JPS63253508A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は磁気記録再生に使用して有効な磁気へノドの製
造方法に関するものである。

従来の技術 近年、磁気記録技術は高密度化へ急速に進展し、記録媒
体においては、合金微粉末媒体等による高抗磁力化が進
み、それに伴って磁気ヘッドも、高透磁率、高飽和磁束
密度を有するセンダストやアモルファス材等の合金磁性
材が用いられている。

たとえば、電子スチルカメラ用の記録、再生ヘッドとし
ても、各種合金磁性材を用いた２チヤンネル・１ヘツド
の薄膜ヘッドが考えられている（例えば、植村他「電子
スチルカメラ用薄膜磁気ヘッド」電通学会技報ＭＲ８４
−８５参考）。

以下、図面を参照しながら、上述した従来の薄膜ヘッド
の製造方法について説明する。

第３図ａ、ｂはそれぞれ従来の薄膜ヘヅドの要部正面図
及び要部断面図である。

この薄膜ヘッドは、非磁性フェライト基板１の平面上に
センダスト等の合金磁性材の薄膜で下部コア２を形成し
、次に二酸化ケイ素（Ｓｉｎ、、　）等のヘッドギャッ
プ材３の層を形成し、その上に、第１層間絶縁層４．第
１コイル層６．第２層間絶縁層６．第２コイル層７．第
３層間絶縁層８を順次積層させて形成したのち、合金磁
性材の上部コア９を形成する。

さらに、この上部コア９の上層に酸化アルミ（ＡＩＪｚ
ｏｓ　）等による保護膜１０を形成し、保護膜１ｏの上
に上部非磁性フェライト基板１１を接着した後、所定の
寸法に切断等の加工をしてヘッドチップを構成していた
。

発明が解決しようとする問題点 しかしながら上記従来の薄膜磁気ヘッドの製造方法では
、異種材料を次々に積層し、しかもエツチング等による
パターン形成を繰り返す必要がある。そのために、多種
類の材料の物理、化学特性の違いから生じるクラックや
化学反応等の諸問題や、層間剥離、あるいは樹脂等の強
度的、温度的に弱い物による接着や絶縁による信頼性の
問題、さらには製造工程の難しさによる量産性の問題等
、様々な問題点があった。

本発明は上記問題点を解決するもので、作業性そして製
品信頼性を向上させる磁気ヘッドを得る磁気ヘッドの製
造方法を提供することを目的とするものである。

間層点を解決するための手段 上記目的を達成するために本発明の磁気ヘッドの製造方
法は、略直方体形状の非磁性材からなる巻線配設溝を設
けた第１の基体の前記巻線配設溝を設けた面と略直方体
形状の非磁性材からなる第２の基体の一平面を鏡面加工
する工程と、前記第１および第２の基体の鏡面上に合成
磁性材層を形成する工程と、前記第１および第２の基体
の少なくとも一方の合成磁性材層上にフォトレジストを
一塗布する工程と、前記フォトレジストに所定形状のパ
ターンを焼き付け前記フォトレジストによる保護膜を形
成する工程と、エツチングにより前記保護膜の下部に対
向しない前記合成磁性材層を除去しトラックを持つ一対
の磁気コアを形成する工程と、前記磁気コアを有する面
にガラス材を充填し、前記磁気コアが所定の厚さとなる
までガラス材を充填した面を鏡面加工する工程と、前記
磁気コアを配設した鏡面もしくは合成磁性材層を設けた
第１および第２の基体の少なくとも一方の鏡面あるいは
合成磁性材層の上に非磁性材からなるヘッドギャップを
所定厚さ形成する工程と、前記第１および第２の基体を
前記ヘッドギャップを介しかつ前記磁気コアを対向させ
て一体に接合しギャップバーを構成する工程と、前記ギ
ャップバーの前記磁気コアを含む面に略直交しかつ前記
巻線配設溝に達する深さの巻線用空隙を前記一対の磁気
コアの間に形成する工程と、前記ギャップバーを所定の
形状に切断する工程と、前記巻線配設溝と巻線用空隙を
通して前記磁気コアとヘッドギャップとからなる２個の
磁気ヘッドに対してそれぞれ巻線を配設する工程とを有
するものである。

作用 上記製造方法によれば、積層工程は基体上への合成磁性
材層、フォトレジストの積層、そしてパターン形成によ
る磁気コア形成後のガラス材層。

ヘッドギャップの積層の工程からなり、パターン形成は
磁性コアを形成する工程で必要となるのみであり、これ
以外は機械加工によって形成する方法としたために、従
来の方法に対して異種材料による積層、高精度のパター
ンの工程数が減少し、量産性が向上する。また積層部位
が減少するために、クラックや層間剥離の発生が少なく
なシ、さらに基体と基体との接合はガラス溶着が可能と
なり、信頼性ならびに強度が向上するものである。

実施例 以下、本発明の実施例の磁気ヘッドの製造方法について
図面を参照しながら説明する。第１図は本発明の第１の
実施例の磁気ヘッドの製造方法を説明する斜視図である
。

第１図において、まず酸化ニッケルー酸化マグネシウム
−酸化チタン（ＮｉＯ−ＭｇＯ−Ｔｉ０２　）等の非磁
性材からなる第２の基体１２の磁性膜形成面１２＆を鏡
面に仕上げ（第１図ａ）、次に磁性膜形成面１２１Ｌの
上にスパッタリングにより、コバルト−ニオ７”−ジル
コニウム−タンタル（Ｇｏ　−Ｗｂ−Ｚｒ−Ｔａ）系ア
モルファス磁性材層１３を形成する（第１図ｂ）。さら
にこのＧｏ　−Ｗｂ　−Ｚｒ　−Ｔａ系アモルファス磁
性材層１３の上に、フォトレジスト１４を塗布しく第１
図ｇ）、フォトレジスト１４に紫外線でマスクパターン
を焼きつけて、ベーキングとリンスにより不要なフォト
レジスト１４を除去してフォトレジスト１４による保護
膜１４’を形成する（第１図ｄ）。

次にＧｏ　−Ｗｂ−Ｚｒ−Ｔａ　系アモルファス磁性材
層１３の保護膜１４１の下部に対応しない不要な部分を
、エツチングによって除去しく第１図ｅ）、その後、保
護膜１４’をレジストストリッパーにて除去し、一対の
磁気コア１５を形成する（第１図ｆχ次に、磁気コア１
５を形成した磁性膜形成面１２＆上にガラス材１６を溶
融して充填したのち、磁気コア１６が所定の厚さとなる
ように鏡面加工をして、第２の磁気ヘッド基体１７を形
成する（第１図ｇ）。

一方、巻線配設溝１８が形成された第１の基体１９の磁
性膜形成面にも、一対の磁気コア２０゜ガラス材２１層
を同様にして形成し、第１の磁気ヘッド基体２２を形成
する（第１図ｈ）。

次に、磁気ヘッド基体１７．２２の少なくとも一方の磁
気コア１５，２０、ガラス材１６．２１層上に、５ｉ０
２　　等の非磁性材層２３をスパッタリングにより所定
の厚さだけ形成し、そして非磁性材層２３をヘッドギャ
ップとして、それぞれの磁気コア１５．２０のトラック
部２４．２４’を対向させて接合させて一体としギャッ
プパー２５を構成する（第１図ｉ）。

次に、ギャップパー２６の磁気コア１６．２０そしてガ
ラス材１６．２１層に対して略直角に交差し、かつ巻線
配設溝１８に達する深さＤの巻線用空隙２６を一対の磁
気コア１５．２０の間に形成し、そしてガラス材１６．
２１層に直交し巻線用空隙２６に略平行に磁気コア１５
．２０の存在しない部分を所定の寸法で第１図ｊの二点
鎖線で示した位置を切断し、磁気ヘッド単体を構成する
（第１図ｊ）。

次に、巻線配設溝１８と巻線用空隙２６を通して、磁気
ヘッド単体の２個の磁気ヘッド２７．２８に対して、そ
れぞれ独立して巻線２９を配設して、２個の磁気ヘッド
の製造工程が完了する（第１図ｋ）。

上記実施例によれば、従来の異種材料の積層による多層
構造を形成する方法に対して、その積層数が減少し、そ
の結果材料の特性の違いから生ずるクラックや層間剥離
が減少し、製品信頼性が向上するとともに、その製造工
程での単位作業が容易となり、作業性が向上するもので
ある。

次に、本発明の第２の実施例について第２図を参照しな
がら説明する。　　・ まず第２の磁気ヘッド基体１７については前述の第１の
実施例について説明したように、第１図ａ　−ｇに示し
た工程によって同様に構成する。

次に第１の磁気ヘッド基体３０については、巻線配設溝
３１を設けた第１の基体３２上にＧｏ、７Ｎｂ−Ｚｒ−
Ｔａ系アモルファス磁性材層３３を形成して構成する。

第１の磁気ヘッド基体３ｏのＧｏ−Ｎｂ　−Ｚｒ　−Ｔ
ａ系アモルファス磁性材層３３および第２の磁気ヘッド
基体１７の磁気コア１５そしてガラス材１６層のいずれ
か一方の上部に、所定厚さの非磁性材層３４をヘッドギ
ャップとして形成し、そして非磁性材層３４を介して第
１の磁気ヘッド基体３０と第２の磁気ヘッド基体１７を
一体に接合し、ギヤノブバーを構成する。

以下、第１の実施例と同様にして巻線用空隙２６を形成
し、そして巻線配設溝３１と巻線用空隙３６を通して、
２個のヘッドに対してそれぞれ独立して巻線２９を配設
して、２個の磁気ヘッドの製造工程が完了する。

なお第２図中、３４は第１の磁気ヘッド基体田と第２の
磁気ヘッド基体１７の接合を補強するために、ガラス材
１６層上に設けた凸部である。

上記の第２の実施例によれば、磁気コアのパターン形成
の工程が削減されるために作業性が向上しかつ量産性の
高い製造方法を実現できるものである。

発明の効果 本発明によれば、積層工程としては、第１および第２の
基体の鏡面上に合成磁性材層を形成する工程、第１およ
び第２の基体の少なく゛とも一方の合成磁性材層上にフ
ォトレジストを塗布する工程、磁気コアを有する面にガ
ラス材を充填する工程、第１および第２の基体の少なく
とも一方の鏡面あるいは合成磁性材層の上にヘッドギャ
ップを形成する工程を有し、パターン形成工程としては
、フォトレジストに所定形状すなわち一対の磁気コアの
形状のパターンを焼き付ける工程を有する製造方法とし
たために、積層数およびパターン形成の工程数が減少し
、その結果、層間剥離、クラックが生じたり、あるいは
化学反応による不良の発生確率が減少し、歩留りおよび
製品信頼性が向上する。また積層工程、パターン形成工
程が減少し、さらにこれら以外は機械加工によって形成
されるために、作業性が向上し、その結果、量産性も向
上するものである。

【図面の簡単な説明】

第１図イ１口は本発明の第１の実施例の磁気ヘッドの製
造方法を適用した磁気ヘッドの製造工程を示す斜視図、
第２図は本発明の第２の実施例の磁気ヘッドの製造方法
を適用した磁気ヘッドの製造工程を示す斜視図、第３図
ａ、ｂは従来の磁気ヘッドの製造方法を適用した磁気ヘ
ッドの要部正面図および要部断面図である。 １２．１９・・・・・・基体、１２＆・・・・・・磁性
膜形成面、１３・・・・・・Ｇｏ　−Ｗｂ−Ｚｒ−Ｔａ
系アモルファス磁性材層、１５・・・・・・磁気コア、
１６・・・・・・ガラス材、１７゜２２・・・・・・磁
気ヘッド基体、１８・・・・・・巻線配設溝、２ｏ・・
・・・・磁気コア、２３・・・・・・非磁性材層（ヘッ
ドギャップ）、２４．２４’・・・・・・　トラック部
、２５・・・・・ギャップバー、２６・・・・・・巻線
用空隙、２７．２８・・・・・・磁気ヘッド、２９・・
・・・・巻線、３ｏ・・・・・・磁気ヘッド基体、３１
・・・・・・巻線配設溝、３２・・・・・・基体、３３
・・・・・・Ｇｏ−Ｎｂ−Ｚｒ−Ｔａ系アモルファス磁
性材層、３４・・・・・・非磁性材層（ヘッドギャップ
）。 代理人の氏名　弁理士　中　尾　敏　男　ほか１名第３
図 （ａ） ど （ｂ） 仁コ　　　　　　　　　　　　　　　　　　−１慨　　
　　　　　　　−− ＞　　　１ 憾　　　　　　　　°づ ０つ （コ 区　　　　　　　−

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 記録媒体との摺接面に所定の間隔を保持し、かつそれぞ
   れのヘッドギャップが略同一直線上に配設された２個の
   磁気ヘッドを一体に構成した磁気ヘッドの製造方法であ
   って、略直方体形状の非磁性材からなる巻線配設溝を設
   けた第１の基体の前記巻線配設溝を設けた面と略直方体
   形状の非磁性材からなる第２の基体の一平面を鏡面加工
   する工程と、前記第１および第２の基体の鏡面上に合成
   磁性材層を形成する工程と、前記第１および第２の基体
   の合成磁性材層の少なくともいずれか一方の合成磁性材
   層上にフォトレジストを塗布する工程と、前記フォトレ
   ジストに所定形状のパターンを焼き付け前記フォトレジ
   ストによる保護膜を形成する工程と、エッチングにより
   前記保護膜の下部に対向しない前記合成磁性材層を除去
   しトラックを持つ一対の磁気コアを形成する工程と、前
   記磁気コアを有する面にガラス材を充填し、前記磁気コ
   アが所定の厚さとなるまで、ガラス材を充填した面を鏡
   面加工する工程と、前記磁気コアを配設した鏡面もしく
   は合成磁性材層を設けた第１および第２の基体の少なく
   とも一方の鏡面あるいは合成磁性材層の上に非磁性材か
   らなるヘッドギャップを所定厚さ形成する工程と、前記
   第１および第２の基体を前記ヘッドギャップを介しかつ
   前記磁気コアを対向させて一体に接合させてギャップバ
   ーを構成する工程と、前記ギャップバーの前記磁気コア
   を含む面に略直交しかつ前記巻線配設溝に達する深さの
   巻線用空隙を一対の磁気コアの間に形成する工程と、前
   記ギャップバーを所定の形状に切断する工程と、前記巻
   線配設溝と巻線用空隙を通して前記磁気コアとヘッドギ
   ャップとからなる２個の磁気ヘッドに対してそれぞれ巻
   線を配設する工程とからなる磁気ヘッドの製造方法。