JPS6259683B2 - - Google Patents

Description

請求の範囲 １ 式 〔式中、R₃及びR₇は互いに無関係に炭素数１
〜４の低級アルキルであり、R₆は平均炭素数８
〜16のアルキルであり、及びHalはハロゲン原子
である〕 を有する化合物を含んでなる逆性石けん10〜90重
量部、及び式 〔式中、Ｒは平均炭素数11〜19の脂肪酸の基で
あり、R₁は−CH₂・COOM又はＭであり、Ｚは
−COOM、−CH₂・COOM又は

【式】であり、及びＭはアルカリ 金属、水素又は有機塩基の残基である〕 を有する化合物を含むか或いは式 〔式中、R₂はアルキル基、炭素数８〜18のア
ルキルアミノアシルもしくはアルキルアミノプロ
ピル基又はアシルアミノエチルもしくはアシルア
ミノプロピル基であり、これらのアシル基は平均
して炭素数が12〜18であり、及びR₄及びR₅の双
方はメチル基であるか又はR₄は水素でR₅は電子
対である〕 を有する化合物を含む両性テンサイド90〜10重量
部、及び金属イオン封鎖剤の少量を含んでなる歯
質表面用の清浄剤。 ２ 金属イオン封鎖剤がアミノカルボン酸型のも
のであり及び逆性石けん及び両性テンサイド対金
属イオン封鎖剤の量間比が100：１〜１：100であ
る請求の範囲第１項記載の清浄剤。 ３ R₃及び／又はR₇がメチルである請求の範囲
第１又は２項記載の清浄剤。 ４ アルカリ金属としてのＭがナトリウムである
請求の範囲第１〜３項のいずれかに記載の清浄
剤。 ５ アルキル基としてのR₂が平均して炭素数12
〜18を有する請求の範囲第１〜４項のいずれかに
記載の清浄剤。 ６ アルキルアミノエチル又はアルキルアミノプ
ロピル基としてのR₂が平均して炭素数10〜14、
好ましくは炭素数12を有する請求の範囲第１〜４
項のいずれかに記載の清浄剤。 ７ アシルアミノエチル又はアシルアミノプロピ
ルとしてのR₂が平均してそのアシル基に炭素数
12〜18個の炭素原子を有する請求の範囲第１〜４
項のいずれかに記載の清浄剤。 ８ 金属イオン封鎖剤がエチレンジアミン四酢酸
又はその塩である請求の範囲第１〜７項のいずれ
かに記載の清浄剤。 ９ 薬品が逆性石けん及び両性テンサイドが溶液
１当り0.1〜10ｇの量で存在する水溶液であり
及び金属イオン封鎖剤が溶液１当り0.1〜10ｇ
の量で存在する請求の範囲第１〜８項のいずれか
に記載の清浄剤。 明細書 歯、特に齲蝕を受けた歯を治療する場合には、
普通歯に孔を開け（削り）、むし歯部分の歯質を
取り除く。この時静電気引力により無定形の塗抹
層が歯質表面に付着しよう。この歯質表面に付着
した塗抹層は殆んどの種類の充填物下で生き残り
且つ生長することのできる微生物を含むかも知れ
ないし、その代謝生成物が歯髄を損傷するかも知
れない。即ちこの無定形塗抹層は、充填する前に
或いはライナー（liner）をコーテイングする前
に、除去されるべきであり、また最終段階として
歯質表面を殺バクテリア性清浄溶液で処置すべき
である。これは歯質表面の近くの空間におけるバ
クテリアの生長の危険を減じ、しかも歯質を絶縁
する材料におけるセメントが良く保持されるよう
に行なわれることが必要である。そのような溶液
は約１分間施用したとき歯髄を刺激してはならな
い。公知の無鉱物質溶液を用いての塗抹層の除去
は問題を含んでいる。即ち酸を歯質表面に１分間
施用したとき、これは歯髄を刺激しないけれど、
歯質溝（dentine channel）のオリフイスが広が
つて開き、平らな有機膜が溝間に残つてしまうか
も知れない。従つて歯質の表面は乾燥するのが非
常に困難となり、少くとも樹脂材料への適合性が
減少する。広がつた歯質溝を含む歯質表面はバク
テリアが歯質溝中へ侵入し、後にそこで感染が起
こる可能性がある。 今回、活性成分として逆性石けん及び両性テン
サイド（tenside）を少量の錯体形成剤と共に含
有する清浄剤を用いることにより、塗抹層が歯質
表面から効果的に除去できることが発見された。 本発明の歯質表面の清浄剤においては、式 〔式中、R₃及びR₇は互いに無関係に炭素数１
〜４の低級アルキル、好ましくは両者共メチルで
あり、R₆は平均炭素数８〜16のアルキルであ
り、及びHalはハロゲン、好ましくは塩素、但し
更に弗素、臭素は又は沃素である〕 を有する化合物を含んでなる逆性石けん10〜90重
量部が、式 〔式中、Ｒは平均炭素数11〜19の脂肪酸のアシ
ル基であり、R₁は−CH₂・COOM又はＭであ
り、Ｚは−COOM、−CH₂・COOM又は

【式】であり、及びＭはアルカリ 金属、水素又は有機塩基の残基である〕 の化合物、或いは式 〔式中、R₂はアルキル基、好ましくは平均し
て炭素数12〜18を有している、或いは炭素数８〜
18のアルキルアミノエチル又はアルキルアミノプ
ロピル基、或いはアシルアミノエチル又はアシル
アミノプロピル基でありこれらのアシル基の炭素
数が平均して12〜18であり、及びR₄及びR₅は双
方がメチル基であるか或いはR₄は水素で、R₅は
電子対である〕 の化合物を含んでなる両性化合物（両性テンサイ
ド）90〜10重量％と一緒になつている。少量の錯
化剤も常に存在する。この錯化剤はアミノカルボ
ン酸型の金属イオン封鎖剤であり、逆性石けん及
び両性テンサイド対錯化剤の量間比は好ましくは
100：１〜１：100である。 上記の記述から明らかなように、逆性石けんは
四級アンモニウム化合物である。それらは長い間
殺菌剤として使用されてきたし、それらは表面活
性剤で汚物を可溶化する能力を有する。 例えば、ジカルボキシレート化イミダゾリン型
の両性テンサイドは、シヤンプーに、更にクロル
ヘキシジンと一緒に脱臭剤に使用されてきた。そ
れらは錆除去剤及び金属清浄剤における両性化合
物としても使用されている。 錯体形成剤（錯化剤、金属イオン封鎖剤）は、
中でもカルシウムの如き金属の錯体を形成させる
ために分析で使用されている。 両性テンサイドは好ましくは次のテンサイド群
の中のテンサイドであつてよい： 但しＲは平均して炭素数11〜19、便宜上炭素数
13〜17、好ましくは炭素数14〜16の脂肪酸のアシ
ル基であり、R₁はCH₂・COOM又はＭであり、
Ｚは−COOM、−CH₂−COOM又は

【式】であり、及びＭはアルカリ金 属、Ｈ又は有機塩基の基、好ましくはアミンであ
り、アミンはヘテロ環式アミンもしくはトリ低級
アルキルアミンもしくはトリ低級アルカノールア
ミン、例えばトリエチルアミンもしくはトリエタ
ノールアミンであることができる。 但しR₂は平均して炭素数12〜18の脂肪酸のア
シル基であり及びｘは１〜４、好ましくは２〜３
の整数である。 但しＲは便宜上炭素数12〜18のアルキル基、好
ましくは炭素数12〜18の混合物である。 ４ R₃−NH−（CH₂）_x−NH−CH₂−COO^- 但しR₃は平均して炭素数８〜18、便宜上炭素
数10〜14、好ましくは炭素数12のアルキル基であ
り、及びｘは１〜４、好ましくは２〜３の値の整
数である。 これらの異なるテンサイド群２〜４は、まとめ
て 〔式中、R₂は便宜上炭素数12〜18のアルキル
基、好ましくは炭素数12〜18の混合基、又は炭素
数８〜18、便宜上炭素数10〜14、好ましくは炭素
数12のアルキルアミノエチルもしくはアルキルア
ミノプロピル基（更に炭素数８〜18の混合基も可
能である）、又はアシルアミノエチルもしくはア
シルアミノプロピル基であり、これらのアシル基
は平均して炭素数12〜18、好ましくは炭素数12〜
18の混合基であり、及びR₄及びR₅は両方がメチ
ルであるか或いはR₄がＨでR₂が電子対である〕
として記述することができる。 Ｍがアルカリ金属であるとき、それは好ましく
はナトリウムであるが、リチウム又はカリウムで
あつてもよい。 逆性石けんの両性テンサイドに対する割合は厳
密でないが、非常に少量の一方の成分が相剰効果
をもたらす。即ち逆性石けん10〜90重量部を両性
テンサイド90〜10重量部と組合わせることが可能
である。しかしながら、その割合は便宜上１：１
であり、例えば逆性石けん30〜70重量部及び両性
テンサイド70〜30重量部、好ましくは逆性石けん
40〜60重量部及び両性テンサイド60〜40重量部で
ある。 普通試剤は水溶液からなる。この場合溶液１
当り少くとも0.1ｇ、便宜上少くとも１ｇの量で
これらの２種の活性成分が使用される。上限はな
いが、溶液１につき高々50ｇが便宜的であり、
高々10ｇが好適である。更に便宜的には両性テン
サイドの等電点まで溶液を緩衝させる。これは普
通中性範囲、即ち6.5〜7.5内にある。弗素化合物
例えば弗化ナトリウム、弗化カリウム及びモノフ
ルオル燐酸ナトリウムを添加することも適当であ
る。弗素を含有する化合物の量は、溶液１当り
100ｇまで、好ましくは最高50ｇまで、即ち20〜
35ｇであつてよい。 錯体形成剤（金属イオン封鎖剤）は、例えばア
ミノカルボン酸型例えばジエチレントリアミンペ
ンタ酢酸、ニトリロ酢酸のものであり；エチレン
ジアミノ四酢酸は中でも適当である。これらの酸
の塩、例えばナトリウム又はカリウム塩も使用す
ることができる。これらの錯体形成剤は、好まし
くは溶液１当り少くとも0.1ｇ、例えば0.5〜５
ｇ、即ち３ｇの量で使用される。この使用量の上
限は厳密でないが、試剤が歯に作用している期間
に依存する。試験では溶液１当り15ｇまでの量
が、好ましくは１〜２ｇの量が成功裏に用いられ
る。 今回、削つた歯質表面に静電気引力によつて良
く付着する切削残屑は、この錯体形成剤含有の場
合に容易に除去されることが発見された。この切
削残屑は表面活性剤を用いて予じめ除去される
が、ダイヤモンドでの切削の場合切削残屑は表面
活性剤溶液でさえ全く満足できる結果を与えない
ほど強く付着するであろう。 エチレンジアミン四酢酸を用いて切削残屑を除
去することは公知であるが、この歯質表面の処置
はそれが歯質溝のオリフイスを開け且つ周囲の歯
質を除去するという点で負の効果をもち、歯質表
面が濡れ易くなり且つ乾燥しにくくなり、及び処
置の結果セメントや充填剤の保持を悪化させるか
も知れない有機基質の平らな薄い膜が残る。 本歯質清浄剤は錯体形成剤を含有するので、こ
れは負の効果が起こららないような濃度で使用す
ることができ、歯質の表面はダイヤモンドでの切
削の場合にも満足できるように清浄される。この
錯体形成剤は本溶液の殺バクテリヤ性に対して相
乗効果を有することも発見された。 通常の試剤例えば他の合成洗剤、発泡剤、風味
剤なども本発明の清浄剤に添加することができ
る。 歯質表面用の本清浄剤の成分は上述の通りであ
つて多分単独で使用されるが、歯及び口腔用の薬
品に組合せて使用されない。組合せて使用する
と、該成分は歯のエナメル表面にだけ作用して、
歯の歯質と接触しない。スエーデン国特許第
7113041−３号は両性テンサイド、独国特許明細
書第1014289号及びスエーデン国特許明細書第
7508867−４号は錯体形成剤、及びオーストラリ
ヤ国特許明細書第335068号は歯及び口腔用薬品に
おける逆性石けん、を教示している。 本発明で使用するのに適当な逆性石けんはアル
キルジメチルベンジルアンモニウムクロライドで
ある。そのLD₅₀（試験動物の50％が死に至る投
与量）は1173mg／ラツトの体重Kgに相当する。ま
た10％及び５％に希釈した試料0.1mlをそれぞれ
ウサギの目の結膜のうに一度に適用して粘膜に対
する許容性を試験した。これらの高濃度において
は、赤色化という形で炎症現象が見られた。 両性テンサイドはイオン的に均衡しており、そ
の等電点はPH約7.0にある。カチオン性及びアニ
オン性基は同等の強さを持ち、従つて両性テンサ
イドは例えそれがアルカリ性範囲内でよりアニオ
ン的に及び酸性範囲内でよりカチオン的に反応す
るとしてもすべてのアニオン性、カチオン性及び
非イオン性テンサイドとすべての割合で混和しう
る。結果として、アニオン性及びカチオン性基の
両方は本両性テンサイドにおいて弱く、その効果
は化合物が不溶性塩を形成しにくくなるというこ
とである。完全なナトリウム塩はPH８〜９で生成
し、完全な酸塩はPH５〜６で生成する。 本両性テンサイドは無毒性である。腹腔内注射
での最小到死投与量は、平均4.0ｇ／Kgである。
試験動物50％に対する単純な到死投与量は平均10
〜15ｇ／Kgである。更に特にヤシ油、ラウリル及
びカプリル酸誘導体は他の物質例えばアルコー
ル、乳化剤などに対する明白な解毒作用及び軽減
作用を有する。更にこれらの両性テンサイドは微
生物学的な分解も受ける。 本殺微生物剤において、逆性石けん及び両性化
合物は共働作用を示す。群２）に含まれる化合物
は、例えばTEGO−ベタインL₇、即ち式 の脂肪酸アミドプロピルジメチルアミノ酢酸ベタ
インである。 結果としてこの化合物は、酸アミド基、四級ア
ンモニウム基及びカルボン酸基を含有する。 群３）に含まれる化合物の例は式 の化合物である。 これらの化合物における炭化水素基は、しばし
ば炭素数12〜14又は10〜18の基の混合物である。 詳４）に含まれる化合物の例はTEGO51、即ち
R₃が実質的にラウリル（ドデシル）基であるも
の、即ち式 ドデシル−NH−CH₂CH₂−NH−CH₂COOH の化合物である。 次の実施例は本発明を更に詳細に例示する。 実施例 １ Amphoterie−２¹⁾38％ 0.3ｇ ベンズアルコニウムクロライド 0.10ｇ EDTA−ジNa−塩 0.20ｇ 緩衝液PH7.3 1.00ｇ 蒸留水 100mlにするのに十分な量 実施例 ２ Amphoterie−２¹⁾38％ 0.30ｇ ベンズアルコニウムクロライド 0.10ｇ EDTA−ジNa−塩 0.20ｇ 弗化ナトリウム 1.00ｇ 緩衝液PH7.3 1.00ｇ 蒸留水 100mlにするのに十分な量 実施例 ３ ドデシル−ジ−（アミノエチル）−グリシン
1.00ｇ ベンズアルコニウムクロライド 0.10ｇ ニトリロトリ酢酸−ジNa−塩 0.20ｇ 弗化ナトリウム 3.00ｇ 緩衝液PH7.3 1.00ｇ 蒸留水 100mlにするのに十分な量 実施例 ４ 脂肪酸アミドプロピル−ジメチルアミノ−酢酸
ベタイン²⁾ 0.80ｇ ベンズアルコニウムクロライド 0.20ｇ DTPA−ジNa−塩 0.20ｇ 緩衝液PH7.3 1.00ｇ 蒸留水 100mlにするのに十分な量 １ ２−“ココイル”−１−（ナトリウムカルボキ
シメチル）−１−２−（カルボキシメトキシ）エ
チル−イミダゾリニウムヒドロキシド ２ ３ ジエチレンジアミノペンタ酢酸−ジNa−塩 比較のために、抜去すべき歯を、高速200000〜
300000rpm下にダイヤモンド・ポイントを用いる
ことによつて削つた。準備は歯質の平らな1.5〜
２mm²の区域が露出するまで水を噴霧しながら行な
つた。この準備後、切削表面がだ液で汚れるよう
にさせた。次いでその表面にアンプル量の水を噴
霧し、圧縮空気で５秒間乾燥し、次いで実験的な
清浄を行なつた。清浄溶液は、最初浸した木綿球
を用いて５秒間表面をこすることにより施用し
た。次いで溶液を60秒間切削表面と接触させたま
まにしておき、続いて再び５秒間こすりつけた。
最初に空気ジエツトで５秒間乾燥した後、歯を抜
去した。抜去した歯を直ぐに10％の中性緩衝ホル
マリン溶液中に入れた。通常の抜法を用いること
により、削つた表面を走査型電子顕微鏡で検査し
た。その写真を熟練者が検査し、評価した。評価
０は歯質表面が解剖学的な細部例えば歯細管口も
見らずに塗抹層で完全に被覆されている歯質表面
を表わし、一方評価３は細管口が開き且つ僅かに
切削残屑がそこに残つており及び塗抹層の徴候の
ない管間域を含む表面を表わす。 比較に際しては、公知の溶液（Tubulicid Blue
Label）及び実施例１による溶液を使用した。
結果を図面に示す。第１図は公知の溶液で得られ
る結果を示し、第２図は実施例１の溶液で得られ
る結果を示す。公知の溶液は、クロルヘキシジン
−ジグルコネート、0.1ｇ；ドデシルジアミノエ
チルグリシン（９％溶液）、1.0ｇ；蒸留水、全量
が100ｇとなる量、を含有した。 第１図の清浄度は評価１と見積られる；薄い無
定形塗抹層が表面を被覆していた。僅かなエレベ
ーシヨンにより細管口の沈着物が観察された。倍
率は1100倍であつた。 第２図に示す表面は評価３であつた。細管口は
はつきり見えた。倍率は1100倍。 即ち本発明による清浄溶液は、切削中に生ずる
塗抹層の殆んどを、多すぎるほどの細管口を開け
ずに或いは管周の歯質を除去せずに、取り除く能
力を有している。 従つて好適な溶液である実施例１の清浄剤は、
歯質表面の損傷を引き起こさずに塗抹層の殆んど
を除去するという予期を越えた挙動を示すことが
わかつた。