JPS6341536A - 芳香族ペルオキシエステル基を有するポリシロキサン化合物 - Google Patents
芳香族ペルオキシエステル基を有するポリシロキサン化合物Info
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- JPS6341536A JPS6341536A JP18526086A JP18526086A JPS6341536A JP S6341536 A JPS6341536 A JP S6341536A JP 18526086 A JP18526086 A JP 18526086A JP 18526086 A JP18526086 A JP 18526086A JP S6341536 A JPS6341536 A JP S6341536A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は分子の両末端に芳香族ペルオギンエステル基な
有するポリシルキサン化合物して関−する。
有するポリシルキサン化合物して関−する。
従来より分子内にペルオキシ基を有する、）ミリシルキ
サン化合物はいくつか合成されてとた。
サン化合物はいくつか合成されてとた。
たとえば、ブイ参エイ・ヤブｐコフ（■・Ａ・Ｙａｂｌ
ｏｋｏｖ ） ラＩｔ、ジャーナル・オシ・’／’ ｘ
％ ？ルーケミストリー・オプージ・ニーｅニス゛エ
フ、・アール（Ｊ、Ｇｅｎ、Ｃｈｅｍ、ＵＳＳＲ’ｌ
４７巻、２３２８頁（１９７７）において、乾燥アン
七二γガスの存在下でりｐμシクーシロキサンとタープ
ヤリ−ブチルヒドロペルオキシドとを反応させろことに
より下記式 ％式％） で示されるターシャリ−ブチルペルオキシメチルシクロ
ポリシロキサンを得たことを報告している。
ｏｋｏｖ ） ラＩｔ、ジャーナル・オシ・’／’ ｘ
％ ？ルーケミストリー・オプージ・ニーｅニス゛エ
フ、・アール（Ｊ、Ｇｅｎ、Ｃｈｅｍ、ＵＳＳＲ’ｌ
４７巻、２３２８頁（１９７７）において、乾燥アン
七二γガスの存在下でりｐμシクーシロキサンとタープ
ヤリ−ブチルヒドロペルオキシドとを反応させろことに
より下記式 ％式％） で示されるターシャリ−ブチルペルオキシメチルシクロ
ポリシロキサンを得たことを報告している。
また、エル・ブイやシュムニイ（ＬＬＩＶ−８ｈｕ−ｍ
ｕｎｙｌ ）らは、ケミカル噂アブストラクト［：Ｃｈ
ｅｍ。
ｕｎｙｌ ）らは、ケミカル噂アブストラクト［：Ｃｈ
ｅｍ。
Ａｂｓｔ、］ １００巻％１７６２２４ｙにおいて、ピ
リジンの存在下でα、ω−ジクｐｒ＋オリゴジメチルシ
ロキサンと２−ターシャリ−ブチルペルオキシエタノー
ルとを反応させることによりで示されるα、ω−ビス−
ターシャリ−ブチルペルオキシエトキシオリゴジメチル
シロキサン（平均分子量は約６０００）を得たことな報
告している。
リジンの存在下でα、ω−ジクｐｒ＋オリゴジメチルシ
ロキサンと２−ターシャリ−ブチルペルオキシエタノー
ルとを反応させることによりで示されるα、ω−ビス−
ターシャリ−ブチルペルオキシエトキシオリゴジメチル
シロキサン（平均分子量は約６０００）を得たことな報
告している。
また、ブイ・１イ・ヤプμコフ（■・Ａ−Ｙａｂｌｏ−
ｋＯＶ）らは、ジャーナル・オブ・ジェネラルΦケミス
トリー優オブ・ジ・ニーＯニスｅニス・アールＣＪ、Ｇ
ｅｎ、Ｃｈｅｍ、ＵＳＳＲ〕４７巻、１６３３ｉ（１９
７７）において、乾燥アンモニアガスの存在下で１，１
１−ジクロμｍ１．１，３，３゜５．５，７，７，９，
９，１１．１１−ドデカメチルシルキサンとターシャリ
−ブチルヒドロペルオキシドとを反応させることＫより
下記式で示されろ１，１１−ビス−ターシャリ−ブチル
ペルオキシ−１，１，３，３，５，５，７，７゜９．９
，１１．１１−ドデカメチルシルキサンを得たことな報
告している。
ｋＯＶ）らは、ジャーナル・オブ・ジェネラルΦケミス
トリー優オブ・ジ・ニーＯニスｅニス・アールＣＪ、Ｇ
ｅｎ、Ｃｈｅｍ、ＵＳＳＲ〕４７巻、１６３３ｉ（１９
７７）において、乾燥アンモニアガスの存在下で１，１
１−ジクロμｍ１．１，３，３゜５．５，７，７，９，
９，１１．１１−ドデカメチルシルキサンとターシャリ
−ブチルヒドロペルオキシドとを反応させることＫより
下記式で示されろ１，１１−ビス−ターシャリ−ブチル
ペルオキシ−１，１，３，３，５，５，７，７゜９．９
，１１．１１−ドデカメチルシルキサンを得たことな報
告している。
しかしながら従来の分子内にペルオキシ基を有するポリ
シロキサン化合物はペルオキシ基が直接ケイ素原子に結
合していたり（ジャーナル番オプージェネラル・クミス
トリー・オプ・ジ・ニー・ニス−ニス−アール（Ｊ 、
Ｇｅｎ 、Ｃｈｅｍ 、 ＵＳＳＲ）４７巻、１６３
３頁（１９７７）および４７巻、２３２８頁（１９７７
））、−級と三級のジアルキル型ペルオキシドであった
り（ケミカル噂アブストラクト（Ｃｈｅｍ、Ａｂ＠ｔ、
１ １００巻、１７６２２４Ｆ）したためＫｆ）解温度
が高すぎて、ビニル型モノマーの有効なラジカル取合開
始剤となりえない欠点な持っていた。
シロキサン化合物はペルオキシ基が直接ケイ素原子に結
合していたり（ジャーナル番オプージェネラル・クミス
トリー・オプ・ジ・ニー・ニス−ニス−アール（Ｊ 、
Ｇｅｎ 、Ｃｈｅｍ 、 ＵＳＳＲ）４７巻、１６３
３頁（１９７７）および４７巻、２３２８頁（１９７７
））、−級と三級のジアルキル型ペルオキシドであった
り（ケミカル噂アブストラクト（Ｃｈｅｍ、Ａｂ＠ｔ、
１ １００巻、１７６２２４Ｆ）したためＫｆ）解温度
が高すぎて、ビニル型モノマーの有効なラジカル取合開
始剤となりえない欠点な持っていた。
ビニルをモノマーの有効なラジカル重合開始剤とｔ「り
える有機ペルオキシドは、通常２０〜１２０Ｃの半減期
１０時間を得るｍ度を有している。
える有機ペルオキシドは、通常２０〜１２０Ｃの半減期
１０時間を得るｍ度を有している。
本発明の主目的はビニル型モノマーの有効なラジカル重
合開始剤および光重合開始剤となりえる芳香族ペルオキ
シエステル基を分子内に有するポリシロキサン化合物を
提供することにある。
合開始剤および光重合開始剤となりえる芳香族ペルオキ
シエステル基を分子内に有するポリシロキサン化合物を
提供することにある。
本発明の他の目的は共重合体の一成分として使用できる
官能基な備えたポリシロキサン化合物を提供することに
ある。
官能基な備えたポリシロキサン化合物を提供することに
ある。
本発明の目的はその分子の両末端忙芳香族ペルオキシエ
ステル基を有するポリシーキサン化合物によって達成さ
れる。
ステル基を有するポリシーキサン化合物によって達成さ
れる。
本発明による分子の両末端に芳香族ペルオキシエステル
基を有するポリシロキサン化合物は新規な化合物であり
、次の一般式で表わされる。
基を有するポリシロキサン化合物は新規な化合物であり
、次の一般式で表わされる。
（式中、Ｒ１は炭素数４〜８のターシャリ−アル−（−
ＣＨ２４３基または−（ＣＨ２）２０（ＣＨ２）３−基
を表わす。また、ｍは１〜３で、ｎは１〜２００である
。） 以下、本発明につとさらに詳細に説明する。
ＣＨ２４３基または−（ＣＨ２）２０（ＣＨ２）３−基
を表わす。また、ｍは１〜３で、ｎは１〜２００である
。） 以下、本発明につとさらに詳細に説明する。
本発明では下記一般式にて示される新規なポリシーキサ
ン化合物が提供される。
ン化合物が提供される。
（式中、Ｒ１は炭素数４〜８のターシャリ−アルは−（
−ＣＨ２→−３基または−（ＣＨ２）２０（ＣＨ２）３
−基を表わす。また、ｍは１〜３で、ｎは１〜２００で
ある。） すなわち、上記一般式中のＲ，としては、たとえば−〇
（ＣＨ３）３、−Ｃ（ＣＨａ ）２ＣＨ２ＣＨ３，−Ｃ
（Ｃ１ｆｓ ）ｚｃＩＬ２ＣＨ２ＣＨ，、または−Ｃ（
ＣＨ３）ｚｃＨｚｃ（ＣＨｇ ）３があげられろ。Ｒ１
の炭素数が９以上となると、原料入手が難しく、合成が
困難となる。
−ＣＨ２→−３基または−（ＣＨ２）２０（ＣＨ２）３
−基を表わす。また、ｍは１〜３で、ｎは１〜２００で
ある。） すなわち、上記一般式中のＲ，としては、たとえば−〇
（ＣＨ３）３、−Ｃ（ＣＨａ ）２ＣＨ２ＣＨ３，−Ｃ
（Ｃ１ｆｓ ）ｚｃＩＬ２ＣＨ２ＣＨ，、または−Ｃ（
ＣＨ３）ｚｃＨｚｃ（ＣＨｇ ）３があげられろ。Ｒ１
の炭素数が９以上となると、原料入手が難しく、合成が
困難となる。
＋８１ （ＣＨｉ ）２０輻のｎは１〜２００、好まし
くは５〜１００である。ｍが２００をへえると分子量が
大きくなりすぎ、ペルオキシド化が困難となる。
くは５〜１００である。ｍが２００をへえると分子量が
大きくなりすぎ、ペルオキシド化が困難となる。
本発明のポリシロキサン化合物は次に示す（１）か、、
（ム、−，ｊよ、□オ６３９、ア、お。
（ム、−，ｊよ、□オ６３９、ア、お。
（１）三官能ヒト戸ギシル末端ポリシロキサンと芳香族
三塩基性酸塩化物とから製造する場合には、下記反応式
で示すようにまず三官能ヒドロキシル末端ボリンｐキサ
ン（１’）と芳香族三塩基性酸塩化物（■）とを乾燥窒
素気流下、ベンゼン、トルエンなどの有機溶剤の存在下
で脱塩酸反応させ、分子内にりＩ：＋ｐルアシルを有す
るポリシロキサン（１）を製造する。
三塩基性酸塩化物とから製造する場合には、下記反応式
で示すようにまず三官能ヒドロキシル末端ボリンｐキサ
ン（１’）と芳香族三塩基性酸塩化物（■）とを乾燥窒
素気流下、ベンゼン、トルエンなどの有機溶剤の存在下
で脱塩酸反応させ、分子内にりＩ：＋ｐルアシルを有す
るポリシロキサン（１）を製造する。
上記反応の反応温度は４０〜９０’ｆｌが好７日−＜、
反応時間は３〜５時間が好ましい。（ｎ）としては、次
いで、常法により、この（彊）と′４ｊ機ヒｌ’ｐペル
オキシド（［Ｖ）をピリジンなどの塩基お」″びベンゼ
ン、トルエン、キシレンなど’ 有機溶剤の存在下で脱
塩酸反応させることにより、下記反応式で示されるよう
に分子の両末端に芳香族ペルオキシエステル基を有する
ボリンρ・Ａ−サン化合物（Ｖ）が生成する。
反応時間は３〜５時間が好ましい。（ｎ）としては、次
いで、常法により、この（彊）と′４ｊ機ヒｌ’ｐペル
オキシド（［Ｖ）をピリジンなどの塩基お」″びベンゼ
ン、トルエン、キシレンなど’ 有機溶剤の存在下で脱
塩酸反応させることにより、下記反応式で示されるよう
に分子の両末端に芳香族ペルオキシエステル基を有する
ボリンρ・Ａ−サン化合物（Ｖ）が生成する。
（■）
（ここで、Ｒ１は炭素数４〜８のターシャリ−アルキル
基を表わし、Ｒ’２はフェニレン基を表わし、Ｒ３は−
（ＣＨ２）ａ−基または−（ＣＨ２）２０（ＣＨ２）ａ
−基を表わす。また、ｎは１〜２００であム）（２）酸
成分として、芳香ｄ基性酸無水物塩化物を用いて製造す
る場合には、まず二官能ヒドロキシル末端ポリシロキザ
ン（１）と芳香扁ヒ基性酸無水物塩化物（Ｈ′）とを乾
燥窒素気流下、ベンゼン、トルエンなどの有機溶剤存在
下で脱塩酸反応させ、分子内に酸無水物基を有するポリ
シロキサン（薯）を製造する。
基を表わし、Ｒ’２はフェニレン基を表わし、Ｒ３は−
（ＣＨ２）ａ−基または−（ＣＨ２）２０（ＣＨ２）ａ
−基を表わす。また、ｎは１〜２００であム）（２）酸
成分として、芳香ｄ基性酸無水物塩化物を用いて製造す
る場合には、まず二官能ヒドロキシル末端ポリシロキザ
ン（１）と芳香扁ヒ基性酸無水物塩化物（Ｈ′）とを乾
燥窒素気流下、ベンゼン、トルエンなどの有機溶剤存在
下で脱塩酸反応させ、分子内に酸無水物基を有するポリ
シロキサン（薯）を製造する。
（１） （１１’）
上記反応の反応温度は４０〜６０°Ｃで好守しく、反応
時間は３〜６時間が好ましい。（■″）としては、たと
えば無水トリメリット酸塩化物などがあげられる。
時間は３〜６時間が好ましい。（■″）としては、たと
えば無水トリメリット酸塩化物などがあげられる。
次にこの（璽′）を常法により、乾燥窒素気流下、塩素
化剤（■゛）およびベンゼン、トルエン、ジオキサンな
どの有機溶剤の存在下で塩素化反応させ、分子内にりｐ
ｐルアシルを有するポリシロキサン（Ｖ′）を製造する
。
化剤（■゛）およびベンゼン、トルエン、ジオキサンな
どの有機溶剤の存在下で塩素化反応させ、分子内にりｐ
ｐルアシルを有するポリシロキサン（Ｖ′）を製造する
。
＝１０−
０ （Ｉ、）。
０（■・） ０
上記反応は公知の醒塩化物の場合とほぼ同様の反応条件
でさしつかえない。反応温度は４０〜８０°Ｃが好まし
く、反応時間は１〜５時間が好ましい。また、（■′）
と（ｒｖｌ）のモル比は１：１〜５が好ましい。（■′
）としては、たとえば、塩化チオニル、三塩化リン、五
塩化リンなどがあげられる。
でさしつかえない。反応温度は４０〜８０°Ｃが好まし
く、反応時間は１〜５時間が好ましい。また、（■′）
と（ｒｖｌ）のモル比は１：１〜５が好ましい。（■′
）としては、たとえば、塩化チオニル、三塩化リン、五
塩化リンなどがあげられる。
さらに常法により、この（Ｖ′）と有機ヒドロペルオキ
シド（Ｖｌ）をピリジンなどの塩基およびベンゼン、ト
ルエン、キシレンなどの有機溶剤の存在下で脱塩酸反応
させることにより下記反応式で示される分子の両末端に
芳香族ペルオキシエステル基を有するポリシーキサン化
合物（Ｖｌｌ’）が生成する。
シド（Ｖｌ）をピリジンなどの塩基およびベンゼン、ト
ルエン、キシレンなどの有機溶剤の存在下で脱塩酸反応
させることにより下記反応式で示される分子の両末端に
芳香族ペルオキシエステル基を有するポリシーキサン化
合物（Ｖｌｌ’）が生成する。
（Ｖｌｌ’）
（ここでＲ１は炭素数４〜８のターシャリ−アバ−（Ｃ
Ｈｇ ）ｍ−基またｆ！ −（ＣＨ２）２０（ＣＨ２）
３−基をとをベンゼン、トルエン、ジオキサン、ピリジ
ンなどの有機溶剤の存在下で開環反応させ、分子内にカ
ルボキシル基を有するポリシルキサン（冒′）を製造す
る。
Ｈｇ ）ｍ−基またｆ！ −（ＣＨ２）２０（ＣＨ２）
３−基をとをベンゼン、トルエン、ジオキサン、ピリジ
ンなどの有機溶剤の存在下で開環反応させ、分子内にカ
ルボキシル基を有するポリシルキサン（冒′）を製造す
る。
（１”）（ｎつ
ＩＩ １１
〇
上記反応の反応温度は５０〜１２０°Ｃが好ましく、反
応時間は３〜１０時間が好ましい。また、（「）として
は、無水フタル酸、無水トリメリット酸、二無水ビーメ
リット酸、二無水３，３：４．４′−ベンゾフェノンテ
トラカルポン酸などがあげられる。
応時間は３〜１０時間が好ましい。また、（「）として
は、無水フタル酸、無水トリメリット酸、二無水ビーメ
リット酸、二無水３，３：４．４′−ベンゾフェノンテ
トラカルポン酸などがあげられる。
以下（２）で示した方法と同様の方法で分子の両末端に
芳香族ペルオキシエステル基を冶するポリシーキサン（
Ｗ）を製造することができる。
芳香族ペルオキシエステル基を冶するポリシーキサン（
Ｗ）を製造することができる。
（ｒ）
（ここでｓ Ｒ１は炭素数４〜８のターシャリ−Ｒ３は
−（ＣＨ２）８基または−（ＣＨ２）２０（ＣＨ２）ａ
−基を表わす。また、ｍは１〜３で、ｎは１〜２００で
ある。） 〔発明の効果〕 本発明による分子の両末端に芳香族ペルオキシエステル
基を有するポリシロキサン化合物中にペルオキシ結合は
、従来のペルオキシ基を有するポリシロキサン化合物中
のペルオキシ結合に比べて熱分解速度が速く、ビニル型
モノマーの有効なラジカル重合開始剤となりえる有機ペ
ルオキシドと同等の半減期１０時間を得る温度を有する
という優れた性質を持っている。また、本発明のポリシ
ロキサン化合物中のペルオキシ基は２１０〜３５ＴＩ’
ｌ’ｌ＋ Ｏ弯に紫外線吸収領域を有するので、光重合開始剤とし
て用いることができる。さらに、本発明のポリシーキサ
ン化合物は活性官能基であるペルオキシ基を有するので
、共重合体の一成分原料として用いることができる。
−（ＣＨ２）８基または−（ＣＨ２）２０（ＣＨ２）ａ
−基を表わす。また、ｍは１〜３で、ｎは１〜２００で
ある。） 〔発明の効果〕 本発明による分子の両末端に芳香族ペルオキシエステル
基を有するポリシロキサン化合物中にペルオキシ結合は
、従来のペルオキシ基を有するポリシロキサン化合物中
のペルオキシ結合に比べて熱分解速度が速く、ビニル型
モノマーの有効なラジカル重合開始剤となりえる有機ペ
ルオキシドと同等の半減期１０時間を得る温度を有する
という優れた性質を持っている。また、本発明のポリシ
ロキサン化合物中のペルオキシ基は２１０〜３５ＴＩ’
ｌ’ｌ＋ Ｏ弯に紫外線吸収領域を有するので、光重合開始剤とし
て用いることができる。さらに、本発明のポリシーキサ
ン化合物は活性官能基であるペルオキシ基を有するので
、共重合体の一成分原料として用いることができる。
次に実施例により本発明を説、明する。
実施例１
かきまぜ機および還流冷却器な備晃た四ツ１」フラスコ
に平均分子量９００のα、ω−ビス−（２−ヒドρキシ
）エトキシプルピルポリジメチルシロキサン１９．５１
（０，０２モル）、インフタル酸塩化物（純度９９係
） ８．１１ （０，０４モル）およびベンゼン２９
ｍｌを導入した。これに乾燥窒素を吹き込みながら反応
温度８０°Ｃで３時間反応させた。次いで４０〜４５°
Ｃで１時間水流ポンプで吸引して１０〜２０ｍＨｇの減
圧度に保ち、ベンゼンを除去した。かくして無色透明液
体の分子内にりＰρアシル基を有するポリジメチルシル
キサン１９．７Ｊ’（純度９９チ、収率９７％）を得た
。
に平均分子量９００のα、ω−ビス−（２−ヒドρキシ
）エトキシプルピルポリジメチルシロキサン１９．５１
（０，０２モル）、インフタル酸塩化物（純度９９係
） ８．１１ （０，０４モル）およびベンゼン２９
ｍｌを導入した。これに乾燥窒素を吹き込みながら反応
温度８０°Ｃで３時間反応させた。次いで４０〜４５°
Ｃで１時間水流ポンプで吸引して１０〜２０ｍＨｇの減
圧度に保ち、ベンゼンを除去した。かくして無色透明液
体の分子内にりＰρアシル基を有するポリジメチルシル
キサン１９．７Ｊ’（純度９９チ、収率９７％）を得た
。
次にかぎまぜ機を備えた四ツ目フラスコにターシャリ−
ブチルヒドロペルオキシド（純度９７１）５、６ ｆ
（０，０６モル）、ピリジン（純度９９憾）４、８１
（０，０６モル）、およびキシレン２０１１４を導入し
た。これに先の反応で得たクロロアシル基を有するボリ
シρキサン１９７１を攪拌下に５〜１０°Ｃで少しずつ
加えた。次いで２０〜２５°Ｃで５時間攪拌した後、生
成したピリジン塩酸塩を濾過により分離した。そし′１
：得られた液状物な飽和食塩水で２回洗浄した後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。さらに無水硫酸マグネシ
ウムな濾過で分離後、真空下で過剰のターシャリ−ブチ
ルヒドロペルオキシド、ピリジン、およびキシレンを除
去し、２０．５１の無色透明液体を得た。
ブチルヒドロペルオキシド（純度９７１）５、６ ｆ
（０，０６モル）、ピリジン（純度９９憾）４、８１
（０，０６モル）、およびキシレン２０１１４を導入し
た。これに先の反応で得たクロロアシル基を有するボリ
シρキサン１９７１を攪拌下に５〜１０°Ｃで少しずつ
加えた。次いで２０〜２５°Ｃで５時間攪拌した後、生
成したピリジン塩酸塩を濾過により分離した。そし′１
：得られた液状物な飽和食塩水で２回洗浄した後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥した。さらに無水硫酸マグネシ
ウムな濾過で分離後、真空下で過剰のターシャリ−ブチ
ルヒドロペルオキシド、ピリジン、およびキシレンを除
去し、２０．５１の無色透明液体を得た。
かくして得た無色透明液体について、活性酸素量（ヨー
ド滴定法で測定）、ペルオキシ結合の半減期１０時間を
得る温度（ペルオキシ基初濃度を０、１ ｍ／ 、／−
とし、ベンゼン溶媒中で測定）、数平均分子駄（高滓製
作所高速液体りｐマドグラフィー（１）ＥＴＥＣＴＯＲ
：ＲＩＬ）−２Ａ、ＰＵＭＰ：ＬＣ−５Ａ）で測定）、
紫外線吸収スペクトル（日本分光製ＵＶＩＤＥＣ−５０
５で測定）、光分解特性（英光社製メリーゴーランド型
照射装置〔光源： ４５０Ｗ、照射距離ニア５ｍ）で測
定）。
ド滴定法で測定）、ペルオキシ結合の半減期１０時間を
得る温度（ペルオキシ基初濃度を０、１ ｍ／ 、／−
とし、ベンゼン溶媒中で測定）、数平均分子駄（高滓製
作所高速液体りｐマドグラフィー（１）ＥＴＥＣＴＯＲ
：ＲＩＬ）−２Ａ、ＰＵＭＰ：ＬＣ−５Ａ）で測定）、
紫外線吸収スペクトル（日本分光製ＵＶＩＤＥＣ−５０
５で測定）、光分解特性（英光社製メリーゴーランド型
照射装置〔光源： ４５０Ｗ、照射距離ニア５ｍ）で測
定）。
赤外線吸収スペクトル（日本分光製ＩＲ−８１０型赤外
分光光度針で測定）、および核磁気共鳴吸収スペクトル
（日本電子表ＦＸ９０Ｑ ＦＴ−ＮＭＲ装置で測定）
を測定したところ、下記に示す特性値を示し、構造式（
Ａ）で表わされる分子の両末端に芳香族ペルオキシエス
テル基を有するポリジメチルシロキサン化合物と確認さ
れた。
分光光度針で測定）、および核磁気共鳴吸収スペクトル
（日本電子表ＦＸ９０Ｑ ＦＴ−ＮＭＲ装置で測定）
を測定したところ、下記に示す特性値を示し、構造式（
Ａ）で表わされる分子の両末端に芳香族ペルオキシエス
テル基を有するポリジメチルシロキサン化合物と確認さ
れた。
＝１７−
（ｇ）
（Ａ）
活性酸素量 ２１３％ペルオキシ
結合の半減期 １０時間を得る温度 １０４．２ Ｃ数平均分
子量 １４００紫外線吸収スペクトル
２２８ｎｍ（ε＝１５７００）、２７２ｎｍ（ε＝
１２００）光分解特性 ３０分間光照射によりペル
オキシエステル基の５４優が分解 赤外線吸収スペクトル １７７０７ｍ−’（ペルオキ
シエステル基のＣ−０結合）、１１００１００−ｌ０３
０’（８１０Ｓｉ結合）１２７０α−’（ＳＩ−ＣＨ３
結合） 核磁気共鳴吸収スペクトル ０．０８ ｐｐｍ ５０Ｈ（ａ） ０、４５ ｐｐｍ ５ Ｈｆｂ） １．４０ｐｐｍ ２０８（ｃｌ １、６０ ｐｐｍ ５ Ｈｆｄ１ ３．５０ ｐｐｍ １０Ｈ（ｅ１ ４、５０ ｐｐｍ ５ Ｈ（ｆ） ７．５０〜８．６０ｐｐｍ ＩＯＨ（ｇ）実施例２ ターシャリ−ブチルヒドロペルオキシドのかわりにター
シャリ−ヘキシルヒドロペルオキシド（純度９５％）
７．２ Ｆ （０，０６モル）を用いる以外は実施例１
に述べた製造方法と同様の方法で操作して無色透明液体
２０４Ｆを得た。この無色透明液体について実施例１と
同様の物性を測定したところ、下記に示す特性値を示し
、構造式（Ｂ）で表わされる分子の両末端に芳香族ペル
オキシエステル基を有するポリジメチルシルキサン化合
物と確認された。
結合の半減期 １０時間を得る温度 １０４．２ Ｃ数平均分
子量 １４００紫外線吸収スペクトル
２２８ｎｍ（ε＝１５７００）、２７２ｎｍ（ε＝
１２００）光分解特性 ３０分間光照射によりペル
オキシエステル基の５４優が分解 赤外線吸収スペクトル １７７０７ｍ−’（ペルオキ
シエステル基のＣ−０結合）、１１００１００−ｌ０３
０’（８１０Ｓｉ結合）１２７０α−’（ＳＩ−ＣＨ３
結合） 核磁気共鳴吸収スペクトル ０．０８ ｐｐｍ ５０Ｈ（ａ） ０、４５ ｐｐｍ ５ Ｈｆｂ） １．４０ｐｐｍ ２０８（ｃｌ １、６０ ｐｐｍ ５ Ｈｆｄ１ ３．５０ ｐｐｍ １０Ｈ（ｅ１ ４、５０ ｐｐｍ ５ Ｈ（ｆ） ７．５０〜８．６０ｐｐｍ ＩＯＨ（ｇ）実施例２ ターシャリ−ブチルヒドロペルオキシドのかわりにター
シャリ−ヘキシルヒドロペルオキシド（純度９５％）
７．２ Ｆ （０，０６モル）を用いる以外は実施例１
に述べた製造方法と同様の方法で操作して無色透明液体
２０４Ｆを得た。この無色透明液体について実施例１と
同様の物性を測定したところ、下記に示す特性値を示し
、構造式（Ｂ）で表わされる分子の両末端に芳香族ペル
オキシエステル基を有するポリジメチルシルキサン化合
物と確認された。
■
ＣＨ３
（ｄ）
（Ｂ）
活性酸素量 ２．０１チペルオキ
シ結合の半減期 １０時間な得る温間 １０２．８ｉ７数平均分
子量 １４５０紫外線吸収スペクト
ル ２２５ｎｍ（ε＝１５２００．２７３ｎｍ（ｇ
＝１２００）光分解特性 ３０分間光照射により
ペルオキシエステル基が５２％分解 赤外線吸収スペクトル １７７０ｆｆｉ−１（ペルオ
キシエステル基のＣ＝０結合）、 １１００〜１０３０ ｍ−’ （５ｌ−０−８１結合）
、１２７０ ｃｍ−’ （８１ＣＨ３結合）核磁気共鳴
吸収スペクトル ０、０８ ｐｐｍ ５０ Ｈ（ａ） ０、４５ ｐｐｍ ５ Ｈ（ｂ） ０、８８ ｐｐｍ ５ Ｈ（ｃｌ ｌ、４０ ｐｐｍ １０Ｈ（ｄ） １．５１ ｐｐｍ １０Ｈ（ｅ） １．６０ｐｐｍ ５Ｈ（ず）３．５０
ｐｐｍ １０Ｈ（ｇ） ４、５０ ｐｐｍ ５ Ｈ（ｈ１ ７．５０〜８．６０ｐｐｍ ｌ０Ｈ（１１実殉例３゜ ターシャリ−ブチルヒドロペルオキシドのかわ’） Ｋ
１．１．３．３−テトラメチルプデルヒドロペルオキ
シド（純度９１５％）８．８ｙ（０，０６モル）を用い
る以外は実施例１に述べた製造方法と同様の方法で操作
して無色透明液体２０．４７を得た。この無色透明液体
について実施例１と同様の物性を測定したところ、下記
に示す特性値を示し、構造式（Ｃ）で表わされる分子の
両末端に芳香族ペルオキシエステル基を有するポリジメ
チルシルキサン化合物と確認された。
シ結合の半減期 １０時間な得る温間 １０２．８ｉ７数平均分
子量 １４５０紫外線吸収スペクト
ル ２２５ｎｍ（ε＝１５２００．２７３ｎｍ（ｇ
＝１２００）光分解特性 ３０分間光照射により
ペルオキシエステル基が５２％分解 赤外線吸収スペクトル １７７０ｆｆｉ−１（ペルオ
キシエステル基のＣ＝０結合）、 １１００〜１０３０ ｍ−’ （５ｌ−０−８１結合）
、１２７０ ｃｍ−’ （８１ＣＨ３結合）核磁気共鳴
吸収スペクトル ０、０８ ｐｐｍ ５０ Ｈ（ａ） ０、４５ ｐｐｍ ５ Ｈ（ｂ） ０、８８ ｐｐｍ ５ Ｈ（ｃｌ ｌ、４０ ｐｐｍ １０Ｈ（ｄ） １．５１ ｐｐｍ １０Ｈ（ｅ） １．６０ｐｐｍ ５Ｈ（ず）３．５０
ｐｐｍ １０Ｈ（ｇ） ４、５０ ｐｐｍ ５ Ｈ（ｈ１ ７．５０〜８．６０ｐｐｍ ｌ０Ｈ（１１実殉例３゜ ターシャリ−ブチルヒドロペルオキシドのかわ’） Ｋ
１．１．３．３−テトラメチルプデルヒドロペルオキ
シド（純度９１５％）８．８ｙ（０，０６モル）を用い
る以外は実施例１に述べた製造方法と同様の方法で操作
して無色透明液体２０．４７を得た。この無色透明液体
について実施例１と同様の物性を測定したところ、下記
に示す特性値を示し、構造式（Ｃ）で表わされる分子の
両末端に芳香族ペルオキシエステル基を有するポリジメ
チルシルキサン化合物と確認された。
ｆｃ） （ｄ） （ｉｌ
（Ｃ）
活性酸素量 １．８８係ペルオキ
シ結合の半減期 １０時間を得る温度 １０１．７Ｃ数平均分子
葉 １５００紫外線吸収スペクトル
２２５ｎｍ（ε＝１５２００）、２７５ｎｍ（
ε＝１１００）光分解特性 ３０分間光照射により
イノ１．オギシエステル基の５０係が分解 赤外線吸収スペクトル １７７０ｃａｒ−’ （ペル
オキシエステル基のＣ−Ｏ結合）、１１００−１０３０
ｃｍ−’ （５ｔ−０−８ｔ結合）、１２７０ ｃｙ
ｍ−’ （８ｌ−ＣＨ３結合）核磁気共鳴吸収スペクト
ル ０．０８ ｐｐｒｎ ５０ Ｈｔａ）０、４５ ｐｐ
ｍ ５ Ｈ（ｂ） １．１０ ｐｐｍ ２０Ｈ（ｃ） １、４０ ｐｐｍ １０ ）Ｉ（ｄｌｌ、 ６０ ｐ
ｐｍ ５ Ｈ（ｅ）１、７２ ｐｐｍ ５ Ｈ
（ｆ） ３．５０ｐｐｍ １０Ｈ１０Ｈ ｆ、 ５０ ｐｐｍ ５ Ｈ（ｈ）７．５０−８．
６０ ｐｐｍ １０Ｔ（（１）実捲例生 （２−ヒトルキシエトキシ）プμビルボリジメデルシｐ
キサン１４６ ｐ （０，０２モル）、無水トリメリッ
ト酸塩化物（純度９９％） ８．５ ｆｌ （０，０４
モル）、およびペンゼア １５０ ｍｌを導入した。こ
れに乾燥窒素を吹ぎ込みながら反応温ｔｘ５ｏｃで４時
間反応させた。次いで４０Ｃで１時間水流ポンプで吸引
して１０〜２０■Ｈｇの減圧度に保ち、ベンゼンを除去
した。かくして淡黄色透明液体の分子内に酸無水物基を
有するポリジメチルシロキサン１４８ｙな得た。
シ結合の半減期 １０時間を得る温度 １０１．７Ｃ数平均分子
葉 １５００紫外線吸収スペクトル
２２５ｎｍ（ε＝１５２００）、２７５ｎｍ（
ε＝１１００）光分解特性 ３０分間光照射により
イノ１．オギシエステル基の５０係が分解 赤外線吸収スペクトル １７７０ｃａｒ−’ （ペル
オキシエステル基のＣ−Ｏ結合）、１１００−１０３０
ｃｍ−’ （５ｔ−０−８ｔ結合）、１２７０ ｃｙ
ｍ−’ （８ｌ−ＣＨ３結合）核磁気共鳴吸収スペクト
ル ０．０８ ｐｐｒｎ ５０ Ｈｔａ）０、４５ ｐｐ
ｍ ５ Ｈ（ｂ） １．１０ ｐｐｍ ２０Ｈ（ｃ） １、４０ ｐｐｍ １０ ）Ｉ（ｄｌｌ、 ６０ ｐ
ｐｍ ５ Ｈ（ｅ）１、７２ ｐｐｍ ５ Ｈ
（ｆ） ３．５０ｐｐｍ １０Ｈ１０Ｈ ｆ、 ５０ ｐｐｍ ５ Ｈ（ｈ）７．５０−８．
６０ ｐｐｍ １０Ｔ（（１）実捲例生 （２−ヒトルキシエトキシ）プμビルボリジメデルシｐ
キサン１４６ ｐ （０，０２モル）、無水トリメリッ
ト酸塩化物（純度９９％） ８．５ ｆｌ （０，０４
モル）、およびペンゼア １５０ ｍｌを導入した。こ
れに乾燥窒素を吹ぎ込みながら反応温ｔｘ５ｏｃで４時
間反応させた。次いで４０Ｃで１時間水流ポンプで吸引
して１０〜２０■Ｈｇの減圧度に保ち、ベンゼンを除去
した。かくして淡黄色透明液体の分子内に酸無水物基を
有するポリジメチルシロキサン１４８ｙな得た。
次いでかとまぜ機および還流冷却器を備えた四ツ目フラ
スコに先の反応で得た分子内に酸無水物基を有するポリ
ジメチルシロキサン１４８ｙ、塩化チオニル（純度９９
％’） １４．４ Ｆ （０，１２モル）およびベンゼ
ン１５０ ｍｌを導入した。これに乾燥窒素を吹ぎ込み
ながら反応温度８０Ｃで５時間反応させた。次いで４０
〜４５Ｃで１時間水流ポンプで吸引して１０〜２０ａＨ
ｇの減圧度に保ち、残存する塩化チオニルとベンゼンを
除去し、た。か（して黄色透明液体の分子内にりρロア
シル基を有するポリジメチルシロキサン１４７ｙ（純度
９２係、収率９１％）を得た。
スコに先の反応で得た分子内に酸無水物基を有するポリ
ジメチルシロキサン１４８ｙ、塩化チオニル（純度９９
％’） １４．４ Ｆ （０，１２モル）およびベンゼ
ン１５０ ｍｌを導入した。これに乾燥窒素を吹ぎ込み
ながら反応温度８０Ｃで５時間反応させた。次いで４０
〜４５Ｃで１時間水流ポンプで吸引して１０〜２０ａＨ
ｇの減圧度に保ち、残存する塩化チオニルとベンゼンを
除去し、た。か（して黄色透明液体の分子内にりρロア
シル基を有するポリジメチルシロキサン１４７ｙ（純度
９２係、収率９１％）を得た。
さらにかぎまぜ機を備えた四ソロフラスコにターシャリ
−ブチルヒト−ペルオキシド（純度９７％） １１．２
ｙ（０，１２モル）、ピリジン（純度９９チ） ９．
６ ｆ （０，１２モル）、およびキシレノ８０ ｍｌ
を導入した。そしてこれに先の反応で得た分子内にりｐ
ロアシル基を有するポリジメチルシロキサン１４７ｐ’
に’ベン４フ１００ｍ１Ｋ溶解させた後攪拌下に５〜１
０Ｃで少しずつ加えた。以下実施例１に述べた製造方法
と同様の方法で操作して黄色透明液体１５０ｙを得た。
−ブチルヒト−ペルオキシド（純度９７％） １１．２
ｙ（０，１２モル）、ピリジン（純度９９チ） ９．
６ ｆ （０，１２モル）、およびキシレノ８０ ｍｌ
を導入した。そしてこれに先の反応で得た分子内にりｐ
ロアシル基を有するポリジメチルシロキサン１４７ｐ’
に’ベン４フ１００ｍ１Ｋ溶解させた後攪拌下に５〜１
０Ｃで少しずつ加えた。以下実施例１に述べた製造方法
と同様の方法で操作して黄色透明液体１５０ｙを得た。
この黄色透明液体について実施例１と同様の物性を測定
したところ、下記に示す特性値な示し、構造式ｆｆ））
で表わされる分子の両末端に芳香族ペルオキシエステル
基を有するポリジメチルシロキサン化合物と確認された
。
したところ、下記に示す特性値な示し、構造式ｆｆ））
で表わされる分子の両末端に芳香族ペルオキシエステル
基を有するポリジメチルシロキサン化合物と確認された
。
ｔａｒ
（Ｄ）
０．８８
活性酸素量 ｔま１％ペルオキシ
結合の半減期 １０時間を得る温度 １０３．８ ［１’６
Ｂ ００ 数平均分子量 牟」三Ｕａ紫外線吸
収スペクトル ２３５ｎｍ（ε＝１０８００）、
２８５ｎｍ（ｇ＝１３００）光分解特性 ３０分間
光照射によりペルオキシエステル基の６９％が分解 赤外線吸収スペクトル １７７（ｌｓ＋−’（ペルオ
キシエステル基のＣ−Ｏ結合）、１１ｏ Ｏ〜１０ ｓ
ｏｔｘ−’ （５ｉ−０−８１結合）、１２７０ ｃ
ｍ−’ （５ｉ−ＣＨａ ｌｉｈ合）核磁気共鳴吸収ス
ペクトル ０．０８ ｐｐｍ４７０Ｈ（ａ） ０、４５ ｐｐｍ ５ Ｈ（ｂ） １．４０ｐｐｍ ３５Ｈ（ｃ） １、６０ ｐｐｍ ５ Ｈｆｄ） ３、５０ ｐｐｍ １０ Ｈ（ｅ） ４、５０ ｐｐｍ ５ Ｈ（ｆ） ７．８５〜８．３５ ｐｐｍ ５Ｈ１ｇ）実捲例５ かきまぜ機および時流冷却器な備えた四ノロフラスコに
平均分子１ｉ２０００のα、ω−ビスー３−ヒドロキシ
プｐビルボリジメチルシロギサン４゜ｏ ｙ （０，０
２モル）、無水フタル酸（純度９９係）５、９７ （０
，０４−ｆｌ−ル）、ヒ！Ｊ ’） ７２０ ｄ、 ヘ
アセン＋５＋＊ｌ、およびジオキサン１５ｆｆｉ／を導
入した。
結合の半減期 １０時間を得る温度 １０３．８ ［１’６
Ｂ ００ 数平均分子量 牟」三Ｕａ紫外線吸
収スペクトル ２３５ｎｍ（ε＝１０８００）、
２８５ｎｍ（ｇ＝１３００）光分解特性 ３０分間
光照射によりペルオキシエステル基の６９％が分解 赤外線吸収スペクトル １７７（ｌｓ＋−’（ペルオ
キシエステル基のＣ−Ｏ結合）、１１ｏ Ｏ〜１０ ｓ
ｏｔｘ−’ （５ｉ−０−８１結合）、１２７０ ｃ
ｍ−’ （５ｉ−ＣＨａ ｌｉｈ合）核磁気共鳴吸収ス
ペクトル ０．０８ ｐｐｍ４７０Ｈ（ａ） ０、４５ ｐｐｍ ５ Ｈ（ｂ） １．４０ｐｐｍ ３５Ｈ（ｃ） １、６０ ｐｐｍ ５ Ｈｆｄ） ３、５０ ｐｐｍ １０ Ｈ（ｅ） ４、５０ ｐｐｍ ５ Ｈ（ｆ） ７．８５〜８．３５ ｐｐｍ ５Ｈ１ｇ）実捲例５ かきまぜ機および時流冷却器な備えた四ノロフラスコに
平均分子１ｉ２０００のα、ω−ビスー３−ヒドロキシ
プｐビルボリジメチルシロギサン４゜ｏ ｙ （０，０
２モル）、無水フタル酸（純度９９係）５、９７ （０
，０４−ｆｌ−ル）、ヒ！Ｊ ’） ７２０ ｄ、 ヘ
アセン＋５＋＊ｌ、およびジオキサン１５ｆｆｉ／を導
入した。
そしてｓｏＣで５時間反応させた。次いで真空下でｉｌ
ｌのピリジン、ベンゼン、およびジオキサンを除去した
。かくして淡黄色固体の分子内に力ルポギシル基す有す
るポリジメチルシルキサン４３９Ｆ（純度９８チ、収率
９４％）を得た。
ｌのピリジン、ベンゼン、およびジオキサンを除去した
。かくして淡黄色固体の分子内に力ルポギシル基す有す
るポリジメチルシルキサン４３９Ｆ（純度９８チ、収率
９４％）を得た。
次いでかきまぜ機および還流冷却器を備えた四ツ目フラ
スコに先の反応で得た分子内釦カルボキシル基な有する
ポリジメチルシルキサ７４３．９ｙ。
スコに先の反応で得た分子内釦カルボキシル基な有する
ポリジメチルシルキサ７４３．９ｙ。
塩化チオニル（純度９９俤） ４．８７ （０，０６モ
ル）およびジオキサン５０ｆｆｉ／を導入した。これに
乾燥窒素を吹き込みながら８０ｃで３時間反応させた。
ル）およびジオキサン５０ｆｆｉ／を導入した。これに
乾燥窒素を吹き込みながら８０ｃで３時間反応させた。
次いで真空下で過剰の塩化チオニルおよびジオキサンを
除去した。か（して黄色透明液体の分子内ン４２．５Ｆ
（純度９７％、収率９３係）なイｉＩた。
除去した。か（して黄色透明液体の分子内ン４２．５Ｆ
（純度９７％、収率９３係）なイｉＩた。
さらＫかきまぜ機を備えた四ツ目フラスコにターシャリ
−ブチルヒドロペルオキシド（純度９７％） ５．６９
（０，０６モル）、ピリジン（純度９９チ） ４．８
Ｆ （０，０６モル）、およびキシレン５０１Ｉｌｋ
導入した。これに先の反応で得た分子内にクロルアシル
基な有するポリジメチルシルキサン４２．５Ｆを攪拌下
に５〜１０ｔＺ’で少しずつ加えた。
−ブチルヒドロペルオキシド（純度９７％） ５．６９
（０，０６モル）、ピリジン（純度９９チ） ４．８
Ｆ （０，０６モル）、およびキシレン５０１Ｉｌｋ
導入した。これに先の反応で得た分子内にクロルアシル
基な有するポリジメチルシルキサン４２．５Ｆを攪拌下
に５〜１０ｔＺ’で少しずつ加えた。
以下実施例ＩＫ述べた製造方法と同様の方法で操作して
淡黄色透明液体４３５Ｐを得た。
淡黄色透明液体４３５Ｐを得た。
この淡黄色透明液体について実？［１と同様の物性を測
定したところ、下記に示す特訃値を示し、構造式（Ｅｌ
で表わされる分子の両末端に芳香族ペルオキシエステル
基を有するポリジメチルシルキサン化合物と確認された
。
定したところ、下記に示す特訃値を示し、構造式（Ｅｌ
で表わされる分子の両末端に芳香族ペルオキシエステル
基を有するポリジメチルシルキサン化合物と確認された
。
（Ｃ１
（Ｅ）
活性酸素ｉｉ １．．１５ ％
ペルオキシ結合の半減期 １０時間を得る温度 １０３．９ｔＴ数平均分
子計 ２５００紫外線吸収スペクト
ル ２３０ｎｍ（ε＝１４９００）、２７０ｎｍ
（ｇ＝１１００）光分解特性 ３０分間光照射によ
りペルオキシエステル基の４８％が分解 赤外線吸収スペクトル １７７０ｘ−’ （ペルオ
キシエステル基のＣ−Ｏ結合）、 １１００〜１０３０鋼−’ （５ｔ−Ｏ−ｓｔ結合）１
２７０ ｘ−’ （Ｓｉ ＣＴ（３結合）核磁気共鳴吸
収スペクトル ０．０８ ｐｐｍ１３０Ｈ（ａｌ ｏ、 ４５ ｐｐｍ ５ Ｈ（ｂｌｌ、 ４０ ｐ
ｐｍ ２０ ）（（ｃ）１、６０ ｐｐｍ ５
Ｈ（ｄ） ４、５０ ｐｐｍ ５ Ｈ（Ｃ１７、，５０−７
，８０ｐｐｍ ５Ｈ１ｆ）実施例６ 無水フタル酸のかわりに二無水ピルメリット酸（純度９
８％） ８．９７ （０，０４モル）妃用いる以外は実
施例５に述べた製造方法と同様の方法で操作して黄色透
明液体５１．５ｙなｍだ。
ペルオキシ結合の半減期 １０時間を得る温度 １０３．９ｔＴ数平均分
子計 ２５００紫外線吸収スペクト
ル ２３０ｎｍ（ε＝１４９００）、２７０ｎｍ
（ｇ＝１１００）光分解特性 ３０分間光照射によ
りペルオキシエステル基の４８％が分解 赤外線吸収スペクトル １７７０ｘ−’ （ペルオ
キシエステル基のＣ−Ｏ結合）、 １１００〜１０３０鋼−’ （５ｔ−Ｏ−ｓｔ結合）１
２７０ ｘ−’ （Ｓｉ ＣＴ（３結合）核磁気共鳴吸
収スペクトル ０．０８ ｐｐｍ１３０Ｈ（ａｌ ｏ、 ４５ ｐｐｍ ５ Ｈ（ｂｌｌ、 ４０ ｐ
ｐｍ ２０ ）（（ｃ）１、６０ ｐｐｍ ５
Ｈ（ｄ） ４、５０ ｐｐｍ ５ Ｈ（Ｃ１７、，５０−７
，８０ｐｐｍ ５Ｈ１ｆ）実施例６ 無水フタル酸のかわりに二無水ピルメリット酸（純度９
８％） ８．９７ （０，０４モル）妃用いる以外は実
施例５に述べた製造方法と同様の方法で操作して黄色透
明液体５１．５ｙなｍだ。
この黄色透明液体について実癩例１と同様の物性を測定
したところ、下記に示す特性値な示し、構造式ＣＦ＋で
表わされる分子の両末端に芳香族ペルオキシエステル基
な有するポリジメチルシｐキザン化合物と確認された。
したところ、下記に示す特性値な示し、構造式ＣＦ＋で
表わされる分子の両末端に芳香族ペルオキシエステル基
な有するポリジメチルシｐキザン化合物と確認された。
ｔｃ＋
（Ｆ）
活性酸素量 ２．７２％ペルオキ
シ結合の半減期 １０時間を得る温度 １１１．ＯＣ数平均分子
量 ３００〇紫外線吸収スペクトル
２３５ｎｍ（ε＝２４５００）、２７５ｎｍ（
ε＝２４００）光分解特注３０ ′９＋間光照射により
ペルオキシエステル基の８５％が分解 赤外縁吸収スペクトル １７７０ｃｍ−’ （ペル
オキシエステル基のＣ−０結合）、 １１００〜１０３０ ｔｓ−’ （Ｓｔ−〇−８ｔ結合
）、１２７０ ｃｍ−’ （５ｔ−ＣＨ３結合）核磁気
共鳴吸収スペクトル ０、０８ ｐｐｍ １３０ Ｈ（ａ） ０、４５ ｐｐｍ ５ Ｈ（ｂｌ ｌ、４０ ｐｐｍ ５５Ｈｉｃ） １、６０ ｐｐｍ ５ Ｈ（ｄｉ ４、５０ ｐｐｍ ５ Ｈ（ｅ１ ８、１２ ｐｐｍ ５ Ｈ（ｆｌ 比較例 本発明のポリシーキサン化合物のペルオキシ結合と従来
のポリシーキサン化合物の中のペルオキシ結合の熱分解
特性を比べると第１表のとおりである。上記実施例１〜
６の測定結果を比較のため表にあげる。
シ結合の半減期 １０時間を得る温度 １１１．ＯＣ数平均分子
量 ３００〇紫外線吸収スペクトル
２３５ｎｍ（ε＝２４５００）、２７５ｎｍ（
ε＝２４００）光分解特注３０ ′９＋間光照射により
ペルオキシエステル基の８５％が分解 赤外縁吸収スペクトル １７７０ｃｍ−’ （ペル
オキシエステル基のＣ−０結合）、 １１００〜１０３０ ｔｓ−’ （Ｓｔ−〇−８ｔ結合
）、１２７０ ｃｍ−’ （５ｔ−ＣＨ３結合）核磁気
共鳴吸収スペクトル ０、０８ ｐｐｍ １３０ Ｈ（ａ） ０、４５ ｐｐｍ ５ Ｈ（ｂｌ ｌ、４０ ｐｐｍ ５５Ｈｉｃ） １、６０ ｐｐｍ ５ Ｈ（ｄｉ ４、５０ ｐｐｍ ５ Ｈ（ｅ１ ８、１２ ｐｐｍ ５ Ｈ（ｆｌ 比較例 本発明のポリシーキサン化合物のペルオキシ結合と従来
のポリシーキサン化合物の中のペルオキシ結合の熱分解
特性を比べると第１表のとおりである。上記実施例１〜
６の測定結果を比較のため表にあげる。
第１表 熱分解特性 ＊１
ネ１：熱分解特性は、ベンゼン溶媒中で測定した（ペル
オキシ基初濃度は０．１ ｍｏｌ／Ｌ ）。
オキシ基初濃度は０．１ ｍｏｌ／Ｌ ）。
＄２： Ｖ、Ａ、Ｙａｂｌｏｋｏｖ ＠ｔ、 ＆ｌ、＃
Ｊ、Ｇｅｎ、Ｃｈｅｍ、 ＵＳＳＲ。
Ｊ、Ｇｅｎ、Ｃｈｅｍ、 ＵＳＳＲ。
４７、 ２３２８（１９７７） に記載された熱分解
速度４３： Ｖ、ＡＪｉｂｌｏｌｃｏｖ ａｔ、 ａｔ
、、 Ｊ、Ｇｅｎ、Ｃｈｅｍ、 ＵＳＳＲ１４７、１６
３３（１９７７） に記載された熱分解速度定数の値か
ら１算した。
速度４３： Ｖ、ＡＪｉｂｌｏｌｃｏｖ ａｔ、 ａｔ
、、 Ｊ、Ｇｅｎ、Ｃｈｅｍ、 ＵＳＳＲ１４７、１６
３３（１９７７） に記載された熱分解速度定数の値か
ら１算した。
第１表から明らかなように、本発明のポリシロキサン化
合物中のにルオキシ結合は、従来のポリシーキサン化合
物中のペルオキシ結合に比べて熱分解速度が速く、その
半減期１０時間を得る温度は約１０１〜１１１°０の値
を示し、公知のポリシーキサン化合物の温度１８６〜１
９０°Ｃの値と比してはるかに低いことが判る。さらに
本発明のポリシロキサン化合物中のペルオキシ基は２１
０〜３５０ｍＫ紫外線吸収波長を有し、高圧水銀灯の照
射により容易にラジカル分解する。このことは、本発明
のポリシーキサン化合物がビニルをモノマーの有効なラ
ジカル重合開始剤となり得るペルオキシ基を有すること
を示しており、その工業的価値は極めて高い。
合物中のにルオキシ結合は、従来のポリシーキサン化合
物中のペルオキシ結合に比べて熱分解速度が速く、その
半減期１０時間を得る温度は約１０１〜１１１°０の値
を示し、公知のポリシーキサン化合物の温度１８６〜１
９０°Ｃの値と比してはるかに低いことが判る。さらに
本発明のポリシロキサン化合物中のペルオキシ基は２１
０〜３５０ｍＫ紫外線吸収波長を有し、高圧水銀灯の照
射により容易にラジカル分解する。このことは、本発明
のポリシーキサン化合物がビニルをモノマーの有効なラ
ジカル重合開始剤となり得るペルオキシ基を有すること
を示しており、その工業的価値は極めて高い。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＿１は炭素数４〜８のターシャリ−アルキル
基を表わし、Ｒ＿２は▲数式、化学式、表等があります
▼基、▲数式、化学式、表等があります▼基、▲数式、
化学式、表等があります▼基または▲数式、化学式、表
等があります▼基を表わし、Ｒ＿３ は−（ＣＨ＿２）−＿３基または−（ＣＨ＿２）＿２Ｏ
（ＣＨ＿２）＿３−基を表わす。また、ｍは１〜３で、
ｎは１〜２００である。） で示される分子の両末端に芳香族ペルオキシエステル基
を有するポリシロキサン化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18526086A JPS6341536A (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | 芳香族ペルオキシエステル基を有するポリシロキサン化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18526086A JPS6341536A (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | 芳香族ペルオキシエステル基を有するポリシロキサン化合物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6341536A true JPS6341536A (ja) | 1988-02-22 |
Family
ID=16167708
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18526086A Pending JPS6341536A (ja) | 1986-08-08 | 1986-08-08 | 芳香族ペルオキシエステル基を有するポリシロキサン化合物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6341536A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01297732A (ja) * | 1988-05-26 | 1989-11-30 | Sanyo Electric Co Ltd | 割込制御方式 |
-
1986
- 1986-08-08 JP JP18526086A patent/JPS6341536A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01297732A (ja) * | 1988-05-26 | 1989-11-30 | Sanyo Electric Co Ltd | 割込制御方式 |
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