JPS61195942A - 記録媒体用錫−金合金 - Google Patents
記録媒体用錫−金合金Info
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- JPS61195942A JPS61195942A JP60036143A JP3614385A JPS61195942A JP S61195942 A JPS61195942 A JP S61195942A JP 60036143 A JP60036143 A JP 60036143A JP 3614385 A JP3614385 A JP 3614385A JP S61195942 A JPS61195942 A JP S61195942A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、記録媒体用篩−金合金に関する。
（従来の技術）
近年になって、高速ランダムアクセスの可能な高密度大
容麓の情報記録媒体円盤についての研究開発が盛んに行
なわれるようになったが、レーザ光スポットの照射によ
る情報の記録再生が可能で。
容麓の情報記録媒体円盤についての研究開発が盛んに行
なわれるようになったが、レーザ光スポットの照射によ
る情報の記録再生が可能で。
かつ、レーザ光または／及び必要に応じて適当な補助手
段をも用いて記録された情報を消去し、新しい情報に書
換えうるような機能も備えている如き新規な記録媒体に
ついての探索も行なわれている。
段をも用いて記録された情報を消去し、新しい情報に書
換えうるような機能も備えている如き新規な記録媒体に
ついての探索も行なわれている。
ところで、レーザ光を用いて情報の記録、再生が行なわ
れるようにされている記録媒体について、レーザ光ビー
ムのスポットによる加熱作用により。
れるようにされている記録媒体について、レーザ光ビー
ムのスポットによる加熱作用により。
記録媒体にどのような物理的な変化を生じさせて情報の
記録を行なうようにしているのかに着目して、現在まで
に提案されている多くの記録媒体を分類すると、ビット
形成型、泡あるいは凹凸形成型、光磁気型、相変化型（
熱エネルギにより光の透過率２反射率、吸収率等に変化
が生じる熱変態型）等の各種型式の記録媒体に大別でき
る。
記録を行なうようにしているのかに着目して、現在まで
に提案されている多くの記録媒体を分類すると、ビット
形成型、泡あるいは凹凸形成型、光磁気型、相変化型（
熱エネルギにより光の透過率２反射率、吸収率等に変化
が生じる熱変態型）等の各種型式の記録媒体に大別でき
る。
そして、前記した各種型式の記録媒体の内で相変化型に
属する記録媒体は、既記録情報の消去の可能性もあると
いう点で注目されていて、現在までにこの種の記録媒体
としては、カルコゲナイド系の物質（ゲルマニウム、テ
ルル、アンチモン、シリコン、砒素、ビスマス、インジ
ュウム、ガリュウム、タリウム、セレン、硫黄）の色々
な組合わせからなる組成物の薄膜や、低級酸化物（例え
ば、ＴｏとＴａＯ２の混合組成物等）の薄膜を用いた記
録媒体が提案されている。
属する記録媒体は、既記録情報の消去の可能性もあると
いう点で注目されていて、現在までにこの種の記録媒体
としては、カルコゲナイド系の物質（ゲルマニウム、テ
ルル、アンチモン、シリコン、砒素、ビスマス、インジ
ュウム、ガリュウム、タリウム、セレン、硫黄）の色々
な組合わせからなる組成物の薄膜や、低級酸化物（例え
ば、ＴｏとＴａＯ２の混合組成物等）の薄膜を用いた記
録媒体が提案されている。
（発明が解決しようとする問題点）
ところが、カルコゲナイド系の物質の色々な組合わせか
らなる組成物の薄膜や、低級酸化物（例えば、ＴｏとＴ
ｅＯ２の混合組成物等）の薄膜を用いて構成されている
既提案の記録媒体では、レーザ光強度（記録媒体に相変
化を起こさせることができる強度範囲内のレーザ光強度
であって、記録媒体にその強度のレーザ光が照射された
部分からの再生信号中における２次高調波歪が極小にな
される如きレーザ光強度）が一定となされる如き記録媒
体の薄膜を構成している物質の組成範囲が狭いので、所
定の特性の記録媒体の大量生産を簡単に行なうことがで
きないという点が問題になった。
らなる組成物の薄膜や、低級酸化物（例えば、ＴｏとＴ
ｅＯ２の混合組成物等）の薄膜を用いて構成されている
既提案の記録媒体では、レーザ光強度（記録媒体に相変
化を起こさせることができる強度範囲内のレーザ光強度
であって、記録媒体にその強度のレーザ光が照射された
部分からの再生信号中における２次高調波歪が極小にな
される如きレーザ光強度）が一定となされる如き記録媒
体の薄膜を構成している物質の組成範囲が狭いので、所
定の特性の記録媒体の大量生産を簡単に行なうことがで
きないという点が問題になった。
（問題点を解決するための手段）
本発明は、錫が７０原子％乃至９０原子％であって残部
が金である記録媒体用鍋−会合金を提供するものである
。
が金である記録媒体用鍋−会合金を提供するものである
。
（実施例）
本発明は相変化型（熱エネルギにより光の透過率１反射
率、吸収率等に変化が生じる熱変態型）の記録媒体に適
する記録材料の探索に当り錫と金とからなる合金に着目
し、その錫−金合金における金と錫との組成を変化させ
て、錫が７０原子％乃至９０原子％であって残部が金で
あるような組成範囲の錫−金合金が、相変化型の記録媒
体に適した特性を備えていることを見出したことに基づ
いて、本発明の記録媒体用鍋−会合金を完成させたもの
である。
率、吸収率等に変化が生じる熱変態型）の記録媒体に適
する記録材料の探索に当り錫と金とからなる合金に着目
し、その錫−金合金における金と錫との組成を変化させ
て、錫が７０原子％乃至９０原子％であって残部が金で
あるような組成範囲の錫−金合金が、相変化型の記録媒
体に適した特性を備えていることを見出したことに基づ
いて、本発明の記録媒体用鍋−会合金を完成させたもの
である。
次に、添付図面を参照しながら本発明の記録媒体用鍋−
会合金について詳細に説明する。第１図は、二元蒸着法
を適用して本発明の記録媒体用鍋−金合金、すなわち、
錫が７０原子％乃至９０原子％であって残部が金である
ような記録媒体用鍋−金合金による薄膜記録媒体を基板
表面に付着形成させるようにする成膜装置の概略構成を
示す斜視図である。
会合金について詳細に説明する。第１図は、二元蒸着法
を適用して本発明の記録媒体用鍋−金合金、すなわち、
錫が７０原子％乃至９０原子％であって残部が金である
ような記録媒体用鍋−金合金による薄膜記録媒体を基板
表面に付着形成させるようにする成膜装置の概略構成を
示す斜視図である。
この第１図において、１は表面に対して記録媒体用鍋−
会合金が付着形成されるべき基板であり。
会合金が付着形成されるべき基板であり。
前記の基板１としては１例えばガラス円板、あるいはア
クリル樹脂の円板、ポリカーボネート樹脂。
クリル樹脂の円板、ポリカーボネート樹脂。
その他適当な材料による円板が用いられてよい。
２は前記した基板１を高速に回転させる回転軸であって
、この回転軸２は図示されていない回転駆動装置Ｉ（例
えば、モータ）によって所定の回転数で高速に回転され
る。
、この回転軸２は図示されていない回転駆動装置Ｉ（例
えば、モータ）によって所定の回転数で高速に回転され
る。
３．４は、それぞれ蒸発材料を収容するボートであり、
また、５，６は前記したボート３．４を加熱する電熱線
であり、前記したボート３と電熱線５とは一方の蒸発源
Ａを構成し、また、前記したボート４と電熱線６とは他
方の蒸発源Ｂを構成しており、前記した一方の蒸発源Ａ
では、それのボート３中に収容されている錫を加熱蒸発
させ。
また、５，６は前記したボート３．４を加熱する電熱線
であり、前記したボート３と電熱線５とは一方の蒸発源
Ａを構成し、また、前記したボート４と電熱線６とは他
方の蒸発源Ｂを構成しており、前記した一方の蒸発源Ａ
では、それのボート３中に収容されている錫を加熱蒸発
させ。
また、前記した他方の蒸発源Ｂでは、それのボート４中
に収容されている金を加熱蒸発させる。
に収容されている金を加熱蒸発させる。
７は、前記した基板１と２つの蒸発源Ａ、Ｂとの間に出
入自在になされているシャツタ板である。
入自在になされているシャツタ板である。
そして前記した各構成部分の全体は図示されていない容
器内に収納され、前記した容器内に形成される真空雰囲
気中で、基板ｌに対する次のような、成膜動作が行なわ
れるようになされている。
器内に収納され、前記した容器内に形成される真空雰囲
気中で、基板ｌに対する次のような、成膜動作が行なわ
れるようになされている。
すなわち、基板１を回転軸２に固着し、また。
一方の蒸発源Ａにお哲るボート３中に蒸発材料とされる
錫を収容し、また、前記した他方の蒸発源Ｂにおけるボ
ート４中に蒸発材料とされる金を収容してから、容器内
の排気を行なって容器内が必要な真空度の真空雰囲気に
なるようにする。
錫を収容し、また、前記した他方の蒸発源Ｂにおけるボ
ート４中に蒸発材料とされる金を収容してから、容器内
の排気を行なって容器内が必要な真空度の真空雰囲気に
なるようにする。
次に、各蒸発源Ａ、Ｂと基板１との間にシャツタ板７を
挿入し、また、基板ｌを所定の回転数で高速回転させ、
さらに各蒸発源Ａ、Ｂにおける各電熱線５，６に対して
、それぞれ所定の加熱用電圧を供給して、蒸発源Ａのボ
ート３内に収容されている錫と、蒸発源Ｂのボート４内
に収容されている金とをそれぞれ溶融させる。
挿入し、また、基板ｌを所定の回転数で高速回転させ、
さらに各蒸発源Ａ、Ｂにおける各電熱線５，６に対して
、それぞれ所定の加熱用電圧を供給して、蒸発源Ａのボ
ート３内に収容されている錫と、蒸発源Ｂのボート４内
に収容されている金とをそれぞれ溶融させる。
蒸発源Ａのボート３内に収容されている錫の温度と、蒸
発源Ｂのボート４内に収容されている金の温度と、基板
１の回転数とを制御して、基板１の表面に対して所定の
組成の錫−会合金薄膜、すなわち錫が７０原子％乃至９
０Ｉ！に子％で残部が金である如き組成の錫−金合金薄
膜が形成されるようにする。
発源Ｂのボート４内に収容されている金の温度と、基板
１の回転数とを制御して、基板１の表面に対して所定の
組成の錫−会合金薄膜、すなわち錫が７０原子％乃至９
０Ｉ！に子％で残部が金である如き組成の錫−金合金薄
膜が形成されるようにする。
また、基板１の表面に対して蒸発物質による真ン合金薄
膜、すなわち甥が７０原子％乃至９０原子％で残部が金
である如き組成の錫−会合金薄膜が形成されるようにす
る。
膜、すなわち甥が７０原子％乃至９０原子％で残部が金
である如き組成の錫−会合金薄膜が形成されるようにす
る。
また、基板１の表面に対して蒸発物質による真空蒸着を
行なう時間長は、基板１の表面に錫が７０原子％乃至９
０原子％で残部が金であるような組成の錫−金合金の薄
膜が所定の厚さ、例えば５ｏｏ〜１ｏｏｏオングストロ
一ム程度の厚さに付着形成されるような時間値に設定さ
れるのであり、それにしたがってシャツタ板７に対する
開閉制御が行なわれる。
行なう時間長は、基板１の表面に錫が７０原子％乃至９
０原子％で残部が金であるような組成の錫−金合金の薄
膜が所定の厚さ、例えば５ｏｏ〜１ｏｏｏオングストロ
一ム程度の厚さに付着形成されるような時間値に設定さ
れるのであり、それにしたがってシャツタ板７に対する
開閉制御が行なわれる。
７、前記したような二元蒸着法の適用により、基板ｌの
表面に錫が７０原子％乃至９ｏ原子％で残部が金である
ような組成の錫−金合金が所定の厚さの薄−の記録層と
して付着形成された後に、基板１の回転を停止するとと
もに容器中に大気を導入し。
表面に錫が７０原子％乃至９ｏ原子％で残部が金である
ような組成の錫−金合金が所定の厚さの薄−の記録層と
して付着形成された後に、基板１の回転を停止するとと
もに容器中に大気を導入し。
次いで、容器中から表面に記録層が形成された状態の基
板１を取出す。
板１を取出す。
基板ｌの表面に形成された記録層の表面に保護層を形散
することが必要な場合には、記録層の表面に適当な合成
樹脂の薄膜による保護層を被着させる。前記した合成樹
脂の薄膜による保護層の被着は、図示されていない蒸発
源から適当な合成樹脂材料を蒸発させて行なってもよい
。
することが必要な場合には、記録層の表面に適当な合成
樹脂の薄膜による保護層を被着させる。前記した合成樹
脂の薄膜による保護層の被着は、図示されていない蒸発
源から適当な合成樹脂材料を蒸発させて行なってもよい
。
基板１の表面に対して錫が７０原子％乃至９ｏ原子％で
残部がであるような組成の錫−金合金を所定の厚さの薄
膜の記録層として付着形成させる手段としては、前記し
たような二元蒸着法の適用の他に、スパッタリング法、
その他の適当な成膜手段が採用されてもよいことは勿論
であるが、基板ｌに対する成膜手段としてスパッタリン
グ法が採用された場合には、基板１の回転速度と、金の
ターゲットに射突させるイオン（例えばアルゴンイオン
）のエネルギと、錫のターゲットに射突させるイオン（
例えばアルゴンイオン）のエネルギと、スパッタリング
が行なわれるべき時間長などを適当に設定することによ
って、基板１の表面に錫が５０原子％乃至９０Ｍ子％で
残部が金であるような組成の錫−金合金を所定の厚さの
薄膜の記録層として形成させることができる。また、ス
パッタリング法の適用による成膜に際しては、峻と金と
のスパッタリングレートを考慮した組成の錫−金合金に
よる１個のターゲットを用いて成膜が行なわれるように
してもよい。
残部がであるような組成の錫−金合金を所定の厚さの薄
膜の記録層として付着形成させる手段としては、前記し
たような二元蒸着法の適用の他に、スパッタリング法、
その他の適当な成膜手段が採用されてもよいことは勿論
であるが、基板ｌに対する成膜手段としてスパッタリン
グ法が採用された場合には、基板１の回転速度と、金の
ターゲットに射突させるイオン（例えばアルゴンイオン
）のエネルギと、錫のターゲットに射突させるイオン（
例えばアルゴンイオン）のエネルギと、スパッタリング
が行なわれるべき時間長などを適当に設定することによ
って、基板１の表面に錫が５０原子％乃至９０Ｍ子％で
残部が金であるような組成の錫−金合金を所定の厚さの
薄膜の記録層として形成させることができる。また、ス
パッタリング法の適用による成膜に際しては、峻と金と
のスパッタリングレートを考慮した組成の錫−金合金に
よる１個のターゲットを用いて成膜が行なわれるように
してもよい。
さて、プラスチック製の円盤状の基板の表面に、錫が７
０原子％乃至９０Ｍ子％で残部が金であるような組成範
囲内にある色々な組成の錫−金合金を約５００オングス
トロームの厚さの薄膜として被着させたものを試料とし
て用意し、それぞれ組成を異にしている錫−会合金薄膜
が付着されている各試料を回転させた状態にして、前記
の各試料毎の錫−金合金薄膜を、直径が約１μ閣に集束
されたレーザ光束（波長が８３００オングストロームの
半導体レーザからのレーザ光）により断続的に照射して
いる状態にし、前記の試料におけるレーザ光束で照射さ
れた部分と照射されなかった部分とを光学顕微鏡により
Ｉ！察したところ、試料の錫−金合金簿膜におけるレー
ザ光束の照射により相変化を起こしている部分は、その
他の部分に比べて高い反射率を有するために明瞭なコン
トラスト比を有する明るい状態の部分として認識できた
。第２図は前記のように試料を回転させ、それを時間軸
上で第２図の（ａ）のように断続するレーザ光束で照射
したときに錫−金合金薄膜に生じる記録ドツト（第２図
の（ｂ））と、前記の錫−会合金薄膜の記録ドツトの部
分とその他の部分とにおける反射率の状態（第２図の（
ｂ））とを示している。 そして、前記のようにして部
分的に相変化を生じさせた錫−金合金の薄膜を走査電子
顕微鏡によって観察したところ、記録ドツトは全く認め
られなかったが、このことは前記のようにレーザ光のス
ポットの照射によって錫−金合金の薄膜に生じた光の反
射率等の光学的変化は、レーザ光の照射によって錫−金
合金の薄膜の表面に凹凸が生じることによって起きたの
ではないことを示している。
０原子％乃至９０Ｍ子％で残部が金であるような組成範
囲内にある色々な組成の錫−金合金を約５００オングス
トロームの厚さの薄膜として被着させたものを試料とし
て用意し、それぞれ組成を異にしている錫−会合金薄膜
が付着されている各試料を回転させた状態にして、前記
の各試料毎の錫−金合金薄膜を、直径が約１μ閣に集束
されたレーザ光束（波長が８３００オングストロームの
半導体レーザからのレーザ光）により断続的に照射して
いる状態にし、前記の試料におけるレーザ光束で照射さ
れた部分と照射されなかった部分とを光学顕微鏡により
Ｉ！察したところ、試料の錫−金合金簿膜におけるレー
ザ光束の照射により相変化を起こしている部分は、その
他の部分に比べて高い反射率を有するために明瞭なコン
トラスト比を有する明るい状態の部分として認識できた
。第２図は前記のように試料を回転させ、それを時間軸
上で第２図の（ａ）のように断続するレーザ光束で照射
したときに錫−金合金薄膜に生じる記録ドツト（第２図
の（ｂ））と、前記の錫−会合金薄膜の記録ドツトの部
分とその他の部分とにおける反射率の状態（第２図の（
ｂ））とを示している。 そして、前記のようにして部
分的に相変化を生じさせた錫−金合金の薄膜を走査電子
顕微鏡によって観察したところ、記録ドツトは全く認め
られなかったが、このことは前記のようにレーザ光のス
ポットの照射によって錫−金合金の薄膜に生じた光の反
射率等の光学的変化は、レーザ光の照射によって錫−金
合金の薄膜の表面に凹凸が生じることによって起きたの
ではないことを示している。
次に、前記のようにしてレーザ光スポットの照射により
相変化を生じさせた錫−金合金の薄膜をＥＰＭＡ（Ｅｌ
ｅｃｔｒｏｎ Ｐｒｏｂｅ Ｍｉｃｒｏ Ａｎａｌｙｓ
ｉｓ）によって・それの記録部分と非記録部分とのそれ
ぞれの部分における酸素量と窒素量とを測定したが、両
者間においての差は認められなかった。このことは前記
のようにレーザ光のスポットの照射によって錫−金合金
の薄膜に生じた光の反射率、透過率の変化と、色調の変
化などは、レーザ光の照射によって錫−金合金の薄膜に
形成された記録部分が、レーザ光の照射による加熱によ
って非記録部分とは異なる物質に変化したことによって
生じたものではないことを示している。
相変化を生じさせた錫−金合金の薄膜をＥＰＭＡ（Ｅｌ
ｅｃｔｒｏｎ Ｐｒｏｂｅ Ｍｉｃｒｏ Ａｎａｌｙｓ
ｉｓ）によって・それの記録部分と非記録部分とのそれ
ぞれの部分における酸素量と窒素量とを測定したが、両
者間においての差は認められなかった。このことは前記
のようにレーザ光のスポットの照射によって錫−金合金
の薄膜に生じた光の反射率、透過率の変化と、色調の変
化などは、レーザ光の照射によって錫−金合金の薄膜に
形成された記録部分が、レーザ光の照射による加熱によ
って非記録部分とは異なる物質に変化したことによって
生じたものではないことを示している。
以上の実験結果から考えると、レーザ光のスポットの照
射によって錫−金合金の薄膜に生じた光学的特性の変化
は、レーザ光の照射によって錫−金合金の薄膜に与えら
れた熱エネルギにより、錫−金合金の薄膜の構成物質に
原子配列の変化が生じ、それによって錫−金合金の薄膜
の光学的特性が記録部分と非記録部分とにおいて変化し
ているものと推論される。
射によって錫−金合金の薄膜に生じた光学的特性の変化
は、レーザ光の照射によって錫−金合金の薄膜に与えら
れた熱エネルギにより、錫−金合金の薄膜の構成物質に
原子配列の変化が生じ、それによって錫−金合金の薄膜
の光学的特性が記録部分と非記録部分とにおいて変化し
ているものと推論される。
第３図は錫−金合金中の錫の含有率（Ｈ子％）の変化に
対する錫−金合金薄膜のレーザ光感度（記録媒体に相変
化を起こさせることができる強度範囲内のレーザ光強度
であって、記録媒体にその強度のレーザ光が照射された
部分からの再生信号中における２次高調波歪が極小にな
される如きレーザ光強度）の変化を示す図であるが、第
３図示の測定結果は、次の様な条件の下で得られたもの
である。
対する錫−金合金薄膜のレーザ光感度（記録媒体に相変
化を起こさせることができる強度範囲内のレーザ光強度
であって、記録媒体にその強度のレーザ光が照射された
部分からの再生信号中における２次高調波歪が極小にな
される如きレーザ光強度）の変化を示す図であるが、第
３図示の測定結果は、次の様な条件の下で得られたもの
である。
すなわち、合成樹脂製の円盤状の基板（アクリル樹脂製
の円盤状の基板）の表面に、錫の含有率が２０原子％〜
９５原子％の範囲で残部が金であるような組成の錫−金
合金を約５００オングストロームの厚さの薄膜として被
着させてなる情報記録媒体円盤を、それの中心を回転軸
に固着して毎分９００回転させ、前記した情報記録円盤
における中心から５０−膳の径の位置を１周波数が５０
０ＫＨｚの信号によって強度変調されている波長が８３
００オングストロームレーザ光の径が約１ミクロンのス
ポットによって照射し、錫−金合金の薄膜に５００ＫＨ
ｚの信号を相変化によって記録するようにした場合のも
のであり、第３図示の測定結果を得るための実験は、錫
の含有率が２０原子％〜９５原子％の範囲で残部が金で
あるような組成の錫−金合金を約５００オングストロー
ムの厚さの薄膜として被着させてなる情報記録媒体円盤
として、２０原子％〜９５原子％の範囲で錫の含有率を
それぞれ異にしている如き多数の情報記録媒体円盤を用
いて行なわれたものである。
の円盤状の基板）の表面に、錫の含有率が２０原子％〜
９５原子％の範囲で残部が金であるような組成の錫−金
合金を約５００オングストロームの厚さの薄膜として被
着させてなる情報記録媒体円盤を、それの中心を回転軸
に固着して毎分９００回転させ、前記した情報記録円盤
における中心から５０−膳の径の位置を１周波数が５０
０ＫＨｚの信号によって強度変調されている波長が８３
００オングストロームレーザ光の径が約１ミクロンのス
ポットによって照射し、錫−金合金の薄膜に５００ＫＨ
ｚの信号を相変化によって記録するようにした場合のも
のであり、第３図示の測定結果を得るための実験は、錫
の含有率が２０原子％〜９５原子％の範囲で残部が金で
あるような組成の錫−金合金を約５００オングストロー
ムの厚さの薄膜として被着させてなる情報記録媒体円盤
として、２０原子％〜９５原子％の範囲で錫の含有率を
それぞれ異にしている如き多数の情報記録媒体円盤を用
いて行なわれたものである。
第３図に示されている錫−金合金中の錫の含有率（原子
％）の変化に対する錫−会合金薄膜のレーザ光感度の変
化特性を見ると、錫−金合金薄膜におけるレーザ光感度
は錫−金合金中の錫の含有率（原子％）が７０原子％〜
９０原子％という広い範囲にわたり略々一定の状態に保
たれているというような特性を示している。
％）の変化に対する錫−会合金薄膜のレーザ光感度の変
化特性を見ると、錫−金合金薄膜におけるレーザ光感度
は錫−金合金中の錫の含有率（原子％）が７０原子％〜
９０原子％という広い範囲にわたり略々一定の状態に保
たれているというような特性を示している。
このように、錫−金合金では錫の含有率が７０ＪＪｉ子
％〜９０原子％というように広い範−で変動しても、錫
−会合金薄膜のレーザ光感度が略々一定に保たれる（Ｉ
ｔが７０原子％〜９０原子％という広い組成範囲にわた
って錫−金合金薄膜のレーザ光感度が略々一定に保たれ
る）から、記録媒体の製作時における記録層の構成物質
の組成のばらつきの許容度が広く、シたがって、記録媒
体の大量生産が容易になる。
％〜９０原子％というように広い範−で変動しても、錫
−会合金薄膜のレーザ光感度が略々一定に保たれる（Ｉ
ｔが７０原子％〜９０原子％という広い組成範囲にわた
って錫−金合金薄膜のレーザ光感度が略々一定に保たれ
る）から、記録媒体の製作時における記録層の構成物質
の組成のばらつきの許容度が広く、シたがって、記録媒
体の大量生産が容易になる。
また、前記のように記録媒体の製作時における記録層の
構成物質の組成のばらつきの許容度が広いことから、錫
及び金の溶融固化物による錫−金合金のターゲットを使
用した連続インラインスパッタリングによる情報記録媒
円盤の製作も容易に行なわれ得るのである。なお、錫−
金合金による記録層に対する情報の記録は、レーザ光の
スポットの使用による温度上昇以外の方法による記録層
の温度上昇によっても行なわれ得ることはいうまでもな
い。
構成物質の組成のばらつきの許容度が広いことから、錫
及び金の溶融固化物による錫−金合金のターゲットを使
用した連続インラインスパッタリングによる情報記録媒
円盤の製作も容易に行なわれ得るのである。なお、錫−
金合金による記録層に対する情報の記録は、レーザ光の
スポットの使用による温度上昇以外の方法による記録層
の温度上昇によっても行なわれ得ることはいうまでもな
い。
（効果）
以上、詳細に説明したところから明らかなように、本発
明の錫が７０原子％乃至９０原子％であって残部が金で
ある記録媒体用錫−会合金では、錫の含有率が７０原子
％〜９０原子％というように広い範囲で変動しても、錫
−金合金薄膜のレーザ光感度が略々一定に保たれる（錫
が７０原子％〜９ｏ原子％という広い組成範囲にわたっ
て錫−金合金薄膜のレーザ光感度が略々一定に保たれる
）ものであり。
明の錫が７０原子％乃至９０原子％であって残部が金で
ある記録媒体用錫−会合金では、錫の含有率が７０原子
％〜９０原子％というように広い範囲で変動しても、錫
−金合金薄膜のレーザ光感度が略々一定に保たれる（錫
が７０原子％〜９ｏ原子％という広い組成範囲にわたっ
て錫−金合金薄膜のレーザ光感度が略々一定に保たれる
）ものであり。
これは従来のカルコゲナイド系や低級酸化物系の相変化
型の記録媒体では到底得ることができなかったものであ
り１本発明の記録媒体用鍋−会合金を用いた記録媒体は
、従来の相変化型の記録媒体に比べて大量生産が容易で
あり２本発明により既述した従来の欠点はすべて良好に
解消される。
型の記録媒体では到底得ることができなかったものであ
り１本発明の記録媒体用鍋−会合金を用いた記録媒体は
、従来の相変化型の記録媒体に比べて大量生産が容易で
あり２本発明により既述した従来の欠点はすべて良好に
解消される。
第１図は成膜装置の一例の概略構成を示す斜視図、第２
図は記録媒体用篩−金合金薄膜を照射するレーザ光ビー
ムの断続の状態と、錫−金合金薄膜の記録ドツトの状態
と、光の反射率の変化の状態との関係を示す図、第３図
は錫−金合金薄膜の錫の含有率とレーザ光感度との関係
を示す図である。 ｌ・・・基板、２・・・回転軸、３，４・・・ボート、
５゜６・・・電熱線、７・・・シャツタ板、Ａ、Ｂ・・
・蒸発源、手続補正書（自発） 昭和６０年３月λ７日 特許庁長官 志 賀 学 殿 ２、発明の名称 記録媒体用鍋−会合金 ３、補正をする者 事件との関係 特 許 出願人性 所 神奈川
県横浜市神奈用区守屋町３丁目１２番地名 称 （４３
２）日本ビクター株式会社４、代理人 住 所 東京部品用区東品用３丁目４番１９−９１５号
６、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄７
、補正の内容
図は記録媒体用篩−金合金薄膜を照射するレーザ光ビー
ムの断続の状態と、錫−金合金薄膜の記録ドツトの状態
と、光の反射率の変化の状態との関係を示す図、第３図
は錫−金合金薄膜の錫の含有率とレーザ光感度との関係
を示す図である。 ｌ・・・基板、２・・・回転軸、３，４・・・ボート、
５゜６・・・電熱線、７・・・シャツタ板、Ａ、Ｂ・・
・蒸発源、手続補正書（自発） 昭和６０年３月λ７日 特許庁長官 志 賀 学 殿 ２、発明の名称 記録媒体用鍋−会合金 ３、補正をする者 事件との関係 特 許 出願人性 所 神奈川
県横浜市神奈用区守屋町３丁目１２番地名 称 （４３
２）日本ビクター株式会社４、代理人 住 所 東京部品用区東品用３丁目４番１９−９１５号
６、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄７
、補正の内容
Claims (1)
- 錫が７０原子％乃至９０原子％であって残部が金である
記録媒体用錫−金合金
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60036143A JPS61195942A (ja) | 1985-02-25 | 1985-02-25 | 記録媒体用錫−金合金 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60036143A JPS61195942A (ja) | 1985-02-25 | 1985-02-25 | 記録媒体用錫−金合金 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61195942A true JPS61195942A (ja) | 1986-08-30 |
| JPH0119454B2 JPH0119454B2 (ja) | 1989-04-11 |
Family
ID=12461566
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60036143A Granted JPS61195942A (ja) | 1985-02-25 | 1985-02-25 | 記録媒体用錫−金合金 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61195942A (ja) |
-
1985
- 1985-02-25 JP JP60036143A patent/JPS61195942A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0119454B2 (ja) | 1989-04-11 |
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