JPS6085423A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は垂直磁化型磁気記録媒体に関する。

従来技術 垂直磁化型磁気記録媒体には大別して２種あっテ、一方
は蒸着、スパッタリング等によりＣｏ−Ｃｒ）Ｆ＠−Ｎ
ｉ−ＣａＳＦ＊−Ｃｔｓ等の金属薄膜をプラスチックフ
ィルムベースの面へ付着させ、且つその際の条件の制御
によりベース面に垂直な磁化容易軸形成させる金属薄膜
タイプのもの（例えば持久［５８−９１号）、他方はバ
インダー樹脂中に上記合金等の針状磁性粉末を分散させ
たものをプラスチツタフィルムベースに塗布し、磁場配
向させた塗膜タイプのもの（例えば特開１１１５５７−
１１１８５２号＃Ｍ）である。いずれにしても、磁化容
易軸がベース面に平行な従来の磁気記録媒体よりもはる
かに短波長の信号が記録できる点で将゛来の磁気記録媒
体の１つの方向を示すものである。

しかしながら、垂直磁化型磁気記録媒体はその磁性層の
表面を非常に平滑なものにして磁気ヘッドと磁性層表面
との間のスペーシングを最小限度に抑える必要がある。

しかし、表面が平滑になると摩擦が増大し、実用走行で
の停止、テープの巻き乱れによる出力変動などの問題が
生じる。また、このようなテープはベース厚及び磁性層
の厚さが減少する方向にあり、現在約１０／Ｊ程度以下
のベース（＆リエチレンテレ７タレーＦＳｌリエチレン
ナフタレート、４リイミド１ポリアミド等）が検討され
ている。このようなテープは腰が柔かく、巻装時に巻き
締りが大きくなってベース裏面の性状が磁性面に影１し
て表面性を低下させたり粘着したりし、或いはテープが
巻き戻されて磁性面からベースが離れる際にいわゆる剥
離帯電を生じたりしてゴミ、ホコリ等を吸着することに
なり、スペーシンダ損失の増大によるドロップアウトを
生じたりする。このような問題があるため垂直磁化型磁
気記録媒体の利点は大きく制約されている゛。

目的 本発明はかかる欠点、特に巻き締りの少ない垂直磁化型
磁気記録媒体を提供することを目的とする０ 発明の構成と作用効果 本発明は、垂直磁化型磁性層を有するプラスチックベー
スの裏面に、アクリル系二重結合、！レイン系二重結合
またはアリル系二重結合を有する樹脂を含む放射−硬化
バッタ層を設け、且つその表面粗度をａ０４〜［Ｌ６μ
淋以下に規定することにより、磁性面の表面性を向上（
表面粗度の低下）させでも、巻き締りが減少し、粘着が
減じ、走行性が良くなり、しかもドロップアウトが減る
など、すぐれた垂直磁化型磁気記録媒体を提供すること
ができる。

バッタ層の表面粗度はバック層の材料と相俟ってテープ
の走行性及び耐摩耗性を改善するだけでなく、４磁性層
との粘着及びシンチング現象を減じ、さらに磁性層の表
面粗度がｌ１Ｇ８μ倶以下という高度の表面性と相関し
てバック層の表面粗度がα６μ愼以下のとき８／Ｎを良
好に保つことが分った。表面粗度が０．０４μ営以下に
なるとシンチング現象、粘着性、走行性に問題が生じる
ことが分った。

熱硬化性樹脂をバッタ層に用いた場合、塗布後の巻き取
られた状態ではまだ硬化が完了していない。樹脂を完全
に硬化するには相当量のエネルギーが必要であるが、ベ
ースへの影智もあるため徐々に硬化を行わざるを得ない
。この際にバック面の表面性や樹脂成分が磁性面に、あ
るいは磁性面が未論布の場合はベース面に転写する。こ
のことはバッタ面、磁性面あるいはベース面の相方に悪
影響を及ぼす。垂直塗布の場合巻きしまりによりバック
面の影響が磁性面に出ると出力変動、出力低下をきたし
問題となる。また水平塗布と異なり、磁性粉が垂直に配
向しているため、バック層がない場合、巻きしまった場
合でも、微細な凹凸が表面に発生しやすく、出力変動を
きたす。バンクコートの場合、これらの両方の影春をう
け、従来の水平記録よりも表面に凹凸が発生しやすい。

本発明のごとく放射線硬化性ないしは感応性樹脂を用い
ることにより、塗布されたバック層は巻き取られる以前
に放射線を照射することにより硬化を完了することがで
きる。また硬化の前後あるいは硬化と同時にカレンダー
等の処理でバック面の平滑化が可能である。このために
バラｐ　［ｌ磁性面も希望する表面性を得ることができ
る。そのため巻きしまりがなく、出力変動がない。垂直
塗布には放射線硬化性の効果は大である。

本発明で用いる放射線硬化性ないし感応性樹脂は、放射
線によりラジカルを発生して架橋を行うような、分子鎖
中に不飽和２重結合を１個以上含むものであり、これは
また熱可塑性樹脂を放射線感応変性することによっても
可能である。

放射線感応変性の具体例としては、ラジカル重合性を有
する不飽和二重結合を示すアクリル酸、メタクリル酸あ
るいはそれらのエステル化合物のようなアクリル系二重
結合、ジアリルフタレートのようなアリル系二重結合、
マレイン酸、マレイン酸誘導体等の不飽和結合等の放射
線照射による架橋あるいは重合乾燥する基を分子中に導
入することである。

その他放射線照射により架橋重合する不飽和二重結合で
あれば用いる事が出来る。

放射線感応樹脂に変性できる熱可塑性樹脂を以下に示す
。

（Ｉ）　塩化ビニール系共重合体 塩化ヒニールー酢酸ビニール−ビニールアルコ−＃共１
ｉ合体、塩化Ｌ’エールービニルアルコ−ｋ　共重合体
、’１１ｉ　化ビニール−ビニルアルコール−プルピオ
ン酸ビニール共重合体、塩化ビニールー酢酸ビニール−
マレイン酸共重合体、塩化ビニール−酢酸ビニール−末
端ＯＨ［鎖アルキル基共重合体、たとえばＵＣＣｉ　Ｖ
ＲＯＨｌＶＹＮＣ。

ＶＹＥＧＸ　＠またＵＣＣ社ＶＥＩｉＲ等が挙げられる
。

上記共重合体に後に述べる手法により、アクリル系二重
結合、マレイン酸系二重結合、アリル系二重結合を導入
し放射線感応変性を行ったもの （ＩＩ）　飽和ポリエステル樹脂 フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレイン酸、
マレイン酸誘導体、コハク酸、アジピン酸、セパシン酸
、のような飽和多塩基酸とエチレングリコール、ジエチ
レングリフール、グリセリン、トリメチロールプロパン
、１．２プロピレンダリコール、ｔ３ブタンジオール、
ジエチレングリフール、１，４＼ブタンジオール、ｔ６
へ午サンジオール、ペンタエリスリット、ソルビＦ−ル
、グリセリン、ネオペンチルグリコール、ｔ４シタｐへ
キすンジメタノールのような多価アルコールとのエステ
ル結合により得られる飽和ポリエステル樹脂又はこれら
のポリエステル樹脂を５ＯｓＮａ等で変性した樹脂（バ
イｐン５５８）。これらを後に述べる手法により放射線
感応変性を行なったもの （ＩＩＩ）　不飽和ポリエステル樹脂 分子鎖中に放射線硬化性不飽和二重結合を含有するポリ
エステル化合物、例えば第（Ｉｆ）項の熱可塑性樹脂と
して記載の多塩基酸と多価アルコールのエステル結合か
ら成る飽和ポリエステル樹脂で多塩基酸の一部をマレイ
ン酸とした放射線硬化性不飽和二重結合を含有する不飽
和ポリエステル樹脂、プレポリマー、オリゴマーを挙げ
ることができる。

飽和ポリエステル樹脂の多塩基酸および多価アルコール
成分は第（Ｉ）項に記載した各化合物を挙げることがで
き、放射線硬化性不飽和二重結合としてはマレイン酸、
フマル酸等を挙げることができる。

放射線硬化性不飽和ポリエステル樹脂の製法は、多塩基
酸成分１種以上と多価アルコール成分１種以上にマレイ
ン酸、フマル酸等を加え常法、すなわち触媒存在１８０
〜２００℃窒素雰囲気下脱水あるいは脱アルコール反応
の後、２４０〜２・８０℃まで昇温し、１５〜Ｉ　ＭＨ
ｇの減圧下縮合反応によりポリエステル樹脂を得ること
ができる。マレイン酸やフマル酸等の含有量は、製造時
の架橋、放射線硬化性等から酸成分中１〜４０モル第で
好ましくは１０〜３０モル％である。

（ＩＶ）　ポリビニルアルコール系樹脂ポリビニルアル
コール、ブチラール樹脂、アセタール樹脂、ホルマール
樹脂及びこれらの成分の共重合体。これら樹脂中に含ま
れる水酸基を後に述べる手法により放射線感応化変性を
行なったもの。

（Ｖ）　エポキシ系樹脂、フェノ午シ樹脂ビスフェノー
ルムとエピクロルヒドリン、メチルエピクロルヒドリン
の反応によるエポキシ樹脂−シエル化学＠（エピコート
１５２．１５４・８２８．１ｏａ１．１００４．１００
７　）ダウケミカル製（ＤＥＮ４！１、ＤＥＲ７３２、
ＤＦｉＲ５１１、ＤＥＲ３３１）、大日本インキ製（エ
ビクロン４００、エビクロンーａＯＯ）、更に上記エポ
キシの高重合度樹脂であるＵＣＣ社製フェノキシ樹脂（
ＰＫＨＡ、ＰＫＨＣ，ＰＫＨＨ）臭素化ビスフェノール
人とエピクロルヒドリンとの共重合体、大日本イン午化
学工業製（エビクｐン１４５．１５２．１５Ｌ１１２０
）等。

これら樹脂中に含まれるエポキシ基を利用して、放射ｍ
感応変性を行ったもの （Ｗ）　ｉｌｉ維素誘導体 各種分子量の繊維素糸誘導体も、また熱可塑性プラスチ
ック成分として効果的である。その中でも、特に効果的
なものは硝化綿、七ルｐ−ズ、ア七シプチレーＦ１エチ
ル七ルｐ−ズ、ブチルセル日−ズ、アセチル七ルローズ
等が好適であり、樹脂中の水酸基を活性して後に述べる
手法により放射線感応変性を行なったもの　◆その他、
放射性感応変性に用いることのできる樹脂としては、多
官能ポリエステル樹脂、ポリエーテルエステル樹脂、ポ
リビニルビｐリドン樹脂及び誘導体（ｐｖｐオレフィン
共重合体）、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、フェノ
ール樹脂、スピロアセタール樹脂、水酸基を含有するア
クリルエステル及びメタクリルエステルを少くとも一種
以上重合成分として含むアクリル系樹脂等も有効である
。

さらに上記放射線感応変性熱可塑性樹脂に熱可塑性エラ
ストマー又はプレポリマーをブレンドすることにより、
一層強靭な塗膜とすることができる。さらに、下記に述
べるように、これらエラストマーあるいはプレポリマー
が、同様に放射線感応性に変性された場合は、より効果
的である。以下に、上記放射線感応樹脂と組み合わせる
ことのできるエラストＶ−又はプレポリＹ−を挙げる。

（１）　ポリウレタンエラストマー及びプレポリマー及
びテロマー ポリウレタンエラストマーは、耐摩耗性、ＰＥＴフィル
ムへの接着性が良い点で特に有効である。

このようなウレタン化合智の例としては、インシアネー
トとして、２．４−）ルエンジイソシアネート、ｌ−）
ルエンジイソシアネート、ｔ３−キシレンジイソシアネ
ー）、１．４−＋シレンジイソシアネート、１５−ナフ
タレンジイソシアネート、ｍ−７エエレンジイソシアネ
ート、ｐ−フェニレンジイソシアネー）、Ｌ３’−ジメ
チル−４，４′−ジフェニルメタンジイソシアネー）、
４．４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、４３′
−ジメチルビフェニレンジイソシアネート、４．４’−
ヒフェニレンジイソシアネート、へ午すメチレンジイソ
シアネート、イソフオレンジイソシアネート、ジシクロ
ヘキシルメタンジイソシアネート、デスモジュールＬ１
デスモジュールＮ等の各種多価イソシアネートと、線状
飽和ポリエステル（エチレングリフール、ジエチレング
リコール、ダリ七リン、トリメチルールプルパン、ｔ４
−ブタンジオール、ｔ６−ヘキ賃ンジオール、ペンタエ
リスリット、ソルビトール、ネオペンチルグリコール、
１．４−シクロへ午サンジメタツールの様な多価アルコ
ールと、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、マレ
イン酸、１ハク酸、アジピン酸、セバシン酸、の様な飽
和多塩基酸との縮重合によるもの）、線状飽和ポリエー
テル（ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコ
ール、ポリテトラ１ エチレングリコール）やカブレラクタム、とドーキシル
含有アクリル酸エステル、ヒドロキシ含有メタアクリル
酸エステル等の各種ポリエステル類の縮重合物より成る
ポリウレタンエラストマー、プレポリ！−、テロマーが
有効である。

これらのエラストマーを放射線感応変性の各種熱可塑性
プラスチックスとそのまま組合せても良いが、更にウレ
タンエラストマーの末端のイソシアネート基又は水酸基
と反応するアクリル系二重結合又はアリル系二重結合等
を有する単量体と反応させることにより、放射線感応性
に変性することは非常に効果的である。

（ＩＩ）　アクリルニトリル−ブタジェン共重合エラス
ψ　）Ｙ− シンクレアペトロケミカル社製ポリＢＤリクイツドレン
ジとして市販されている末端水酸基のあるアクリルニト
リルブタジェン共重合体プレポリマー、゛あるいは日本
ゼオン社製ハイカー１４３２Ｊ等のエラストマーは、特
にブタジェン中の二重結合が放射線によりラジカルを生
じ架橋及び重合させるエラストマー成分として適する。

（ＤＩ）　ポリブタジエンエラストマーシンクレアペト
ロケミカル社製ポリＢＤリタイツドレジンＲ−１５等の
低分子量末端水酸基を有するプレポリマーが特に熱可塑
性プラスチックとの相溶性の点で好適である。Ｒ−１５
プレポリマーにおいては分子木端が水酸基となっている
為分子末端をアクリル系不飽和二重結合を付加すること
により放射線感応性を高めることが可能であり、バイン
ダーとして更に有利となる。

また、ポリブタジェンの環化物日本合成ゴム製ＣＢＲ−
Ｍ９０１も熱可塑性プラスチックスとの組合せによりす
ぐれた性能を発揮する。特に、環化されたポリブタジェ
ンは、ポリブタジェン本来の有する不飽和結合のラジカ
ルにより放射線による架橋重合の効率が良く、バインダ
ーとして優れた性質を有している。

その他熱可塑性エラスト！−及びそのプレポリ！−の系
で好適なものとしては、スチレン−ブタジェンゴム、塩
化ゴム、アクリルゴム、イソプレンゴム及びその環化物
（日本合成ゴム＠　ＣｌＲ７０１）、エポキシ変性ゴム
、内部可塑化飽和線状ポリエステル（東洋紡バイＰ＞＋
１ｏｏ）、等のエラストマーも下記に述べる放射線感応
変性処理をほどこすことにより有効に利用できる。

次に、放射線感応性バインダー合成例を説明するＯ トリレンジイソシアネートのアダクトの製法＆）塩化ビ
ニール酢酸ビニール共重合系樹脂（放射線感応変性樹脂
）のアクリル変性体の合成ビニライトＶＡＧＨ７５０部
とトルエン１２５０部シクロヘキサノン５００部を５１
４つ口７テスフに仕込み加熱溶解し、８０℃昇温後トリ
レンジイソシアキーｔの２−とドル午ジエチルメタアク
リレートアダクトを６１４部加え、更にオクチル酸スＸ
”［１０１２部、ハイドロキノン［ＬＯ１２ｆ［ｌＩ１
５ え８０℃でＮ、気流中ＮＣＯ反応率が９０％となるまで
反応せしめる。反応終了後冷却し、メチルエチルケトン
１２５０部を加え希釈する。

トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）の２−ヒトルキシ
エチルメタアクリレ−）　（２部ｇＭＡ）アダクトの製
法 トリレンジイソシアネー）３４８部をＮ、気流中１１の
４つ目フラスコ内で８０℃に加熱後、２−５キサ工チレ
ンメタアクリレート２６０部、オクチル酸スズα０７部
、ハイドロキノン０．０５部を反応缶内の温度が８０〜
８５℃となるように冷却コン）ｐ−ルしながら滴下終了
後８０℃で６時間攪拌し反応を完結させる。反応終了後
取り出して冷却後白色ペースト状のＴＤＩの２ＨＥＭム
を得た。

ｂ）　ブチラール樹脂アクリル変性体の合成（放射線感
応変性樹脂） ブチラール樹脂積木化手製ＢＭ−８１００部をトルエン
１９１２部シタロヘキサノン７１４部に５４４つ口７テ
スコに仕込み加熱溶解し８０℃昇温昇温ジトリレンジイ
ソシアネート−ヒドロキシエチルメタアクリレートアダ
クトを７４部加え、更にオクチル酸スズ［１０１５部、
ハイドロ午ノンα０１５部を加え、８０℃でＮｉＩ気流
気流中Ｎ０比 終了後冷却しメチルエチルケトンにて稀釈する。

＠）飽和ポリエステル樹脂アクリル変性体の合成（放射
線感応変性樹脂） 東洋紡製バイｐンＲＶ−２００　１００部をトルエン１
１６部、メチルエチルケトン１１６部に加熱溶解し８０
℃昇温後ＴＤＩの２ＨＥＭＡアダクトを４５５部加え、
オクチル酸スズα００７部、ハイドル午ノンａ００７部
を添加し、Ｎ２気流中８０℃でＮＣＯ反応率９０％以上
となるまで反応せしめる。

ｄ）エポキシ樹脂アクリル変性体の合成（放射線感応変
性樹脂） シェル化学製エビコー）１［１０７　４００部を）ルエ
ン５０部ＭＥＫ５０部に加熱溶解後ＮＮ−ジメチルベン
ジル７１２０００６部、ハイドロ午ノンα００３部を添
加し８０℃とし、アクリル酸４９部を滴下し８０℃で酸
化５以下となるまで反応せしめる。

−）　ウレタンエラストマーアクリル変性体の合成（放
射線感応エラストマー） 末端イソシアネートのジフェニルメタンジイソシアネー
）（ＭＤＩ）糸ウレタンプレポリマー（日本ポリウレタ
ン製ニツポツン４０４０）２　５　０部、２ＨＥＭＡ　
６２．５部、ハイドルキノンα０フ部、オクチル酸スズ
［ＬＯＯ９部を反応缶に入れ、８０℃に加熱溶解後ＴＤ
Ｉ　４Ｂ．５部を反応缶内の温度が８０〜９０℃となる
様に冷却しながら滴下し、滴下終了後８０℃でＮＣＯ反
応率９５％以上となるまで反応せしめる。

１）ポリエーテル系末漏つレタン変性エラス）マーアク
リル変性体の合成（放射線感応エシス）Ｗ−） 日本ポリウレタン社製ポリエーテルＰＴＧ−　５　０　
０２５０部、２ＨＥＭＡ　ｉ　２．５部、ハイドロ午ノ
ンα００７部、オクチル酸スズα００９部を反応缶に入
れ８０℃に加熱溶解後ＴＤ　Ｉ　Ｊ　１５部を反応缶内
の温度が８０〜９０℃となるように冷却しながら滴下し
、滴下終了後８０’ＣでＮＧＯ反応率９５％以上となる
まで反応せしめる。

ｇ）ｌリプタジエンエラストマーアクリル変性体の合成
（放射線感応エラストマー） シンクレアペトロケミカル社製低分子量末端水酸基ポリ
ブタジェンポリＢＤリクィットレジンＢ−１５２５０部
、２ＨＥＭＡ　５２．５部、ハイドル午ノンＣＬＯロア
部、オクチル酸スズ１００９部を反応缶に入れ、８０℃
に加熱溶解後ＴＤＩ　４４５部を反応缶内の温度が８０
〜９０℃となるように冷却しながら滴下し、滴下終了後
８０℃でＮＣＯ反応半９５％以上となるまで反応せしめ
る。

また高分子には放射線照射により崩壊するものと分子間
に架橋を起すものが知られている。分子間に架橋を起す
ものとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレン、ポリアクリル酸エステル、ポリアクリルアミド
、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリビニルピロリド
ンゴム、ポリビニルアルコール、ポリアクロレインがあ
る０この様な架橋型ぎりマーであれば上記のような変性
を特に施さなくても、架橋反応が起るので、そのまま放
射軸架橋用バックコート樹脂として使用可能である。

さらにまた、この方法によれば溶剤を使用しない無溶剤
型の樹脂であっても短時間で硬化することができるので
、この様な樹脂をパンクコート用として用いることもで
きる。

また、本発明のバンクコートの架橋に使用する活性エネ
ルギー線としては、放射線加速器を線源とした電子線、
Ｃｏ”を線源としたｒ−線、Ｂ、１１＠を線源としたｐ
−線、ｘ！！ｉ１発生器を線源としたＸ−ｌ１！等が使
用される。

特に照射線源としては吸収線量の制御、製造工程ライン
への導入、電離放射線のしゃ閉等の見地から放射線加熱
器により放射線を使用する方法が有利である。

バック層を硬化する際に使用する放射線特性としては、
透過力の面から加速電圧１００〜７５０ＫＶ好ましくは
１５０〜３００　ＫＶの放射線加速器を用い吸収線量を
ａ５〜２０メガラッドになるように照射するのが好都合
である。

本発明のバック層硬化に際しては、米国エナージーサイ
エンス社にて製造されている低線量タイプの放射線加速
器（エレクトロカーテンシステム）等がテープコーティ
ング加エラインへの導入、加速器内部の２次Ｘ＠の遮蔽
等に極めて有利である。

勿論、従来より放射線加速器として広く活用されている
ところのファンデダラ７型加速器を使用しても良い。

また、放射線架橋に際しては、Ｎ、ガスＨ・ガス等の不
活性ガス気流中で放射線をバック層に照射することが重
要であり、空気中で放射線を照射することは、バインダ
ー成分の架橋に際し放射線照射により生じたＯｆｉ等の
影智でポリマー中に生じたラジカルが有利に架橋反応に
導く事を阻害するので極めて不利である。

従って、活性エネルギー線を照射する部分の雰囲気は、
特に酸素濃度が最大で１−のＨｌ　ｓ　Ｈ・、ＣＯＩ等
の不活性ガス雰囲気に保つことが重要となる。

その他予備乾燥により低沸点溶剤を除去した後残存する
に充分な高沸点を有するモノマーが使用できる。具体的
には例えばアクリル酸またはメタクリル酸の酸素数４個
以上のアル中ルエステル（へ午シル、２エチルへ午シル
、ラウリル、デシル、ステアリルエステル）、高沸点の
ヒドロ午シアタリレートまたはヒドロ午シマレートすな
わちアクリル酸−２−とドロ午ジプロピル、アクリル酸
−４−とドルキシブチル、メタクリル酸−２−ヒドｐキ
シエチル、メタクリル酸−６−とドルキシへ中シル、！
レイン酸モノ（２−ヒトルキシエチル）、マレイン酸ジ
（２−ヒトルキシエチル）、アタリルア攬ド、メタクリ
ルアミドなどが好適であり、さらに架橋促進のためビニ
ル基を２個以上ｉする高沸点モノマー例えばジビニルス
チレン、エチレンダリコールジメタクリレート、トリエ
チレングリコールジメタタリレート、テトテエチレング
リコールジメタクリレー）、Ｎ、Ｎ’メチレンビスアク
リルアミド、ｔｉブチレンジメタタリレ−ト、ジアリル
フタレート、トリメチルールプロパントリ（メタ）アク
リレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレ
ートなどを併用すること更に効果的である。

また、本発明でバック層中に上記結合材とともに使用さ
れる充填材としてけ、導電性のある　１）グラファイト
、カーボンブラックまた２）無機充填材としてはＳ　ｉ
　０２　、Ｔ　１０重、ム１．Ｏｓ、Ｃｒ１Ｏ１、Ｓｉ
Ｃ、ＣａＣＯ３、酸化亜鉛、ゲーサイト、αＦｅ２０１
、タルク、カオリン−、Ｃ１８０４、窒化硼素、テフｐ
ン粉＊、フッ化黒鉛、二硫化モリブデンがある。この様
な充填材の使用量は１）に関してはバインダー１００重
量部に対して２０〜２００部、又２）に関しては１０〜
５００部が適当であり、充填材量があまり多くなると、
塗膜がもろくなり、かえってドロップアウトが多くなる
という欠点が生じる。

磁性層１ 下記配合の磁性インキ原料を５本ロールにて混練し、電
子線硬化型インキを作成した。

粒子径０．１／Ｊ餌厚み［１０２／Ｊ餌の４角板伏バリ
ウムフエライト　８０重量部ポリウレタンアタリレート
　１０　ｌ Ｉリエステルアクリレート　７　＃ Ｆトリチロールプロパントリアク リ　し　−　ト　５　＃ 上記インキをポリエステルフィルム上に塗布し、この塗
膜上にポリプ田ピレンフィルムを被覆させた後、配向器
に入れて垂直配向を行なった。配向器内で同時に１５０
に＠Ｖ（１５ｍＡ）のカーテン状電子銃により５Ｍｒａ
ｄの線量を照射しバインダーを重合硬化させた後、プロ
ピレンフィルムを剥離した。

磁性層２ ポリエステルフィルムを十分に洗滌・脱脂乾燥し、その
上にＭ　ｏ　−Ｆ・−Ｎｌよりなる低抗磁力材層をスパ
ッタリングにより形成する。形成条件は、７ 真空度ｔ５×ｌＯｔｏｒｒ、アルゴン圧２．２　Ｘｌ０
−２ｔｏｒｒにて高周波電力４５０Ｗ、基板温度２５０
℃で約２０分間スパッタリングを行ない膜厚約１戸、抗
磁力（Ｈｅ）約５００１飽和磁化（Ｍｓ）約６００の低
抗磁力材層を得た。さらに、その上にＣ０−Ｃｒよりな
る磁気記録層をスパッタリングにより形成する。形成条
件は、真空度ｔ　５　Ｘ　ｉ　Ｏ−’ｔｏｒｒ　。

２ アルゴン圧２Ｘ１０　ｔｏｒｒにて高周波電力２００Ｗ
で、約１時間スパッタリングを行ない、膜厚約ｆｕｌｌ
で、Ｏｒ含有率約１８重量％、膜面に垂直方向の抗磁力
（Ｈ・）約６５００・、飽和磁化（４重Ｍ■）４１１０
０Ｇの磁気記録層を得た。

実施例１ カーボンプラッタ２５講／４　５０重量部混合溶剤（Ｍ
ＩＢＫ／）ルエン＝１７１）３ｏ　ａ　ｙ上記混合物を
ボールミル中５時間混合させ、磁性層１が形成されてい
るポリエステルフィルムの裏面に乾燥厚５Ｐになるよう
に塗布し、エレクトレカーテンタイプ電子線加速装置を
用いて加速電圧１５０　Ｋ＠Ｖ　％電極電流１５ｍＡ、
吸収線量５Ｍｒａｄｓ　Ｎｓガス中で電子線をバック層
に照射し、硬化を行った後カレンダー加工して巻き取り
、■“ビデオ巾に切断した。

実施例２ Ｓｉｎ、（αＩμｓ）　５０重量部 混合溶剤（ＭＩＢＫ／）ルエンー１／１）　ｓｏｏ　ｐ
上記混合物を用い、磁性層２が形成されているポリエス
テルフィルム裏面に実施例１と同様に塗布しサンプル作
成した。

比較例１ カーポンプフック（２ＳＳμ）　５０重量部塩ビ−ビニ
ルアルコール共重合体５０　１ポリウレタンプレポリＹ
−２０１ 混合溶剤（ＭＩＢＫ／　）＃！シン−１１）　５００　
＃上記混合物をボールミル中５時間混合させ、磁性層１
が形成されているプリエステルフィルムの裏面に乾燥厚
５ｐａｎになるように塗布し、カレンダー加工後巻き取
り、６０℃で２４　ｈｒ硬化を行った１Ｐビデオ巾に切
断した。

比較例２ ８１０！（ａｌ＃ｔｉ）　５０重蓋部 塩ビービニルアルコール共重合体ｓｏ　ｙポリウレタン
プレポリマー　２０　＃ 混合溶剤（ＭＩＢＫ／）ルエン−１／１）ｓｏｏ　＃上
記混合物を用い、磁性層２が形成されているポリエステ
ルフィルム裏面に比較例１と同様に塗布しサンプル作成
した。

比較例３ 磁性層１を有するポリエステルフィルムベース（バック
層なし）。

比較例４ 磁性層２を有するポリエステルフィルムベース（バッタ
層なし）。

上鮎の各実施例及び比較例４のテープの各種テストを行
った結果を次の表に示す。

１ａＡ−− 垂直塗布の場合、巻きしまりにより磁性粉が垂直に配向
しているために、微細な突起が発生しやすい。微細な突
起でも走行中ヘッド、ガイドボール等にあたると、単位
面積当たりにか＼る荷重が水平配向のものと比べ、大と
なるため、微細な突起面がけずれやすい。そのため磁性
面での巻きしまりをなくす必要がある。このためには放
射線硬化型が利点がある。バック面がないと、摩擦が大
のため走行停止をする。

なお上記の測定は次のようにして行った。

１　摩擦係数 直径４ｍの表面を研磨したアル截円柱に磁気テープのバ
ック面を内側にして１８０°の抱き角で巻きつけ、２国
／秒で走行し送り出し側と巻き取り側のテンシ爾ンを測
定し計算よりめた。

２　シンチング現象 一般市販のＶＨｇ方式ＶＴＲを用いて、テープ全長を早
送りした後平戻しを行ない、残り５０饅の所で停止し、
更に早戻しを最後まで行なう。然る後、テープの巻き状
態を目視により観察した。

テープ層間にすき間がなく捲き状態が良好な場合を良好
としそしてテープ層間にすき間が発生した場合を不良と
した。

３　バック層の摩耗 一般市販のｖｎｓ方式ＶＴＲを用い、４０℃の温度及び
８０％相対湿度の環境化で１００回走行させた後カセッ
トケース内の汚れを観察した。汚れのある場合を不良と
しそして汚れない場合を良好とした。

４　磁性層とバック層の粘着 ＶＨＳリールに捲取り、６０℃の環境下に５日間放置し
た時の粘着状況を目視により評価した。

粘着のない場合を良好としそして粘着の生じた場合を不
良とした。

５　表面粗度 タリステップ（ＴＡＹＬＯＲ−ＨＯＢＳＯＮ社製）を用
いて得たチャートから２０点平均法でめた。カフトオ７
（Ｌｌ　７■、針圧２岬、針α１Ｘ２．５／ｌを用いた
。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）垂直磁化に適する垂直方向磁気異方性を有する磁
   性層をプラスチックフィル五ベース上に形成した磁気記
   録媒体において、磁性層と反対側のベース真向に、アク
   リル系二重結合、マレ−イン系二重結合またはアリル系
   二重結合を有する樹脂を含む放射線硬化バッタ層を設け
   、且つバッタ層の表面粗度を０．０４〜Ｌ６ｐｓとした
   、磁気記録媒体。