JPS62128572A - 太陽電池 - Google Patents

太陽電池

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JPS62128572A
JPS62128572A JP60269801A JP26980185A JPS62128572A JP S62128572 A JPS62128572 A JP S62128572A JP 60269801 A JP60269801 A JP 60269801A JP 26980185 A JP26980185 A JP 26980185A JP S62128572 A JPS62128572 A JP S62128572A
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JP
Japan
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type
amorphous silicon
amorphous
silicon layer
semiconductor
Prior art date
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Pending
Application number
JP60269801A
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English (en)
Inventor
Yoshiteru Nitta
新田 佳照
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
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Publication date
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Publication of JPS62128572A publication Critical patent/JPS62128572A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10FINORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F10/00Individual photovoltaic cells, e.g. solar cells
    • H10F10/10Individual photovoltaic cells, e.g. solar cells having potential barriers
    • H10F10/17Photovoltaic cells having only PIN junction potential barriers
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/546Polycrystalline silicon PV cells
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/548Amorphous silicon PV cells

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  • Photovoltaic Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、単結晶又は多結晶系半導体(以下、結晶系半
導体という)上にアモルファス半導体のノンドープ(I
型)を積層し、さらにアモルファス又は微結晶半導体(
以下、アモルファス系半導体という。)を積層してPI
N接合を形成した太陽電池に関するものである。
(従来技術) 結晶系半導体とアモルファス半導体とを組み合わせPN
接合を施した太陽電池は第4図の断面構造図で示す様に
、P型子結晶シリコン基板21上にグロー放電分解によ
りN型アモルファスシリコン22を堆積させ、表面電橋
として酸化インジウムと酸化錫との化合物(ITO)で
ある透明電極23を、表面電極24としてアルミニウム
をそれぞれ蒸着したものが開示されている。(特開昭5
9−175170号公報参照)このように多結晶シリコ
ン基板上にアモルファスシリコンをP−N接合させた太
陽電池は、極めて筒車な製造上tU (ガラス基板上に
アモルファスシリコンを堆積させると同様の工程)で低
コストの太陽電池素子を得ること、またアモルファスシ
リコン上にPIN又はPN接合した太陽電池素子を堆積
させたタンデム構造が得られることをねらいとしている
(従来技術の欠点) しかしながら多結晶シリコンとアモルファスシリコンと
がPN接合した太陽電池素子に光が照射されると、多結
晶シリコン側にキャリアが発生し、キャリアが拡散移動
し起電力が得られる。即ち、電流特性はエネルギーハン
ドギヤツブが狭い多結晶シリコン側の寄与が大きく、比
較的高い発生電圧が得られないという問題点がある。
また、このPN接合した太陽電池素子上に他の太陽電池
素子を堆積したタンデムにするには、各太陽電池素子の
電流値を整合しなければならずP−N接合した太陽電池
素子の電流特性を相殺しなない様な、高い電力を得るセ
ル設計は極めて困難なものであった。
(本発明の目的) 本発明は上述の問題点を一挙に解決し、タンデム構造を
適用せずとも高い発生電力が得られる太陽電池を提供す
ることを目的とする。
(問題点を解決するための具体的な手段)本発明が、上
述の問題点を解決するために行った具体的な手段は、 単結晶又は多結晶の結晶系半導体と、ノンドープ(I型
)のアモルファス半導体と、アモルファス又は微結晶の
アモルファス系半導体とをPIN接合して太陽電池を構
成したことにある。
前記結晶系半ぷ体層はウェハと、該ウェハ上に熱分解ま
たは熱CVD法で形成した第2の結晶系半導体との積層
構造の太陽電池である。
(実施例) 以下本発明を図面に基づいて詳説する。
第1図は本発明の太陽電池の断面構造図である。
結晶系半導体としてP型多結晶シリコンウェハ1を用い
、該多結晶シリコンウェハ1上に■型アモルファスシリ
コン2を堆積し、さらに該■型アモルファスシリコン2
上にアモルファス系半導体としてN型アモルファスシリ
コン3を堆積させ、PIN接合した単位セル4を得る。
P型多結晶シリコンウェハ1は、金属シリコンを溶融し
、P型ドープを行い固化したインゴットを300〜50
0μmの厚さでスライスしたものである。
I型アモルファスシリコン2はP型子結晶シリコンウェ
ハl上にシラン(SiH4)又はジシラン(Siz!I
6)をグロー放電分解法で0.1〜1μm堆積する。
反応条件はウェハ1の温度を200〜300℃に保ち、
0.5〜2Torrのガス圧で13.56MHzの高周
波電圧を印加する。
さらにI型アモルファスシリコン2上にN型アモルファ
スシリコン3を■型アモルファスシリコン2同様、反応
ガスとしてシラン(SiH4)又はジシラン(Si2H
6)をグロー放電分解法で100〜200人堆積する。
N型のドーピング法としてフォスフイン(Plh)がシ
ラン(SiHn)又はジシラン(SiJb)に所定比(
0,1〜1χ)で混合し、ウェハ温度を200〜300
℃に保ち、0.5〜2Torrのガス圧で13.56M
Hzの高周波電圧を印加する。
この様な構造の単位セル4の裏面(多結晶シリコン)側
にはアルミニウム、銀などの粉末を主成分とする裏面電
極5がスクリーン印刷で、また光入射(アモルファスシ
リコン)側には酸化インジウムと酸化錫との化合物であ
る透明電極6が蒸着等の方法で夫々形成される。これに
よりN型アモルファスシリコン3側より光を照射するこ
とで起電力が発生する太陽電池となる。
次に、該太陽電池の特性について説明する。
第2図は本発明の太陽電池のバンド図を示す。
本発明の最大の特徴はI型アモルファスシリコン2を介
したことにより、発生したキャリアが狭いエネルギーバ
ンドギャップ約1.1eVOP型多結晶シリコンlで比
較的長いライフタイムを維持させ、同時に、■型アモル
ファスシリコン2の内部電界Eを利用し高い発生電圧を
得ることである。
ここで、■型アモルファスシリコン2は高い発生電圧を
得るためのものであり、0,1〜1μmといつ薄膜です
む。I型アモルファスシリコン2が極めて薄いことはP
IN接合型アモルファスシリコン太陽電池のもつN−I
接合付近に起こる光照射による特性劣化(日経エレクト
ロニクス1982.12.20P144参照)の問題を
無視できる。また、PIN接合型アモルファスシリコン
太陽電池の光照射による特性劣化は特に短絡電流J、C
と曲線因子FFに大きく影響を与えるが、本発明の様に
電流特性を多結晶シリコン1に依存させているため、こ
れも無視できるという優れた利点をも含む。
次に、I型アモルファスシリコン2とP型多結晶シリコ
ン1との界面準位について説明する。
この界面準位が存在すると太陽電池の特性を大きく低下
させてしまう。このため第3図で示す単位セル断面構造
図の様にP型多結晶シリコン1上に熱CVDなどで形成
した第2の焼結系半扉体層である多結晶シリコン11を
堆積させた後、同じ膜生成装置で真空を破らすI型アモ
ルファスシリコン2及びN型アモルファスシリコン3を
堆積して、単位セル4を得る。
この様にすればI型アモルファスシリコン2に不純物元
素が混入せず、界面準位による特性劣化を有効に防止で
きる。
尚、実施例ではP型に多結晶シリコン、N型にアモルフ
ァスシリコンを使用したが、N型に多結晶シリコン、P
型にアモルファスシリコンを用いたり、多結晶を単結晶
、アモルファス層を微結晶層に用いたりしてもかまわな
い。
(効果) 以上、上述した様に本発明は価電子制御された結晶系半
導体と、■型アモルファスシリコンと、価電子制御され
たアモルファス系半導体とがPIN接合され、発生電流
は狭いバンドギャップの結晶系半導体で得て、発生電圧
は広いバンドギャップのアモルファス系半導体、特にI
型アモルファスシリコンの内部電界で得ることにより出
力(起電力、即ち発生電流と発生電圧の積)の極めて高
い、高効率の太陽電池ができる。
即ち、セル設計による歩留、コストに難点がある単位セ
ルをタンデム構造にした太陽電池にする必要なく、常に
高い出力が得られる太陽電池である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の太陽電池の断面構造図である。 第2図は本発明の太陽電池のバンド図であり、第3図は
本発明の他の実施例の単位セルの断面図である。 第4図は従来のP−N接合した太陽電池の断面構造図で
ある。 1・・・P型多結晶シリコン

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)単結晶又は多結晶の結晶系半導体層と、ノンドー
    プ(I型)アモルファス半導体層と、アモルファス又は
    微結晶のアモルファス系半導体層とがPIN接合してな
    る太陽電池。
  2. (2)前記結晶系半導体層がウェハであり、該ウェハ上
    に熱分解又はCVDで第2の結晶系半導体層を設けたこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の太陽電池。
JP60269801A 1985-11-29 1985-11-29 太陽電池 Pending JPS62128572A (ja)

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