JPS63143926A - 脱臭方法 - Google Patents
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- JPS63143926A JPS63143926A JP61291165A JP29116586A JPS63143926A JP S63143926 A JPS63143926 A JP S63143926A JP 61291165 A JP61291165 A JP 61291165A JP 29116586 A JP29116586 A JP 29116586A JP S63143926 A JPS63143926 A JP S63143926A
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Landscapes
- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、高性能の水溶液霧化装置と、該装置から発生
する脱臭能力を有する水溶液微粒カーテンを用いて該水
溶液微粒カーテンを含臭気体が通過する過程で臭いの成
分を吸収することによってあらゆる領域の脱臭を計るこ
とを特徴とする脱臭方法に関するものである。
する脱臭能力を有する水溶液微粒カーテンを用いて該水
溶液微粒カーテンを含臭気体が通過する過程で臭いの成
分を吸収することによってあらゆる領域の脱臭を計るこ
とを特徴とする脱臭方法に関するものである。
例えば起泡剤、酸化剤おj6びmM塩を含有する水を高
温の鉱滓表面に散布することを特徴きし熱分解によって
生じたガスの助力により発生した気泡を以て鉱滓表面を
被覆する鉱滓の悪臭除去法が知られている。(特公昭5
4−12838号公報参照) 〔発明が解決しようとする問題点〕 前記鉱滓の悪臭除去法においては、悪臭の除去領域が鉱
滓のみに限定され他の領域へのミルは難しい。更に脱臭
効率が低(多大の:JL備費を必要とするという問題が
ある。
温の鉱滓表面に散布することを特徴きし熱分解によって
生じたガスの助力により発生した気泡を以て鉱滓表面を
被覆する鉱滓の悪臭除去法が知られている。(特公昭5
4−12838号公報参照) 〔発明が解決しようとする問題点〕 前記鉱滓の悪臭除去法においては、悪臭の除去領域が鉱
滓のみに限定され他の領域へのミルは難しい。更に脱臭
効率が低(多大の:JL備費を必要とするという問題が
ある。
本発明は、上記問題点を解決するためになされたもので
あって、第1図に基づいて説明する。
あって、第1図に基づいて説明する。
エアフィルター(1)とオイルフィルター■と電磁弁(
3)とからなる圧搾空気ライン(4)と減圧弁(6)と
パルプ(7)を有する水溶液ライン(8)の両ライ、・
を114aする噴霧ノズル(9)の先端を対向して設け
た水溶液ラインδで水溶液微粒カーテン01を形成し、
該水溶液微粒カーテン00を含臭気体ODが通過する過
程で臭いの成分を吸収することを特徴とする特許法を提
供するものである。
3)とからなる圧搾空気ライン(4)と減圧弁(6)と
パルプ(7)を有する水溶液ライン(8)の両ライ、・
を114aする噴霧ノズル(9)の先端を対向して設け
た水溶液ラインδで水溶液微粒カーテン01を形成し、
該水溶液微粒カーテン00を含臭気体ODが通過する過
程で臭いの成分を吸収することを特徴とする特許法を提
供するものである。
本発明で用いる水溶液霧化装置の能力としては高性能で
ザウタ平均粒径は20μ程度より小さい方が好ましいが
、必ずしも限定するものではない。
ザウタ平均粒径は20μ程度より小さい方が好ましいが
、必ずしも限定するものではない。
又、本発明で用いる水溶液とはサイクロデキストリンを
含有したものをいい、その含有量については対象の臭い
源によって任αに選定すればよい。
含有したものをいい、その含有量については対象の臭い
源によって任αに選定すればよい。
更に本発明でいうサイクロデキストリンとは、α−サイ
クロデキストリン、β−サイクロデキストリン、γ−サ
イクロデキストリン、マルトシルデキストリン等を含有
したもので、粉、粒、顆粒、固形物、液体等をいう。
クロデキストリン、β−サイクロデキストリン、γ−サ
イクロデキストリン、マルトシルデキストリン等を含有
したもので、粉、粒、顆粒、固形物、液体等をいう。
本発明でいう臭気とは、分子径20λ以下の臭を構成す
る分子を含有する気体をいう。
る分子を含有する気体をいう。
具体的な臭気としては、鉱滓臭、電気炉から回収した廃
ガス臭、シェルモールド鋳物工Q臭、魚臭、焼肉臭、工
場廃棄物臭、ゴミ臭、人糞臭、温泉臭、缶詰工場臭、燻
製食品臭1、下水臭、樹脂臭、精油臭、石炭の煙臭、g
理場衰、トイレット臭、ロ動車俳気9.養豚1m場に5
、層殺場臭、燃焼ガス臭、腐廃臭等があり、これらの臭
いの発生源の状況に応じて前記した水溶液霧化装置を適
宜配設して水溶液微粒カーテンを形成すればよい。
ガス臭、シェルモールド鋳物工Q臭、魚臭、焼肉臭、工
場廃棄物臭、ゴミ臭、人糞臭、温泉臭、缶詰工場臭、燻
製食品臭1、下水臭、樹脂臭、精油臭、石炭の煙臭、g
理場衰、トイレット臭、ロ動車俳気9.養豚1m場に5
、層殺場臭、燃焼ガス臭、腐廃臭等があり、これらの臭
いの発生源の状況に応じて前記した水溶液霧化装置を適
宜配設して水溶液微粒カーテンを形成すればよい。
本発明は、上記の溝数であるから水溶液中に含有させた
サイクロデキストリン分子の外側の親水性作用によって
完全な水溶液を作り、該水溶液を用いて高性能な水溶液
霧化装置の作用により超微細な粒子の水溶液カーテンを
形成する作用に加えて、該水溶液微粒カーテンを含臭気
体が通過する過程でサイクロデキストリフ分子の型費体
の内側の親水性作用によって臭いの成分分子を該環V体
の中に吸むさせることによって脱臭を計る作用がある。
サイクロデキストリン分子の外側の親水性作用によって
完全な水溶液を作り、該水溶液を用いて高性能な水溶液
霧化装置の作用により超微細な粒子の水溶液カーテンを
形成する作用に加えて、該水溶液微粒カーテンを含臭気
体が通過する過程でサイクロデキストリフ分子の型費体
の内側の親水性作用によって臭いの成分分子を該環V体
の中に吸むさせることによって脱臭を計る作用がある。
本発明の実施例に用いた水溶液霧化K nの能力を表−
1に示す。
1に示す。
(以下余白)
表 −1
表−1のケース1〜6とも形成した水溶液微粒カーテン
は略々中30 am−高さ3 m/ノズルであり、該ノ
ズルを5本並設した。この水溶液微粒カーテンから1m
後方に臭気源を設は前方3mの位置に1名づつ12名順
番に臭いの可否をチェックした。
は略々中30 am−高さ3 m/ノズルであり、該ノ
ズルを5本並設した。この水溶液微粒カーテンから1m
後方に臭気源を設は前方3mの位置に1名づつ12名順
番に臭いの可否をチェックした。
尚、天井および周囲はテント張りとし、臭気源の後方か
らは風速0.5m/minで含臭気体を水溶液微粒カー
テン中を通過させた。
らは風速0.5m/minで含臭気体を水溶液微粒カー
テン中を通過させた。
(以下余白)
臭気官能テスト結果
上記のテスト結果から鉱滓臭のみにとどまらず、あらゆ
る含臭気体の脱臭に効果があることを確認した。設備費
についても l/ 10に低減した。
る含臭気体の脱臭に効果があることを確認した。設備費
についても l/ 10に低減した。
以、L述べた如く本発明は、超微細粒子の水溶液カーテ
ンと食品の添加物としてのサイクロデキストリンの親水
性と親油性の作用を組合せた相乗効果によって脱臭効果
を達成したものであり、あらゆる領域の臭い分子を効率
よく吸収する効果が得られる。 更に設備投資費用につ
いても 従来の璽/10に低減出来る効果がある。
ンと食品の添加物としてのサイクロデキストリンの親水
性と親油性の作用を組合せた相乗効果によって脱臭効果
を達成したものであり、あらゆる領域の臭い分子を効率
よく吸収する効果が得られる。 更に設備投資費用につ
いても 従来の璽/10に低減出来る効果がある。
第1図は本発明に使用する水溶液霧化装置の概略図であ
る。図中、
る。図中、
Claims (1)
- エアフィルターとオイルフィルターと電磁弁とからなる
圧搾空気ラインと、減圧弁とバルブを有する水溶液ライ
ンの両ラインを具備する噴霧ノズルの先端を対向して設
けた水溶液霧化装置で水溶液カーテンを形成し、該水溶
液微粒カーテンを、含臭気体が通過する過程で臭いの成
分を吸収することを特徴とする脱臭方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61291165A JPS63143926A (ja) | 1986-12-05 | 1986-12-05 | 脱臭方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61291165A JPS63143926A (ja) | 1986-12-05 | 1986-12-05 | 脱臭方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63143926A true JPS63143926A (ja) | 1988-06-16 |
Family
ID=17765285
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61291165A Pending JPS63143926A (ja) | 1986-12-05 | 1986-12-05 | 脱臭方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS63143926A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6615012B2 (en) | 2000-10-31 | 2003-09-02 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Electrophotographic apparatus using liquid developer |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS519063A (en) * | 1974-07-13 | 1976-01-24 | Unosuke Yamada | Datsushubunrikikino sochi |
-
1986
- 1986-12-05 JP JP61291165A patent/JPS63143926A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS519063A (en) * | 1974-07-13 | 1976-01-24 | Unosuke Yamada | Datsushubunrikikino sochi |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6615012B2 (en) | 2000-10-31 | 2003-09-02 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Electrophotographic apparatus using liquid developer |
| US6804487B2 (en) | 2000-10-31 | 2004-10-12 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Electrophotographic apparatus |
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