JPS61235165A - サ−マルヘツドの製造方法 - Google Patents

サ−マルヘツドの製造方法

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JPS61235165A
JPS61235165A JP7641285A JP7641285A JPS61235165A JP S61235165 A JPS61235165 A JP S61235165A JP 7641285 A JP7641285 A JP 7641285A JP 7641285 A JP7641285 A JP 7641285A JP S61235165 A JPS61235165 A JP S61235165A
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JP
Japan
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layer
conductor
resist
thermal head
etching
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JP7641285A
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Inventor
Juichi Kishida
岸田 寿一
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/315Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material
    • B41J2/32Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material using thermal heads
    • B41J2/335Structure of thermal heads

Landscapes

  • Electronic Switches (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 不発明は、短作東時閾で歩留りの為いサーマルヘッドの
製造方法に圓する〇 (発明の*jjt) 従来のサーマルヘッドの製造方法は1例えば籍公陥55
−7155号公報に記載されるよ5に。
積増形成した発熱抵抗体層と得体配置層を、くし形のホ
トマスクをもちいた写真食刻法で多数個の戚分次の積層
配−とし、レジストを除去した恢、削運した一分状の槓
増配嫌の導体配癲の一都ヲ、細量形のホトマスクをもち
いた写真食刻法で取り除き発熱抵抗体とするものである
この方法では、細長形のホトマスクの価格が安く、ホト
マスクの整合も容易であるが、導体層のエツチングを2
工機に分けているため作業時間が負<、レジストの欠陥
により導体配線の断祿が多く発生する。
〔発明の目的〕
本発明の目的は1作業時間が短か(歩留9の^いサーマ
ルヘッドの製造方法を提供することにある。
〔発明の歎畳〕
不発明は上記目的を遜属するために、積増形成した発熱
抵抗体層と導体配線層の5ち、導体配線間および1発熱
抵抗体上の導体配線層を写真食刻法の手法で同時に取り
除き、レジストを除去した恢、配緘閾の発熱抵抗体層を
写真食刻法の手法をもちいて賞側漱が、導体配線に接触
しないよ5に食刻することにより2!!属させるもので
ある。
〔発明の実施例〕
以下1本発明の冥り例を第11乃至第3図により#vI
述する。第1図乃至第3−は1本発明の一夾逓例を示す
サーマルヘッドの製造工程を示すgIf+視断平図で、
先ずgI図に示すように高抵抗の基散1の表面に、;@
層またはスパッタリング等の手法で犀さくLO5〜0.
2 μmのTa、N Ja−5i 。
Ta−5in、等からなる発熱抵抗体層2を形成した恢
、厚さα5〜2μmのAμ、 At  等からなる導体
層3を形成し、さらにレジストバタン4をもちいて導体
層の不用部をエツチングする。
次に、第2図に示すようにレジストバタン4を除去後、
レジストバタン5をもちいて発熱抵抗体層の不用部をエ
ツチングする。ここでレジストバタン5を除去丁れば、
第5図に示すよ5VC%熱抵仇体を形成する・ 上述の笑應例は1発熱抵抗体層と導体層の2層のみの例
であるが1発熱a汎体増と導体層の闇に、魚屑またはス
パッタリング等の手法で形成した。 i’i 、 Cr
等からなる拡散防止層を形成1°ることが央鴻されてお
り、この通合には、24体層の食狗後枕けて拡散防止l
曽を食刻丁ればよい。
この夾NA@によれば1発熱抵抗体上の導体層と尋坏配
嫌閾の導体層を同時に食刻することができるため1作業
時間が短縮できる。また%導体層の食刻に便用するレジ
ストに欠陥かあると。
得体配線の#鍼となるが、従来2工程あった導体層の食
刻工程が1工程となり、不良率が低減する。
また、上述の実施例では、導体層の食刻恢。
レジストバタン4を1去する例を示したが、レジストバ
タン4を減云せず就けてレジストバタン5を形成するこ
とも可能であり、この場合さらに作業時間が短軸できる
上述の芙應例では、レジストバタン5の形状を込べなか
りたが、レジストバタン5は、纒体配麿層5をa15形
状が望ましい。これは1発熱抵抗体層2の貢狗液として
用いられるふつ酸と硝皺の混敵により、尋体配線表圓に
ふつ化物が形成される場合かあり、ふり化物を形成した
導体層表1の電気的コンタクトか患化】°るためである
〔発明の効果〕
上述した来AiPjからも明らかなように、不発E!A
Kよれは、導体層のエツチングを1工程で英識すること
ができるので1作4時間の短軸と不良率の!諷に効果が
あり、11に気的なコンタクトも良好である。
【図面の簡単な説明】
図はいずれも本発明の一実題例を示すもので、第1図乃
至帛3図は工程駐通毎のサーマルヘッドの腑祝#圓図で
ある。 1・・・基板      2・・・発熱抵抗体層3・・
・導12p膚4,5・・・レジストバタン6・・・発熱
抵抗体 第 1 図 第 3 図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 発熱抵抗体層と導体配線層とを含む2以上の層から成り
    、発熱抵抗体上の導体層不用部と、導体配線間の導体層
    不用部とを、写真食刻法により同時に食刻し、発熱抵抗
    体層の食刻にもちいるホトマスク形状を、導体層不用部
    の食刻にもちいるホトマスクで導体配線間のみを食刻す
    る形状と相似させるようにしたことを特徴とするサーマ
    ルヘッドの製造方法。
JP60076412A 1985-04-12 1985-04-12 サ−マルヘツドの製造方法 Expired - Lifetime JPH0657454B2 (ja)

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JPS61235165A true JPS61235165A (ja) 1986-10-20
JPH0657454B2 JPH0657454B2 (ja) 1994-08-03

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63183861A (ja) * 1987-01-27 1988-07-29 Seikosha Co Ltd サ−マルヘツドの製造方法
JPS63183862A (ja) * 1987-01-27 1988-07-29 Seikosha Co Ltd サ−マルヘツドの製造方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5780074A (en) * 1980-11-07 1982-05-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd Preparation of thermal head
JPS59194859A (ja) * 1983-04-19 1984-11-05 Canon Inc インクジェットヘッド

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5780074A (en) * 1980-11-07 1982-05-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd Preparation of thermal head
JPS59194859A (ja) * 1983-04-19 1984-11-05 Canon Inc インクジェットヘッド

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63183861A (ja) * 1987-01-27 1988-07-29 Seikosha Co Ltd サ−マルヘツドの製造方法
JPS63183862A (ja) * 1987-01-27 1988-07-29 Seikosha Co Ltd サ−マルヘツドの製造方法

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JPH0657454B2 (ja) 1994-08-03

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