・
・ 実施例4 7β−(OL−2−(2,3−ジアセトキシベンゾイル
アミノ)−2−(2−アミノチアゾール−4−イル)ア
セトアミド)−3−(1−メチル−IH−テトラゾール
−5−イルチオメチル)−3=セフェム−4−カルボン
酸の合成: (1)2.3−ジアセトキシ安息香酸715mgをベン
ゼン10mQに懸濁させ、ジメチルホルムアミド1滴、
チオニルクロリド1.09sQを加え1時間加熱還流後
溶媒を減圧留去すると2,3−ジアセトキシ安息香酸ク
ロリドが得られる。 (2)7β−(OL−2−アミノ−2−(クロロアセチ
ルアミノチアゾール−4−イル)アセトアミド)−3−
(1−メチル−IH−テトラゾール−5−イルチオメチ
ル)−3−セフェム−4−カルボン酸トリフルオロ酢酸
塩1.348gを乾燥27− テ1ヘラヒトr、lフランl Om Qに懸濁させトリ
エチルアミン0 、28 m Q及びN、O−ビス(ト
リメチルシリル)アセトアミド1 m Qを加え室温で
30分間撹拌する6次いでこの溶液に(1)で調製した
酸クロリドのアセトン溶液(10sQ)tt加えI11
11℃30分間撹拌する。反応後酢酸エチルを加え水洗
、無水硫酸マグネシウムで乾燥し濾過する。濾液にジフ
ェニルジアゾメタン388mgを加え室温で12時間撹
拌し溶媒を減圧留去しシリカゲルカラムクロマ1〜グラ
フイーに付す。クロロボルム:アセl〜ン=5:1〜3
:1の部分を集めると7O−(Ill、 −2−(2、
3−ジアセトキシベンゾイルアミノ)−2−(2−クロ
ロアセチルアミノチアゾール−4−イル)アセトアミド
〕−3−(+−メチル−111−テトラゾール−5−イ
ルチオメチル)−:1−セフェム−4−カルボン酸ベン
ズヒドリルエステル494s+gが得られる。 I R(K1%r) : + 71111.17411
〜1670.1550. +465.1375゜12f
iO,1205cs+−1 N M R(C1l(’: Q 、、 )δ:28− 2.28.2.35(6H,each s 、2XOC
OCH3)3.60(28,broad、2−CH2)
3.80(3H,s、テトラゾールICH3)4、22
(28,g、CD CH2CO)6.90,6.93,
6.97(2H,each s、チアゾール5− CH
、−C00C4jPh 2 )7.35(IOH,s、
C00CtlPh* )7β−(DL−2−(2,3−
ジアセトキシベンゾイルアミノ)−2−(2−クロロア
セチルアミノチアゾール−4−イル)アセトアミド]−
3−(1−メチル−IH−テトラゾール−5−イルチオ
メチル)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリ
ルエステル804mgをテトラヒドロフラン2mj2及
びエタノール7mQの混合溶液に溶かし炭酸カルシウム
85mg及びチオ尿素129mgを加え70℃で1.5
時間撹拌し反応後酢酸エチルを加え水洗、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥し溶媒を留去する。残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーに付しクロロホルム:アセトン
=3:1〜2:1の溶出部を集めると7β−〔口1、−
2−(2,3−ジアセI・キジベンゾイルアミノ)−2
−(2−7ミノチアゾールー4−イル)アセ1−アミト
ド−3−(+−メチル−1■−テトラゾール−5−イル
チオメチル)−ご1−セフェ11−4−カルボン酸ベン
ズヒドリルエステル486mgが得られる。 11シ(Kllr) : I 741+1.17411
.16811. +620.1520.1460゜1:
17!i、 121i11.121111 cm−1N
114 R(CIICI+、 +1 ) 8 :2.
2B、2 、 :15 (611、O肛h s 、2X
OCOC113)3、fil(211j+roz+rl
、2−(’:+12 )3.80(:lll、s、テト
ラゾール1−Cl1:、)4.28(211,hroa
+l、3’ −C1125−)6.42(Ill、s、
チアゾール5−C11)ti、口:1(Ill、s、−
自1111’:jjl’b 2 )7、35 (101
1、s 、 −C(111+”、++!”!! 2 )
−1−讐i【;で<!l ’;れだベンズ【ニトリルエ
ステル111gにアニソールllIIQ及びトリフルオ
ロ酢酸5m Qを加え室’/1.Aで30分間撹拌し減
圧濃縮後酢酸エチル及びエチルエーテルを加えると7β
−〔Dl。 −2−(2.3−ジアセトキシベンゾイルアミノ)−
2−(2−アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド
)−3−(1−メチル−IH−テトラゾール−5−イル
チオメチル)−3−セフェム−4−カルボン酸のトリフ
ルオロ酢酸塩が沈殿として析出するので濾取する。収量
426mg。 I R(KBr) : 1780,1700−1640
.1525.1470,1370。 1200 cm−1 N M R (CDCQ 3 : I)MSO do
=4 : 1)δ:2、30(6H,each s 、
2XOCO(l13)3、67(28,broad,2
−CH2 )3、93(3H,s,テトラゾールICH
3)4、35(2H,broad,3’ −CH2 S
−)6、67、6.70(Ill,each s,チア
ゾール5−CI+)上記で得られたトリフルオロ酢酸塩
376mgを炭酸水素ナトリウム水溶液に溶かしアンバ
ーライトXAD−2カラムクロマトグラフィーに付しエ
タノール:水=5=1の溶出部を集めるとナトリウム塩
273mgが得られる。 31一 実施例5 7 /I−rll+.−2−(:l, /I−ジェトキ
シカルボニルオキシベンゾイルアミノ)−2−(2−ア
ミノチアゾール−4−イル)アセトアミド)− 3 −
(1−メチル−11−テ1へラブ−ルー5−イルチオメ
チル)−3−セフェl,.ー4ーカルボン酸の合成:3
、4−ジェトキシカルボニルオキシ安息香酸1、+93
gをベンゼン10mQに懸濁させ、ジメチルボルムアミ
ド1滴、チオニルクロリドI。 45…Qを加え111,1間加熱還流する。反応後溶媒
を留去するど3,4−ジェトキシカルボニルオキシ安7
1、養醸クロリドが得られるのでこれを酢酸エチル5
m Qに溶かす。 参考例2により製造した7β−〔DI,−2−アミノ−
2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イ32− ル)アセトアミド〕セファロスポラン酸t−ブチルエス
テルの酢酸エチル溶液にピリジン2mQ及びジメチルア
セトアミド1 0mgを加え水冷撹拌下、上記で調製し
た酸クロリドの酢酸エチル溶液を加え、添加後回温度で
15分間撹拌する。反応後反応液を水、硫酸水素ナトリ
ウム水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を留去し残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーに付し、クロロポル11:
アセトン=3:1の溶出部より7β−(DI、−2−
(3。 4−ジェトキシカルボニルオキシベンゾイルアミノ)−
2−(2−アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド
〕ーセファロスポラン酸t−ブチルエステル1.358
gを得る。 I R(KBr) : 1780,1730,1710
,1540,1500,1370。 1250 cm−’ N M R (CDC Q 3)δ: 1、37(6H, t 、C用3CH20−)1、50
(9H, s 、t−Bu) 2、07(3H,s,−OCOCH3):1.’l0(
211,1Iroad、2−Cl+2 )4.:13(
411,q 、(’、11:I Cl+20 )ri、
418 、7.115 (III 、 c!++c:
l+ s 、チアゾール5−C11)−1−記の1−ブ
チルエステル1.308gをアニソール2 rn Q及
びトリフルオロ酢酸10mQに溶かし室lIAで3C)
分間反)、’F;後減圧濃縮し残液に酢酸エチル次いで
エチルエーテルを加えると7β−〔01゜−1−(:N
、4−ジェトキシカルボニルオキシベンゾイルアミノ)
−2−(2−アミノチアゾール−4−rル)71に1へ
)′ミド〕量!ファロスポラン酸のトリフルオ「1酎酸
塩が析出するので濾取する。数置1.+70g。 T R(Kllr) : I 7Jln、 171(T
、 15411.151111. +37(1,125
0c+n−’N M 12 ((’、I)CD、 :)
: IIMS(1−11B =4 : ])δ:1、
:18(fill、 I; 、にII:+ C1120
−)2.117(:Ill、 s、 −11CflCI
I、1 ):1.’12111.broa+1,2−(
’:112 )4、コ15r411. (1、+Tll
:I C!+2 0 )7、15(III、s、チアゾ
ール5−C11)8.52(III、s、IIC(1−
)上記トリフルオロ酢酸塩1.12(Igにニトロメタ
ン20 m Q及び5−メルカプト−1−メチルテトラ
ゾール0.354 gを加え80℃で10時間撹拌し、
反応後減圧濃縮し残液をエチルエーテル中に滴下すると
粗7β−[rll、−2−(3,/l −ジェトキシカ
ルボニルオキシベンゾイルアミノ− 2−(2−ホルム
アミドチアゾール−4−イル)アセトアミド−3−(1
−メチル−I H−テ1ーラゾールー5ーイルチオメチ
ル)−3−セフェム−4−カルボン酸が析出するので濾
取しエチルエーテルで洗浄する。次いで沈殿をアセトン
30mQに溶かしジフェニルジアゾメタン291mgを
加え室温で一夜撹拌し減圧乾固し残渣をアセトン及び酢
酸エチルより再結すると7β−(Ill、−2−(3、
4−ジェトキシカルボニルオキシベンゾイルアミノ)−
2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)アセト
アミド−3−(1−メチル−1H−テトラゾール−5−
イルチオメチル)−3−セフェム−4−カルボン酸ベン
ズヒドリルエステルの結晶821mgが得られる。 35− T R (Knr) : 17811, 174n,1
7111.1540.151’l11,1370。 1260 0In−’ N M R.(CIIC 9 3 : IIMSO d
l+ ==4 : +)δ :1、38(611, l
; 、Cp.3 Cl12 (1−)3、02(21+
,bro;id s,2 Cl+2 )3、 8)1(
311 、 s 、テトラゾールICIHa)’1.2
11(211,s,3’ 17+12 5 )4、:1
3(4+1, q 、CI+:+ Clj* (1 )
6、4111(III,s, 円−、C!l−)7、1
5(III,s,チアゾール5−CI+)7、:15(
1011,s,j〕!!2Cll )8、47(III
,s,ItCO−) L記のベンズヒドリルエステル770mgをテトラヒト
[1フランIOmQ及びメタノール2 0 m Qのn
G合溶液に溶かしp − 1−ルエンスルホン酸−水和
物.i n 4 rn H;を加え室’11.Aで2時
間さらに40°Cで1時間撹拌した後溶媒を減圧留去し
残渣をアセトンより1−+1結するど7β−(nl、−
2− (3.4−ジエ1〜キシカlレボニlレオキジベ
ンゾイルアミノ)− 2−(2−7ミノチアゾールー4
−イル)アセト−36= アミド−3−(1−メチル−] +(−テトラゾール−
5−イルチオメチル)−3−セフェム−4−カルボン酸
ベンズヒドリルエステルの結晶434mgが得られる。 再結母液をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し
クロロポル15:アセ1ーンー3:1の溶出部を集める
と上記と同じベンズヒドリルエステルがさらに133m
g得られる。 T R(KBr): 17g0,1740,1680,
1530,IFiOO,+375。 1260 cvIl−’ NMR(COCO2:DMSO d8=2: I)δ:
1、37(68, t 、C用3 CH2 0−)3、
88(3+I,s,テトラゾール1−C113)4、2
7(2H,s,3’ CI2 S )4、32(4L
q 、CH3 Cバ,0−)6、55(IH,s,チア
ゾール5−CI+)6、90(IH,s,Php CF
j )7、38(IOH,s,Ph2CH) 上記のベンズヒドリルエステル4 3 1 m gをア
ニソール0.8mQ及びトリフルオロ酢酸4mQの混合
溶液に溶かし室温で30分間撹拌し反応後減圧濃縮する
。、残Ntに耐酸エチル法いでエチルニーデルを加λる
と7 II l’1ll−2−(3,4−ジエ1−キシ
カルボ二月ノオキシベンゾイルアミノ)−2−(2−7
ミノチアゾールー4−イル)アセ1−アミドー:(−(
+−メチlレー1日−テ1へラゾール−5−rルチオメ
チル)−:(−セフェ11−4−カルボン酸の1〜リフ
ルオロ酢酸塩が析出するので濾取する。IIV、 jd
−、3r; II m Hτ・+ R(Kllr) :
1780.172nへ1fi3n、+535.151
15,1370゜1260 cm−’ NMR(1”:11cl! :+ : IIMS Or
Il+ =4 : I) δ :C411(611,I
; 、Cjl:+ Cjl20 ):C711(211
,broad、2−C1h )3.07(:III、、
q、テトラゾールl−C113)4、:(5(/III
、 q 、Cll、Cl12 G−)4.40(211
,s、:(’ −C1125−)6.72,6.77(
Ill、eacl+ s、チアゾール5−C11)出願
人 科研製薬株式会社 −:l!1− 手続補正書(自発) 昭和59年1’l 74 ] 71] 特許庁長官 志賀 学 殿 1、事件の表示 昭和58年特許願第160236号 2、発明の名称 新規なセファロスポリン誘導体 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 郵便番号 113 住所 東京都文京区本駒込2丁目28番8号4、補正の
対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 5、補正の内容 (+)明細井第34頁12行目の[2−アミノチアソー
ル」を[2−ボルムアミドチアゾール]に;打市する。 (2)明細書第39頁最終[1の「2−アミノチアゾー
ル」を[2−ホルムアミドチアゾール」に訂正する。 (二ミ)明細−F第35T110 11行目の「セファ
ロスポラン酸の1ヘリフルオロ酢酸塩が析出する」を「
セファロスポラン酸が析出する」に訂正する、。 (4)明細外:36頁1行目の「−ヒ記トリフルオロ耐
酸塩」を用二記カルボン酸」と訂正する。 (5)明細書第39頁最終行に下記の文を加入する。 2− [実施例6 7β−(01,−2−(3,4,5−トリアセ1−キジ
ベンゾイルアミノ)−2−(2−アミノチアゾール−4
−イル)アセトアミド)−3−(]−]メチルー1 H
−テトラゾール−5−イルチオメチル)−3−セフェム
−4−カルボン酸の合成=3.4.5−トリアセトキシ
安息香酸4.44gをベンゼン30 m Qに懸濁させ
、ジメチルホル、ムアミド0.1mQ、チオニルクロラ
イド5.45 m Qを加え1時間加熱還流する。 反応後溶媒を留去すると3.4.5−1−リアセトキシ
安息香酸クロライドが得られるのでこれを酢酸エチル1
0mQに溶かす。 参考例2と同様にして7β−〔シン−2−メトキシイミ
ノ−2−(2−ホルムアミ1−チアゾール−4−イル)
アレ1−アミド〕セファロスポラン酸を一ブチルエステ
ル5.40gから調製した7β−[ロ1.−2−アミノ
−2−(2−ポル11アミドチアゾール−4−イル)ア
セトアミド〕セファロスポラン酸亀−ブチルエステルの
酢酸エチル溶液300mQにジメチル′yセトγミド2
5 m Oを加え、水冷撹拌ト、I・1111で調製し
た酸クロライドの酢酸エチル溶液を加え、氷冷ト20分
撹拌する。反応後、)Q応液を水、次いで飽和食11f
fi水で洗浄し無水硫酸マクネシウ11で乾燥後溶媒を
減圧留去しエチルエーテルをノ用えると、7β−自)1
.−2− (3,4゜5−トリアセ1〜キジベンゾイル
アミノ)−2−(2−ポル11アミドチアゾールー4−
イル)アセトアミド]セファ[1スボラン酸l−ブチル
エステルが沈殿するので濾取する。収tit5.50g
。 I R(Kllr) : 17911. I’105.
1540.1375. I 190 cm−’N M
R(CIICQ :+ )δ:2.07(:lIl、s
、 +Ic(IClh )2、:ll(!III、s、
:lX (Ic(11’:If3)7.14(III
、q、チアゾール5−C11)7.73(2H,s、芳
香環プロトン)8.46(IH,s、HCO) 上記のエステル15.80gにアニソール15mQ及び
トリフルオロ酢酸75mQを加え、室温にて30分撹拌
後、反応液を減圧濃縮し残留液を酢酸エチル40mQに
溶かしn−ヘキサン200mQとエチルエーテル100
m Qの混合溶液中に滴下すると7β−(1)L−2
−(3,4,5−トリアセトキシベンゾイルアミノ)−
2−(2−ホルムアミドチアゾール−4−イル)アセト
アミド〕セファロスポラン酸が沈殿するので濾取する。 収112゜0g0 IR(にBr) : 1790.1705,1540,
1375,1190 c+a−’N M R(CDCQ
3)δ: 2.07(3H,s、0COC113)2.31(91
(,5,3XOCOCH3)7.14(IH,s、チア
ゾール5−CI+)7.73(2)1.s、芳香環プロ
トン)8.46(1)1,5JlcO) 4− 1−記の7β−〔叶−2−(3,4,5−ドリアt!1
−ギシベンゾイルアミノ)−2−(2−ホルムアミドチ
アゾール−4−イル)アセl−アミド〕セファロスポラ
ン酸+2.(’logにニトロメタン150r11色及
び5−メルカプト−1−メチル−テトラゾール9.5(
IKを加え80℃にて3時間撹拌する。 反応後、反J、)、;液を半I11.になるまで減圧濃
縮し不溶の沈殿を濾別した後、濾液をエチルエーテル3
00 m ll、中に滴ドし財にT1−ヘキサン] 0
0 m Qを加え生成した7β−nu、−2−(3,4
,5−トリアセ1−ギシベンゾイルアミノ)−2−(2
−ホル11アミトチ゛ンゾール−4−イル)アセトアミ
ド〕−3−(+−メチル−I’11−テ1〜ラゾールー
5−イルチオメチル)−:S−セフェム−4−カルボン
酸の第11沈殿を濾取する。 次いで沈殿をエチルエーテルで洗浄後アセトン50 r
n D、に溶かしジフェニルジアゾメタンを少量ずつ赤
色がd“1えなくなるまで加える。反応後、反応液を減
圧乾固しシリカゲルカラ11クロマトグラ6− フィに付し、クロロホルム:アセトン=3:1の溶出部
を集め減圧乾固後酢酸エチルに溶かしn−ヘキサン中に
滴下すると7β−(Dl.、 − 2 − ( 3 。 4、5−トリアセトキシベンゾイルアミノ)−2−(2
−ホルムアミドチアゾール−4−イル)アセトアミド)
−3−(1−メチル−1 1(−テ1ーラゾールー5ー
イルチオメチル)−3−セフェム−4−カルボン酸ベン
ズヒドリルエステルが沈殿するので濾取する。収量7.
40g。 I R(KBr) : 1790.1?10,1535
,1485,1370.1180 cm−’N M R
(CDC Q 3)δ: 2、20, 2.26(9H,each s, 3XO
COC113 )3、79(31(、s,テトラゾール
IC113)6、88(IH, s, Phz C;0
6、94, 7.01(IH, each s,チアゾ
ール5−C11)7、31(IOH,s, Ph2CI
)7、71(21(、 s,芳香環プロトン)8、39
, 8.43(IH,each s,)ICO)上記7
β−(DL−2−(3,4.5−トリアセトキシベンゾ
イルアミノ)−2−(2−ホルムアミドチアゾール−4
−・イル)アセ1−アミド)−3−(l−メチル−Il
l−テトラゾール−5−イルチオメチル)−3−セフェ
11−4−カルボン酸ベンズヒドリルエステル7.40
gをアセトン15 m Qに溶かしメタノール75m庇
を加え、これにメタンスルホン酸(1,74gをメタノ
ール7mMに溶かした溶液を加える。添加後室温で1.
5時間撹拌し、^1.酸エチル4 +I n +n Q
を加え0.5N−炭酸水素す1−リウム水溶故40 m
Qを含む氷水、次いで飽和食塩水で洗浄jる。有機層
を無水硫酸マグネシラ11で乾燥後減圧乾固し、シリカ
ゲルカラムクロマ1−グラフィに付す。 クロ[1ホルム:アセ1〜ン=3:1の溶出部を集め減
圧乾固し、少畦の61:酸エチルに溶かしIt−へキサ
ン中に滴下すると7β−[111,−2−(3,4゜5
−トリアセトキシベンゾイルアミノ)−2−(2−アミ
ノチアゾール−4−イル)アセ1〜アミド〕−1−(+
−メチル−111−テトラゾール−5−イルチオメチル
)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエス
テルが沈殿するので濾取する。収量4.10g。 IR(にOr) : 1785,1525,1375.
1190 cm−’NMR(CDCQ3)δ: 2.23(911,s、3XOCOCH3)3.79(
3H,g、テトラゾールICH3)6.3g、 6.4
3(IH,each s、チアゾール5−C11)6.
90(IH,s、−COOCHPh2)7.32(10
11,s、 −COOCHPh* )7.65(211
,s、芳香環CI) 上記で得られたエステルのTR,NMRデータは実施例
3にて調製した7β−[01,−2−(3。 4.5−トリアセトキシベンゾイルアミノ)−2−(2
−アミノチアゾール−4−イル)アセトアミド)−3−
(1−メチル−IH−テトラゾール−5−イルチオメチ
ル)−3−セフェム−4−カルボン酸ベンズヒドリルエ
ステルのものと一致した。 更に上記で得られたエステルを実施例3と同様にしてア
ニソールとトリフルオロ酢酸で処理する8− と”l1l−(Ill、−2−(3,4,5−トリアセ
トキシベンゾイルアミノ) −2−(2−アミノチアゾ
ール−4−イル)アセトアミド)−3−(1−メチル−
1■−テトラゾール−5−イルチオメチル)−3−セフ
ェム−4−力Jレボン酸のトリフルオロ酢酸塩が得られ
る。」 11%願人科研製薬株式会社 9−
Claims (1)
- (式中、R1は水素原子、低級アルカノイル基、低級ア
ルコキシカルボニル基を、R2はNおよび場合によりS
を含み、かつ置換されてもよい5または6員複素環を、
nは1.2.3.4または5の整数を表わす)で示され
るセファロスポリン誘導体及びその塩。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58160236A JPS6054390A (ja) | 1983-09-02 | 1983-09-02 | 新規なセファロスポリン誘導体 |
| DE8484100783T DE3475710D1 (en) | 1983-01-29 | 1984-01-25 | Cephalosporin derivatives and process for their preparation |
| AT84100783T ATE39353T1 (de) | 1983-01-29 | 1984-01-25 | Cephalosporinverbindungen und verfahren zu ihrer herstellung. |
| EP19840100783 EP0115820B1 (en) | 1983-01-29 | 1984-01-25 | Cephalosporin derivatives and process for their preparation |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58160236A JPS6054390A (ja) | 1983-09-02 | 1983-09-02 | 新規なセファロスポリン誘導体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6054390A true JPS6054390A (ja) | 1985-03-28 |
Family
ID=15710643
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58160236A Pending JPS6054390A (ja) | 1983-01-29 | 1983-09-02 | 新規なセファロスポリン誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6054390A (ja) |
-
1983
- 1983-09-02 JP JP58160236A patent/JPS6054390A/ja active Pending
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