JPS6263058A - 磁気デイスク基板加工装置 - Google Patents
磁気デイスク基板加工装置Info
- Publication number
- JPS6263058A JPS6263058A JP20236285A JP20236285A JPS6263058A JP S6263058 A JPS6263058 A JP S6263058A JP 20236285 A JP20236285 A JP 20236285A JP 20236285 A JP20236285 A JP 20236285A JP S6263058 A JPS6263058 A JP S6263058A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic disk
- disk substrate
- rubber rollers
- substrate
- outer peripheral
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気ディスク、特に高密度磁気ディスク（例え
ば、メッキまたはスパッタ法による薄膜媒体磁気ディス
ク）を加工する場合に用いられ潤滑性がすぐれ、かつエ
ラーの少ない磁気ディスク基板加工装置に関する。
ば、メッキまたはスパッタ法による薄膜媒体磁気ディス
ク）を加工する場合に用いられ潤滑性がすぐれ、かつエ
ラーの少ない磁気ディスク基板加工装置に関する。
一般に、磁性薄膜を用いる磁気ディスク媒体は装置の起
動・停止時に生ずる磁気ヘッドとの接触走行に耐えるた
めの耐ヘッドクラツシユ性を具える必要がある。このた
め、磁気ディスク基板面上に形成された磁性薄膜の上に
Ｓ、Ｏ□膜を保護膜として設けたり、潤滑性能を向上さ
せるために保護膜表面に液体または固体の潤滑剤を塗布
することなどがなされてきた。
動・停止時に生ずる磁気ヘッドとの接触走行に耐えるた
めの耐ヘッドクラツシユ性を具える必要がある。このた
め、磁気ディスク基板面上に形成された磁性薄膜の上に
Ｓ、Ｏ□膜を保護膜として設けたり、潤滑性能を向上さ
せるために保護膜表面に液体または固体の潤滑剤を塗布
することなどがなされてきた。
この磁気ディスク基板としては、記録媒体の種類に対応
してアルミニウム合金面またはアルミニウム合金面上に
形成された金属メッキ面、あるいはアルミニウム合金面
上に形成された陽極酸化面を所要精度に加工したものが
使用されている。この場合、無水硅酸の超微粒子（粒径
０．１μｍ）をコロイド溶液としたコロイダルシリカ研
磨液と研磨クロスを用いて鏡面仕上する方法（特願昭５
４−３０２５２＞によってアルミニウム合金上に形成さ
れたＮ、−Ｐメッキ面を加工すると、基板面の１紋細凹
凸は非常に小さく（約５０Ａ）に化上げあれる。しかし
、このように仕りげられた磁気ディスク基板面に形成さ
れた磁性薄膜の上に８１０２膜を保護膜として設け、さ
らに液体の潤滑剤を塗布して磁気ディスク３製咋した時
、磁気へ・ソドが磁気ディスク面上に静止すると、潤滑
剤および空気中の水分などが磁気ディスクと磁気へ・・
ｊドとの間に薄く広がり、表面張力により両者が強く吸
着し、磁気ディスクの回転起動が不可能となる問題があ
った。
してアルミニウム合金面またはアルミニウム合金面上に
形成された金属メッキ面、あるいはアルミニウム合金面
上に形成された陽極酸化面を所要精度に加工したものが
使用されている。この場合、無水硅酸の超微粒子（粒径
０．１μｍ）をコロイド溶液としたコロイダルシリカ研
磨液と研磨クロスを用いて鏡面仕上する方法（特願昭５
４−３０２５２＞によってアルミニウム合金上に形成さ
れたＮ、−Ｐメッキ面を加工すると、基板面の１紋細凹
凸は非常に小さく（約５０Ａ）に化上げあれる。しかし
、このように仕りげられた磁気ディスク基板面に形成さ
れた磁性薄膜の上に８１０２膜を保護膜として設け、さ
らに液体の潤滑剤を塗布して磁気ディスク３製咋した時
、磁気へ・ソドが磁気ディスク面上に静止すると、潤滑
剤および空気中の水分などが磁気ディスクと磁気へ・・
ｊドとの間に薄く広がり、表面張力により両者が強く吸
着し、磁気ディスクの回転起動が不可能となる問題があ
った。
そこで本発明者らによって、磁気ディスク面への磁気ヘ
ッドの吸着をなくすことができる磁気ディスク基板の加
工方法が提案された（特願昭５９−１５０５８２＞。す
なわち、回転する磁気ディスク基板面と弾性体（渦なし
）に保持されラッピングフィルムとを加圧接触させ、該
磁気ディスク展板面に（故細な凹凸を形成することを特
徴とする磁気ディスク基板の加工方法である。この方法
により、同心円状の深さ１５０Ａｃｒ）ｉ紋綱な凹凸を
磁気ディスク基板面に形成した場き、磁気ヘッドの吸着
は解決された。しかし、この方法でも、第２図に示すよ
うに、磁気ディスク基板の板面２１に同心円状の深いス
クラッチ２２が局部的に生ずることがあり、これがエラ
ーの原因となることがわかった。その深いスクラッチ２
２を顕微鏡により観測した結果、このスクラッチ２２の
先端部に加工屑２３が付着していることが解った。
ッドの吸着をなくすことができる磁気ディスク基板の加
工方法が提案された（特願昭５９−１５０５８２＞。す
なわち、回転する磁気ディスク基板面と弾性体（渦なし
）に保持されラッピングフィルムとを加圧接触させ、該
磁気ディスク展板面に（故細な凹凸を形成することを特
徴とする磁気ディスク基板の加工方法である。この方法
により、同心円状の深さ１５０Ａｃｒ）ｉ紋綱な凹凸を
磁気ディスク基板面に形成した場き、磁気ヘッドの吸着
は解決された。しかし、この方法でも、第２図に示すよ
うに、磁気ディスク基板の板面２１に同心円状の深いス
クラッチ２２が局部的に生ずることがあり、これがエラ
ーの原因となることがわかった。その深いスクラッチ２
２を顕微鏡により観測した結果、このスクラッチ２２の
先端部に加工屑２３が付着していることが解った。
このように従来の加工技術では、弾性体（溝なし）に保
持されたラッピングフィルムを磁気ディスク基板面と加
圧接触させた時に、磁気ディスク基板がラッピングフィ
ルム面の砥粒により微小切削された加工屑を生じている
。この加工屑の大部分は回転する磁気ディスク基板の遠
心力により排出されるが、磁気ディスク基板面に強く付
着した加工屑は排出されず残ってしまう。この磁気ディ
スクの回転により再びラッピングフィルムと加工屑が付
着している磁気ディスク基板面部分とが加圧接触する時
、加工屑の固まりが大きな砥粒として作用し、前記の深
いスクラッチが生じていることが原因として考えられる
。
持されたラッピングフィルムを磁気ディスク基板面と加
圧接触させた時に、磁気ディスク基板がラッピングフィ
ルム面の砥粒により微小切削された加工屑を生じている
。この加工屑の大部分は回転する磁気ディスク基板の遠
心力により排出されるが、磁気ディスク基板面に強く付
着した加工屑は排出されず残ってしまう。この磁気ディ
スクの回転により再びラッピングフィルムと加工屑が付
着している磁気ディスク基板面部分とが加圧接触する時
、加工屑の固まりが大きな砥粒として作用し、前記の深
いスクラッチが生じていることが原因として考えられる
。
本発明の目的は、このような問題点を解決し、ディスク
板面の深いスクラッチをなくし、エラー分大幅に少くし
た磁気ディスク基板加工装置を提供することにある。
板面の深いスクラッチをなくし、エラー分大幅に少くし
た磁気ディスク基板加工装置を提供することにある。
本発明の構成は、回転する磁気ディスク基板面と弾性体
に保持されたラッピングフィルムとを加圧接触させて前
記磁気ディスク基板面に微細な凹凸を形成する磁気ディ
スク基板加工装置において、前記ラッピングフィルムを
保持する弾性体面に訂記磁気ディスク基板の円周方向と
交差する講を設けたことを特徴とする。
に保持されたラッピングフィルムとを加圧接触させて前
記磁気ディスク基板面に微細な凹凸を形成する磁気ディ
スク基板加工装置において、前記ラッピングフィルムを
保持する弾性体面に訂記磁気ディスク基板の円周方向と
交差する講を設けたことを特徴とする。
本発明の構成のように、う・ソピングフイルムを保持す
る弾性体面に磁気ディスク基板の円周方向と交差する洛
を設けであると、磁気ディスク基板を回転させてラッピ
ングフィルムを、回転する磁気ディスク面に加圧接触し
た場合、ラッピングフィルムを磁気ディスク半径方向に
移動させることにより、その溝を磁気ディスク加工面と
クロスさせることができる。
る弾性体面に磁気ディスク基板の円周方向と交差する洛
を設けであると、磁気ディスク基板を回転させてラッピ
ングフィルムを、回転する磁気ディスク面に加圧接触し
た場合、ラッピングフィルムを磁気ディスク半径方向に
移動させることにより、その溝を磁気ディスク加工面と
クロスさせることができる。
ラッピングフィルムを保持する弾性体面に溝がない部分
と磁気ディスク基板面とが加圧接触している時には、ラ
ッピングフィルム面の砥粒により微小切削が起こり、＠
細な凹凸を形成するとともに加工屑を生ずる。これに対
し、磁気ディスク基板が回転してラッピングフィルムを
保持する弾性体面に溝がある部分と接触している時には
、その溝部でラッピングフィルムと磁気ディスク基板面
との接触圧力が低下し、微小切削が起こらないので、新
たに加工屑を生じず、溝がない部分との加圧接触で生じ
た加工屑と接触して加工屑の固まりを除去することがで
きる。従って、加工屑の固まりが大きな砥粒となって磁
気ディスク基板面に同心円状の深いスクラッチが生じる
というような問題点を解決できる。
と磁気ディスク基板面とが加圧接触している時には、ラ
ッピングフィルム面の砥粒により微小切削が起こり、＠
細な凹凸を形成するとともに加工屑を生ずる。これに対
し、磁気ディスク基板が回転してラッピングフィルムを
保持する弾性体面に溝がある部分と接触している時には
、その溝部でラッピングフィルムと磁気ディスク基板面
との接触圧力が低下し、微小切削が起こらないので、新
たに加工屑を生じず、溝がない部分との加圧接触で生じ
た加工屑と接触して加工屑の固まりを除去することがで
きる。従って、加工屑の固まりが大きな砥粒となって磁
気ディスク基板面に同心円状の深いスクラッチが生じる
というような問題点を解決できる。
以下、本発明について図面により詳細に説明する。
第１図は本発明の一実施例の側面図である。本実施例に
おいて、磁気ディスク基板１１はアルミニウム合金板に
Ｎ、−Ｐメッキを施したものであり、あらかじめ研削と
ボリシングを行ない基板面を平坦でかつ表面の微細の凹
凸を小さく （５０Ａ）加工した基板と用いている９こ
の磁気ディスク基板１１を、回転軸１２に収り付け、モ
ータ１０によりこの磁気ディスク基板１１を高速回転（
回転数２００ Ｏｒｐｍ）させる。ローラ軸１３ａ、１
３ｂには弾性体としてゴムローラ（ヤング率Ｅ＝５×ｉ
０４ｇ／ｍｍ２）１４ａ、１４ｂが取りつけられ、こ
れらゴムローラ１４ａ、１４ｂは円筒状でその外周面に
幅２ａｖ＋（ビ・ソチ４＋＊ｍ）、深さ２ ｎｍの溝１
５ａ、１５ｂ （実際は見えないのでＦｔｉ、線で示し
た）をローラ軸１３ａ、１３ｂの軸心に平行に形成した
ものを用いた。
おいて、磁気ディスク基板１１はアルミニウム合金板に
Ｎ、−Ｐメッキを施したものであり、あらかじめ研削と
ボリシングを行ない基板面を平坦でかつ表面の微細の凹
凸を小さく （５０Ａ）加工した基板と用いている９こ
の磁気ディスク基板１１を、回転軸１２に収り付け、モ
ータ１０によりこの磁気ディスク基板１１を高速回転（
回転数２００ Ｏｒｐｍ）させる。ローラ軸１３ａ、１
３ｂには弾性体としてゴムローラ（ヤング率Ｅ＝５×ｉ
０４ｇ／ｍｍ２）１４ａ、１４ｂが取りつけられ、こ
れらゴムローラ１４ａ、１４ｂは円筒状でその外周面に
幅２ａｖ＋（ビ・ソチ４＋＊ｍ）、深さ２ ｎｍの溝１
５ａ、１５ｂ （実際は見えないのでＦｔｉ、線で示し
た）をローラ軸１３ａ、１３ｂの軸心に平行に形成した
ものを用いた。
このような１１５ａ、１５ｂを有するゴムローラ１４ａ
、１４１）の外周面にダイヤモンドフィルム（ダイヤモ
ンド砥粒Ｌｔｃｍ）１６ａ、１６１）を接着した。
、１４１）の外周面にダイヤモンドフィルム（ダイヤモ
ンド砥粒Ｌｔｃｍ）１６ａ、１６１）を接着した。
このゴムローラ１４ａ、１４ｂをモータ１７ａ。
１７ｂによって低速回転（ｌｒｐｍ）させながら、エア
シンダ１８ａ、１８ｂを用いてゴムローラ１４ａ、１４
ｂの外周面上に接着したラッピングフィルムと磁気ディ
スク面とを加圧接触（圧力５ｇ／ｃｍ２）させると、ラ
ッピングフィルＪ、１６ａ、１６ｂ面上のダイヤモンド
砥粒の微小切削作用により、磁気ディスク基板１１の表
面に同心円状の微細な凹凸が形成される。本実施例にお
いては、深さ１５０Ａの同心円状の微細な凹凸が磁気デ
ィスク基板１１に形成された。
シンダ１８ａ、１８ｂを用いてゴムローラ１４ａ、１４
ｂの外周面上に接着したラッピングフィルムと磁気ディ
スク面とを加圧接触（圧力５ｇ／ｃｍ２）させると、ラ
ッピングフィルＪ、１６ａ、１６ｂ面上のダイヤモンド
砥粒の微小切削作用により、磁気ディスク基板１１の表
面に同心円状の微細な凹凸が形成される。本実施例にお
いては、深さ１５０Ａの同心円状の微細な凹凸が磁気デ
ィスク基板１１に形成された。
本発明の加工装置によれば、加工した磁気ディスク基板
面には従来あったような同心円状の深いスクラッチが無
くなり、エラーを大幅（１１５〜１／１０）に低減する
ことができた。
面には従来あったような同心円状の深いスクラッチが無
くなり、エラーを大幅（１１５〜１／１０）に低減する
ことができた。
なお、本実施例においては、ダイヤモンド砥粒のラッピ
ングフィルムを用いたが、酸化アルミニウム砥粒、炭化
ケイ素砥粒のラッピングフィルムを用いても良い。また
、弾性体としてゴムローラを用いたが、ポリウレタン、
ナイロン等のローラを用いても良い。
ングフィルムを用いたが、酸化アルミニウム砥粒、炭化
ケイ素砥粒のラッピングフィルムを用いても良い。また
、弾性体としてゴムローラを用いたが、ポリウレタン、
ナイロン等のローラを用いても良い。
第１図は本発明の一実施例を説明する側面図、第２図は
従来技術の問題点を説明する平面図である６図において
、 １０．１７ａ、 １７ｂ−・・モータ、１１−・・磁気
ディスク基板、１２・・・回転軸、１３ａ、１３ｂ・・
・ローラ軸、１４ ａ、 １４１）−・ゴムローラ、
１５ａ。 １５ｂ・・・溝、１６ａ、１６ｂ・・・ラッピングフィ
ルム、１８ａ、１８ｂ・・・エアシリンダ、２１・・・
板面、２２・・・スクラッチ、２３・・・加工屑である
。 豪 １ 回
従来技術の問題点を説明する平面図である６図において
、 １０．１７ａ、 １７ｂ−・・モータ、１１−・・磁気
ディスク基板、１２・・・回転軸、１３ａ、１３ｂ・・
・ローラ軸、１４ ａ、 １４１）−・ゴムローラ、
１５ａ。 １５ｂ・・・溝、１６ａ、１６ｂ・・・ラッピングフィ
ルム、１８ａ、１８ｂ・・・エアシリンダ、２１・・・
板面、２２・・・スクラッチ、２３・・・加工屑である
。 豪 １ 回
Claims (1)
- 回転する磁気ディスク基板面と弾性体に保持されたラッ
ピィングフィルムとを加圧接触させて前記磁気ディスク
基板面に微細な凹凸を形成する磁気ディスク基板加工装
置において、前記ラッピングフィルムを保持する弾性体
面に前記磁気ディスク基板の円周方向と交差する溝を設
けたことを特徴とする磁気ディスク基板加工装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20236285A JPS6263058A (ja) | 1985-09-11 | 1985-09-11 | 磁気デイスク基板加工装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20236285A JPS6263058A (ja) | 1985-09-11 | 1985-09-11 | 磁気デイスク基板加工装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6263058A true JPS6263058A (ja) | 1987-03-19 |
Family
ID=16456247
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20236285A Pending JPS6263058A (ja) | 1985-09-11 | 1985-09-11 | 磁気デイスク基板加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6263058A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6455739A (en) * | 1987-08-27 | 1989-03-02 | Tdk Corp | Method and device for magnetic disk substrate processing |
| JPH05114133A (ja) * | 1991-10-21 | 1993-05-07 | Fujitsu Ltd | 磁気デイスクの製造方法および製造装置 |
-
1985
- 1985-09-11 JP JP20236285A patent/JPS6263058A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6455739A (en) * | 1987-08-27 | 1989-03-02 | Tdk Corp | Method and device for magnetic disk substrate processing |
| JPH05114133A (ja) * | 1991-10-21 | 1993-05-07 | Fujitsu Ltd | 磁気デイスクの製造方法および製造装置 |
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