JPS6136237A - アリ−ルアセトアルデヒド類の製造方法 - Google Patents
アリ−ルアセトアルデヒド類の製造方法Info
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式
(式中、Arはアリール基でおjj、、l(1は水素原
子又は低級アルキル基である。)で表わされるアリール
アセトアルデヒド類の製造方法に関する。
子又は低級アルキル基である。)で表わされるアリール
アセトアルデヒド類の製造方法に関する。
更に詳しくは本発明は一般式
%式%()
(式中、Mは第1B族、第1IA族、第])B族又は第
■族金属、Lは配位子であり、Yはブレンステッド酸共
役塩基である。mは011.2.3又は4であL”は1
.2又は3である。)で表わされる塩又は錯塩の存在下
、一般式 (式中、Arはアリール基であり、R1は水素原子又は
低級アルキル基である。)で表わされるエチレンオキシ
ド誘導体を異性化し、前記一般式(I)で表わされるア
リールアセトアルデヒド類を製造する方法に関する。
■族金属、Lは配位子であり、Yはブレンステッド酸共
役塩基である。mは011.2.3又は4であL”は1
.2又は3である。)で表わされる塩又は錯塩の存在下
、一般式 (式中、Arはアリール基であり、R1は水素原子又は
低級アルキル基である。)で表わされるエチレンオキシ
ド誘導体を異性化し、前記一般式(I)で表わされるア
リールアセトアルデヒド類を製造する方法に関する。
アリールアセトアルデヒド、とりわけフェニルアセトア
ルデヒドは香料製造用の原料および配合用の基材として
、あるいは農薬、医薬品製造の中間原料として有用な化
合物である。
ルデヒドは香料製造用の原料および配合用の基材として
、あるいは農薬、医薬品製造の中間原料として有用な化
合物である。
従来、アリールアセトアルデヒド類を製造する方法とし
て、(1)スチレングリコールの脱水反応によるフェニ
ルアセトアルデヒドの製造方法、(2)β−フェニルエ
チルアルコールの酸化によるフェニルアセトアルデヒド
の製造方法、(3)アリールグリシド酸あるいはそのエ
ステル等の分解によるアリールアセトアルデヒドの製造
方法、が知られているが、フェニルアセトアルデヒドは
非常に活性な化合物で、酸化や脱水反応等によって変化
しやすく、上記(1)〜(3)の如き従来法は工業的実
施に適したものとはいえない。また(4)ハロゲン化ベ
ンジルを触媒の存在下に一酸化炭素と水素を用いてホル
ミル化することによジフェニルアセトアルデヒドを製造
する方法〔特公昭55−31128号、特公昭55−4
3455号、特開昭56−113727号、特開昭59
−93020号〕、(5)スチレンを触媒存在下に酸化
してフェニルアセトアルデヒドを製造する方法〔特開昭
55−35063号、特開昭57−91945号〕等が
知られているが、これらの方法は多量の触媒を用いなけ
ればならず、収率や選択性も低いものである。さらに(
4)の方法では高圧ガスを使用するため特殊な反応装置
を必要とし工業化には難点が多い。フェニルアセトアル
デヒドは工業的には専らスチレンオキシドの異性化反応
により製造されている。スチレンオキシドを異性化して
フェニルアセトアルデヒドを製造する従来法としては、
(6)熱的に異性化する方法〔特開昭50−24234
号〕、(7)硫酸又はリン酸の存在下に異性化する方法
〔東独特許79285号〕、(8)a)シリカ−アルミ
ナ触媒〔特公昭52−3913号〕、b)アルカリ土類
金属スルホン酸塩触媒〔特開昭50−10693306
933号〕白土触媒〔特公昭49−25932号〕、d
)酸型イオン交換樹脂触媒し特開昭57−18643号
〕の存在下異性化する方法等が知られている。しかしな
がら(6)及び(8)−a)〜C)の方法は200C以
上の高温での反応であシ、経済性及び生成したフェニル
アセトアルデヒドの安定性の点で、(7)の方法につい
ては使用した多量の鉱酸処理の点で問題を有するもので
ある。また(8)−d) の方法は、収率良く目的物
を得るためには高価なイオン交換樹脂を多量に使用しな
ければならない欠点を有するものであシ、いずれの方法
も工業的製法としては必ずしも満足すべきものではない
。
て、(1)スチレングリコールの脱水反応によるフェニ
ルアセトアルデヒドの製造方法、(2)β−フェニルエ
チルアルコールの酸化によるフェニルアセトアルデヒド
の製造方法、(3)アリールグリシド酸あるいはそのエ
ステル等の分解によるアリールアセトアルデヒドの製造
方法、が知られているが、フェニルアセトアルデヒドは
非常に活性な化合物で、酸化や脱水反応等によって変化
しやすく、上記(1)〜(3)の如き従来法は工業的実
施に適したものとはいえない。また(4)ハロゲン化ベ
ンジルを触媒の存在下に一酸化炭素と水素を用いてホル
ミル化することによジフェニルアセトアルデヒドを製造
する方法〔特公昭55−31128号、特公昭55−4
3455号、特開昭56−113727号、特開昭59
−93020号〕、(5)スチレンを触媒存在下に酸化
してフェニルアセトアルデヒドを製造する方法〔特開昭
55−35063号、特開昭57−91945号〕等が
知られているが、これらの方法は多量の触媒を用いなけ
ればならず、収率や選択性も低いものである。さらに(
4)の方法では高圧ガスを使用するため特殊な反応装置
を必要とし工業化には難点が多い。フェニルアセトアル
デヒドは工業的には専らスチレンオキシドの異性化反応
により製造されている。スチレンオキシドを異性化して
フェニルアセトアルデヒドを製造する従来法としては、
(6)熱的に異性化する方法〔特開昭50−24234
号〕、(7)硫酸又はリン酸の存在下に異性化する方法
〔東独特許79285号〕、(8)a)シリカ−アルミ
ナ触媒〔特公昭52−3913号〕、b)アルカリ土類
金属スルホン酸塩触媒〔特開昭50−10693306
933号〕白土触媒〔特公昭49−25932号〕、d
)酸型イオン交換樹脂触媒し特開昭57−18643号
〕の存在下異性化する方法等が知られている。しかしな
がら(6)及び(8)−a)〜C)の方法は200C以
上の高温での反応であシ、経済性及び生成したフェニル
アセトアルデヒドの安定性の点で、(7)の方法につい
ては使用した多量の鉱酸処理の点で問題を有するもので
ある。また(8)−d) の方法は、収率良く目的物
を得るためには高価なイオン交換樹脂を多量に使用しな
ければならない欠点を有するものであシ、いずれの方法
も工業的製法としては必ずしも満足すべきものではない
。
本発明者らはエチレンオキシド誘導体からアリールアセ
トアルデヒド類への異性化反応について鋭意検討した結
果、一般式■で表わされる金属錯塩および金属塩が低温
で異性化の触媒として優れた活性を示すことを見い出し
本発明を完成した。
トアルデヒド類への異性化反応について鋭意検討した結
果、一般式■で表わされる金属錯塩および金属塩が低温
で異性化の触媒として優れた活性を示すことを見い出し
本発明を完成した。
即ち、本発明は、種々の置換基を有するエチレンオキシ
ド誘導体を異性化して了り−ルアモトアルデヒド類を製
造するに当シ、触媒として、一般式■で表わされる金属
錯塩又は金属塩を用いることを特徴とするアリールアセ
トアルデヒド類の製造方法を提供するものである。
ド誘導体を異性化して了り−ルアモトアルデヒド類を製
造するに当シ、触媒として、一般式■で表わされる金属
錯塩又は金属塩を用いることを特徴とするアリールアセ
トアルデヒド類の製造方法を提供するものである。
本発明の原料である前記一般式(ト)で表わされるエチ
レンオキシド誘導体は工業的に入手容易な化合物、ある
いは工業的に容易に入手可能な原料よシ簡単に合成でき
る化合物であり、たとえはアセトフェノン類よジハロゲ
ン化、還元、ついでエポキシ化を経て容易に合成できる
化合物である。より具体的には例えば、スチレンオキシ
ド、β−ナフチルエチレンオキシドの如き無置換子り−
ルエチレンオキシド、0−メチルスチレンオキシド、m
−メチルスチレンオキシド、p−メチルスチレンオキシ
ド、m、p−ジメチルスチレンオキシド、p−エチルス
チレンオキシド、p−シクロヘキシルスチレンオキシド
、p−イソブチルスチレンオキシド、m−フルオロスチ
レンオキシド、p−フルオロスチレンオキシド、p−ク
ロロスチレンオキシド、p−ブロモスチレンオキシド、
p−メトキシスチレンオキシド、m、p−ジメトキシス
チレンオキシド、2−フェニルプロピレンオキシド、2
−フェニル−1−ブテンオキシド、2−(p−メチルフ
ェニル)プロピレンオキシド、2− (p−フルオロフ
ェニル)プロピレンオキシド、β−(6−メドキシナフ
チル)エチレンオキシドの如き置換アリールエチレンオ
キシドを挙げることができる。
レンオキシド誘導体は工業的に入手容易な化合物、ある
いは工業的に容易に入手可能な原料よシ簡単に合成でき
る化合物であり、たとえはアセトフェノン類よジハロゲ
ン化、還元、ついでエポキシ化を経て容易に合成できる
化合物である。より具体的には例えば、スチレンオキシ
ド、β−ナフチルエチレンオキシドの如き無置換子り−
ルエチレンオキシド、0−メチルスチレンオキシド、m
−メチルスチレンオキシド、p−メチルスチレンオキシ
ド、m、p−ジメチルスチレンオキシド、p−エチルス
チレンオキシド、p−シクロヘキシルスチレンオキシド
、p−イソブチルスチレンオキシド、m−フルオロスチ
レンオキシド、p−フルオロスチレンオキシド、p−ク
ロロスチレンオキシド、p−ブロモスチレンオキシド、
p−メトキシスチレンオキシド、m、p−ジメトキシス
チレンオキシド、2−フェニルプロピレンオキシド、2
−フェニル−1−ブテンオキシド、2−(p−メチルフ
ェニル)プロピレンオキシド、2− (p−フルオロフ
ェニル)プロピレンオキシド、β−(6−メドキシナフ
チル)エチレンオキシドの如き置換アリールエチレンオ
キシドを挙げることができる。
本発明は前記一般式■で表わされる金属錯塩又は金属塩
の存在下に行うことが必要である。
の存在下に行うことが必要である。
本発明の前記一般式(6)で表わされる金属錯塩および
金属塩は市販されているもの、あるいは容易に合成でき
るものであり、例えば前記一般式中のMで表わされる金
属としては銅、銀、マグネシララジウム、イリジウム、
白金等の金属を、Lで表わされる配位子としてはπ−ア
リル基、π−クロチル基、π−メタリル基、シクロペン
タジェニル基、アセチルアセトナト基、8−メトキシ−
4−シクロオクテン−1−イル基、1.5−シクロオク
タジエン、シクロオクタテトラエン、ノルボルナジェン
、ジシクロペンタジェン、ピリジン、ビピリジン、トリ
フェニルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリブチ
ルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフ
ェニルホスファイト、トリメチルホスファイト、トリエ
チルホスファイト、トリブチルホスファイト等の配位子
を、またYで表わされるブレンステッド酸共役塩基とし
ては過塩素酸塩、過ヨウ素酸塩等の過ハロゲン酸塩、ト
リフルオロメタンスルホン酸塩、フルオロスルホン酸塩
、トリフルオロメチルベンゼンスルホン酸塩等のスルホ
ン酸塩の如きオキン酸共役塩基を例示することができ、
よシ具体的には例えばアリル(1,5−シクロオクタジ
エン)パラジウムトリフルオロメタンスルホン酸塩、ア
リル(1,5−シクロオクタジエン)パラジウム過塩素
酸塩、アリル(ノルボルナジェン)パラジウムトリフル
オロメタンスルホン酸塩、アリル(ノルボルナジェン)
パラジウム過塩素酸塩、アリル(ジシクロペンタジェン
)パラジウムトリフルオロメタンスルホン酸塩、クロチ
ル(1,5−シクロオクタジエン)パラジウムトリフル
オロメタンスルホン酸塩、8−メトキシ−4−シクロオ
クテン−1−イル(1,5−シクロオクタジエン)パラ
ジウムトリフルオロメタンスルホン酸塩、アセチルアセ
トナト(1,5−シクロオクタジエン)パラジウムトリ
フルオロメタンスルホン酸塩、アセチルアセトナト(ノ
ルボルナジェン)パラジウム過塩素酸塩、アリルビス(
トリフェニルホスフィン)パラジウム過塩素酸塩、アリ
ルビス(トリフェニルホスフィン)パラジウムトリフル
オロメタンスルホン酸塩、アリルビス(トリエチルホス
フィン)パラジウム過塩素酸塩、アリルビス(トリエチ
ルホスフィン)パラジウムトリフルオロメタンスルホン
酸塩、アリルビス(トリブチルホスフィン)パラジウム
過塩素酸塩、アリルビス(トリブチルホスフィン)パラ
ジウムトリフルオロメタンスルホン酸塩、アリルビス(
トリフェニルホスファイト)パラジウム過塩素酸塩、ア
リルビス(トリフェニルホスファイト)パラジウムトリ
フルオロメタンスルホン酸塩、アリルビス(トリエチル
ホスファイトンパラジウム過塩素酸塩、アリルビス(ト
リエチルホスファイト)パラジウムトリフルオロメタン
スルホン酸塩、メタリルビス(トリフェニルホスファイ
ト)パラジウム過塩素酸塩、1,5−シクロオクタジエ
ンロジウムトリフルオロメタンスルホン酸塩、ノルボル
ナジェンロジウムトリフルオロメタンスルホン酸塩、ビ
ス(1,5−シクロオクタジエン)ロジウム過塩素酸塩
、1,5−シクロオクタジエン(ノルボルナジェン)ロ
ジウムトリフルオロメタンスルホン酸塩、(1,5−シ
クロオクタジエン)ビス(トリフェニルホスファイト)
ロジウム過塩素酸塩、(1,5−シクロオクタジエン)
ビス(トリフェニルホスファイト)ロジウムトリフルオ
ロメタンスルホン酸塩、(1,5−シクロオクタジエン
)ビス(トリメチルホスファイト)ロジウムトリフルオ
ロメタンスルホン酸塩、(1,5−シクロオクタジエン
)ビス(トリエチルホスファイト)ロジウム過塩素酸塩
、(1,5−シクロオクタジエン)ビス(トリフェニル
ホスフィン)ロジウムトリフルオロメタンスルホン酸塩
、(ノルボルナジェン)ビス(トリフェニルホスフィン
)ロジウム過31素酸塩、ビス(シクロペンタジェニル
)コバル) 過mX[t、シクロペンタジェニル(1,
5−シクロオクタジエン)ニッケルトリフルオロメタン
スルホン酸塩、過塩素酸ニッケル、ビピリジン(1,5
−シクロオクタジエン)イリジウムトリフルオロメタン
スルホンi12塩、2.5−シクロペンタジオナト (
1,5−シクロオクタジエン)白金トリフルオロメタン
スルホン酸塩、ビス(ビピリジン)白金過塩素酸塩、過
塩素酸鉄、過塩素酸銀、トリフルオロメタンスルホン酸
銀、過塩素酸マグネシウム、過塩素酸亜鉛、過塩素酸バ
リウム、過塩素酸カルシウム、過塩素酸カドミウム、過
塩素酸水銀等を挙げることができる。前記一般式(I)
で表わされる金属塩又は錯塩は、系中で塩にLで表わさ
れる配位子を加えることにより調製し使用することもで
きる。
金属塩は市販されているもの、あるいは容易に合成でき
るものであり、例えば前記一般式中のMで表わされる金
属としては銅、銀、マグネシララジウム、イリジウム、
白金等の金属を、Lで表わされる配位子としてはπ−ア
リル基、π−クロチル基、π−メタリル基、シクロペン
タジェニル基、アセチルアセトナト基、8−メトキシ−
4−シクロオクテン−1−イル基、1.5−シクロオク
タジエン、シクロオクタテトラエン、ノルボルナジェン
、ジシクロペンタジェン、ピリジン、ビピリジン、トリ
フェニルホスフィン、トリエチルホスフィン、トリブチ
ルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリフ
ェニルホスファイト、トリメチルホスファイト、トリエ
チルホスファイト、トリブチルホスファイト等の配位子
を、またYで表わされるブレンステッド酸共役塩基とし
ては過塩素酸塩、過ヨウ素酸塩等の過ハロゲン酸塩、ト
リフルオロメタンスルホン酸塩、フルオロスルホン酸塩
、トリフルオロメチルベンゼンスルホン酸塩等のスルホ
ン酸塩の如きオキン酸共役塩基を例示することができ、
よシ具体的には例えばアリル(1,5−シクロオクタジ
エン)パラジウムトリフルオロメタンスルホン酸塩、ア
リル(1,5−シクロオクタジエン)パラジウム過塩素
酸塩、アリル(ノルボルナジェン)パラジウムトリフル
オロメタンスルホン酸塩、アリル(ノルボルナジェン)
パラジウム過塩素酸塩、アリル(ジシクロペンタジェン
)パラジウムトリフルオロメタンスルホン酸塩、クロチ
ル(1,5−シクロオクタジエン)パラジウムトリフル
オロメタンスルホン酸塩、8−メトキシ−4−シクロオ
クテン−1−イル(1,5−シクロオクタジエン)パラ
ジウムトリフルオロメタンスルホン酸塩、アセチルアセ
トナト(1,5−シクロオクタジエン)パラジウムトリ
フルオロメタンスルホン酸塩、アセチルアセトナト(ノ
ルボルナジェン)パラジウム過塩素酸塩、アリルビス(
トリフェニルホスフィン)パラジウム過塩素酸塩、アリ
ルビス(トリフェニルホスフィン)パラジウムトリフル
オロメタンスルホン酸塩、アリルビス(トリエチルホス
フィン)パラジウム過塩素酸塩、アリルビス(トリエチ
ルホスフィン)パラジウムトリフルオロメタンスルホン
酸塩、アリルビス(トリブチルホスフィン)パラジウム
過塩素酸塩、アリルビス(トリブチルホスフィン)パラ
ジウムトリフルオロメタンスルホン酸塩、アリルビス(
トリフェニルホスファイト)パラジウム過塩素酸塩、ア
リルビス(トリフェニルホスファイト)パラジウムトリ
フルオロメタンスルホン酸塩、アリルビス(トリエチル
ホスファイトンパラジウム過塩素酸塩、アリルビス(ト
リエチルホスファイト)パラジウムトリフルオロメタン
スルホン酸塩、メタリルビス(トリフェニルホスファイ
ト)パラジウム過塩素酸塩、1,5−シクロオクタジエ
ンロジウムトリフルオロメタンスルホン酸塩、ノルボル
ナジェンロジウムトリフルオロメタンスルホン酸塩、ビ
ス(1,5−シクロオクタジエン)ロジウム過塩素酸塩
、1,5−シクロオクタジエン(ノルボルナジェン)ロ
ジウムトリフルオロメタンスルホン酸塩、(1,5−シ
クロオクタジエン)ビス(トリフェニルホスファイト)
ロジウム過塩素酸塩、(1,5−シクロオクタジエン)
ビス(トリフェニルホスファイト)ロジウムトリフルオ
ロメタンスルホン酸塩、(1,5−シクロオクタジエン
)ビス(トリメチルホスファイト)ロジウムトリフルオ
ロメタンスルホン酸塩、(1,5−シクロオクタジエン
)ビス(トリエチルホスファイト)ロジウム過塩素酸塩
、(1,5−シクロオクタジエン)ビス(トリフェニル
ホスフィン)ロジウムトリフルオロメタンスルホン酸塩
、(ノルボルナジェン)ビス(トリフェニルホスフィン
)ロジウム過31素酸塩、ビス(シクロペンタジェニル
)コバル) 過mX[t、シクロペンタジェニル(1,
5−シクロオクタジエン)ニッケルトリフルオロメタン
スルホン酸塩、過塩素酸ニッケル、ビピリジン(1,5
−シクロオクタジエン)イリジウムトリフルオロメタン
スルホンi12塩、2.5−シクロペンタジオナト (
1,5−シクロオクタジエン)白金トリフルオロメタン
スルホン酸塩、ビス(ビピリジン)白金過塩素酸塩、過
塩素酸鉄、過塩素酸銀、トリフルオロメタンスルホン酸
銀、過塩素酸マグネシウム、過塩素酸亜鉛、過塩素酸バ
リウム、過塩素酸カルシウム、過塩素酸カドミウム、過
塩素酸水銀等を挙げることができる。前記一般式(I)
で表わされる金属塩又は錯塩は、系中で塩にLで表わさ
れる配位子を加えることにより調製し使用することもで
きる。
尚、前記一般式(9)中のYで表わされるブレンステッ
ド酸共役塩基としては、例えば側鎖にスルホン酸塩を有
するフッ素系重合体を使用することもできる。
ド酸共役塩基としては、例えば側鎖にスルホン酸塩を有
するフッ素系重合体を使用することもできる。
本発明を行う際、前記一般式ODで表わされる金属錯塩
又は金属塩の使用量は特に限定的ではなく、原料である
前記一般式(ホ)で表わされるエチレンオキシド誘導体
に対して0.01〜10モルチの範囲で使用できるが、
経済性及び活性の観点から0.1〜1.0モルチの範囲
で使用することが好ましい。
又は金属塩の使用量は特に限定的ではなく、原料である
前記一般式(ホ)で表わされるエチレンオキシド誘導体
に対して0.01〜10モルチの範囲で使用できるが、
経済性及び活性の観点から0.1〜1.0モルチの範囲
で使用することが好ましい。
本発明を行う際に、反応は一般に溶媒中で行なわれるが
、無溶媒系もしくは気相系でも行うことができる。溶媒
中で反応を行う場合には、溶媒としてはベンゼン、トル
エン、キシレン、メシチレン等の芳香族系炭化水素、n
−ヘキサン、n−ペンタン、シクロヘキサン等の脂肪族
炭化水素、クロロホルム、塩化メチレンのようなハロゲ
ン化炭化水素、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう
なエーテル系の溶媒を使用することができる。
、無溶媒系もしくは気相系でも行うことができる。溶媒
中で反応を行う場合には、溶媒としてはベンゼン、トル
エン、キシレン、メシチレン等の芳香族系炭化水素、n
−ヘキサン、n−ペンタン、シクロヘキサン等の脂肪族
炭化水素、クロロホルム、塩化メチレンのようなハロゲ
ン化炭化水素、テトラヒドロフラン、ジオキサンのよう
なエーテル系の溶媒を使用することができる。
本反応を行なう際、反応温度はOCから200Cの範囲
を選択することによシ反応は円滑に進行するが、反応の
効率、選択性および生成物の了り−ルアモトアルデヒド
類の安定性等の問題から室温から約100Cの範囲内で
行うことが好ましい。
を選択することによシ反応は円滑に進行するが、反応の
効率、選択性および生成物の了り−ルアモトアルデヒド
類の安定性等の問題から室温から約100Cの範囲内で
行うことが好ましい。
以下実施例によシ本発明を更に詳細に説明する。
実施例1
スチレンオキシド(1,20g+ 10mmo l)
(7)へ7ゼン(25Inl)溶液に触媒としてアリル
(1,5−シクロオクタジエン)パラジウムトリフルオ
ロメタンスルホン酸塩(40■+ 0.099mmo
l)を加え、50Cで30分間攪拌した。冷却後得られ
た反応液を、ガスクロマトグラフィー及び核磁気共鳴ス
ペクトルを用い内部標準法にょシ分析した結果、スチレ
ンオキシドの転化率は100%であムフェニルアセトア
ルデヒドが収率75%で生成していることを確認した。
(7)へ7ゼン(25Inl)溶液に触媒としてアリル
(1,5−シクロオクタジエン)パラジウムトリフルオ
ロメタンスルホン酸塩(40■+ 0.099mmo
l)を加え、50Cで30分間攪拌した。冷却後得られ
た反応液を、ガスクロマトグラフィー及び核磁気共鳴ス
ペクトルを用い内部標準法にょシ分析した結果、スチレ
ンオキシドの転化率は100%であムフェニルアセトア
ルデヒドが収率75%で生成していることを確認した。
実施例2〜4
実施例1と同様にスチレンオキシドの異性化反応を行っ
た。触媒、溶媒及び反応条件等を結果と併せて表にして
示す。
た。触媒、溶媒及び反応条件等を結果と併せて表にして
示す。
実施例2
原 料 1.20 g (10mmo l )触
媒 〔(η3−C3H3)Pd (COD)l
[Tf);40 mW (0,099mmo 1 )。
媒 〔(η3−C3H3)Pd (COD)l
[Tf);40 mW (0,099mmo 1 )。
溶 媒 1,4−ジオキサン(25ml)反応温度
50C 反応時間 20分 転化率 100% 収率 50% 実施例3 原 料 1.22 g (10mmo l )触
媒 〔(η3 CaH5)Pd((PhO)3
P)2 〕(ClO0〕;86”f(0,099mmo
l)。
50C 反応時間 20分 転化率 100% 収率 50% 実施例3 原 料 1.22 g (10mmo l )触
媒 〔(η3 CaH5)Pd((PhO)3
P)2 〕(ClO0〕;86”f(0,099mmo
l)。
溶 媒 ベンゼン(25/nl)
反応温度 50C
反応時間 5分
転化率 100%
収 率 68%
実施例4
原 料 1.20 g (10mmo 1)触
媒 〔(η3−C3H3)Pd((pH0)3P
)2〕[ClO4’に 35my (0,099mmo
l)。
媒 〔(η3−C3H3)Pd((pH0)3P
)2〕[ClO4’に 35my (0,099mmo
l)。
溶 媒 ベンゼン (50d)
反応温度 50U
反応時間 10分
転化率 100チ
収 率 61%
実施例5.6
配位子としてトリフェニルホスファイトを添加した以外
は実施例1と同様にしてスチレンオキシドの異性化反応
を行った。触媒、溶媒及び反応条件等を結果と併せて表
にして示す。
は実施例1と同様にしてスチレンオキシドの異性化反応
を行った。触媒、溶媒及び反応条件等を結果と併せて表
にして示す。
実施例5
原 料 1.20 g (10mmo l )触
媒 ((v3−C3H5)Pd (COD))
(Tf:l;40#v(0,099mmo 1 )、(
Phi) 3P:3219 (0,10mmo 1 )
。
媒 ((v3−C3H5)Pd (COD))
(Tf:l;40#v(0,099mmo 1 )、(
Phi) 3P:3219 (0,10mmo 1 )
。
溶 媒 ベンゼン(25IrLl)反応温度 5
0C 反応時間 10分 転化率 100チ 実施例6 触 媒 〔(η3−03H5)Pd (COD)
)(Tf);401V (0,099mmo l)、
(PhO)3P;3219 (0,10mm0 l)。
0C 反応時間 10分 転化率 100チ 実施例6 触 媒 〔(η3−03H5)Pd (COD)
)(Tf);401V (0,099mmo l)、
(PhO)3P;3219 (0,10mm0 l)。
溶 媒 ベンゼン (40d)
反応温度 50C
反応時間 10分
転化率 100%
実施例7
触媒としてアリル(1,5−シクロオクタジエン)パラ
ジウムトリフルオロメタンスルホン酸塩(401’Q、
0.099mmo l ) (Dベンゼン(20M)溶
液を50℃に加温し、スチレンオキシド(1,20g、
10mmol)のベンゼン(5M)溶液を20分かけ
て滴下した。
ジウムトリフルオロメタンスルホン酸塩(401’Q、
0.099mmo l ) (Dベンゼン(20M)溶
液を50℃に加温し、スチレンオキシド(1,20g、
10mmol)のベンゼン(5M)溶液を20分かけ
て滴下した。
ついで50Cでさらに25分間攪拌した。冷却後得られ
た反応混合物をガスクロマトグラフィー及び核磁気共鳴
スペクトルを用い内部標準法により分析した結果スチレ
ンオキシドの転化率は100チでアシ、フェニルアセト
アルデヒドが67%の収率で生成していることがわかっ
た。
た反応混合物をガスクロマトグラフィー及び核磁気共鳴
スペクトルを用い内部標準法により分析した結果スチレ
ンオキシドの転化率は100チでアシ、フェニルアセト
アルデヒドが67%の収率で生成していることがわかっ
た。
実施例8
スチレンオキシド(602〜5.9 mm o l )
のベンゼン(25R1)溶液に触媒としてビス(1,5
−シクロオクタジエン)ロジウムトリフルオロメタンス
ルホン酸塩(22Q、 0.047mmo l )を
加え40Cで10分間攪拌した。冷却後得られた反応混
合物をガスクロマトグラフィー及び核磁気共鳴スペクト
ルを用い内部標準法により分析したところ、スチレンオ
キシドの転化率は100%であシ、フェニルアセトアル
デヒドの収率は70%であった。
のベンゼン(25R1)溶液に触媒としてビス(1,5
−シクロオクタジエン)ロジウムトリフルオロメタンス
ルホン酸塩(22Q、 0.047mmo l )を
加え40Cで10分間攪拌した。冷却後得られた反応混
合物をガスクロマトグラフィー及び核磁気共鳴スペクト
ルを用い内部標準法により分析したところ、スチレンオ
キシドの転化率は100%であシ、フェニルアセトアル
デヒドの収率は70%であった。
実施例9.10
ロジウム糸の触媒を使用し、実施例1と同様にスチレン
オキシドの異性化反応を行った。触媒、溶媒及び反応条
件等を結果と併せて表にして示す。
オキシドの異性化反応を行った。触媒、溶媒及び反応条
件等を結果と併せて表にして示す。
実施例9
原 料 633# (5,27mmo l )触
媒 [Rh (COD)((Phi)SP)2
)(Tf];23ay (0,023mmo l )。
媒 [Rh (COD)((Phi)SP)2
)(Tf];23ay (0,023mmo l )。
溶 媒 ベンゼン(25rnl)
反応温度 40C
反応時間 10分
転化率 100%
収 率 43%
実施例10
原 料 713’f (5,93mmo l)触
媒 (Rh (COD)2)(Tf);21”
%’(0,045mmo l )、 (Phi) 3P
: 29’r (0,093mmo l )。
媒 (Rh (COD)2)(Tf);21”
%’(0,045mmo l )、 (Phi) 3P
: 29’r (0,093mmo l )。
溶 媒 ベンゼン (25rJ)
反応温度 38C
反応時間 10分
転化率 48%
実施例11
スチレンオキシド(1,20g、 10mmol)のベ
ンゼン(40I/Ll)溶液に触媒として過塩素酸マグ
ネシウム(112m?、 0.50mmo l )及び
トリフェニルホスファイト (37m?、 0.12
mmo l)を加え、50Cで10分間攪拌した。実施
例1と同様に反応溶液の分析を行ったところ、スチレン
オキシドの転化率は100%、フヱニルアセトアルデヒ
ドの収率は63%であった。
ンゼン(40I/Ll)溶液に触媒として過塩素酸マグ
ネシウム(112m?、 0.50mmo l )及び
トリフェニルホスファイト (37m?、 0.12
mmo l)を加え、50Cで10分間攪拌した。実施
例1と同様に反応溶液の分析を行ったところ、スチレン
オキシドの転化率は100%、フヱニルアセトアルデヒ
ドの収率は63%であった。
実施例12
p−フルオロスチレンオキシド(691q5.Qmmo
l)のベンゼン(25d)溶液に触媒としてビス(1,
5−シクロオクタジエン)ロジウムトリフルオロメタン
スルホン酸塩(28■、 Q、Q 5 Qmmol)
を加え、50cで10分間攪拌した。冷却後得られた反
応混合物をガスクロマトグラフィー及び核磁気共鳴スペ
クトルを用い内部標準法にょシ分析したところ、p−フ
ルオロスチレンオキシドの転化率は100%で、p−フ
ルオロフェニルアセトアルデヒドの収率は41%であっ
た。
l)のベンゼン(25d)溶液に触媒としてビス(1,
5−シクロオクタジエン)ロジウムトリフルオロメタン
スルホン酸塩(28■、 Q、Q 5 Qmmol)
を加え、50cで10分間攪拌した。冷却後得られた反
応混合物をガスクロマトグラフィー及び核磁気共鳴スペ
クトルを用い内部標準法にょシ分析したところ、p−フ
ルオロスチレンオキシドの転化率は100%で、p−フ
ルオロフェニルアセトアルデヒドの収率は41%であっ
た。
実施例13
「)
p−フルオロスチレンオキシド(0,69g、 5.Q
mmol)のベンゼン(20mAり溶液に触媒としてア
リルビス(トリフェニルホスファイト)パラジウム過塩
素酸塩(194,0,022mmol)e加え、40C
で10分間攪拌した。実施例12と同様に反応溶液の分
析を行ったところ、p−フルオロスチレンオキシドの転
化率は100%で、p−フルオロフェニルアセトアルデ
ヒドの収率は43チであった。
mmol)のベンゼン(20mAり溶液に触媒としてア
リルビス(トリフェニルホスファイト)パラジウム過塩
素酸塩(194,0,022mmol)e加え、40C
で10分間攪拌した。実施例12と同様に反応溶液の分
析を行ったところ、p−フルオロスチレンオキシドの転
化率は100%で、p−フルオロフェニルアセトアルデ
ヒドの収率は43チであった。
実施例14
p−メチルスチレンオキシド(676J 5.Qmmo
l)のベンゼン(25ml)溶液に、触媒としてアリル
ビス(トリフェニルホスファイト)パラジウム過塩素酸
塩(39”?、0.045mmo 1) fj)Elえ
50Cで5分間攪拌した。反応終了後冷却し得られた反
応混合物をガスクロマトグラフィー及び核磁気共鳴スペ
クトルを用い内部標準法により分析したところ、p−メ
チルスチレンオキシドの転化率は100%で、p−メチ
ルフェニルアセトアルデヒドの収率は31%であった。
l)のベンゼン(25ml)溶液に、触媒としてアリル
ビス(トリフェニルホスファイト)パラジウム過塩素酸
塩(39”?、0.045mmo 1) fj)Elえ
50Cで5分間攪拌した。反応終了後冷却し得られた反
応混合物をガスクロマトグラフィー及び核磁気共鳴スペ
クトルを用い内部標準法により分析したところ、p−メ
チルスチレンオキシドの転化率は100%で、p−メチ
ルフェニルアセトアルデヒドの収率は31%であった。
実施例15
p−イソブチルスチレンオキシド(874へ4.96m
mol)のベンゼン(25m)溶液に触媒としてアリル
ビス(トリフェニルホスファイト)パラジウム過塩素酸
塩(20’?、 0.023mmol)を加え50Cで
5分間攪拌した。反応終了後冷却し得られた反応混合物
を核磁気共鳴スペクトルを用い内部標準法により分析し
たところ、p−イソブチルスチレンオキシドの転化率は
100%で、!l、p−イソブチルフェニルアセトアル
デヒドの収率は41%であった。
mol)のベンゼン(25m)溶液に触媒としてアリル
ビス(トリフェニルホスファイト)パラジウム過塩素酸
塩(20’?、 0.023mmol)を加え50Cで
5分間攪拌した。反応終了後冷却し得られた反応混合物
を核磁気共鳴スペクトルを用い内部標準法により分析し
たところ、p−イソブチルスチレンオキシドの転化率は
100%で、!l、p−イソブチルフェニルアセトアル
デヒドの収率は41%であった。
実施例16
β−ナフチルエチレンオキシド(850へ’ 5.Om
mol)のベンゼン(25+J)溶液に触媒としてアリ
ルビス(トリフェニルホスファイト)パラジウム過塩素
酸塩(21m?、 0.024mmol)を加え、5
0Uで10分間攪拌した。冷却後得られた反応混合物を
核磁気共鳴スペクトルを用い内部標準法によシ分析した
ところ、β−ナフチルエチレンオキシドの転化率は10
0%であり、β−ナフチルアセトアルデヒドの収率は2
5%であった。
mol)のベンゼン(25+J)溶液に触媒としてアリ
ルビス(トリフェニルホスファイト)パラジウム過塩素
酸塩(21m?、 0.024mmol)を加え、5
0Uで10分間攪拌した。冷却後得られた反応混合物を
核磁気共鳴スペクトルを用い内部標準法によシ分析した
ところ、β−ナフチルエチレンオキシドの転化率は10
0%であり、β−ナフチルアセトアルデヒドの収率は2
5%であった。
実施例17
β−ナフチルエチレンオキシド(8521%5.Omm
ol)のベンゼン(25ゴ)溶液に触媒とじてビス(1
,5−シクロオクタジエン)ロジウムトリフルオロメタ
ンスルホン酸塩(25〜、 0.053mmol)を
加え、40Cで10分間攪拌した。冷却後得られた反応
混合物を核磁気共鳴スペクトルを用いて内部標準法によ
り分析したところ、β−ナフチルエチレンオキシドの転
化率は100%f、β−ナフチルアセトアルデヒドの収
率は26%であった。
ol)のベンゼン(25ゴ)溶液に触媒とじてビス(1
,5−シクロオクタジエン)ロジウムトリフルオロメタ
ンスルホン酸塩(25〜、 0.053mmol)を
加え、40Cで10分間攪拌した。冷却後得られた反応
混合物を核磁気共鳴スペクトルを用いて内部標準法によ
り分析したところ、β−ナフチルエチレンオキシドの転
化率は100%f、β−ナフチルアセトアルデヒドの収
率は26%であった。
実施例18
β−ナフチルエチレンオキシド(851mg、 5.O
mmol)のベンゼン(251d)溶液に触媒として(
1,5−シクロオクタジエン)ビス(トリフェニルホス
ファイト)ロジウムトリフルオロメタンスルホン酸塩(
23IIv、0.023mmol) を加えたところ
発熱的に反応し、得られた反応混合物を核磁気共鳴スペ
クトルを用い内部標準によシ分析したところ、β−ナフ
チルエチレンオキシドの転化率は100%であり、β−
ナフチルアセトアルデヒドの収率は27%であった。
mmol)のベンゼン(251d)溶液に触媒として(
1,5−シクロオクタジエン)ビス(トリフェニルホス
ファイト)ロジウムトリフルオロメタンスルホン酸塩(
23IIv、0.023mmol) を加えたところ
発熱的に反応し、得られた反応混合物を核磁気共鳴スペ
クトルを用い内部標準によシ分析したところ、β−ナフ
チルエチレンオキシドの転化率は100%であり、β−
ナフチルアセトアルデヒドの収率は27%であった。
実施例19
2−フェニルプロピレンオキシ)” (0,67g、
5.Ommol)のベンゼン(12,5mg )溶液に
触媒としてアリルビス(トリフェニルホスファイト)パ
ラジウム過塩素酸塩(43m?、0.05mmol)を
加え、50t?で15分間攪拌した。実施例1と同様に
反不溶液を分析したところ、2−フェニルプロピレンオ
キシドの転化率は100%で、2−フェニルプロピオン
アルデヒドの収率は43チであった。
5.Ommol)のベンゼン(12,5mg )溶液に
触媒としてアリルビス(トリフェニルホスファイト)パ
ラジウム過塩素酸塩(43m?、0.05mmol)を
加え、50t?で15分間攪拌した。実施例1と同様に
反不溶液を分析したところ、2−フェニルプロピレンオ
キシドの転化率は100%で、2−フェニルプロピオン
アルデヒドの収率は43チであった。
実施例20
2−フェニルプロピレンオキシド(0,67g 。
5、Ommol)のベンゼン(25mAり溶液に、触媒
として過塩素酸マグネシウム(65m9.0.29mm
oり及びト!J 7! 二)Lt*スフ フィト(42
mp 、 0.14mmo l)を加え、40℃で20
分間攪拌した。実施例1と同様に反応溶液を分析したと
ころ、2−フェニルプロピレンオキシドの転化率は10
0%で、2−フェニルプロピオンアルデヒドの収率は6
7チであった。
として過塩素酸マグネシウム(65m9.0.29mm
oり及びト!J 7! 二)Lt*スフ フィト(42
mp 、 0.14mmo l)を加え、40℃で20
分間攪拌した。実施例1と同様に反応溶液を分析したと
ころ、2−フェニルプロピレンオキシドの転化率は10
0%で、2−フェニルプロピオンアルデヒドの収率は6
7チであった。
実施例における表中触媒の略記は下記の通シである。
η−C3H5:η−アリル基
COD :1,5−シクロオタジエンTf
: トリフルオロメタンスルホン酸塩(
CF3SO3) Ph :フェニル基 ’Bu :インブチル基 異性化によって得られたアリ−ルア4)アルデヒド類の
核磁気共鳴スペクトルを下記の表に示す。
: トリフルオロメタンスルホン酸塩(
CF3SO3) Ph :フェニル基 ’Bu :インブチル基 異性化によって得られたアリ−ルア4)アルデヒド類の
核磁気共鳴スペクトルを下記の表に示す。
核磁気共鳴スペクトル
手 続 補 正 @(自発)
昭和60年6月18日
Claims (1)
- (1)一般式 〔MLm〕^n^+〔Y〕^−_n で表わされる塩又は錯塩の存在下、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるエチレンオキシド誘導体を異性化すること
からなる、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされるアリールアセトアルデヒド類の製造方法(
式中、Mは第IB族、第IIA族、第IIB族又は第VIII族
金属、Lは配位子であり、Yはブレンステッド酸共役塩
基である。Arはアリール基であり、R^1は水素原子
又は低級アルキル基である。)。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15759484A JPS6136237A (ja) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | アリ−ルアセトアルデヒド類の製造方法 |
| AT85101842T ATE78722T1 (de) | 1984-02-24 | 1985-02-20 | Methode zum isomerisieren eines glycidats. |
| DE8585101842T DE3586403T2 (de) | 1984-02-24 | 1985-02-20 | Methode zum isomerisieren eines glycidats. |
| EP85101842A EP0153692B1 (en) | 1984-02-24 | 1985-02-20 | Method for isomerization a glycidate derivative |
| US06/703,617 US4621150A (en) | 1984-02-24 | 1985-02-21 | Catalyst and method for isomerization |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15759484A JPS6136237A (ja) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | アリ−ルアセトアルデヒド類の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6136237A true JPS6136237A (ja) | 1986-02-20 |
Family
ID=15653122
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15759484A Pending JPS6136237A (ja) | 1984-02-24 | 1984-07-30 | アリ−ルアセトアルデヒド類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6136237A (ja) |
-
1984
- 1984-07-30 JP JP15759484A patent/JPS6136237A/ja active Pending
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