JPS6136983A - 半導体磁気センサ装置 - Google Patents
半導体磁気センサ装置Info
- Publication number
- JPS6136983A JPS6136983A JP15964984A JP15964984A JPS6136983A JP S6136983 A JPS6136983 A JP S6136983A JP 15964984 A JP15964984 A JP 15964984A JP 15964984 A JP15964984 A JP 15964984A JP S6136983 A JPS6136983 A JP S6136983A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic field
- ferrite
- electrodes
- semiconductor
- present
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N50/00—Galvanomagnetic devices
- H10N50/80—Constructional details
Landscapes
- Hall/Mr Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、磁気感度を高めることができる半導体磁気セ
ンサ装置に関するものである。
ンサ装置に関するものである。
従来例の構成とその問題点
近年、半導体磁気センサは、VTR,オーディオ、フロ
ッピィディスク、モーターの回転制御や磁気ヘッド等に
用いられる。それらはGaAs 、 In5b。
ッピィディスク、モーターの回転制御や磁気ヘッド等に
用いられる。それらはGaAs 、 In5b。
Si等を出発材料としているホール素子、磁気抵抗素子
、ホールICと呼ばれている。
、ホールICと呼ばれている。
第1図は、従来のGaAs基板を出発材料とした半導体
ホール素子の一例の断面を示すものである。
ホール素子の一例の断面を示すものである。
同図において、1は半絶縁性のGaA帽基板基板はエピ
タキシャル成長と選択エツチングの方法で形成された一
般的に81不純物等のドープされたn型の活性領域であ
る。この領域2の上に、3,4゜5.6の電極を形成し
、活性領域2の上には、8102等の保護膜7でパッシ
ベートされた構造となっている。
タキシャル成長と選択エツチングの方法で形成された一
般的に81不純物等のドープされたn型の活性領域であ
る。この領域2の上に、3,4゜5.6の電極を形成し
、活性領域2の上には、8102等の保護膜7でパッシ
ベートされた構造となっている。
第2図は、上記の構造のものの平面構造図の一例を示し
ている。ここで、3及び4は入力電極、5及び6は出力
電極である。
ている。ここで、3及び4は入力電極、5及び6は出力
電極である。
以上のように構成された半導体ホール素子について以下
その動作を説明する。入力電極3,4に入力電圧を加え
ると、外部に磁場が存在した時、活性層2の部分におい
て、ホール効果が生じ出力電極5,6間にホール起電力
鞘が生ずる。この場合のvHはvH=KH・工・Bで表
わされる。ここでKHは積感度、工は入力電流、Bは外
部磁場である。しかしながら、この様なホール素子では
、Bは外部磁場そのものの値で、vHは素子自体のもつ
値しか得ることができず、外部磁場一定の下でvHを大
きくするためには、入力電流を大きくしなければならず
、消費電力の点から大きな問題となる欠点を有していた
。
その動作を説明する。入力電極3,4に入力電圧を加え
ると、外部に磁場が存在した時、活性層2の部分におい
て、ホール効果が生じ出力電極5,6間にホール起電力
鞘が生ずる。この場合のvHはvH=KH・工・Bで表
わされる。ここでKHは積感度、工は入力電流、Bは外
部磁場である。しかしながら、この様なホール素子では
、Bは外部磁場そのものの値で、vHは素子自体のもつ
値しか得ることができず、外部磁場一定の下でvHを大
きくするためには、入力電流を大きくしなければならず
、消費電力の点から大きな問題となる欠点を有していた
。
発明の目的
本発明は、上記従来の欠点に鑑み、なされたものであり
、素子自体の大きな設計変更なく素子に加わる実効的な
外部磁場を増加させることで、vHを大きくすることが
できる半導体磁気センサ装置の提供を目的とするもので
ある。
、素子自体の大きな設計変更なく素子に加わる実効的な
外部磁場を増加させることで、vHを大きくすることが
できる半導体磁気センサ装置の提供を目的とするもので
ある。
発明の構成
この目的を達成するために、本発明の半導体磁気センサ
装置は、センサとなる能動層の上に、磁気を感じる物質
(例えばフエライ) 、 Ni他の物質)を蒸着・エッ
チや塗布・エツチング等の方法で定着・形成したもので
あり、このように構成したことで、外部磁場が印加され
た際、フェライト等による磁場も加わり、ダイスに加わ
る実効的磁場は、外部磁場の値より大きくなり、高いホ
ール電圧を得ることができるものである。
装置は、センサとなる能動層の上に、磁気を感じる物質
(例えばフエライ) 、 Ni他の物質)を蒸着・エッ
チや塗布・エツチング等の方法で定着・形成したもので
あり、このように構成したことで、外部磁場が印加され
た際、フェライト等による磁場も加わり、ダイスに加わ
る実効的磁場は、外部磁場の値より大きくなり、高いホ
ール電圧を得ることができるものである。
実施例の説明
以下本発明の実施例について、図面を参照しながら説明
する。
する。
第3図は、本発明の実施例における半導体ホール素子の
場合の装置の断面図を示すものである。
場合の装置の断面図を示すものである。
第3図において11はGaAs半絶縁性基板で、12は
その上にエピタキシャル成長後選択エツチングして素子
間を分離してなるS1不純物等をドープされたn型の活
性領域である。次いで、5102膜の保護膜17を被着
し、選択エツチング方法で活性領域12とコンタクトを
とるため、保護膜17のない部分に入力電極13,14
、出力電極13゜14とするためAuGe/Au等の金
属を形成する、次いで、保護膜17上に活性領域12の
入力側と出力側の交差する部分を中心として、電極とは
接触することなく、同活性領域12の上にフェライト又
はNi等の磁場に感する物質、いわゆる感磁物質18を
蒸着・塗布・エツチング等の方法で形成する。感磁物質
18の形成力法としては、N1へ、 1、等の金属の場合は蒸着・エツチングやリフトオフ:
4:′ ;功法等があり、フェライト等の場合は、フェライトの
粉末をポリビフェニール系やアクリル系の樹脂に混入し
たりレジスト中へ混入して、フォトエツチング方法で形
成する方法がある。これでホール素子のダイスは完成し
、これを素子分離、D/B 。
その上にエピタキシャル成長後選択エツチングして素子
間を分離してなるS1不純物等をドープされたn型の活
性領域である。次いで、5102膜の保護膜17を被着
し、選択エツチング方法で活性領域12とコンタクトを
とるため、保護膜17のない部分に入力電極13,14
、出力電極13゜14とするためAuGe/Au等の金
属を形成する、次いで、保護膜17上に活性領域12の
入力側と出力側の交差する部分を中心として、電極とは
接触することなく、同活性領域12の上にフェライト又
はNi等の磁場に感する物質、いわゆる感磁物質18を
蒸着・塗布・エツチング等の方法で形成する。感磁物質
18の形成力法としては、N1へ、 1、等の金属の場合は蒸着・エツチングやリフトオフ:
4:′ ;功法等があり、フェライト等の場合は、フェライトの
粉末をポリビフェニール系やアクリル系の樹脂に混入し
たりレジスト中へ混入して、フォトエツチング方法で形
成する方法がある。これでホール素子のダイスは完成し
、これを素子分離、D/B 。
W/B、封止することでホール素子は完成する。
従来の方法で製作したホール素子と本発明のN1を蒸着
し製作したホール素子の場合の磁気特性の比較を行々っ
た結果を示す。
し製作したホール素子の場合の磁気特性の比較を行々っ
た結果を示す。
第6図は磁気感度を示すホール電圧の比較である。図よ
り本発明のNiを活性領域上に形成した場合は、従来の
何もし力い場合に比べてホール電圧は20%以上もの高
率で改善されたことがわかる。
り本発明のNiを活性領域上に形成した場合は、従来の
何もし力い場合に比べてホール電圧は20%以上もの高
率で改善されたことがわかる。
第6図はN1 を用いた場合と用いない従来のホール素
子のオフセット電圧(WHO)を比較したものである。
子のオフセット電圧(WHO)を比較したものである。
同図よりN1 を活性領域上に形成することで、ホール
電圧が向上したにもかかわらず、オフセット電圧は増加
しておらず、本発明による他の特性の悪化はみられず、
良好な特性であることがわかる。
電圧が向上したにもかかわらず、オフセット電圧は増加
しておらず、本発明による他の特性の悪化はみられず、
良好な特性であることがわかる。
発明の効果
本発明によれば、磁界を集束するための物質をセンサと
なる能動部の上部に形成して、磁気感度を高めることが
でき、簡単で高効率の磁気センナが実現可能である。G
aAsのホール素子のみならず、他の半導体磁気センサ
の磁気感度アップの手段に適用できることは、もちろん
のことである。
なる能動部の上部に形成して、磁気感度を高めることが
でき、簡単で高効率の磁気センナが実現可能である。G
aAsのホール素子のみならず、他の半導体磁気センサ
の磁気感度アップの手段に適用できることは、もちろん
のことである。
第1図は従来のGaAs基板のエビ基板を使ったホール
素子としての代表的なものの断面構造図、第2図は第1
図の平面図、第3図は本発明の実施例のホール素子の断
面構造図、第4図は第3図の平面図、第5図は本発明の
実施前後のホール素子の磁気感度の相対比較図、第6図
は本発明実施例のオフセット電圧(WHO)を従来例と
比較した特性図である。 1.11・・・・・・半導体基板、2,12・・・・活
性領域、3,4,5,6,13,14,15.16・・
・・・電極、3,17・・・・・・保護膜、18・・・
・・・感磁物質。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第3図 第4図 3 ’i 区
素子としての代表的なものの断面構造図、第2図は第1
図の平面図、第3図は本発明の実施例のホール素子の断
面構造図、第4図は第3図の平面図、第5図は本発明の
実施前後のホール素子の磁気感度の相対比較図、第6図
は本発明実施例のオフセット電圧(WHO)を従来例と
比較した特性図である。 1.11・・・・・・半導体基板、2,12・・・・活
性領域、3,4,5,6,13,14,15.16・・
・・・電極、3,17・・・・・・保護膜、18・・・
・・・感磁物質。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名第1
図 第3図 第4図 3 ’i 区
Claims (1)
- 半導体を主材とした磁気センサ能動層の上部に磁界を
集束するための物質を設けたことを特徴とする半導体磁
気センサ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15964984A JPS6136983A (ja) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | 半導体磁気センサ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15964984A JPS6136983A (ja) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | 半導体磁気センサ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6136983A true JPS6136983A (ja) | 1986-02-21 |
Family
ID=15698322
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15964984A Pending JPS6136983A (ja) | 1984-07-30 | 1984-07-30 | 半導体磁気センサ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6136983A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008227529A (ja) * | 1996-05-06 | 2008-09-25 | Seagate Technology Internatl | ホール効果装置及びその動作方法 |
| CN103280524A (zh) * | 2013-05-24 | 2013-09-04 | 李赞军 | 一种GaAs霍尔器件的制作方法 |
-
1984
- 1984-07-30 JP JP15964984A patent/JPS6136983A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008227529A (ja) * | 1996-05-06 | 2008-09-25 | Seagate Technology Internatl | ホール効果装置及びその動作方法 |
| CN103280524A (zh) * | 2013-05-24 | 2013-09-04 | 李赞军 | 一种GaAs霍尔器件的制作方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH07107905B2 (ja) | 半導体素子の製造方法 | |
| JPS5948970A (ja) | 磁電変換素子 | |
| JPS6136983A (ja) | 半導体磁気センサ装置 | |
| JP3332417B2 (ja) | ホール素子及びその製造方法 | |
| JPS61153537A (ja) | 半導体圧力センサ | |
| CN112670404A (zh) | 霍尔元件及霍尔元件的制备方法 | |
| JPS59129483A (ja) | ホ−ル素子 | |
| JP3264962B2 (ja) | 磁電変換素子の製造方法 | |
| JPS61154086A (ja) | 半導体温度センサ | |
| JPH0870146A (ja) | 磁気センサ | |
| JPH02222549A (ja) | 半導体装置の構造 | |
| JPH0311897Y2 (ja) | ||
| JPS60154582A (ja) | ホ−ル素子 | |
| JPS63152128A (ja) | コンタクトホ−ルの形成方法 | |
| JPH01226182A (ja) | 電子波干渉素子 | |
| JPS5935480A (ja) | 半導体装置 | |
| JP2606414B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
| JPH04296056A (ja) | 電界効果トランジスタ | |
| JPH027444A (ja) | 電界効果トランジスタの製造方法 | |
| JPS61110479A (ja) | 超電導トランジスタの構造 | |
| JPS60225480A (ja) | 半導体感圧素子 | |
| JPS6320884A (ja) | ホ−ル効果装置 | |
| JPH08204250A (ja) | 半導体装置 | |
| JPS5850434B2 (ja) | 電界効果トランジスタの製造方法 | |
| JPS6327074A (ja) | ホール素子の製造方法 |