JPS61270340A - 再溶融チルカムシヤフトの製造方法 - Google Patents
再溶融チルカムシヤフトの製造方法Info
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- JPS61270340A JPS61270340A JP11267385A JP11267385A JPS61270340A JP S61270340 A JPS61270340 A JP S61270340A JP 11267385 A JP11267385 A JP 11267385A JP 11267385 A JP11267385 A JP 11267385A JP S61270340 A JPS61270340 A JP S61270340A
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- cam sliding
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- F01—MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
- F01L—CYCLICALLY OPERATING VALVES FOR MACHINES OR ENGINES
- F01L1/00—Valve-gear or valve arrangements, e.g. lift-valve gear
- F01L1/02—Valve drive
- F01L1/04—Valve drive by means of cams, camshafts, cam discs, eccentrics or the like
- F01L1/047—Camshafts
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- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Valve-Gear Or Valve Arrangements (AREA)
- Gears, Cams (AREA)
- Heat Treatment Of Articles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、再溶融チルカムシャフトの製造方法に関し、
詳しくは、レーザビーム、ＴＩＧアーク。
詳しくは、レーザビーム、ＴＩＧアーク。
プラズマアーク、電子ビーム等の高密度エネルギを照射
して、再溶融させた直後におけるカムシャフトのカム摺
動部表面に対して、ローラもしくはプレート等の押圧手
段により押圧することによって、通常の再溶融チルカム
シャフトの製造方法により製造された再溶融チルカムシ
ャフトのカム摺動部表面において、再溶融チル化された
表面硬化層における“波うち”及び“うねり”等の表面
凹凸の形成を抑制させることのできる再溶融チルカムシ
ャフトの製造方法にかかる。
して、再溶融させた直後におけるカムシャフトのカム摺
動部表面に対して、ローラもしくはプレート等の押圧手
段により押圧することによって、通常の再溶融チルカム
シャフトの製造方法により製造された再溶融チルカムシ
ャフトのカム摺動部表面において、再溶融チル化された
表面硬化層における“波うち”及び“うねり”等の表面
凹凸の形成を抑制させることのできる再溶融チルカムシ
ャフトの製造方法にかかる。
エンジンの動弁系機構において、カムの回転運動をエン
ジンバルブの上下運動に変換させる動弁系部材において
は、曲げ、引張り、あるいは、圧縮等の複雑に作用する
応力に耐えるべく充分な機械的特性が必要とされること
はもちろんのこと、その摺動部位（例えば、カム摺動部
表面やロッカアームパッド等）においては、耐摩耗性、
耐ピッチング性、引っ掻き摩耗に耐える特性（いわゆる
耐スカッフィング性）に優れ、しかも、摺動する相手材
に対する損傷性の少ない等といった耐摩耗緒特性が要求
されている。
ジンバルブの上下運動に変換させる動弁系部材において
は、曲げ、引張り、あるいは、圧縮等の複雑に作用する
応力に耐えるべく充分な機械的特性が必要とされること
はもちろんのこと、その摺動部位（例えば、カム摺動部
表面やロッカアームパッド等）においては、耐摩耗性、
耐ピッチング性、引っ掻き摩耗に耐える特性（いわゆる
耐スカッフィング性）に優れ、しかも、摺動する相手材
に対する損傷性の少ない等といった耐摩耗緒特性が要求
されている。
このため、エンジンに用いられているカムシャフトのカ
ム摺動部表面に対しては、タペットもしくはロッカアー
ムパッドと摺動する部位における上述のような耐摩耗緒
特性を改善させるための表面硬化層を形成させているの
が通常である。
ム摺動部表面に対しては、タペットもしくはロッカアー
ムパッドと摺動する部位における上述のような耐摩耗緒
特性を改善させるための表面硬化層を形成させているの
が通常である。
そして、このようなエンジンに用いるカムシャフトのカ
ム摺動部表面に対する表面硬化層の形成方法としては、
従来においては冶金を用いたチル化処理が主流であり、
その他に表面焼入処理等も採用されているが、最近、レ
ーザビーム、ＴＩＧアーク、プラズマアーク、電子ビー
ム等の高密度エネルギの照射を利用した再溶融チル化処
理が注目を集めている。
ム摺動部表面に対する表面硬化層の形成方法としては、
従来においては冶金を用いたチル化処理が主流であり、
その他に表面焼入処理等も採用されているが、最近、レ
ーザビーム、ＴＩＧアーク、プラズマアーク、電子ビー
ム等の高密度エネルギの照射を利用した再溶融チル化処
理が注目を集めている。
ところで、従来のレーザビーム、ＴＩＧアーク。
プラズマアーク、電子ビーム等の高密度エネルギの照射
により、カムシャフトのカム摺動部表面に再溶融チル化
された表面硬化層を形成させる場合には、カムシャフト
をゆっくり回転させながらカムシャフトのカム摺動部表
面のカム幅方向にカムシャフトもしくは高密度エネルギ
の照射装置を移動させることによって、高密度エネルギ
による照射部位をカムシャフトのカム摺動部表面のカム
幅方向に相対的に往復運動させて走査させるのが通常で
ある。
により、カムシャフトのカム摺動部表面に再溶融チル化
された表面硬化層を形成させる場合には、カムシャフト
をゆっくり回転させながらカムシャフトのカム摺動部表
面のカム幅方向にカムシャフトもしくは高密度エネルギ
の照射装置を移動させることによって、高密度エネルギ
による照射部位をカムシャフトのカム摺動部表面のカム
幅方向に相対的に往復運動させて走査させるのが通常で
ある。
例えば、照射する高密度エネルギ源としてＴＩＧアーク
を用いて再溶融チルカムシャフトを製造する場合、鋳鉄
製カムシャフトのカム摺動部表面を部分的にＴＩＧアー
クにより再溶融させた後、鋳鉄製カムシャフトの有する
熱容量により急冷凝固させて再溶融チル化された表面硬
化層を形成させている。
を用いて再溶融チルカムシャフトを製造する場合、鋳鉄
製カムシャフトのカム摺動部表面を部分的にＴＩＧアー
クにより再溶融させた後、鋳鉄製カムシャフトの有する
熱容量により急冷凝固させて再溶融チル化された表面硬
化層を形成させている。
即ち、ＴＩＧアークを用いた再溶融チルカムシャフトの
製造方法においては、第３図に示すようにタングステン
電極２．銅製コンタクトチップ３゜シールドガス通路４
を有するＴＩＧアークトーチ１を用い、不活性ガス（通
常アルゴンガスを使用）のシールドガス５を噴出させた
状態で、負に印加されたタングステン電極２と正に印加
された被処理カムシャフトのカム摺動部表面８との間に
放電アーク６を発生させて、その熱により被処理カムシ
ャフトのカム摺動部表面８を部分的に再溶融して再溶融
ブール７を形成し、その後、被処理カムシャフト自身の
有する熱容量により自己急冷させて、カムシャフトのカ
ム摺動部表面８に第４図に示すような再溶融チル化され
た表面硬化層ｌＯを形成させるのである。
製造方法においては、第３図に示すようにタングステン
電極２．銅製コンタクトチップ３゜シールドガス通路４
を有するＴＩＧアークトーチ１を用い、不活性ガス（通
常アルゴンガスを使用）のシールドガス５を噴出させた
状態で、負に印加されたタングステン電極２と正に印加
された被処理カムシャフトのカム摺動部表面８との間に
放電アーク６を発生させて、その熱により被処理カムシ
ャフトのカム摺動部表面８を部分的に再溶融して再溶融
ブール７を形成し、その後、被処理カムシャフト自身の
有する熱容量により自己急冷させて、カムシャフトのカ
ム摺動部表面８に第４図に示すような再溶融チル化され
た表面硬化層ｌＯを形成させるのである。
しかしながら、このような従来の再溶融チルカムシャフ
トの製造方法においては、カムシャフトのカム摺動部表
面８に再溶融チル化された深い表面硬化層１０を形成さ
せようとすると、カムシャフトのカム摺動部表面８に形
成される再溶融チル化された表面硬化層１０に第５図（
ｂｌに示すような“波うち”及び“うねり”等の表面凹
凸を発生し易く、完成カムシャフトとする機械加工工程
においてカム摺動部表面８の研磨仕上のための研磨化ｄ
が多くなり、その結果として研磨仕上された後の完成カ
ムシャフトのカム摺動部表面８に形成される再溶融チル
化された表面硬化層深さｅが浅くなっていたのが現状で
ある。
トの製造方法においては、カムシャフトのカム摺動部表
面８に再溶融チル化された深い表面硬化層１０を形成さ
せようとすると、カムシャフトのカム摺動部表面８に形
成される再溶融チル化された表面硬化層１０に第５図（
ｂｌに示すような“波うち”及び“うねり”等の表面凹
凸を発生し易く、完成カムシャフトとする機械加工工程
においてカム摺動部表面８の研磨仕上のための研磨化ｄ
が多くなり、その結果として研磨仕上された後の完成カ
ムシャフトのカム摺動部表面８に形成される再溶融チル
化された表面硬化層深さｅが浅くなっていたのが現状で
ある。
なお、第５図（ａ）は再溶融チル化処理する前のカム９
の断面図、また、第５図（ｂ）はカムシャフトのカム摺
動部表面８に再溶融チル化された表面硬化層ｌＯを形成
させた後のカム９の断面図であり、ａは全カム幅、ｂは
研磨仕上後の表面硬化層幅。
の断面図、また、第５図（ｂ）はカムシャフトのカム摺
動部表面８に再溶融チル化された表面硬化層ｌＯを形成
させた後のカム９の断面図であり、ａは全カム幅、ｂは
研磨仕上後の表面硬化層幅。
Ｃは再溶融チル化された表面硬化層１０に形成された表
面凹凸部幅、ｄは研磨化、ｅは研磨仕上後の表面硬化層
深さ、ｆは再溶融チル化処理により形成された全表面硬
化層深さである。
面凹凸部幅、ｄは研磨化、ｅは研磨仕上後の表面硬化層
深さ、ｆは再溶融チル化処理により形成された全表面硬
化層深さである。
上述のような従来の技術の現状に鑑み、本発明が解決し
ようとする問題点は、従来法によりカムシャフトのカム
摺動部表面に再溶融チル化された表面硬化層を形成させ
る再溶融チルカムシャフトの製造方法においては、カム
シャフトのカム摺動部表面に形成される再溶融チル化さ
れた表面硬化層に“波うち”及び“うねり”等の表面凹
凸を有する状態となることから、完成カムシャフトとす
る機械加工工程においてカム摺動部表面の研磨仕上のた
めの研磨代を多く取る必要があるばかりでなく、その結
果として研磨仕上された後の完成カムシャフトのカム摺
動部表面に形成される再溶融チル化された表面硬化層深
さが浅くなり、カムシャフトのカム摺動部表面としての
優れた品質（耐摩耗緒特性）を確保することができない
ということである。
ようとする問題点は、従来法によりカムシャフトのカム
摺動部表面に再溶融チル化された表面硬化層を形成させ
る再溶融チルカムシャフトの製造方法においては、カム
シャフトのカム摺動部表面に形成される再溶融チル化さ
れた表面硬化層に“波うち”及び“うねり”等の表面凹
凸を有する状態となることから、完成カムシャフトとす
る機械加工工程においてカム摺動部表面の研磨仕上のた
めの研磨代を多く取る必要があるばかりでなく、その結
果として研磨仕上された後の完成カムシャフトのカム摺
動部表面に形成される再溶融チル化された表面硬化層深
さが浅くなり、カムシャフトのカム摺動部表面としての
優れた品質（耐摩耗緒特性）を確保することができない
ということである。
従って、本発明の技術的課題とするところは、高密度エ
ネルギを照射することにより再溶融させた直後における
カムシャフトのカム摺動部表面を平坦化させる押圧手段
により押圧することによって、通常の再溶融チルカムシ
ャフトの製造方法により製造されたカムシャフトのカム
摺動部表面に形成される、再溶融チル化された表面硬化
層における“波うち”及び“うねり”等の表面凹凸の形
成を抑制し、完成カムシャフトとする機械加工工程にお
いてカム摺動部表面の研磨仕上のための研磨代を低減さ
せて、その結果として研磨仕上された後の完成カムシャ
フトのカム摺動部表面に形成される再溶融チル化された
表面硬化層深さを充分なものとし、カムシャフトのカム
摺動部表面としての品質（耐摩耗緒特性）を優れたもの
とすることにある。
ネルギを照射することにより再溶融させた直後における
カムシャフトのカム摺動部表面を平坦化させる押圧手段
により押圧することによって、通常の再溶融チルカムシ
ャフトの製造方法により製造されたカムシャフトのカム
摺動部表面に形成される、再溶融チル化された表面硬化
層における“波うち”及び“うねり”等の表面凹凸の形
成を抑制し、完成カムシャフトとする機械加工工程にお
いてカム摺動部表面の研磨仕上のための研磨代を低減さ
せて、その結果として研磨仕上された後の完成カムシャ
フトのカム摺動部表面に形成される再溶融チル化された
表面硬化層深さを充分なものとし、カムシャフトのカム
摺動部表面としての品質（耐摩耗緒特性）を優れたもの
とすることにある。
このような従来の技術における問題点に鑑み、本発明に
おける従来の技術の問題点を解決するための手段は、レ
ーザビーム、ＴＩＧアーク、プラズマアーク、電子ビー
ム等の高密度エネルギを、カムシャフトのカム摺動部表
面に照射させることによって、カムシャフトのカム摺動
部表面に再溶融チル化された表面硬化層を形成させる再
溶融チルカムシャフトの製造方法であって、 レーザビーム、 ＴＩＧアーク、プラズマアーク。
おける従来の技術の問題点を解決するための手段は、レ
ーザビーム、ＴＩＧアーク、プラズマアーク、電子ビー
ム等の高密度エネルギを、カムシャフトのカム摺動部表
面に照射させることによって、カムシャフトのカム摺動
部表面に再溶融チル化された表面硬化層を形成させる再
溶融チルカムシャフトの製造方法であって、 レーザビーム、 ＴＩＧアーク、プラズマアーク。
電子ビーム等の高密度エネルギを照射して、再溶融させ
た直後におけるカムシャフトのカム摺動部表面に対して
、ローラもしくはプレート等の押圧手段により押圧する
ことを特徴とする再溶融チルカムシャフトの製造方法か
らなっている。
た直後におけるカムシャフトのカム摺動部表面に対して
、ローラもしくはプレート等の押圧手段により押圧する
ことを特徴とする再溶融チルカムシャフトの製造方法か
らなっている。
〔作用〕
以下、本発明の作用について説明する。
本発明における従来の技術の問題点を解決するための手
段を上述のような構成とすることによって、通常の再溶
融チルカムシャフトの製造方法により製造されたカムシ
ャフトのカム摺動部表面に形成される、再溶融チル化さ
れた表面硬化層における“波うち“及び“うねり”等の
表面凹凸の形成を抑制し、完成カムシャフトとする機械
加工工程においてカム摺動部表面の研磨仕上のための研
磨代を低減して、研磨仕上された後の完成カムシャフト
のカム摺動部表面に形成される再溶融チル化された表面
硬化層深さを充分なものとするためである。
段を上述のような構成とすることによって、通常の再溶
融チルカムシャフトの製造方法により製造されたカムシ
ャフトのカム摺動部表面に形成される、再溶融チル化さ
れた表面硬化層における“波うち“及び“うねり”等の
表面凹凸の形成を抑制し、完成カムシャフトとする機械
加工工程においてカム摺動部表面の研磨仕上のための研
磨代を低減して、研磨仕上された後の完成カムシャフト
のカム摺動部表面に形成される再溶融チル化された表面
硬化層深さを充分なものとするためである。
また、本発明において、ローラもしくはプレート等の押
圧手段を、セラミックス部材等の通電性がなく耐熱性に
優れた材料部材とすれば、ＴＩＧアークを用いてカムシ
ャフトのカム摺動部表面に再溶融チル化された表面硬化
層を形成させる場合において、ＴＩＧアークのための電
流が乱されることがないことから望ましい。
圧手段を、セラミックス部材等の通電性がなく耐熱性に
優れた材料部材とすれば、ＴＩＧアークを用いてカムシ
ャフトのカム摺動部表面に再溶融チル化された表面硬化
層を形成させる場合において、ＴＩＧアークのための電
流が乱されることがないことから望ましい。
なお、セラミック部材としては、ＡＩ 、０．。
ＳｉＣ，Ｓｉ ３Ｎ４．Ｓｔｏｗ、Ｚｒ０ｚ ＭｇＯ，
コージェライト（２ＭｇＯ・２Ａｌ□０．・５ Ｓ ｉ
Ｏり 、 ＬＡＳ系（’−１ｙミックス（Ｌ １２
０・ＡＩ ２０ｘ ”５ｉＯｚ系）、ＴｉＢ ２．Ｃｒ
Ｂ２、サイアロン（Ｓｉ、Ｎ、・Ａｌ ２０３の化合物
焼結体）、ムライト（３Ａｌ、Ｑ、・２ＳｉＯ７）、マ
イカ質セラミックス、Ｔｈｅ２．Ｂｅｄ。
コージェライト（２ＭｇＯ・２Ａｌ□０．・５ Ｓ ｉ
Ｏり 、 ＬＡＳ系（’−１ｙミックス（Ｌ １２
０・ＡＩ ２０ｘ ”５ｉＯｚ系）、ＴｉＢ ２．Ｃｒ
Ｂ２、サイアロン（Ｓｉ、Ｎ、・Ａｌ ２０３の化合物
焼結体）、ムライト（３Ａｌ、Ｑ、・２ＳｉＯ７）、マ
イカ質セラミックス、Ｔｈｅ２．Ｂｅｄ。
ＬａＣｒ０．、ＢＮ、ＡＩＮ、Ｂ４Ｃ，ＷＣ及びこれら
の化合物もしくは混合物等を好適に通用することができ
る。
の化合物もしくは混合物等を好適に通用することができ
る。
さらに、ローラもしくはプレート等の押圧手段となる部
材を加熱もしくは冷却して再溶融されたカムシャフトの
カム摺動部表面を押圧することにより、再溶融された部
位の冷却スピードを変化させることにより、カムシャフ
トのカム摺動部表面に形成される再溶融チル化された表
面硬化層の耐摩耗緒特性及び表面凹凸状態を自在に調整
することができることから望ましい。
材を加熱もしくは冷却して再溶融されたカムシャフトの
カム摺動部表面を押圧することにより、再溶融された部
位の冷却スピードを変化させることにより、カムシャフ
トのカム摺動部表面に形成される再溶融チル化された表
面硬化層の耐摩耗緒特性及び表面凹凸状態を自在に調整
することができることから望ましい。
以下、添付図面に基づいて本発明の詳細な説明する。
なお、以下の実施例の説明において、前記第３図〜第５
図の従来例と同一もしくは相当部分については、前記第
３図〜第５図と同一の符合を付することにより説明を省
略する。
図の従来例と同一もしくは相当部分については、前記第
３図〜第５図と同一の符合を付することにより説明を省
略する。
第１図は、本発明法の１実施例によりカムシャフトのカ
ム摺動部表面８に対して、再溶融チル化された表面硬化
層ＩＯを形成させている状況を示す図である。
ム摺動部表面８に対して、再溶融チル化された表面硬化
層ＩＯを形成させている状況を示す図である。
第１図において、カムシャフトを第１図Ｑ））の矢印に
より示す回転方向ｉにゆっくり回転させながら、高密度
エネルギの照射装置もしくはカムシャフトをカム９のプ
ロフィルに沿って上下移動方向りに上下移動させるとと
もに、第１図（ａ）の矢印に示す往復運動方向ｇに走査
させることによって、カムシャフトのカム摺動部表面８
に再溶融チル化された表面硬化層１０を形成させている
状況を示している。
より示す回転方向ｉにゆっくり回転させながら、高密度
エネルギの照射装置もしくはカムシャフトをカム９のプ
ロフィルに沿って上下移動方向りに上下移動させるとと
もに、第１図（ａ）の矢印に示す往復運動方向ｇに走査
させることによって、カムシャフトのカム摺動部表面８
に再溶融チル化された表面硬化層１０を形成させている
状況を示している。
第１図から明らかなように、この実施例においては押圧
手段としてローラ１１を用いており、このローラ１１が
ＴＩＧアークトーチ１の進行方向に対してすぐ後方部に
配置されており、ＴＩＧアークにより再溶融された直後
にローラ１１が再溶融ブール７を押圧して、カムシャフ
トのカム摺動部表面８における再溶融されて“波うち”
もしくは“うねり”等の表面凹凸となった部位を平坦化
させるのである。
手段としてローラ１１を用いており、このローラ１１が
ＴＩＧアークトーチ１の進行方向に対してすぐ後方部に
配置されており、ＴＩＧアークにより再溶融された直後
にローラ１１が再溶融ブール７を押圧して、カムシャフ
トのカム摺動部表面８における再溶融されて“波うち”
もしくは“うねり”等の表面凹凸となった部位を平坦化
させるのである。
次に、第２図は本発明法により製造された再溶融チルカ
ムシャフトのカム９の断面図を示している。
ムシャフトのカム９の断面図を示している。
第２図から明らかなように、本発明法により製造された
再溶融チルカムシャフトにおいては、カムシャフトのカ
ム摺動部表面８における再溶融された部位がローラによ
り押圧されることから、カムシャフトのカム摺動部表面
８における再溶融チル化された表面硬化層１ｏが平坦化
されて、再溶融チル化された表面硬化層１０における“
波うち”及び“うねり”等の表面凹凸の形成が著しく抑
制されており、完成カムシャフトとする機械加工工程に
おいてカム摺動部表面８の研磨仕上のための研磨化ｄを
著しく低減するため、その結果として研磨仕上された後
の完成カムシャフトのカム摺動部表面に形成される再溶
融チル化された表面硬化層深さを充分なものとすること
ができることから、完成カムシャフトのカム摺動部表面
としての品質（耐摩耗緒特性）を優れたものとすること
が′できるのである。
再溶融チルカムシャフトにおいては、カムシャフトのカ
ム摺動部表面８における再溶融された部位がローラによ
り押圧されることから、カムシャフトのカム摺動部表面
８における再溶融チル化された表面硬化層１ｏが平坦化
されて、再溶融チル化された表面硬化層１０における“
波うち”及び“うねり”等の表面凹凸の形成が著しく抑
制されており、完成カムシャフトとする機械加工工程に
おいてカム摺動部表面８の研磨仕上のための研磨化ｄを
著しく低減するため、その結果として研磨仕上された後
の完成カムシャフトのカム摺動部表面に形成される再溶
融チル化された表面硬化層深さを充分なものとすること
ができることから、完成カムシャフトのカム摺動部表面
としての品質（耐摩耗緒特性）を優れたものとすること
が′できるのである。
以上により明らかなように、本発明にかかる再溶融チル
カムシャフトの製造方法によれば、高密度エネルギを照
射することにより再溶融させた直後におけるカムシャフ
トのカム摺動部表面を平坦化させる押圧手段により押圧
することによって、通常の再溶融チルカムシャフトの製
造方法により製造されたカムシャフトのカム摺動部表面
に形成される、再溶融チル化された表面硬化層における
“波うち”及び“うねり”等の表面凹凸の形成を抑制し
、完成カムシャフトとする機械加工工程においてカム摺
動部表面の研磨仕上のための研磨化を低減して、その結
果として研磨仕上された後の完成カムシャフトのカム摺
動部表面に形成される再溶融チル化された表面硬化層深
さを充分なものとし、カムシャフトのカム摺動部表面と
しての品質（耐摩耗緒特性）を優れたものとすることが
できる利点がある。
カムシャフトの製造方法によれば、高密度エネルギを照
射することにより再溶融させた直後におけるカムシャフ
トのカム摺動部表面を平坦化させる押圧手段により押圧
することによって、通常の再溶融チルカムシャフトの製
造方法により製造されたカムシャフトのカム摺動部表面
に形成される、再溶融チル化された表面硬化層における
“波うち”及び“うねり”等の表面凹凸の形成を抑制し
、完成カムシャフトとする機械加工工程においてカム摺
動部表面の研磨仕上のための研磨化を低減して、その結
果として研磨仕上された後の完成カムシャフトのカム摺
動部表面に形成される再溶融チル化された表面硬化層深
さを充分なものとし、カムシャフトのカム摺動部表面と
しての品質（耐摩耗緒特性）を優れたものとすることが
できる利点がある。
加えて、再溶融チル化されたカム摺動部表面における研
磨化を著しく低減させることができるため、完成カムシ
ャフトとするためのカム摺動部表面の研磨仕上コストを
著しく低減させることができ、従って、再溶融チルカム
シャフトの製造コストをも著しく低減させることができ
る利点がある。
磨化を著しく低減させることができるため、完成カムシ
ャフトとするためのカム摺動部表面の研磨仕上コストを
著しく低減させることができ、従って、再溶融チルカム
シャフトの製造コストをも著しく低減させることができ
る利点がある。
【図面の簡単な説明】
第１図は、本発明法により再溶融チルカムシャフトを製
造している状況を示す図。 第２図は、本発明法によりカム摺動部表面に再溶融チル
された表面硬化層を有するカムの断面図。 第３図は、ＴＩＧアークトーチを用いてカムシャフトの
カム摺動部表面に再溶融プールを形成している状況を示
す図。 第４図は、従来法により再溶融チルカムシャフトを製造
している状況を示す図。 第５図は、従来法によりカム摺動部表面に再溶融チル化
された表面硬化層を有するカムの断面図である。 １−−−−−−Ｔ Ｉ Ｇアークトーチ。 ２−・−タングステン電極。 ３−−−−−一銅製コンタクトチップ。 ４−・−シールドガス通路。 ５−−−−−−シールドガス。 ６−−−−−一放電アーク。 ７−・・−・再溶融プール。 ８・−一−−・カム摺動部表面。 ９−−−−−一カム。 ９ａ・−・−カムノーズ部。 １０・−一−−−表面硬化層。 １１−・−・−ローラ。 ａ−・−全カム幅。 ｂ −−−−−一研磨仕上後の表面硬化層幅。 Ｃ−・−表面凹凸部幅。 ｄ−・・−研摩代。 ｅ −−−−−一研磨仕上後の表面硬化層深さ。 ｆ−・−・−全表面硬化層深さ。 ｇ −−−−−一往復運動方向。 ｈ−・・−上下移動方向。 １−−−−−一回転方向。 出願人 トヨタ自動車株式会社 第１図 第２図 第３図 第４１！Ｉ
造している状況を示す図。 第２図は、本発明法によりカム摺動部表面に再溶融チル
された表面硬化層を有するカムの断面図。 第３図は、ＴＩＧアークトーチを用いてカムシャフトの
カム摺動部表面に再溶融プールを形成している状況を示
す図。 第４図は、従来法により再溶融チルカムシャフトを製造
している状況を示す図。 第５図は、従来法によりカム摺動部表面に再溶融チル化
された表面硬化層を有するカムの断面図である。 １−−−−−−Ｔ Ｉ Ｇアークトーチ。 ２−・−タングステン電極。 ３−−−−−一銅製コンタクトチップ。 ４−・−シールドガス通路。 ５−−−−−−シールドガス。 ６−−−−−一放電アーク。 ７−・・−・再溶融プール。 ８・−一−−・カム摺動部表面。 ９−−−−−一カム。 ９ａ・−・−カムノーズ部。 １０・−一−−−表面硬化層。 １１−・−・−ローラ。 ａ−・−全カム幅。 ｂ −−−−−一研磨仕上後の表面硬化層幅。 Ｃ−・−表面凹凸部幅。 ｄ−・・−研摩代。 ｅ −−−−−一研磨仕上後の表面硬化層深さ。 ｆ−・−・−全表面硬化層深さ。 ｇ −−−−−一往復運動方向。 ｈ−・・−上下移動方向。 １−−−−−一回転方向。 出願人 トヨタ自動車株式会社 第１図 第２図 第３図 第４１！Ｉ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、レーザビーム、ＴＩＧアーク、プラズマアーク、電
子ビーム等の高密度エネルギを、カムシャフトのカム摺
動部表面に照射させることによって、カムシャフトのカ
ム摺動部表面に再溶融チル化された表面硬化層を形成さ
せる再溶融チルカムシャフトの製造方法であって、 レーザビーム、ＴＩＧアーク、プラズマアーク、電子ビ
ーム等の高密度エネルギを照射して、再溶融させた直後
におけるカムシャフトのカム摺動部表面に対して、ロー
ラもしくはプレート等の押圧手段により押圧することを
特徴とする再溶融チルカムシャフトの製造方法。 ２、ローラもしくはプレート等の押圧手段を、セラミッ
クス部材等の通電性がなく耐熱性に優れた材料部材とし
た特許請求の範囲第１項記載の再溶融チルカムシャフト
の製造方法。 ３、ローラもしくはプレート等の押圧手段となる部材を
加熱もしくは冷却して再溶融されたカムシャフトのカム
摺動部表面を押圧することにより、再溶融された部位の
冷却スピードを変化させることとした特許請求の範囲第
１項記載の再溶融チルカムシャフトの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11267385A JPS61270340A (ja) | 1985-05-24 | 1985-05-24 | 再溶融チルカムシヤフトの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11267385A JPS61270340A (ja) | 1985-05-24 | 1985-05-24 | 再溶融チルカムシヤフトの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61270340A true JPS61270340A (ja) | 1986-11-29 |
Family
ID=14592616
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11267385A Pending JPS61270340A (ja) | 1985-05-24 | 1985-05-24 | 再溶融チルカムシヤフトの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61270340A (ja) |
-
1985
- 1985-05-24 JP JP11267385A patent/JPS61270340A/ja active Pending
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