JPS6057515A - 磁気ヘツド - Google Patents
磁気ヘツドInfo
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- JPS6057515A JPS6057515A JP16322083A JP16322083A JPS6057515A JP S6057515 A JPS6057515 A JP S6057515A JP 16322083 A JP16322083 A JP 16322083A JP 16322083 A JP16322083 A JP 16322083A JP S6057515 A JPS6057515 A JP S6057515A
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- magnetic
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- head
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/1278—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive specially adapted for magnetisations perpendicular to the surface of the record carrier
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は磁気ヘッドに係り、とくに高密度記録に適し、
記録再生効率にすぐれた垂直磁気記録用ヘッドの磁極材
料に関する。
記録再生効率にすぐれた垂直磁気記録用ヘッドの磁極材
料に関する。
従来の磁気記録方式は記録媒体をほぼ面内方向に磁化し
記録再生を行なう、いわゆる面内記録方式であるが、高
記録密度状態では媒体の磁化のＮ極とＮ極、Ｓ極とＳ極
とが打ち消し甘うため、高密度化には限界がおると考え
られている。この欠点金のがれるため最近、記録媒体を
ほぼ垂直方向に磁化して記録再生を行なう垂直磁気記録
方式が開発されている。垂直磁気記録方式を実用化する
には、垂直磁化媒体の一発とともに、垂直方向に強く急
峻な磁場を効率よく発生、検出する磁気ヘッドの開発が
必要である。これ葦で垂直磁化媒体としては、Ｃｏ−Ｃ
ｒｏ−螢薄膜、Ｂａ−フェライト膜などが開発されてさ
た。このような垂直磁化媒体と組み台せたとき磁気ヘッ
ドとしては従来の百円記録用のヘッド（リングヘッド）
では良好な記録密度特性が得られず、再生波形、ピーク
シフト、かさね曹さ特性などの点でも不十分で、とくに
垂直磁気記録に適したヘッドの開発が４まれでいた。
記録再生を行なう、いわゆる面内記録方式であるが、高
記録密度状態では媒体の磁化のＮ極とＮ極、Ｓ極とＳ極
とが打ち消し甘うため、高密度化には限界がおると考え
られている。この欠点金のがれるため最近、記録媒体を
ほぼ垂直方向に磁化して記録再生を行なう垂直磁気記録
方式が開発されている。垂直磁気記録方式を実用化する
には、垂直磁化媒体の一発とともに、垂直方向に強く急
峻な磁場を効率よく発生、検出する磁気ヘッドの開発が
必要である。これ葦で垂直磁化媒体としては、Ｃｏ−Ｃ
ｒｏ−螢薄膜、Ｂａ−フェライト膜などが開発されてさ
た。このような垂直磁化媒体と組み台せたとき磁気ヘッ
ドとしては従来の百円記録用のヘッド（リングヘッド）
では良好な記録密度特性が得られず、再生波形、ピーク
シフト、かさね曹さ特性などの点でも不十分で、とくに
垂直磁気記録に適したヘッドの開発が４まれでいた。
本発明の目的は記録再生の特性にすぐれた実用的な垂直
磁気記録用ヘッド金提供することにある。
磁気記録用ヘッド金提供することにある。
上記目的全達成するための本発明の構成は、高飽和磁束
密度の強磁性体はＢ”ｅ２よびＳｉｋ主成分とする会合
で、ＳｉのＦ’ｅ＋Ｓ ｉに対する重量比が５〜８ｗｔ
％の範囲とすることを特徴とする。
密度の強磁性体はＢ”ｅ２よびＳｉｋ主成分とする会合
で、ＳｉのＦ’ｅ＋Ｓ ｉに対する重量比が５〜８ｗｔ
％の範囲とすることを特徴とする。
ずた、Ｆｅｂ−よびＳｌを主成分とする合金は添加物と
して１０ｗｔ％以下のＣｒ＋ Ａ Ａ 、 ５ ｗ ｔ
％以下の几Ｕを含整せるとなおよい。さらにまた、多結
晶質の高飽和磁束密度の強磁性体の１層の厚みは０．０
２μｍ ＝ ０．２７１ｍの範囲でめシ他の材料によっ
て分断ざ扛績ノーさせると１２よい。さらにまた、多層
構造の磁性体を構成する他の要素が、Ａ６ｏＳ、 ｓ
ｉｏ、 ｓ ｉｏ、などの絶縁物であって１層の厚みが
１５〜２００人であるか、Ａ７．’Ｍｏなどの非磁性金
属でるって１層の厚みが１５〜２００Ａであるか、Ｎｉ
でめって１層の厚みが１５〜２００Ａであるか、Ｆｅで
ろって１ノーの厚みが１５〜２００人であるか、Ｃｏま
たはＣｏを主成分とする合金でるって１層の厚みが１５
〜ｌｏ。
して１０ｗｔ％以下のＣｒ＋ Ａ Ａ 、 ５ ｗ ｔ
％以下の几Ｕを含整せるとなおよい。さらにまた、多結
晶質の高飽和磁束密度の強磁性体の１層の厚みは０．０
２μｍ ＝ ０．２７１ｍの範囲でめシ他の材料によっ
て分断ざ扛績ノーさせると１２よい。さらにまた、多層
構造の磁性体を構成する他の要素が、Ａ６ｏＳ、 ｓ
ｉｏ、 ｓ ｉｏ、などの絶縁物であって１層の厚みが
１５〜２００人であるか、Ａ７．’Ｍｏなどの非磁性金
属でるって１層の厚みが１５〜２００Ａであるか、Ｎｉ
でめって１層の厚みが１５〜２００Ａであるか、Ｆｅで
ろって１ノーの厚みが１５〜２００人であるか、Ｃｏま
たはＣｏを主成分とする合金でるって１層の厚みが１５
〜ｌｏ。
Ａ”’′ｃＳるか、Ｎｉ−Ｆｅを主とする合金であって
１層の厚みが１５〜５００Ａで、高飽和磁束密度の強磁
性体ノ４を分断して核層させておくとな２よい。ざらに
ぼた、主磁極先端に２ける磁極厚みを０．０８μｍ〜０
．５μｍとするとな訃よい。
１層の厚みが１５〜５００Ａで、高飽和磁束密度の強磁
性体ノ４を分断して核層させておくとな２よい。ざらに
ぼた、主磁極先端に２ける磁極厚みを０．０８μｍ〜０
．５μｍとするとな訃よい。
本発明は上記ｒＫ戎になるので、垂直磁気記録再生を効
率よく行なうには、急峻な垂直方向磁界を発生、検出す
ることが必要でアシ、研究の結果これを実現するには、
磁界の発生および検出を行なう磁極の厚みを磁気的にで
きるだけ小さくする、このためには磁極を尚砲和磁束密
就、高透磁率の材料で形成しなければならないことが明
らかになった。これまで面内磁気記録用ヘッドの磁極材
料としてはＭ ｎ −７，ｎフェライト（飽和磁束密度
Ｂｓ〜５ＫＧ）やパーマロイ系材料（Ｂｓ−７〜１ｏＫ
Ｇ）、センダスト系材料（Ｂｓ−８〜１０ＫＧ）、非晶
質合金系材料（Ｂｓ”１ＯＫＧ）などが知られているが
、これらはいずれも高透磁率だが飽和磁束密度が小さく
、垂直磁気記録用ヘッドの磁極材料としては望ましくな
い。垂直磁気記録用ヘッドの磁極材料としては少なくと
もＢｓ、＞ｌ０ＫＧ、望址しくはＥ ｓｅｘ ５ＫＧが
必要である。しかし単に飽和磁束密度の大きな従来公升
な材料たとえばｌ；’ｅ−８ｉ系合金、Ｃｏ−１；”ｅ
系合金などを用いて垂直磁気記録用ヘッドを作製しても
、十分な性能は得られなかった。発明者達は飽和磁束密
度の大きな材料と他の材料を積ノーすることによってイ
刀めて垂ｌ虹（磁気６己録に通したヘッド全開つ白した
。
率よく行なうには、急峻な垂直方向磁界を発生、検出す
ることが必要でアシ、研究の結果これを実現するには、
磁界の発生および検出を行なう磁極の厚みを磁気的にで
きるだけ小さくする、このためには磁極を尚砲和磁束密
就、高透磁率の材料で形成しなければならないことが明
らかになった。これまで面内磁気記録用ヘッドの磁極材
料としてはＭ ｎ −７，ｎフェライト（飽和磁束密度
Ｂｓ〜５ＫＧ）やパーマロイ系材料（Ｂｓ−７〜１ｏＫ
Ｇ）、センダスト系材料（Ｂｓ−８〜１０ＫＧ）、非晶
質合金系材料（Ｂｓ”１ＯＫＧ）などが知られているが
、これらはいずれも高透磁率だが飽和磁束密度が小さく
、垂直磁気記録用ヘッドの磁極材料としては望ましくな
い。垂直磁気記録用ヘッドの磁極材料としては少なくと
もＢｓ、＞ｌ０ＫＧ、望址しくはＥ ｓｅｘ ５ＫＧが
必要である。しかし単に飽和磁束密度の大きな従来公升
な材料たとえばｌ；’ｅ−８ｉ系合金、Ｃｏ−１；”ｅ
系合金などを用いて垂直磁気記録用ヘッドを作製しても
、十分な性能は得られなかった。発明者達は飽和磁束密
度の大きな材料と他の材料を積ノーすることによってイ
刀めて垂ｌ虹（磁気６己録に通したヘッド全開つ白した
。
し９６明の実施例〕
第１１．！１．ｌは本発明の一実施例としての垂部磁気
記録用ヘッドの主要部を示す図である。記号ｌは主磁極
であって、磁場を発生、検出する、直接記録再生を行な
うための磁極で先端部は薄くしぼられた構造である。記
号２は補助磁極でろって、磁束の効率の良い流れケ作る
ための磁極である。記号３はコイルであって、主磁極を
励磁しｌ；＋、主磁極中の磁束変化全検出する。記号４
は絶縁物をあられす。実施タリのヘッドは補助磁極とし
てＭｎ−Ｚｎフェライト基板、絶縁物としてｂ ’ ０
２ 、コイルとしてＡｔ、主磁極として、（ａ）Ｎｉ−
ｘ９ｗｔ％Ｆｅ合金膜（パーマＯイＢｓ−ｔｏＫＧ）お
よび（ｂ）Ｆ ｅ −６，５ｗ ｔ ＋）６Ｓｉ合金（
単ノー）膜（１３ｓ 〜１８ＫＧ）２よび（ｃ） Ｆ
ｅ −６，５ｗ ｔ％Ｓｔ約０．０５μｍとＮ１１９ｗ
ｔ％Ｆｅ約０．００５μｍを交互に積層した多層膜（Ｂ
ｓ−１７ＫＧ）？用いた。
記録用ヘッドの主要部を示す図である。記号ｌは主磁極
であって、磁場を発生、検出する、直接記録再生を行な
うための磁極で先端部は薄くしぼられた構造である。記
号２は補助磁極でろって、磁束の効率の良い流れケ作る
ための磁極である。記号３はコイルであって、主磁極を
励磁しｌ；＋、主磁極中の磁束変化全検出する。記号４
は絶縁物をあられす。実施タリのヘッドは補助磁極とし
てＭｎ−Ｚｎフェライト基板、絶縁物としてｂ ’ ０
２ 、コイルとしてＡｔ、主磁極として、（ａ）Ｎｉ−
ｘ９ｗｔ％Ｆｅ合金膜（パーマＯイＢｓ−ｔｏＫＧ）お
よび（ｂ）Ｆ ｅ −６，５ｗ ｔ ＋）６Ｓｉ合金（
単ノー）膜（１３ｓ 〜１８ＫＧ）２よび（ｃ） Ｆ
ｅ −６，５ｗ ｔ％Ｓｔ約０．０５μｍとＮ１１９ｗ
ｔ％Ｆｅ約０．００５μｍを交互に積層した多層膜（Ｂ
ｓ−１７ＫＧ）？用いた。
実際のヘッドはＭｎ” Ｚｎフェライト基板上に、蒸着
又はスパッタ法によシ膜を形成し、ホトリングラフィ技
術によってパターンを形成したものである。多層膜の形
成は２種類の合金を交互にスパッタすることによった。
又はスパッタ法によシ膜を形成し、ホトリングラフィ技
術によってパターンを形成したものである。多層膜の形
成は２種類の合金を交互にスパッタすることによった。
基板上に作られた薄膜パターンを基板から切９出し、研
丙１」、研摩等の機械加工を経て記録媒体対抗面（記号
５で示す）を作り、最終的に第１図に示すヘッドが作ら
れる。このようなヘッドは、高透磁率のＣｏ−Ｍｏ−Ｚ
ｒ非晶質合金上に形成したＣ０−０ｒ垂直磁化記録媒体
盆用いて特性評価した。記録密度特性は記録媒体にも左
右されるので本夾施例ではヘッド性能を同じ媒体で評価
して示した。
丙１」、研摩等の機械加工を経て記録媒体対抗面（記号
５で示す）を作り、最終的に第１図に示すヘッドが作ら
れる。このようなヘッドは、高透磁率のＣｏ−Ｍｏ−Ｚ
ｒ非晶質合金上に形成したＣ０−０ｒ垂直磁化記録媒体
盆用いて特性評価した。記録密度特性は記録媒体にも左
右されるので本夾施例ではヘッド性能を同じ媒体で評価
して示した。
第２図はヘッドの記録密度特性を示すグラフである。＠
輔に主磁極先端部の厚みＴｐ ［μｍ〕、縦軸にＤ５
ｏ［ＫＢＰＩ Ｆを示す。な２Ｄ、。はヘッドの記録再
生出力が十分低記録密度における値の１／２ｖこなると
きの記録密度である。磁極の異なる３つのヘッド（ａ）
、 （ｂ）、 （Ｃ）のり、ｏをみると、従来知られて
いるような単層構造の磁極を有するヘッド（ａ）、 （
ｂ）はり、ｏの最高値が５０ＫＢＰＩであって、これは
面内磁気記録方式でも達成可能であまりメリットかない
、これに対し本発明の多層構造の磁極を有するヘッド（
Ｃ）は磁極の厚みＴｐ （多層膜の全厚み）がおよそ０
．０８μｍ〜０．５μｍの範囲でり、。
輔に主磁極先端部の厚みＴｐ ［μｍ〕、縦軸にＤ５
ｏ［ＫＢＰＩ Ｆを示す。な２Ｄ、。はヘッドの記録再
生出力が十分低記録密度における値の１／２ｖこなると
きの記録密度である。磁極の異なる３つのヘッド（ａ）
、 （ｂ）、 （Ｃ）のり、ｏをみると、従来知られて
いるような単層構造の磁極を有するヘッド（ａ）、 （
ｂ）はり、ｏの最高値が５０ＫＢＰＩであって、これは
面内磁気記録方式でも達成可能であまりメリットかない
、これに対し本発明の多層構造の磁極を有するヘッド（
Ｃ）は磁極の厚みＴｐ （多層膜の全厚み）がおよそ０
．０８μｍ〜０．５μｍの範囲でり、。
が５０ＫＢＰＩ を超えておシ、本発明のすぐれている
ことが明らかである。Ｔｐ穴のときＩ）ｎｏ が小さい
のは磁極が厚いため十分に急峻な磁界が発生せず分解能
が低いためである。逆にＴｐ小のときり、ｏ が小さい
のは、磁極が薄いため、磁気的な飽和が起って、磁極先
端だけでなく途中からの磁束のもれが大きくなシやはシ
急峡な磁界が得られないためと考えられる。
ことが明らかである。Ｔｐ穴のときＩ）ｎｏ が小さい
のは磁極が厚いため十分に急峻な磁界が発生せず分解能
が低いためである。逆にＴｐ小のときり、ｏ が小さい
のは、磁極が薄いため、磁気的な飽和が起って、磁極先
端だけでなく途中からの磁束のもれが大きくなシやはシ
急峡な磁界が得られないためと考えられる。
磁極を単に高飽和磁束密度の材料とするだけではだめで
多層構造とすることによシ急峻な磁界が発生する理由は
詳細不明であるが、多層化により膜の軟磁気特性が改善
されるためではないかと思われる。発明者等の研究によ
れば主要構成材料である高飽和磁束密度の材料がＣｏ
Ｗ−Ｚｒ、 ｃｏ−Ｎ １−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｆｅ−Ｂなど
非晶質合金の場合は多層化によるヘッド性能の改善は小
さく、Ｆｅ−８ｉ、Ｃｏ−Ｆｅなど多結晶質合金の場合
に効果があシ、とくにＦｅ−８ｉ系多結晶質合金の場合
が改善効果が顕著であった。
多層構造とすることによシ急峻な磁界が発生する理由は
詳細不明であるが、多層化により膜の軟磁気特性が改善
されるためではないかと思われる。発明者等の研究によ
れば主要構成材料である高飽和磁束密度の材料がＣｏ
Ｗ−Ｚｒ、 ｃｏ−Ｎ １−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｆｅ−Ｂなど
非晶質合金の場合は多層化によるヘッド性能の改善は小
さく、Ｆｅ−８ｉ、Ｃｏ−Ｆｅなど多結晶質合金の場合
に効果があシ、とくにＦｅ−８ｉ系多結晶質合金の場合
が改善効果が顕著であった。
ｐｅ−８ｉ系合金ではＳｌのＦｅ＋Ｓｉに対する重量比
が５〜８ｗｔ％程度のときとくに多層化による改善効果
が太きいが、これはＦ ｅ −６，５ｗｔ％Ｓ１合金の
磁歪定数が苓であることと関係すると推定できる。また
、少量のＣｒ、Ａｔ。
が５〜８ｗｔ％程度のときとくに多層化による改善効果
が太きいが、これはＦ ｅ −６，５ｗｔ％Ｓ１合金の
磁歪定数が苓であることと関係すると推定できる。また
、少量のＣｒ、Ａｔ。
Ｒｕを添加するとヘッドの記録密度特性にはあまり影響
を及ぼさずに耐穴性、耐１もう性を改善できるので望ま
しい。記録密度特性？損なわない添刀口重の最大限度は
Ｃｒ、Ａ７についてはｌＱｗｔ％、Ｒｕについては５ｗ
ｔ％でおった。
を及ぼさずに耐穴性、耐１もう性を改善できるので望ま
しい。記録密度特性？損なわない添刀口重の最大限度は
Ｃｒ、Ａ７についてはｌＱｗｔ％、Ｒｕについては５ｗ
ｔ％でおった。
多ノ錫構造をとる場合、主要構成材料となる高飽和磁束
密度の材料の厚みｔ、および多層化するための異種材料
の種類お−よびその厚みｔｂはヘッド性能を決める重要
な役割を釆たす。ｔ、は一般に０．０２μｍ −０，２
μｍの範囲にあることがＢ−ｚしく、これよシも厚いと
単層膜的となシ、薄いともともとの高飽和磁束密度材料
の性質が失なわｎるためか、ヘッド性能かで＠ない。第
３図はＦｅ−６ｗｔ％ｓ １− Ｉ Ｗ ｔ％Ｒｕ合金
のｔ、を変化させたときのヘッドの記録再生出力ｅｌｋ
を示す。測定した記録密度はＩＫＢＰＩである。積層す
るための異種材料としてはＮ ｉ −１９ｗ ｔ％ｌｉ
”ｅ合金を用いその一層の厚みｔｂは１００Ａ一定とし
た。
密度の材料の厚みｔ、および多層化するための異種材料
の種類お−よびその厚みｔｂはヘッド性能を決める重要
な役割を釆たす。ｔ、は一般に０．０２μｍ −０，２
μｍの範囲にあることがＢ−ｚしく、これよシも厚いと
単層膜的となシ、薄いともともとの高飽和磁束密度材料
の性質が失なわｎるためか、ヘッド性能かで＠ない。第
３図はＦｅ−６ｗｔ％ｓ １− Ｉ Ｗ ｔ％Ｒｕ合金
のｔ、を変化させたときのヘッドの記録再生出力ｅｌｋ
を示す。測定した記録密度はＩＫＢＰＩである。積層す
るための異種材料としてはＮ ｉ −１９ｗ ｔ％ｌｉ
”ｅ合金を用いその一層の厚みｔｂは１００Ａ一定とし
た。
葦だ、磁極の全厚みは約０．５μｍとなるようにした。
ｔ、は０，０２μｍ〜０，２μｍの範囲で出力が大きく
多層化による改善効果が大きい。
多層化による改善効果が大きい。
第４図はＮ１−１９ｗｔ％ｐｅ合金のｔ５を変化させた
ときのヘッドの記録再生出力ｅｌｋを示す。
ときのヘッドの記録再生出力ｅｌｋを示す。
測定した記録密度はＩＫＢｆ’Ｉである。高飽和磁束密
度の材料としてはＦｅ−５ｗｔ％Ｓ夏−１ｗｔ％Ｒｕ合
金を用いその一層の厚みｔｌは０．０５μｍとした。ｔ
、はＮｉ−１９ｗｔ％ｐｅの場合、１５〜５ｏ。
度の材料としてはＦｅ−５ｗｔ％Ｓ夏−１ｗｔ％Ｒｕ合
金を用いその一層の厚みｔｌは０．０５μｍとした。ｔ
、はＮｉ−１９ｗｔ％ｐｅの場合、１５〜５ｏ。
Ａの範囲で出力が大きく多層化による改善効果が大きい
。他の材料についても同様に最適な厚み範囲がめられた
。
。他の材料についても同様に最適な厚み範囲がめられた
。
以上実施例に述べたヘッドはもつとも簡単な構造である
が、さらにヘッド性能を向上させるため構造全工夫でき
る。たとえば第５図に主要部断面を示すように、記録再
生に重要な役割を果すヘッド先端の磁極の薄い部分１１
に本発明を芙施して多層構造とし、後部の厚い部分１２
は磁気抵抗を低下させる目的で、パーマロイや非晶質合
金など篩透磁率の材料とすることができる。
が、さらにヘッド性能を向上させるため構造全工夫でき
る。たとえば第５図に主要部断面を示すように、記録再
生に重要な役割を果すヘッド先端の磁極の薄い部分１１
に本発明を芙施して多層構造とし、後部の厚い部分１２
は磁気抵抗を低下させる目的で、パーマロイや非晶質合
金など篩透磁率の材料とすることができる。
また本実施例には半導体技術を用いて作るいわゆる薄膜
ヘッドを示したが、機械加工によって作るバルクヘッド
についても本発明を適用できる。
ヘッドを示したが、機械加工によって作るバルクヘッド
についても本発明を適用できる。
第６図はその１例を示す図で記号２１は多層構造の主磁
極、２２は主磁極を機械的に保護するための非磁性坏、
２３は補助磁極となるＭｎ−Ｚｎフェライト等の磁性体
、２４はコイルである。この他、従来垂直磁気記録用ヘ
ッドとして提案されたヘッドに２いて記録再生を行なう
だめの磁極（主磁極）に本発明を適用できる。第７図は
一般に補助磁極励磁の単磁極型（Ｓ Ｐ Ｔ ： Ｓｉ
ｎｇｌｅ ｐｏｌｅＴｙｐｅ ’ ）ヘッドとして知ら
れているものの模式図であるが、記号３１を多層構造の
主磁極とすることによって、記録密度特性を大幅に改善
できる。
極、２２は主磁極を機械的に保護するための非磁性坏、
２３は補助磁極となるＭｎ−Ｚｎフェライト等の磁性体
、２４はコイルである。この他、従来垂直磁気記録用ヘ
ッドとして提案されたヘッドに２いて記録再生を行なう
だめの磁極（主磁極）に本発明を適用できる。第７図は
一般に補助磁極励磁の単磁極型（Ｓ Ｐ Ｔ ： Ｓｉ
ｎｇｌｅ ｐｏｌｅＴｙｐｅ ’ ）ヘッドとして知ら
れているものの模式図であるが、記号３１を多層構造の
主磁極とすることによって、記録密度特性を大幅に改善
できる。
（同図において記号３２は補助磁極、記号３３はコイル
、記号３４は記録媒体である） 本発明１ｌ−１：垂直磁気記録用ヘッドに適用したとき
効果が大きいがこれを面内磁気記録用のリングヘッドに
適用することも可能である。リング型ヘッドでは磁気空
隙から磁界を発生、・演出するので、空隙付近の磁性体
を多層構造の高飽和磁束密度の−（オ科にすれば磁界分
布を、＠、峻にできることは６易に想像できる。第８図
に示すようにリング状の磁極４１の磁気空隙部４２の一
方４３（又は両方でもよい）に多層構造を有する高飽和
磁束密度の材料４４を用いると急峻な磁界が発生できる
ので、垂直磁化媒体に記録再生したときにも通常のリン
グヘッドに比軟して特性は改善できる。（同図において
記号４１は通常のり／グヘンドを構成しているＡ４ ｎ
−Ｚ ｎフェライトなどの磁性体、記号４５はコイル
） し発明の効果〕 本発明によれば、少くとも１つの磁極の一部又は全部を
多層構造を有する高飽和磁束密度の材料とすることによ
り、息吹な磁界を発生、検出できるので、垂直磁気記介
再生を行なったとぎ記録密度を従来の倍以上にも高める
ことができる。
、記号３４は記録媒体である） 本発明１ｌ−１：垂直磁気記録用ヘッドに適用したとき
効果が大きいがこれを面内磁気記録用のリングヘッドに
適用することも可能である。リング型ヘッドでは磁気空
隙から磁界を発生、・演出するので、空隙付近の磁性体
を多層構造の高飽和磁束密度の−（オ科にすれば磁界分
布を、＠、峻にできることは６易に想像できる。第８図
に示すようにリング状の磁極４１の磁気空隙部４２の一
方４３（又は両方でもよい）に多層構造を有する高飽和
磁束密度の材料４４を用いると急峻な磁界が発生できる
ので、垂直磁化媒体に記録再生したときにも通常のリン
グヘッドに比軟して特性は改善できる。（同図において
記号４１は通常のり／グヘンドを構成しているＡ４ ｎ
−Ｚ ｎフェライトなどの磁性体、記号４５はコイル
） し発明の効果〕 本発明によれば、少くとも１つの磁極の一部又は全部を
多層構造を有する高飽和磁束密度の材料とすることによ
り、息吹な磁界を発生、検出できるので、垂直磁気記介
再生を行なったとぎ記録密度を従来の倍以上にも高める
ことができる。
第１図は本発明の薄膜磁気ヘッドの主要部断面を示す図
、第２図は本発明のヘッドの記録密層特性がすぐれてい
ることを示すグラフ、第３図および第４図は本発明の詳
細な説明するための図、第５図は本発明の４膜磁気ヘツ
ドの他の構造を示す主要部断面図、第６図ンま本発明の
バルク型垂直磁気記録用礎気ヘッドを示す図、第７図は
本発明を単磁極型磁気ヘッドに応用し罠概略説明図、第
８図は不発明全す／グ蚕磁気ヘッドに応用した概略説明
図である。 １．１１，２１．３１・・・多Ｊ頼構遺金有する磁性体
で構性された主磁極、２，２３．３２・・・補助磁極、
ｆ １ 図 第 ？ 図 第 ３ 図 １４図 某 ５ 図 ｎ ■７図 “舅５ 乙 図 Ｚ８図
、第２図は本発明のヘッドの記録密層特性がすぐれてい
ることを示すグラフ、第３図および第４図は本発明の詳
細な説明するための図、第５図は本発明の４膜磁気ヘツ
ドの他の構造を示す主要部断面図、第６図ンま本発明の
バルク型垂直磁気記録用礎気ヘッドを示す図、第７図は
本発明を単磁極型磁気ヘッドに応用し罠概略説明図、第
８図は不発明全す／グ蚕磁気ヘッドに応用した概略説明
図である。 １．１１，２１．３１・・・多Ｊ頼構遺金有する磁性体
で構性された主磁極、２，２３．３２・・・補助磁極、
ｆ １ 図 第 ？ 図 第 ３ 図 １４図 某 ５ 図 ｎ ■７図 “舅５ 乙 図 Ｚ８図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、少なくとも１つの磁極の１部が、多層構造をゼする
磁性体で構成されたことを特徴とする磁直磁気記録用で
あって主磁極の少なくとも１部が多層構造の磁性体で構
成されたことを特徴と気ヘッドに２いて、多層構造の磁
性体の少なくとも１つの構成要素が多結晶質で高飽和磁
束密度の強磁性体であることを特徴とする磁気へラッド
に２いて高飽和磁束密度の強磁性体はＦｅ２よびＳｌを
主成分とする合金で、５ｉＯＦｅ＋Ｓｌに対する重量比
が５〜８ｗｔ％の範囲でめること全特徴とする磁気ヘッ
ド。 ５、特許請求の範囲第４項記載の磁気ヘッドに２いて、
ＦｅおよびＳ Ｉを主成分とする合金は添加物として１
０ｗｔ％以下のＣｒ 、 Ａ Ｉ−＋ ５ｗｔ％以下の
ｌ（、ｕを含むことを特徴とする磁気多結晶質の高飽和
磁束密度の強磁性体の１層の厚みは０．０２μｍ〜０．
２μｍの範囲でめり他の材料によって分断され積層され
ていることを特多層構造の磁性体を構成する他の要素が
、Ａｔ２０８． Ｓ ｉ Ｏ，ＳｉＯ□なとの絶縁物で
らって１層の厚みが１５〜２００Ａであるか、ＡＡ。 Ｍｏなとの非磁性金属でめって１層の厚みが１５〜２０
０Ａであるか、Ｎ１であって１層の厚みが１５〜２００
Ａであるか、Ｆｅであって１層の厚みが１５〜２００Ａ
であるか、ＣＯまたはＣＯを主成分とする合金であって
１層の厚みが１５〜１００Ａでめるか、Ｎ１−Ｆｅｆ主
とする合金でろって１層の厚みが１５〜５００Ａで、高
飽和磁束密度の強磁性体層を分断して主磁極先端に２け
る磁極厚みが０．０８μｍ〜０．５μｍでるることを特
徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16322083A JPS6057515A (ja) | 1983-09-07 | 1983-09-07 | 磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16322083A JPS6057515A (ja) | 1983-09-07 | 1983-09-07 | 磁気ヘツド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6057515A true JPS6057515A (ja) | 1985-04-03 |
Family
ID=15769590
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16322083A Pending JPS6057515A (ja) | 1983-09-07 | 1983-09-07 | 磁気ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6057515A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02135905U (ja) * | 1989-04-17 | 1990-11-13 | ||
| US5313356A (en) * | 1990-12-12 | 1994-05-17 | Fuji Electric Co., Ltd. | Thin film magnetic head having a magnetic/non-magnetic laminate structure with the non-magnetic material being a metal or an insulating nitride |
| US5576098A (en) * | 1992-07-08 | 1996-11-19 | Fuji Electric Co., Ltd. | Thin film magnetic head |
| US7057837B2 (en) | 2002-10-17 | 2006-06-06 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Flux closed single pole perpendicular head for ultra narrow track |
| US7295401B2 (en) | 2004-10-27 | 2007-11-13 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Laminated side shield for perpendicular write head for improved performance |
-
1983
- 1983-09-07 JP JP16322083A patent/JPS6057515A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02135905U (ja) * | 1989-04-17 | 1990-11-13 | ||
| US5313356A (en) * | 1990-12-12 | 1994-05-17 | Fuji Electric Co., Ltd. | Thin film magnetic head having a magnetic/non-magnetic laminate structure with the non-magnetic material being a metal or an insulating nitride |
| US5576098A (en) * | 1992-07-08 | 1996-11-19 | Fuji Electric Co., Ltd. | Thin film magnetic head |
| US7057837B2 (en) | 2002-10-17 | 2006-06-06 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Flux closed single pole perpendicular head for ultra narrow track |
| US7295401B2 (en) | 2004-10-27 | 2007-11-13 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | Laminated side shield for perpendicular write head for improved performance |
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