JPS63285501A - 反射防止膜 - Google Patents
反射防止膜Info
- Publication number
- JPS63285501A JPS63285501A JP62121641A JP12164187A JPS63285501A JP S63285501 A JPS63285501 A JP S63285501A JP 62121641 A JP62121641 A JP 62121641A JP 12164187 A JP12164187 A JP 12164187A JP S63285501 A JPS63285501 A JP S63285501A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- refractive index
- layer
- index material
- film
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 title abstract 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 53
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 18
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 238000005422 blasting Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000004304 visual acuity Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は紫外領域の光に有効な反射防止膜に関する。
従来技術
最近、紫外領域（例えば３６５ ｒ＋量）の光源を利用
した投影型露光の半導体露光装置が実用化されている。
した投影型露光の半導体露光装置が実用化されている。
投影型露光の半導体露光装置の解像力は光源波長に比例
するため、光源の短波長化が図られ、１９３ｎｇ＋、２
４８ｎ−あるいは３０８ｎｍ等の紫外線が用いられてい
る。
するため、光源の短波長化が図られ、１９３ｎｇ＋、２
４８ｎ−あるいは３０８ｎｍ等の紫外線が用いられてい
る。
しかし、上記露光装置は通常１５〜２０枚の多数のレン
ズから構成される照明系、縮小系を有するため、それら
の系における各レンズ面での反射によるゴースト等が像
において照度むらを発生させる。係る反射を防止するた
めには上記の光を吸収しない材料で反射防止膜を設ける
ことが考えられるが、従来のカメラレンズ等に用いられ
る反射防止膜はほとんどの場合紫外領域において吸収が
あり、これらの反射防止材料をそのまま流用することは
できない。
ズから構成される照明系、縮小系を有するため、それら
の系における各レンズ面での反射によるゴースト等が像
において照度むらを発生させる。係る反射を防止するた
めには上記の光を吸収しない材料で反射防止膜を設ける
ことが考えられるが、従来のカメラレンズ等に用いられ
る反射防止膜はほとんどの場合紫外領域において吸収が
あり、これらの反射防止材料をそのまま流用することは
できない。
一方、波長１６０〜２３０ｎｍの真空紫外領域の光に有
効な反射防止膜が、例えば特開昭６ｌ−７７０ｏＩ号公
報、特開昭６１−７７００２号公報あるいは特開昭６１
−７７００３号公報に開示されている。上記技術は真空
紫外領域の光を透過する低屈折率（ｎ＜１．５）物質と
中間屈折率（ｎ＝ １ 。
効な反射防止膜が、例えば特開昭６ｌ−７７０ｏＩ号公
報、特開昭６１−７７００２号公報あるいは特開昭６１
−７７００３号公報に開示されている。上記技術は真空
紫外領域の光を透過する低屈折率（ｎ＜１．５）物質と
中間屈折率（ｎ＝ １ 。
６〜１．８）物質を使用し、所定の厚さで３層あるいは
５層に積層した反射防止膜に関するしのである。
５層に積層した反射防止膜に関するしのである。
また、曲面を有するレンズの中心部と周辺部では、１個
１！！単独で反射防止膜を形成する場合は別として、量
産を目的に反射防止膜を形成する場合は、レンズの曲率
半径あるいはレンズと蒸発源の距離に依存して異なった
厚さの膜が形成されるため、レンズの中心部の反射防止
効波長域と周辺部のそれとは異なる。従って、６効波長
域の狭い反射防止膜の場合、レンズ全面で同一波長域に
有効な反射防止膜を１度に多数のレンズ上に設けること
は、レンズ曲率が大きくなればなるほど、また反射防止
有効波長域が狭くなればなるほど困難となる。
１！！単独で反射防止膜を形成する場合は別として、量
産を目的に反射防止膜を形成する場合は、レンズの曲率
半径あるいはレンズと蒸発源の距離に依存して異なった
厚さの膜が形成されるため、レンズの中心部の反射防止
効波長域と周辺部のそれとは異なる。従って、６効波長
域の狭い反射防止膜の場合、レンズ全面で同一波長域に
有効な反射防止膜を１度に多数のレンズ上に設けること
は、レンズ曲率が大きくなればなるほど、また反射防止
有効波長域が狭くなればなるほど困難となる。
発明が解決しようとする問題点
本発明は上記のような事情に鑑みなされたものであって
、その目的とするところは、広範囲の紫外領域の光に対
して有効な反射防止膜を提供することを目的とする。
、その目的とするところは、広範囲の紫外領域の光に対
して有効な反射防止膜を提供することを目的とする。
問題点を解決するための手段
すなわち、本発明は入射媒質側から基板側へ順に、基板
より６低い屈折率を存する低屈折率物質からなる第１層
、屈折率が１．５〜１．８の中間屈折率物質からなる第
２層、基板よりも低い屈折率を有する低屈折率物質から
なる第３層、及び屈折率が１．５〜１．８の中間屈折率
物質からなる第４層の４層構造からなり、１６０層ｍ〜
４００層ｍの波長域に対して有効な反射防止膜に関する
。
より６低い屈折率を存する低屈折率物質からなる第１層
、屈折率が１．５〜１．８の中間屈折率物質からなる第
２層、基板よりも低い屈折率を有する低屈折率物質から
なる第３層、及び屈折率が１．５〜１．８の中間屈折率
物質からなる第４層の４層構造からなり、１６０層ｍ〜
４００層ｍの波長域に対して有効な反射防止膜に関する
。
本発明の反射防止膜は１６０〜４００層ｍの広範囲の紫
外領域の光に対して有効に機能する。
外領域の光に対して有効に機能する。
本発明の反射防止膜は第１図に示したように、入射媒質
側から、基板（５）より小さい屈折率を有する低屈折率
物質（以下単に低屈折率物質という）からなる膜を第１
層（１）、基板より大きい屈折率を有する中間屈折率物
質（以下単に中間屈折率物質という）からなる膜を第２
層（２）、低屈折率物質からなる膜を第３層（３）、高
屈折率物質からなる膜を第４層（４）としてレンズ基板
（５）上に形成した構成である。
側から、基板（５）より小さい屈折率を有する低屈折率
物質（以下単に低屈折率物質という）からなる膜を第１
層（１）、基板より大きい屈折率を有する中間屈折率物
質（以下単に中間屈折率物質という）からなる膜を第２
層（２）、低屈折率物質からなる膜を第３層（３）、高
屈折率物質からなる膜を第４層（４）としてレンズ基板
（５）上に形成した構成である。
本発明に使用できるレンズ基板（５）としては、屈折率
１．４７〜１．６０からなる物質、具体的には５ＩＣ）
ｅ、ＣａＦｔ、ＢＫ−７等から構成されるものを使用す
ることができる。
１．４７〜１．６０からなる物質、具体的には５ＩＣ）
ｅ、ＣａＦｔ、ＢＫ−７等から構成されるものを使用す
ることができる。
低屈折率物質としては屈折率が１．６以下の物質、例え
ばＭｇＦｇ、ＣａｒｔあるいはＳｉｎ、等を使用するこ
とができ、特にＭｇＦｇが好ましい。
ばＭｇＦｇ、ＣａｒｔあるいはＳｉｎ、等を使用するこ
とができ、特にＭｇＦｇが好ましい。
中間屈折率物質としては屈折率が１．５と１，８の間の
値を有する物質、例えばＬａＦａ、ｌ’ＪｄＦｓ、Ｓ
ｔｏｔ、 Ａ（ｂｏｘ、ＭｇＯ，ＹｔＯｓ等を使用する
ことができ、特にＬａＦ、、、Ａ Ｑ ＊ Ｏｓが好ま
しい。
値を有する物質、例えばＬａＦａ、ｌ’ＪｄＦｓ、Ｓ
ｔｏｔ、 Ａ（ｂｏｘ、ＭｇＯ，ＹｔＯｓ等を使用する
ことができ、特にＬａＦ、、、Ａ Ｑ ＊ Ｏｓが好ま
しい。
本発明においては、レンズ基板の種類にもよるが低屈折
率物質としてＭｇＦ、、中間屈折率物質としてＬａＦｓ
もしくはＡ Ｑ ｔ Ｏｓを組み合わせて使用するのが
好ましい。
率物質としてＭｇＦ、、中間屈折率物質としてＬａＦｓ
もしくはＡ Ｑ ｔ Ｏｓを組み合わせて使用するのが
好ましい。
また５ｌｏｔは低屈折率物質および中間屈折率物質の両
方に有効であるが、本発明の効果を得るためには低屈折
率物質として中間屈折率物質として両方にＳｉｏ＊を使
用することはできない。
方に有効であるが、本発明の効果を得るためには低屈折
率物質として中間屈折率物質として両方にＳｉｏ＊を使
用することはできない。
基板上の第４層は基板が構成される物質と異なる中間屈
折率物質を、厚さ約０．５０λｏ（λｏは設計主波長）
に形成する。本発明においては第４暦の厚さは±０．０
５λｏの範囲の誤差であれば許容できる。その誤差が±
０，０５λｏより大きくなると反射防止効果が劣化する
。
折率物質を、厚さ約０．５０λｏ（λｏは設計主波長）
に形成する。本発明においては第４暦の厚さは±０．０
５λｏの範囲の誤差であれば許容できる。その誤差が±
０，０５λｏより大きくなると反射防止効果が劣化する
。
第３層は第４層上に、厚さ約０．５０λｏの低屈折率物
質によって形成される。その厚さは±０゜０５λｏの範
囲の誤差であれば許容される。その誤差が±０．０５λ
ｏより大きくなると反射防止効果が劣化する。
質によって形成される。その厚さは±０゜０５λｏの範
囲の誤差であれば許容される。その誤差が±０．０５λ
ｏより大きくなると反射防止効果が劣化する。
第３層形成のための低屈折率物質は基板と同一物質を使
用することは可能である。
用することは可能である。
第２層は第３層上に、厚さ約０．２５λｏの中間屈折率
物質によって形成される。その膜厚は±０．０５λｏの
範囲の誤差であれば許容できる。その誤差が±０．０５
λｏより大きくなると反射防止効果が劣化する。
物質によって形成される。その膜厚は±０．０５λｏの
範囲の誤差であれば許容できる。その誤差が±０．０５
λｏより大きくなると反射防止効果が劣化する。
第２層形成のための中間屈折率物質は第４層形成に使用
した中間屈折率物質と同じ物質あるいは異なる物質のい
ずれをも使用可能であるが、材料の種類をなるべく少な
くして製造面で扱いやすくするため等の理由により第４
層と同一の物質を使用することが好ましい。
した中間屈折率物質と同じ物質あるいは異なる物質のい
ずれをも使用可能であるが、材料の種類をなるべく少な
くして製造面で扱いやすくするため等の理由により第４
層と同一の物質を使用することが好ましい。
第１層は第２層上に、低屈折率物質から厚さ約０．２５
λｏに形成される。その膜厚は±０６０５λｏの範囲の
誤差であれば許容できる。その誤差が±０．０５λｏよ
り大きくなると反射防止効果が劣化する。
λｏに形成される。その膜厚は±０６０５λｏの範囲の
誤差であれば許容できる。その誤差が±０．０５λｏよ
り大きくなると反射防止効果が劣化する。
第１層形成のための低屈折率物質は第３層形成に使用し
た低屈折率物質と同じ物質あるいは異なる物質のいずれ
をも使用可能であるが、材料の種類をなるべく少なくし
て製造面で扱いやすくする等の理由により第３層と同一
の物質を用いることか好ましい。
た低屈折率物質と同じ物質あるいは異なる物質のいずれ
をも使用可能であるが、材料の種類をなるべく少なくし
て製造面で扱いやすくする等の理由により第３層と同一
の物質を用いることか好ましい。
第１層から第４層の製造方法としては、公知の方法、例
えばイオンブレーティング法、スパッタリング法等の真
空蒸着法を使用することができる。
えばイオンブレーティング法、スパッタリング法等の真
空蒸着法を使用することができる。
真空蒸着法で反射防止膜を形成する場合、蒸着源はレン
ズから十分距離をおいて設置するのが好ましく、その場
合、曲面を有するレンズは、レンズ中心部と周辺部では
、レンズ中心部でのコート膜厚（ｄ、）とレンズ周辺部
でのコート膜厚（ｄ、）がｄｔ ＃ ｄ、ａｏＢθ、（
θ、はレンズ周辺上での中心軸とコート膜上の法線のな
す角度）の関係で、膜が形成されるため、周辺部の方が
薄い膜が形成される。そのため、レンズ中心部と周辺部
では反射防止に有効な波長域が異なってくる。しかし、
本発明の反射防止膜は本質的に広範囲の波長域の紫外線
に対して有効であるため、中心部と周辺部において反射
防止に有効な波長域に重なりが生じる。
ズから十分距離をおいて設置するのが好ましく、その場
合、曲面を有するレンズは、レンズ中心部と周辺部では
、レンズ中心部でのコート膜厚（ｄ、）とレンズ周辺部
でのコート膜厚（ｄ、）がｄｔ ＃ ｄ、ａｏＢθ、（
θ、はレンズ周辺上での中心軸とコート膜上の法線のな
す角度）の関係で、膜が形成されるため、周辺部の方が
薄い膜が形成される。そのため、レンズ中心部と周辺部
では反射防止に有効な波長域が異なってくる。しかし、
本発明の反射防止膜は本質的に広範囲の波長域の紫外線
に対して有効であるため、中心部と周辺部において反射
防止に有効な波長域に重なりが生じる。
従って、レンズ全面の反射防止に有効な波長域が結果と
して狭くなるが、反射防止膜はその狭くなった波長域で
、あるいはその範囲の特定の波長域で有効に利用するこ
とができる。この利点は特に、本発明の反射防止膜を、
レンズ曲率の大きいレンズ上に形成する時、あるいは工
業的に量産する時に有効である。
して狭くなるが、反射防止膜はその狭くなった波長域で
、あるいはその範囲の特定の波長域で有効に利用するこ
とができる。この利点は特に、本発明の反射防止膜を、
レンズ曲率の大きいレンズ上に形成する時、あるいは工
業的に量産する時に有効である。
実施例
レンズ基板上に、表１から表８に示した膜構成の反射防
止膜を件部した。
止膜を件部した。
得られたレンズの反射防止特性を第２図〜第９図に示し
た。
た。
表１ （膜構成ｌ）
λｏ＝２５５ｎａ： 入射角θ＝０９表２（膜構成２
） 表３（膜構成３） λｏ＝２５５ｎｍ； 入射角θ＝θ。
） 表３（膜構成３） λｏ＝２５５ｎｍ； 入射角θ＝θ。
表４（膜構成４）
λ、 ＝ ２５５ｎｍ； 入射角θ＝０９表５（膜構
成５） λｏ−３２０ｎｍ； 入射角θ・０゜表６（膜構成６
） λｏ＝３２０ｎｍ； 入射角θ＝０゜表７（膜構成７
） λｏ−１９０ｎ鳳； 入射角θ＝ｏ” 表８（膜構成８） λｏ＝ Ｌ９Ｑｎｍ； 入射角θ：０＠以上のように
して得られた膜構成１〜８の反射防止膜を有するレンズ
の反射防止特性を第２図〜第９図に示した。
成５） λｏ−３２０ｎｍ； 入射角θ・０゜表６（膜構成６
） λｏ＝３２０ｎｍ； 入射角θ＝０゜表７（膜構成７
） λｏ−１９０ｎ鳳； 入射角θ＝ｏ” 表８（膜構成８） λｏ＝ Ｌ９Ｑｎｍ； 入射角θ：０＠以上のように
して得られた膜構成１〜８の反射防止膜を有するレンズ
の反射防止特性を第２図〜第９図に示した。
本発明の反射防止膜は、例えば第２図から明らかなよう
に波長２１０〜３４０ｎｎ＋の広範囲の波長域で反射率
１％以下に押さえることができた。
に波長２１０〜３４０ｎｎ＋の広範囲の波長域で反射率
１％以下に押さえることができた。
発明の効果
本発明の反射防止膜は広範囲の紫外線波長領域において
有効である。
有効である。
本発明の反射防止膜を特定の波長あるいは狭い波長域で
用いる場合は、本発明の反射防止膜を、レンズ曲率の大
きいレンズに形成するとき、あるいは工業的に量産する
とき等に製造的な有利さが得られる。
用いる場合は、本発明の反射防止膜を、レンズ曲率の大
きいレンズに形成するとき、あるいは工業的に量産する
とき等に製造的な有利さが得られる。
第１図は本発明の反射防止膜の構成例を示す模式的断面
図である。 第２図から第９図は反射防止特性を示す図である。 ■・・・第１層 ２・・・第２層３・・・第３層
４・・・第４層５・・・レンズ基板 特許出願人 ミノルタカメラ株式会社 代 理 人 弁理士 前出 葆ほか２名第１図 入射幌其俣・Ｊ 出射螺質９１ 第２図 壕掻＋ｎｍＪ 第３図 ３度−１ｉ （ｎｍｌ 第４因 線長＋ｎｍ ＋ 第５図 徨長ｆｎｍｌ 第６図 線長ｆｎｍ＋ 第７図 第８図 彼纂（ｎｍｌ 第９図 ａ−
図である。 第２図から第９図は反射防止特性を示す図である。 ■・・・第１層 ２・・・第２層３・・・第３層
４・・・第４層５・・・レンズ基板 特許出願人 ミノルタカメラ株式会社 代 理 人 弁理士 前出 葆ほか２名第１図 入射幌其俣・Ｊ 出射螺質９１ 第２図 壕掻＋ｎｍＪ 第３図 ３度−１ｉ （ｎｍｌ 第４因 線長＋ｎｍ ＋ 第５図 徨長ｆｎｍｌ 第６図 線長ｆｎｍ＋ 第７図 第８図 彼纂（ｎｍｌ 第９図 ａ−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、入射媒質側から基板側へ順に、基板よりも低い屈折
率を有する低屈折率物質からなる第１層、屈折率が１．
５〜１．８の中間屈折率物質からなる第２層、基板より
も低い屈折率を有する低屈折率物質からなる第３層、及
び屈折率が１．５〜１．８の中間屈折率物質からなる第
４層の４層構造からなり、１６０ｎｍ〜４００ｎｍの波
長域に対して有効な反射防止膜。 ２、低屈折率物質が１．６以下の屈折率を有する特許請
求の範囲第１項記載の反射防止膜。 ３、低屈折率物質がＭｇＦ＿２、ＣａＦ＿２、ＳｉＯ＿
２からなるグループから選ばれる物質であり、中間屈折
率物質がＬａＦ＿３、ＮｄＦ＿３、ＳｉＯ＿２、Ａｌ＿
２Ｏ＿３、ＭｇＯ、Ｙ＿２Ｏ＿３からなるグループから
選ばれる物質で、低屈折率物質と中間屈折率物質として
同時にＳｉＯ＿２が選ばれることがない特許請求の範囲
第１項記載の反射防止膜。 ４、第１層及び第２層が設計主波長（λ＿ｏ）に対して
それぞれ約０．２５λ＿ｏの光学的膜厚を有し、第３層
及び第４層が設計主波長（λ＿ｏ）に対してそれぞれ約
０．５０λ＿ｏの光学的膜厚を有する特許請求の範囲第
１項記載の反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62121641A JP2638806B2 (ja) | 1987-05-18 | 1987-05-18 | 反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62121641A JP2638806B2 (ja) | 1987-05-18 | 1987-05-18 | 反射防止膜 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63285501A true JPS63285501A (ja) | 1988-11-22 |
| JP2638806B2 JP2638806B2 (ja) | 1997-08-06 |
Family
ID=14816283
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62121641A Expired - Fee Related JP2638806B2 (ja) | 1987-05-18 | 1987-05-18 | 反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2638806B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09329702A (ja) * | 1996-06-10 | 1997-12-22 | Nikon Corp | 反射防止膜 |
| JPH11142606A (ja) * | 1997-11-13 | 1999-05-28 | Canon Inc | 反射防止膜及びその製造方法 |
| JP2002156507A (ja) * | 2000-11-16 | 2002-05-31 | Canon Inc | 反射防止膜および光学素子 |
| JP2003149406A (ja) * | 2002-07-12 | 2003-05-21 | Topcon Corp | 赤外反射防止膜 |
| EP1215512A3 (de) * | 2000-12-15 | 2003-06-11 | Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technologies Ag | Reflexionsminderungsbeschichtung für Ultraviolettlicht bei grossen Einfallswinkeln |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63113502A (ja) * | 1986-10-31 | 1988-05-18 | Canon Inc | 反射防止膜 |
-
1987
- 1987-05-18 JP JP62121641A patent/JP2638806B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63113502A (ja) * | 1986-10-31 | 1988-05-18 | Canon Inc | 反射防止膜 |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09329702A (ja) * | 1996-06-10 | 1997-12-22 | Nikon Corp | 反射防止膜 |
| JPH11142606A (ja) * | 1997-11-13 | 1999-05-28 | Canon Inc | 反射防止膜及びその製造方法 |
| JP2002156507A (ja) * | 2000-11-16 | 2002-05-31 | Canon Inc | 反射防止膜および光学素子 |
| EP1215512A3 (de) * | 2000-12-15 | 2003-06-11 | Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technologies Ag | Reflexionsminderungsbeschichtung für Ultraviolettlicht bei grossen Einfallswinkeln |
| US6697194B2 (en) | 2000-12-15 | 2004-02-24 | Carl Zeiss Smt Ag | Antireflection coating for ultraviolet light at large angles of incidence |
| US6967771B2 (en) | 2000-12-15 | 2005-11-22 | Carl Zeiss Smt Ag | Antireflection coating for ultraviolet light at large angles of incidence |
| JP2003149406A (ja) * | 2002-07-12 | 2003-05-21 | Topcon Corp | 赤外反射防止膜 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2638806B2 (ja) | 1997-08-06 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5850309A (en) | Mirror for high-intensity ultraviolet light beam | |
| JPS6038681B2 (ja) | 紫外用多層膜 | |
| US5963365A (en) | three layer anti-reflective coating for optical substrate | |
| US6947209B2 (en) | Antireflection film and optical element having the same | |
| JP2002286909A (ja) | 紫外線反射防止コーティング | |
| JPS63285501A (ja) | 反射防止膜 | |
| JP2007206172A (ja) | 撮像系光学素子 | |
| JP2002107506A (ja) | 反射防止膜およびこれを用いた光学部品 | |
| JPH10253802A (ja) | 反射防止膜 | |
| JP2590924B2 (ja) | 反射防止膜 | |
| JPH052101A (ja) | 光学部品 | |
| JP2586527B2 (ja) | 反射防止膜 | |
| JP2001194506A (ja) | 紫外および真空紫外領域の反射防止基体 | |
| JP2001100002A (ja) | 反射防止膜及びそれを用いた光学部材 | |
| JP2000357654A (ja) | 反射防止膜、光学素子、露光装置、及び電子物品 | |
| JP2586509B2 (ja) | 反射防止膜 | |
| JPH07244217A (ja) | 反射防止膜 | |
| JPH0247722B2 (ja) | ||
| JPS6032001A (ja) | 反射防止膜 | |
| US6396626B1 (en) | Antireflection film and optical element coated with the antireflection film | |
| JPS63204259A (ja) | マスク | |
| JPH03215803A (ja) | 帯域フィルター | |
| EP0994368A2 (en) | Anti-reflective films, optical elements and reduction-projection exposure apparatus utilizing same | |
| JP3044359B2 (ja) | 多層反射防止膜が施された光学系 | |
| JPS62127701A (ja) | 反射防止膜 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |