JPS6314487A - 半導体レ−ザ− - Google Patents
半導体レ−ザ−Info
- Publication number
- JPS6314487A JPS6314487A JP15798786A JP15798786A JPS6314487A JP S6314487 A JPS6314487 A JP S6314487A JP 15798786 A JP15798786 A JP 15798786A JP 15798786 A JP15798786 A JP 15798786A JP S6314487 A JPS6314487 A JP S6314487A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- waveguides
- waveguide
- semiconductor laser
- adjacent
- present
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Semiconductor Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体レーザーに関し、特に複数のコヒーレン
トなレーザー光束を発生する簡単な構造の半導体レーザ
ーに関する。
トなレーザー光束を発生する簡単な構造の半導体レーザ
ーに関する。
(従来の技術〕
従来の半導体レーザーとしては、例えば第4図に示すよ
うなリッジ導波型位相同期半導体レーザーアレイがある
。第5図はその平面図である。
うなリッジ導波型位相同期半導体レーザーアレイがある
。第5図はその平面図である。
図中GI8〜G21はそれぞれリッジ導波路であり、そ
れぞれが半導体レーザーを形成している。
れぞれが半導体レーザーを形成している。
この導波路G18〜G21の幅Sは通常数−程度である
。そして導波路G18〜G21の隣りあう間隔Wが、数
μ程度である場合には、それぞれから出射される光束1
.20 、 L21 、 L22 、 L23の位相が
同期することが知られている。同様に光束L20′、L
21 ′、L22” 、L23 ”の位相も同期するの
でL20゜L2+ 、 L22 、 L23 、L20
′、L21′、L22” 、L23’の8木のコヒーレ
ントな光束が得られることになる。
。そして導波路G18〜G21の隣りあう間隔Wが、数
μ程度である場合には、それぞれから出射される光束1
.20 、 L21 、 L22 、 L23の位相が
同期することが知られている。同様に光束L20′、L
21 ′、L22” 、L23 ”の位相も同期するの
でL20゜L2+ 、 L22 、 L23 、L20
′、L21′、L22” 、L23’の8木のコヒーレ
ントな光束が得られることになる。
しかし、この場合Wを数ジより大きくすると、光束間の
コヒーレンシーを失ってしまうため、複数のコヒーレン
トな光束といっても相互の間隔が数μ以下の光束しか得
られないという不便があった。そのため外部レンズ光学
系を設ければ、数■程度の距離のコヒーレントな光束を
得ることはできるが、その分コストが高くつき装置が大
きなものになってしまうという問題点があった。
コヒーレンシーを失ってしまうため、複数のコヒーレン
トな光束といっても相互の間隔が数μ以下の光束しか得
られないという不便があった。そのため外部レンズ光学
系を設ければ、数■程度の距離のコヒーレントな光束を
得ることはできるが、その分コストが高くつき装置が大
きなものになってしまうという問題点があった。
本発明は上記問題点に鑑み成されたものでありその目的
は、外部レンズ光学系を使用しないで、間隔の大きな複
数のコヒーレントな光束を出射することができる簡単な
構造の半導体レーザーを提供することにある。
は、外部レンズ光学系を使用しないで、間隔の大きな複
数のコヒーレントな光束を出射することができる簡単な
構造の半導体レーザーを提供することにある。
(問題転を解決するための手段)
本発明の上記目的は、複数の屈曲した形状の導波路のそ
れぞれを、それらの導波路の少くとも一部で隣接する導
波路に近接するかまたは一体化するように配しているこ
とを特徴とする半導体レーザー、及び、複数の屈曲した
形状の導波路と複数の直線状の導波路とのそれぞれを、
それらの導波路の少くとも一部て隣接する導波路に近接
するかまたは一体化するように配していることを特徴と
する半導体レーザーによって達成される。
れぞれを、それらの導波路の少くとも一部で隣接する導
波路に近接するかまたは一体化するように配しているこ
とを特徴とする半導体レーザー、及び、複数の屈曲した
形状の導波路と複数の直線状の導波路とのそれぞれを、
それらの導波路の少くとも一部て隣接する導波路に近接
するかまたは一体化するように配していることを特徴と
する半導体レーザーによって達成される。
本発明において導波路とは、レーザー光が発生しかつレ
ーザー光が外部にほとんど漏れずに流れる光の閉じ込め
領域のことをいう。
ーザー光が外部にほとんど漏れずに流れる光の閉じ込め
領域のことをいう。
本発明において近接または一体化というのは、微細な距
離をおいて隣接している状態、接触している状態、接触
している部分が切れ目なく運なかっている状態のいずれ
かであることを意味する。
離をおいて隣接している状態、接触している状態、接触
している部分が切れ目なく運なかっている状態のいずれ
かであることを意味する。
本発明において、屈曲した形状とは任意の形状に曲がっ
ている状態を意味する。しかし実際は、導波路及その周
辺の材質にもよるが、鋭角的な曲がった部分のある形状
は好ましいくない。
ている状態を意味する。しかし実際は、導波路及その周
辺の材質にもよるが、鋭角的な曲がった部分のある形状
は好ましいくない。
本発明の原理を本発明の実施態様の平面図である第1図
及びその部分図である第3図を用いて説明する。
及びその部分図である第3図を用いて説明する。
第1図の本発明の半導体レーザーは、弧形が3つ(Gl
とG2とG3)並んでいる形状を導波路が形成してなる
ものである。それぞれの弧形の弦の部分の長さはWであ
り弧形の端からは、図中に矢印で示すように光束Ll、
Ll、 L3. L4が出射される。この光束につい
て導波路をなす1つの弧形Gl(第3図に示す)につい
てみると、G1の共垢器長(導波路の長さ)がQの場合
、発抛波長をλとすると光束LlとLlの位相差はQ/
λて与えられるが、これは共振条件からπの整数倍に等
しい。従ってLlとLlは0°または180°の位相差
を持つが、どちらの場合もLlとLlがコヒーレントで
あることに変わりはない。他の弧形の導波路G2、G3
についても同様のことがいえ、LlとL3が、L3とL
4がそれぞれコヒーレントになるのでLl、 Ll、
L3. L4のすべてがコヒーレントである。
とG2とG3)並んでいる形状を導波路が形成してなる
ものである。それぞれの弧形の弦の部分の長さはWであ
り弧形の端からは、図中に矢印で示すように光束Ll、
Ll、 L3. L4が出射される。この光束につい
て導波路をなす1つの弧形Gl(第3図に示す)につい
てみると、G1の共垢器長(導波路の長さ)がQの場合
、発抛波長をλとすると光束LlとLlの位相差はQ/
λて与えられるが、これは共振条件からπの整数倍に等
しい。従ってLlとLlは0°または180°の位相差
を持つが、どちらの場合もLlとLlがコヒーレントで
あることに変わりはない。他の弧形の導波路G2、G3
についても同様のことがいえ、LlとL3が、L3とL
4がそれぞれコヒーレントになるのでLl、 Ll、
L3. L4のすべてがコヒーレントである。
上記の実施態様では導波路全体が一体のものであったが
、第2図(a)のように3つの独立した導波路G4.
G5. G6が微小間隔Aをおいて並んでいるものであ
ってもよい。G4. G5. G6の端からはそれぞれ
光束L5とL6.L6’とLl、L7’とL8が出射さ
れL6とL6’及びLlとLl”は近接しているためそ
れぞれコヒーレントとなる。更に上記と同様L5とL6
及びL6”とLl及びL7’とL8がそれぞれコヒーレ
ントであるため、L5. L6. L6’ 、 Ll、
L7’ 、 L8のすべての光束がコヒーレントにな
る。
、第2図(a)のように3つの独立した導波路G4.
G5. G6が微小間隔Aをおいて並んでいるものであ
ってもよい。G4. G5. G6の端からはそれぞれ
光束L5とL6.L6’とLl、L7’とL8が出射さ
れL6とL6’及びLlとLl”は近接しているためそ
れぞれコヒーレントとなる。更に上記と同様L5とL6
及びL6”とLl及びL7’とL8がそれぞれコヒーレ
ントであるため、L5. L6. L6’ 、 Ll、
L7’ 、 L8のすべての光束がコヒーレントにな
る。
上記のように導波路が踵れているにもかかわらず隣り合
って出射される光束がコヒーレントになるためには、そ
れぞれの導波路の近接する部分の距離Aが5μj以下で
あることが好ましい。また距HAをおいて隣接している
導波路の部分の長さが弧形の長さの1を以上であること
が必要である。
って出射される光束がコヒーレントになるためには、そ
れぞれの導波路の近接する部分の距離Aが5μj以下で
あることが好ましい。また距HAをおいて隣接している
導波路の部分の長さが弧形の長さの1を以上であること
が必要である。
第1図及び第2図(a)中における弧形のサイズとして
は、共県器長の制限からWは60鱗〜300u程度が好
ましく、Dは光閉じ込め条件とWの大きさとのかねあい
から50μJ1〜500間程度が好ましい。またSは単
−横モード発振等のため2〜10゜程度である。
は、共県器長の制限からWは60鱗〜300u程度が好
ましく、Dは光閉じ込め条件とWの大きさとのかねあい
から50μJ1〜500間程度が好ましい。またSは単
−横モード発振等のため2〜10゜程度である。
前記実施態様では、出射光束が4本であったが4本に限
らず弧形の導波路を増減して任意の本数の光束を得るこ
とができる。
らず弧形の導波路を増減して任意の本数の光束を得るこ
とができる。
またそれぞれの導波路の形状も弧形に限らずW、D、S
の値か前記とは異なるものであってもよい。
の値か前記とは異なるものであってもよい。
また前記の態様では光束が出射される部分の導波路が近
接あるいは一体となって交わっていたが第2図(b)
、 (c)のように導波路の途中の部分どうしが一体と
なって交わっていてもよい。
接あるいは一体となって交わっていたが第2図(b)
、 (c)のように導波路の途中の部分どうしが一体と
なって交わっていてもよい。
また第2図(d)に示すように直線状の導波路Gl+及
びG14と、屈曲した導波路G+2及びG13とを組み
合わせてもよい。この場合においても出射される光束し
15 、l、15’ 、Li2.Li2.Li2 ’は
すべてコヒーレントとなる。
びG14と、屈曲した導波路G+2及びG13とを組み
合わせてもよい。この場合においても出射される光束し
15 、l、15’ 、Li2.Li2.Li2 ’は
すべてコヒーレントとなる。
また第2図(e)に示すように閉じた導波路G16とそ
うでない導波路G15及びG17とを組み合わせてもよ
い。この場合G16がリング状レーザーを形成し、G1
5及びG17は普通のファプリー・ベロー共振器型レー
ザーを形成する。GI5とG16またGI6とG17は
それぞれ位相同期レーザーとして結合するので、Li8
、L18’ 、L19.LI9’はすべてコヒーレン
トになる。
うでない導波路G15及びG17とを組み合わせてもよ
い。この場合G16がリング状レーザーを形成し、G1
5及びG17は普通のファプリー・ベロー共振器型レー
ザーを形成する。GI5とG16またGI6とG17は
それぞれ位相同期レーザーとして結合するので、Li8
、L18’ 、L19.LI9’はすべてコヒーレン
トになる。
以上の第2[](a)〜(e)の構成は、導波路の数、
種類を変更して任意に組み合わせることが可能である。
種類を変更して任意に組み合わせることが可能である。
しかしいかなる場合も、光束をその両端から出射する導
波路のそれぞれが一部分において5−以内の距離で近接
あるいは一体化していなくてはならない。さらに近接し
ている部分の長さが導波路の長さの1’4以上でなくて
はならない。
波路のそれぞれが一部分において5−以内の距離で近接
あるいは一体化していなくてはならない。さらに近接し
ている部分の長さが導波路の長さの1’4以上でなくて
はならない。
以上の態様では光束がすべて同じ面から出射されるよう
になっているが、第7図に示すように異なる面から異な
る方向に向かって出射されるものであってもよい。
になっているが、第7図に示すように異なる面から異な
る方向に向かって出射されるものであってもよい。
また第6図に示すように、導波路の一部または全部をD
FB構造(分布帰還型)にすれば、波長の単一性を得や
すく、特にり、Wが大きく波長の単一性が失なわれやす
い場合に有効である。
FB構造(分布帰還型)にすれば、波長の単一性を得や
すく、特にり、Wが大きく波長の単一性が失なわれやす
い場合に有効である。
以上の態様例ではりッジ導彼型レーザーを例にとって説
明したが、本発明は導波路を存する半導体レーザーなら
ばすべてに適用可能であり、例えばBHレーザー、VS
ISレーザー等にも適用できる。
明したが、本発明は導波路を存する半導体レーザーなら
ばすべてに適用可能であり、例えばBHレーザー、VS
ISレーザー等にも適用できる。
本発明の反導体レーザーの導波路の形成は、従来の直線
状の導波路の形成と同様にウェット・エツチング、ドラ
イ・エツチング法等によって達成される。
状の導波路の形成と同様にウェット・エツチング、ドラ
イ・エツチング法等によって達成される。
(実施例)
以下に本発明の具体的実施例を挙げて、本発明を更に説
明する。
明する。
厚さ100 、のn型GaAs基板の上に分子線エビタ
鱗厚に、更にその上にGaAsの活性層を0.i p厚
にAsのクラッド層を第8図に示すようにリッジ部の厚
さが1.5.で、その他の部分の厚さが0.4.になる
ように設けた。このりッジ部は第9図に上面図を示すよ
うに導波路の幅が5μになるようにして、R・90鱗、
直線部分の長さが10μのU字型を連らねた形になるよ
うに設けた。このクラッド層のU字形を連らねた形状部
の上にP−GaAsの電極形成層を厚さ0.5μs厚に
設け、その上と前記基板の下に金属製の電極を蒸着して
本発明のリッジ型の半導体レーザーを作製した。
鱗厚に、更にその上にGaAsの活性層を0.i p厚
にAsのクラッド層を第8図に示すようにリッジ部の厚
さが1.5.で、その他の部分の厚さが0.4.になる
ように設けた。このりッジ部は第9図に上面図を示すよ
うに導波路の幅が5μになるようにして、R・90鱗、
直線部分の長さが10μのU字型を連らねた形になるよ
うに設けた。このクラッド層のU字形を連らねた形状部
の上にP−GaAsの電極形成層を厚さ0.5μs厚に
設け、その上と前記基板の下に金属製の電極を蒸着して
本発明のリッジ型の半導体レーザーを作製した。
こうして得られたリッジ型の半導体レーザーを発振させ
て遠視野像を見ると、約180μ工の間隔の3つのスリ
ットからの光の干渉縞と同様のものが観測された。
て遠視野像を見ると、約180μ工の間隔の3つのスリ
ットからの光の干渉縞と同様のものが観測された。
この半導体レーザーはホログラフィ−用の光源等として
使用される。
使用される。
(発明の効果)
以上のように本発明の半導体レーザーは、外部光学系を
使用しない簡単な構造でありながら、距離の離れた複数
のコヒーレントな光束を容易に提供することができる。
使用しない簡単な構造でありながら、距離の離れた複数
のコヒーレントな光束を容易に提供することができる。
第1図は本発明の半導体レーザーの模式平面図であり、
第2図(a) 〜(e)及び7jS6図、第7図は本発
明の別の態様例の模式平面図であり、第3図は本発明の
詳細な説明する平面図であり、第4図は従来の位相同期
半導体レーザーアレイの模式図であり第5図は第4図の
平面図であり、第8図は本発明の実施例の部分断面図、
第9図は第8図の部分平面図である。 1:活性層 2:上部電極 3:下部電極 L1〜L28、 L15′、Li2 ′〜L23′:光
束G1〜626 二環波路 S:導波路の幅
第2図(a) 〜(e)及び7jS6図、第7図は本発
明の別の態様例の模式平面図であり、第3図は本発明の
詳細な説明する平面図であり、第4図は従来の位相同期
半導体レーザーアレイの模式図であり第5図は第4図の
平面図であり、第8図は本発明の実施例の部分断面図、
第9図は第8図の部分平面図である。 1:活性層 2:上部電極 3:下部電極 L1〜L28、 L15′、Li2 ′〜L23′:光
束G1〜626 二環波路 S:導波路の幅
Claims (4)
- (1)、複数の屈曲した形状の導波路のそれぞれを、そ
れらの導波路の少くとも一部で隣接する導波路に近接す
るかまたは一体化するように配していることを特徴とす
る半導体レーザー。 - (2)、複数の屈曲した形状の導波路と複数の直線状の
導波路とのそれぞれを、それらの導波路の少くとも一部
で隣接する導波路に近接するかまたは一体化するように
配していることを特徴とする半導体レーザー。 - (3)、上記の近接している導波路の一部分どうしは5
μm以下の間隔をおいて近接している特許請求の範囲第
1項又は第2項記載の半導体レーザー。 - (4)、上記導波路の一部または全部が分布帰還型構造
である特許請求の範囲第1項乃至第3項のいずれかに記
載の半導体レーザー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15798786A JPS6314487A (ja) | 1986-07-07 | 1986-07-07 | 半導体レ−ザ− |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15798786A JPS6314487A (ja) | 1986-07-07 | 1986-07-07 | 半導体レ−ザ− |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6314487A true JPS6314487A (ja) | 1988-01-21 |
Family
ID=15661763
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15798786A Pending JPS6314487A (ja) | 1986-07-07 | 1986-07-07 | 半導体レ−ザ− |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6314487A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017079271A (ja) * | 2015-10-20 | 2017-04-27 | キヤノン株式会社 | 発振素子及びそれを用いた測定装置 |
-
1986
- 1986-07-07 JP JP15798786A patent/JPS6314487A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017079271A (ja) * | 2015-10-20 | 2017-04-27 | キヤノン株式会社 | 発振素子及びそれを用いた測定装置 |
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