JPS62123044A - 光学ガラスフアイバ用被覆材 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光伝送用の光学ガラスファイバ用被覆材に関す
る。

〔従来の技術〕

一般に光伝送用媒体として使用される光学ガラスファイ
バは材質的には非常に脆く、傷つき易く、かつ汚染によ
って光伝送損失が大きくなる。

このため従来、光ファイバのガラス母材からの紡糸直後
に光ファイバの表面を樹脂で被覆することが行われてい
る。このため熱硬化性のエポキシ樹脂やウレタン樹脂が
用いられてきてたが、これらは硬化時間が長く、ガラス
ファイバとの密着性が不足し、柔軟性特に低温下での柔
軟性に欠除しているためにマイクロベンデングによる伝
送損失が増大し、長期の使用に於いて信頼できるもので
はなかった。

このため、今日では弾性率及びガラス転移点が低く、伝
送損失の優れているシリコン樹脂が使用されているが、
熱硬化性樹脂であるため硬化性が悪く、生産速度が遅い
こと、価格が高い等の欠点がある。近年、光ファイバの
低価格化のためにシリコン樹脂の代わりに種々の被覆材
が提案されている。

［発明が解決しようとする問題点〕 特開昭５８−２２３６３８号公報に提案されているウレ
タンアクリレートから得られる紫外線硬化型の被覆材は
、シリコン樹脂を用いて得られる被覆材に較べて室温及
び低温における引張り弾性率が高く、これら従来の材料
で被覆された光ファイバは外圧によるマイクロベンデン
グ等の伝送損失が高くなる欠点がある。

このため、光ファイバの被覆構造は（ａ）タイト構造素
線では一次被覆と緩衝層の二層構造をとるか、（ｂ）ル
ーズ構造素線では一次被覆と中空の二層構造がとられて
いる。

本発明は、引張り弾性率が１．０以下で屈折率が１．５
０以上であり、従来は一次被覆と緩衝層の二層構造の被
覆が必要であった構造を一層被覆でも果たせる被覆材を
提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は、下記成分： （Ａ）　　エーテル結合を有し、かつアクリロイル基ま
たはメタクリロイル基を有す る数平均分子ｆｉｔ　３００〜１０，０００の重合体、
（Ｂ）　　エーテル結合、エステル結合およびジエン結
合よりなる群から選ばれた結 合を有し、かつケイ皮酸基を有する数 平均分子量３００〜ａ、ｏｏｏの重合体、（Ｃ）　アク
リロイル基またはメタクリロイル基を有する化合物、お
よび （Ｄ）　　光重合開始剤を含有することを特徴とする光
学ガラスファイバ用被覆材 料である。

次に本発明の詳細な説明する。

本発明に用いられる（Ａ）は、１分子中にアクリロイル
基またはメタクリロイル基を平均１．２〜４個含有する
数平均分子量３００〜１０，０００のエーテル系重合体
である。

（Ａ＞は、重合体の骨格として活性水素を含有するアル
キレンエーテル系重合体が用いられ、この重合体に種々
の方法でアクリロイル基またはメタクリロイル基を導入
せしめて得られる。ここで言うアルキレンエーテル系重
合体としては、水または多価アルコールにエチレンオキ
サイド、プロピレンオキサイドおよびブチレンオキサイ
ドよりなる群から選ばれた少なくとも１種を反応させて
得られる通常のポリアルキレンエーテルポリオールおよ
びテトラヒドロフランの開環重合で得られるポリテトラ
メチレンエーテルグリコール類である。

ここで多価アルコールとして、エチレングリコール、プ
ロピレングリコール、ペンタングリコール、ヘキサング
リコール、ヘキサブチレングリコール、デカメチレング
リコール、グリセリン、ジエチレングリコール、ジプロ
ピレングリコール、ジグリセリン、トリメチロールプロ
パン、ペンクエリスリトール、１．２．６ヘキサントリ
オール、ショ糖、ソルビトール、チオグリコールおよび
トリエタノールアミン等が用いられる。

アルキレンエーテル系重合体にアクリロイル基またはメ
タクリロイル基を導入する方法としては、種々の方法が
あるが、例えば（１）水Ｍ５含有液状エーテル系重合体
にアクリル酸、メタアクリル酸を反応させる。（２）水
酸基含有液状エーテル系重合体にグリシジルアクリレー
ト、グリシジルメタアクリレートなどを反応させる。（
３）水Ｍ基含有液状エーテル系重合体にイソシアナート
−ヒドロキシアルキルアクリレート、イソシアトナート
ーヒドロキシアルキルメタアクリレートなどを反応させ
る。（４）イソシアナート基含有エーテル系重合体にヒ
ドロキシアルキルアクリレート、ヒドロキシアルキルメ
タアクリレートなどを反応させる。（５）水酸基含有エ
ーテル系重合体とイソシアナートアルキルアクリレート
、イソジアドナートアルキルメタアクリレートなどを反
応させる方法により製造することができる。

（Ａ）の数平均分子量が３００以下では、光硬化で得ら
れる被覆材は固くて脆くなり、また、１０゜０００以上
では被覆材の粘度が高く、光学ガラスファイバへの塗工
が困難となる。よって好ましくは数平均分子量が５００
〜８，０００である。

また、（Ａ）のアクリロイル基またはメタクリロイル基
の基数が１．２以下では、光硬化被覆材の架橋密度が低
く、このため強靭性に欠け、一方、４．０以とでは架橋
密度が高過ぎて柔軟性に欠ける。

本発明の（Ｂ）とは、重合体の骨格をなす分子骨格中に
エーテル結合、エステル結合またはジエン結合を有し、
しかも活性水素を含有する各々の重合体にケイ皮＋９２
５を導入して得られる。ここで言う分子骨格中にエーテ
ル結合を有し、活性水素含有する重合体としては、前記
（Ａ）の合成に使用した活性水素含有のアルキレンエー
テル重合体である。

また、エステル結合を有し、活性水素を含有する重合体
としては、ポリカルボン酸と多価アルコールとの縮合物
、ヒドロキシカルボン酸と多価アルコールとの縮合物お
よびラクタンム、ランクトン重合物等である。

また、前記のポリカルボン酸として、例えばベンゼント
リカルボン酸、アジピン酸、琥珀酸、スヘリン酸、セパ
チン酸、シェラ酸、メチルアジピン酸、グルタル酸、ピ
メリン酸、アゼライン酸、フタル酸、テレフタル酸、イ
ソフタル酸、チオジプロピオン酸、マレイン酸、フマル
酸、シトラコン酸、イタコン酸、ダイマー酸または、こ
れらに類する任意なカルボン酸を使用することができる
。

多価アルコールとして、例えばエチレングリコール、プ
ロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，３
−ブタンジオール、１，５−ベンタンジオール、■、６
−ヘキサンジオール、ビス−（ヒドロキシメチルクロル
ヘキサンジエチレングリコール、ジプロピレングリコー
ル、１．３．６−ヘキサンドリオール、トリノ千ロール
プロパン、ペンクエリスリトール、ソルビトール、グリ
セリンまたは、これらに類する任意な多価アルコールを
使用することができる。

ランクトン重合物とは、ε−カプロラクトン、δ−バレ
ロラクトン、ρ−エナントラクトン等のラクトンをグリ
コール等を開始剤として開環重合で得られる。

ジエン結合を有し、活性水素を含有する重合体としては
、炭素数４〜１４のジエン重合体、その共重合体、さろ
にば、これらのジエンモノマーと炭素数２〜２４のα−
オレフィン性付加重合性モノマーとの共重合体である。

具体的にはブタジェンホモポリマー、イソブチレンホモ
ポリマー、り１１０プレンホモポリマー、ブタジェン−
スチレンコポリマー、ブタジェン−イソプレンコポリマ
ー、ブタジェン・アクリロニトリルコポリマー、ブタジ
ェン−２−エチルへキシルアクリレ−１−コポリマー、
ブタジェン−ｎ−オクタデシルアクリレートコポリマー
などを例示することができる。

（Ｂ）を製造するには、公知の各種の方法で製造するこ
とができ、例えば（１）分子骨格中にエーテル結合、エ
ステル結合またはジエン結合を有する活性水素含有重合
体にケイ皮酸またはゲイ皮酸クロライドを反応させる。

（２）分子骨格にエーテル結合、エステル結合またはジ
エン粘合を有する活性水素含有重合体にイソンアナート
・ヒドロキシアルキルシンナマー１〜などを反応させる
。

（３）分子骨格にエーテル結合、エステル結合またはジ
エン結合を有する活性水素含有重合体にグリシジルシン
ナマートなどを反応させる。（４）分子骨格にエーテル
結合、エステル結合またはジエン結合を有するエポキシ
基含有重合体にケイ皮酸などを反応させる。（５）分子
骨格にエーテル結合、エステル結合またはジエン結合を
有すると活性水素含有重合体とイソシアナート化合物の
予重合体に２−ヒドロキシエチルシンナマートなどを反
応させる方法によって得ることができる。

（Ｂ）の数平均分子量が３００以下では、光硬化で得ら
れる被覆材の引張り弾性率が１．０以上と高く好ましく
ない。一方、数平均分子量が８，０００以上では、硬化
後の被覆材料の表面に粘着性が残り以後の作業に支障を
きたす。

本発明の（Ｃ）は、単官能性化合物としては、アクリロ
イル化合物またはメタクリロイル化合物があり、例えば
、フェノキシ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル
酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ブチル、（
メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸の２−
ブトキシェタノールあるいは２−エトキシエタノールの
エステル、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレー
ト、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メ
タ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレー
ト、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ
）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ヘキ
シルジグリコール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキ
シエチル（メタ）アクリレート、シクロへキシルアクリ
レート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ポリ
エチレングリコールモノ　（メタ）アクリレート類、ポ
リプロピレングリコールモノアクリレート類、２−ヒド
ロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリシジル（メ
タ）アクリレートが有り、これらの単官能性化合物は単
独または二種以上を混合して用いられる。

また、（Ｃ）としてはアクリロイル基又はメタクリロイ
ル基を複数個有する多官能性化合物があり、例えば１．
４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１．６−
ヘキサンシオールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリ
スリトールトリ　（メタ）アクリレート、トリメチロー
ルプロパントリ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグ
リコールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコール
ジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メ
タ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）
アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アク
リレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコール
ジ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。

また、必要に応じて（Ｃ）と他のビニル基、アリル基等
の不飽和結合を有する単量体を一部混合して用いること
も可能である。

以上の（Ａ）、（Ｂ）、および（Ｃ）は、配合比率が（
Ａ＞１００重量部、（Ｂ）５〜１８０重量（Ｃ）３〜３
００重量部の範囲内で用いられる。

（Ｂ）成分が５重量部未満では、硬化した被覆材の引張
り弾性率が高（不適当である。また、１８０重量部以上
では、硬化した被覆材は粘着性を帯び二次被覆等の以後
の作業に多大な支障をきたす。

（Ｃ）の使用量が３重量部以下の場合被覆材の粘度が高
く、均一に光学ガラスファイバに塗工することができな
い。一方、３００重量部以上では光硬化した被覆材が強
靭性に欠ける。

本発明の被覆形成材は、−Ｃ的には無溶型として取り扱
われるが、通常２５℃で５００〜６，５００センチポイ
ズであり、低すぎても、また高すぎても塗工作業性が悪
く好ましくない。

本発明に用いられる（Ｄ）の光重合開始剤とは、特に限
定するものではないが、例えば次のような化合物が挙げ
られる。ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンゾイン
、ベンゾインイソブチエーテル、ベンゾインメチルエー
テル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロ
ピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、酢酸ベ
ンゾイン、２−クロルヘンシフエノン、４−メトキシヘ
ンシフエノン、４．４′−ビスジメチルアミノベンゾフ
ェノン、４．４′−ジメチルベンゾフェノン、ベンジル
ジメチルケタール、２−クロロチオキサントン、４−ブ
ロムヘンシフエノン、２．４−ジメチルチオキサントン
、２，２′−ジイソプロピルチオキサントン、１−ヒド
ロキシシクロへキシルフェニルケトン、２．２’、４．
４’−テトラクロルベンゾフェノン、２−クロル−４′
−メチルベンゾフェノン、３−メチルベンゾフェノン、
４−ｔ−ブロムヘンシフエノン、ベンジル酸、ジアセチ
ル、２．２−ジェトキシアセトフェノン、９．１０−フ
ェナントレンキノン、２−メチルアントラキノン、２−
エチルアントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン
、ジフェニルジスルフイノド、ジチオカーバメート、ｐ
−二トロジフェニル、ｐ−ニトロアニリン、２，４−ジ
ニトロアニリン、ｐ−ニトロアセトアニリド、ビクラミ
ド１−メトキシー４ニトロナフタレン、２−クロロ−４
−ニトロアニリンアンスラキノン、１．２−ベンズアン
スラキノ、３メチル−１−ジアザ−１，９−ベンズアン
スロン、１．９−ベンズアンスロン、ｐ　’−ｐ　’−
テトラメチルジアミノヘンノフエノン１、Ｎ〜メチル−
２−ヘンジイルナフトチアプリン、５−ニトロフルオレ
ン、５−ニトロアセナフテン、ｌ、２−ベンズアントラ
キノン、１．９−ベンズアンスロン、２，４．６−トリ
フェニルビリリウム塩、Ｎ−アセチル−４−ニトロ−１
−ナフチルアミンなどである。

（Ｄ）の使用量は、（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）の総量
を１００重量部とすると、０．０１〜２０重量、好まし
くは０．１〜５重量であり、これらの光重合開始剤は単
独または２種以上併用して用いられる。

また、これらの光重合開始剤とアミン類などの少量の増
感助剤を併用することも可能である。

このようなアミン類としては、ブチルアミン、ヘキサメ
チレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレン
テトラミン、モノエタノールアミン等の第１級アミン、
ジエチルアミン、ジメチルアニリン、ジメチル−バラ−
トルイジン、ピリジン、Ｎ、Ｎ’−ジメチルシクロヘキ
シルアミン、ジェタノールアミン、トリエタノールアミ
ン等の第２級あるいは第３級アミン等がある。

また、本発明被覆材の熱的安定性を図るために公知の熱
重合防止剤などを添加することができる。

熱重合防止剤としては、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾー
ル、ハイドロキノンモノメチルエーテル、ピロガロール
、キノン、ハイドロキノン、を−ブチルカテコール、ハ
イドロキノンモノベンジルエーテル、メチルハイドロキ
ノン、アミルキノン、フェノール、ハイドロキノンモツ
プ１コビルエーテル、フェノチアジン、ニトロヘンゼン
等が挙げられる。

又、更に必要に応じ、フタル酸エステル、リン酸エステ
ル等の可塑剤やシリカ、クレー、カオリン等の無機充填
剤、’ｔＭ燃剤、チクソトロピノク付与剤、カップリン
グ剤、着色剤などの補助的成分を加えることもできる。

又、光重合助剤であると同時にウレタン結合の分子間水
素結合形成を阻害し、粘度を調整することが可能な調整
剤例えばＮ−ビニルピロリドンを加えることもできる。

これらの補助的成分の添加量は（Ａ、　）、（Ｐ））お
よび（Ｃ）の総量１００重量部に対し、０〜２００重量
部の範囲である。

本発明の被覆剤を用いて実際に光学ガラスファイバを被
覆するには、従来からの公知の方法に串して行えば良く
、一般には紡糸工程に引き続き光学ガラスファイバの表
面に本発明の被覆剤を塗布したのち、紫外線電子線等を
照射したり、更に補助的に要すれば、加熱処理を行うこ
とによって重合硬化をさせれば良い。

本発明の被覆剤は、光学ガラスファイバ用として好適で
あるが、その他に各種コーティング剤、塗料、接着剤、
インキ、電気絶縁剤などにも利用することができる。

〔作用〕

ポリエーテル系ウレタンアクリレート（メタクリレート
）単独組成物系よりこれに分子末端にケイ皮酸基を有す
る重合体を配合させた被覆剤組成物から得られた光硬化
被覆材料の引張り弾性率が著しく低く、粘着性がな（、
かつ強靭であることは、アクリロイル基（メタクリロイ
ル基）とケイ皮酸基の光硬化速度に差がある。この結果
として光硬化被覆材料は相互侵入網目構造を形成するた
めに引張り弾性率が著しく低く、この結果として、これ
を用いて得られる光学ガラスファイバ素線の伝送損失の
変化が認められないか、もしくは非常に変化小さくなる
ものと推定される。

〔実施例〕

次に、合成例、実施例および比較例を挙げて本発明を具
体的に説明するが、本発明はこれらの例のみに限定され
るものではない。なお、例中の部および％は重量部およ
び重量％である。

合成例Ａ−１ （Ａ）である重合体の合成： 撹拌機、還流冷却管および空気吹込み管を備えた反応容
器に１５２部の２．４−　トリレンジイソシアナートと
０．３部のジブチル錫ジラウレートおよび０．９部のｐ
−メトキシフェノールを仕込み、これにヒドロキシエチ
ルアクリレート１０１部を乾燥空気気流中で２時間に亘
って添加した。発熱反応で温度が上昇するが約７０℃に
なったなら、この温度に保持し、さらに１時間攪拌を続
けた。

次に、これに３００部のポリプロピレンエーテルグリコ
ール（数平均分子ｆｆ１６８８　、水酸基価１６３）を
３時間に亘って添加した。発熱反応で温度が上昇するが
約７０℃になったなら、この温度に保持し、さらに１時
間攪拌を続け、（Ａ＞である重合体（Ａ）−１を得た。

合成例Ａ−２，３，４，５，６，７及び８第１表に示さ
れる如く、合成例Ａ−１の２．４−トリレンジイソシア
ナート及びプロピレンエーテルグリコールを種々に選択
し、また他の原料の添加量を選択し、合成例Ａ−１に準
じて反応させ（Ａ＞である重合体（Ａ）−２，３，４，
５，６゜７及び８を得た。尚、第１表には、念のため合
成例Ａ−１について記載した。

合成例Ｂ−１ （Ｂ）エーテル結合を有しかつケイ皮酸を有する重合体
の合成： 攪拌機、温度計、還流冷却管を備えた反応容器に５００
部のポリプロピレンエーテルグリコール（数平均分子量
１００２、水酸基価１１２）、１００部のピリジンを仕
込み、これに１６６部のケイ皮酸クロライドを３時間に
亘って添加した。発熱反応で温度が上昇するが約６０℃
になったなら、この温度に保持し、さらに２時間攪拌を
続けた。

次に、室温まで放冷した後１０％の炭酸ソーダの水溶液
にて洗浄し、未反応のケイ皮酸クロライドを除去し、次
いで十分に水洗した。これを減圧下で脱水乾燥して（Ｂ
）であるケイ皮酸基を有する重合体を合成した。〔試料
（Ｂ）−１）合成例Ｂ−２，３及び４ 第２表に示される如く、合成例Ｂ−１のポリプロピレン
グリコールを種々に変え、また他の原料の添加量を変え
て、合成例Ｂ−１に準じて反応させ（Ｂ）であるケイ皮
酸基を有する重合体を含入 成した。〔試料Ｂ−２，３及び４〕。尚、第２ｆには、
念のため合成例Ｂ−１についても記載した。

実施例１ 合成例Ａ−１で得られた（Ａ）である重合体Ａ−１の５
００部に４００部のフェノキシエチルアクリレートおよ
び光重合助剤として１００部のＮ−ビニルピロリドンを
加えて良く攪拌混合し、これに合成例Ｂ−１で得られた
（Ｂ）である重合体Ｂ−１を１００部加えて良く攪拌混
合し、さらに光重合開始剤として３０部のベンジルジメ
チルケタールと５部のｐ−ニトロアセトアニリド（ケイ
皮酸化合物の光重合開始剤）を添加し再び良く混合溶解
した。この最終組成物を５ミクロンのフィルターを通し
た後、光学ガラスファイバ用被覆材に供した。

〔試料ｌ〕

実施例２〜８ 実施例１に準じて第３表の如く、本発明の被覆材を調整
した。尚、念のため実施例１についても第３表に記載し
た。

比較例１〜６ 比較例として実施例１に準じて第４表に記載の如く、被
覆材（試料Ｃ−１〜Ｃ−６）を調整した。

第　２　表　　　　　　（重り部） ｌ王（１）　　数千１勺タドｆ量１００２、ノ持唆ηイ
市１１２゜（２）〃６８８、　　〃１６３゜ （３）　　　〃９７６　　　　〃１１５（大日本インキ
工業（＋鴫製：ポリライト０Ｏ−Ｘ−２４０）（４）数
平均分子量２８００　、水酸基含有ｆｉＯ，８０ｍｅｑ
／ｇ、トランス１．４　：　６０％、シス１．４　：　
２０％、１．２ビニル：２０％（出光興産■：ボリｂｄ
Ｒ−４５ＨＴ）第４表　　　　憔量帥 試験例１ 以上の如くして得られた実施例１〜８、比較例１〜６の
光学ガラスファイバ用被覆祠ネ１を用いて紫外線による
硬化物シートを作製し、その引っ張り弾性率を次に示す
方法で測定した。また屈折率についても測定し、その測
定結果を第５表に示した。

く試験法〉 １）被覆材料の硬化およびシートの作製実施例１〜７、
比較例１〜６の光学ガラスファイバ用被覆材料をブリキ
試験板上にドタターブレードを用いて厚さ０．１龍に塗
布する。

次いで、８０Ｗ／ｃ＋ｎのメタルハライドランプ、ラン
プ間距離４０ｃｍの紫外線硬化装置を用い１０秒間照射
して光硬化を行った。これを水銀アマルガム法によって
ハタ離し試験用シートを作製した。

１１）弾性率の測定 ｉ）項の方法で得られた試験シートを２０℃、５０％Ｒ
１１の恒温室に２４時間放置した後、ＪＩＳＫｌ１１３
に準して弾性率の測定を行った。

第５表 〔注〕１）：各試料をアノへ（Ａｂｂｅ）の屈折計を用
いて沖１定。

試験例２ 光フアイバ母材を加熱溶融して８０１Ｉｌ／分の速度で
線引した外径１２５ノの光学ガラスファイバに実施例１
〜８の各被覆材料を用いて被覆後の外径４００１１厚に
塗工したのち８０Ｗ／ｃｍのメタルハライドランプを用
いて紫外線を照射して被覆ファイバを得た。

この得られた被覆光ファイバは被覆による伝送損失の変
化は認められなく、また−６０℃〜＋６０℃の温度範囲
における伝送損失の変化はいずれも±０．０５６Ｂ／ｋ
ｍ以下であった。

Ｃ発明の効果〕 本発明は光学ガラスファイバ用被覆材の硬化後の引張り
弾性率を著しく低下させることができ、しかも本発明の
被覆材を用いて得られる光学ガラス繊維は低温特性が良
好であり、かつ高温下での弾性率の増大がなく低温の高
温に曝されても柔軟性と可撓性を保持し、光学ガラス繊
維の側圧および熱収縮に対し、緩和能力を発揮し、マイ
クロベンデング等による光伝送損失の増加を防止するこ
とができる。又、低粘度で高速作業性、良好な硬化特性
と回答性を有している。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）下記の成分： （Ａ）エーテル結合を有し、かつアクリロイル基または
   メタクリロイル基を有する数平均分子量３００〜１０，
   ０００の重合体、 （Ｂ）エーテル結合、エステル結合およびジエン結合よ
   りなる群から選ばれた結合を有し、かつケイ皮酸基を有
   する数平均分子量３００〜８，０００の重合体、 （Ｃ）アクリロイル基またはメタクリロイル基を有する
   化合物、および （Ｄ）光重合開始剤 を含有することを特徴とする光学ガラスファイバ用被覆
   材。
2. （２）（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）および（Ｄ）成分の配合
   比率が、 （Ａ）１００重量部、 （Ｂ）５〜１８０重量部、 （Ｃ）３〜３００重量部であり、 （Ｄ）が（Ａ）、（Ｂ）および（Ｃ）の１００重量部に
   対して０．０１〜２０重量である特許請求の範囲第（１
   ）項記載の光学ガラスファイバ用被覆材。