JPS6348923B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPS6348923B2 JPS6348923B2 JP24736683A JP24736683A JPS6348923B2 JP S6348923 B2 JPS6348923 B2 JP S6348923B2 JP 24736683 A JP24736683 A JP 24736683A JP 24736683 A JP24736683 A JP 24736683A JP S6348923 B2 JPS6348923 B2 JP S6348923B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vacuum
- bestible
- atmosphere
- extraction
- charging
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C21—METALLURGY OF IRON
- C21D—MODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
- C21D1/00—General methods or devices for heat treatment, e.g. annealing, hardening, quenching or tempering
- C21D1/74—Methods of treatment in inert gas, controlled atmosphere, vacuum or pulverulent material
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Solid-Phase Diffusion Into Metallic Material Surfaces (AREA)
- Heat Treatment Of Strip Materials And Filament Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、真空ベスチブルを備えた雰囲気熱処
理炉に関するものである。
理炉に関するものである。
従来、減圧雰囲気下あるいは加圧雰囲気下で浸
炭、焼鈍、焼結などの熱処理に際し、炉内雰囲気
の汚染防止やパージガス消費量の軽減を目的とし
た真空装入ベスチブルと真空抽出ベスチブルとを
備えた雰囲気熱処理炉においては、処理材の炉内
装入時、多理材を装入ベスチブル内に載置して装
入ベスチブル内を真空排気し、一方、処理材の抽
出ベスチブル移行時、抽出ベスチブル内を真空排
気し、その後、所定の雰囲気ガスでベスチブル内
を復圧し、処理材の炉内装入および炉外抽出を行
なつており、１サイクルの処理材の装入、抽出時
における各ベスチブルの雰囲気は、そのまま排気
されているため多量の復圧用雰囲気ガスを必要と
するという欠点があつた。
炭、焼鈍、焼結などの熱処理に際し、炉内雰囲気
の汚染防止やパージガス消費量の軽減を目的とし
た真空装入ベスチブルと真空抽出ベスチブルとを
備えた雰囲気熱処理炉においては、処理材の炉内
装入時、多理材を装入ベスチブル内に載置して装
入ベスチブル内を真空排気し、一方、処理材の抽
出ベスチブル移行時、抽出ベスチブル内を真空排
気し、その後、所定の雰囲気ガスでベスチブル内
を復圧し、処理材の炉内装入および炉外抽出を行
なつており、１サイクルの処理材の装入、抽出時
における各ベスチブルの雰囲気は、そのまま排気
されているため多量の復圧用雰囲気ガスを必要と
するという欠点があつた。
本発明は、前記雰囲気熱処理炉において、一方
のベスチブルが真空排気を完了し、他方のベスチ
ブルが、雰囲気ガスの供給により、炉内圧力に対
応した所定の復圧状態であるとき、両ベスチブル
を連通させて同圧にすることにより、一方のベス
チブルの復圧用雰囲気ガスとして他方のベスチブ
ルの雰囲気の一部を使用し、復圧用雰囲気ガスの
消費量を軽減し得る真空ベスチブルを備えた雰囲
気熱処理炉を提供することを目的とする。
のベスチブルが真空排気を完了し、他方のベスチ
ブルが、雰囲気ガスの供給により、炉内圧力に対
応した所定の復圧状態であるとき、両ベスチブル
を連通させて同圧にすることにより、一方のベス
チブルの復圧用雰囲気ガスとして他方のベスチブ
ルの雰囲気の一部を使用し、復圧用雰囲気ガスの
消費量を軽減し得る真空ベスチブルを備えた雰囲
気熱処理炉を提供することを目的とする。
前記目的を達成するために、本発明において
は、真空装入ベスチブルと真空抽出ベスチブルと
を雰囲気導管で接続するとともに、この雰囲気導
管に開閉弁を設けたことを特徴とする。
は、真空装入ベスチブルと真空抽出ベスチブルと
を雰囲気導管で接続するとともに、この雰囲気導
管に開閉弁を設けたことを特徴とする。
つぎに、本発明を一実施例である図面にしたが
つて説明する。
つて説明する。
第１図は、本発明にかかる雰囲気熱処理炉Ｔを
示し、１は処理目的に応じた雰囲気ガスが供給さ
れる雰囲気熱処理炉本体で、炉内装入扉２、炉内
抽出扉３を介して両側に真空装入ベスチブル４と
真空抽出ベスチブル５とを備えている。なお、６
ａ，７ａは真空ベスチブル４，５の装入扉、６
ｂ，７ｂは抽出扉である。
示し、１は処理目的に応じた雰囲気ガスが供給さ
れる雰囲気熱処理炉本体で、炉内装入扉２、炉内
抽出扉３を介して両側に真空装入ベスチブル４と
真空抽出ベスチブル５とを備えている。なお、６
ａ，７ａは真空ベスチブル４，５の装入扉、６
ｂ，７ｂは抽出扉である。
また、前記真空装入ベスチブル４と真空抽出ベ
スチブル５は、大気導入弁８，９を有するととも
に、復圧用雰囲気ガス導入弁１０，１１を介して
復圧用ガスであるN2ガス源に連通する一方、真
空弁（開閉弁）１２，１３を有する雰囲気導管１
４で連通し、かつ、前記各真空弁１２，１３間は
主真空弁１５を介して真空排気装置１６に連通し
ている。なお、復圧用ガスとしては、N2ガスに
限らず、炉内の雰囲気に応じて、他の雰囲気ガ
ス、たとえば、Arガス、吸熱型ガスなどを使用
してもよい。
スチブル５は、大気導入弁８，９を有するととも
に、復圧用雰囲気ガス導入弁１０，１１を介して
復圧用ガスであるN2ガス源に連通する一方、真
空弁（開閉弁）１２，１３を有する雰囲気導管１
４で連通し、かつ、前記各真空弁１２，１３間は
主真空弁１５を介して真空排気装置１６に連通し
ている。なお、復圧用ガスとしては、N2ガスに
限らず、炉内の雰囲気に応じて、他の雰囲気ガ
ス、たとえば、Arガス、吸熱型ガスなどを使用
してもよい。
前記構成からなる雰囲気熱処理炉Ｔの操業につ
いて第２図にしたがつて説明する。
いて第２図にしたがつて説明する。
いま、所定の熱処理を施した処理材Wnが真空
抽出ベスチブル５内に抽出され、該ベスチブル５
内が雰囲気ガス（N2ガス）の導入により所定の
ベスチブル圧（十数mmH2O）に維持されており、
真空装入ベスチブル４内に処理材Woが装入さ
れ、該ベスチブル４内が真空排気完了され、所定
の真空下（約10-1Torr）に維持されたものとす
る（第２イ図）と、前記主真空弁１５を閉、真空
弁１２，１３を開として各ベスチブル４，５間を
連通状態とし、真空抽出ベスチブル５内の雰囲気
を真空装入ベスチブル４内にその圧力差により雰
囲気導管１４により供給して初期復圧を行なう
（第２図ロ図）。その後、真空弁１２，１３を閉と
するとともに、雰囲気導入弁１０および大気導入
弁９を開とし、真空装入ベスチブル４内に雰囲気
ガスを供給して所定のベスチブル圧（十数mm
H2O）まで復圧するとともに、真空抽出ベスチ
ブル５内に大気を導入（吸引）した大気圧付近ま
で復圧させる（第２ハ図）。ついで、抽出扉６ｂ
と炉内装入扉２および抽出扉７を開として、真空
装入ベスチブル４内の処理材Woを炉本体１内
に、真空抽出ベスチブル５内の処理材Wnを炉外
に抽出する。その後、大気導入弁９を閉、主真空
弁１５および真空弁１３をそれぞれ開とし、真空
抽出ベスチブル５内を真空排気して、所定の真空
下とする（第２ニ図）。ついで、主真空弁１５を
閉、真空弁１２を開とし、前記同様、真空装入ベ
スチブル４内の雰囲気を真空抽出ベスチブル５内
に供給し初期復圧を行なう（第２ホ図）。その後、
真空弁１２，１３を閉、雰囲気導入弁１１、大気
導入弁８を開とし、真空装入ベスチブル４内を大
気の導入ににより復圧するとともに、真空抽出ベ
スチブル５内を雰囲気ガスの供給により復圧し
（第２ヘ図）、真空装入ベスチブル４内に新しい処
理材Ｗを、また、真空抽出ベスチブル５内に、熱
処理済の処理材Wn−１をそれぞれ装入する（第
２ト図）。そして、真空弁１２、主真空弁１５を
開として真空装入ベスチブル４内を真空下として
前記第２イ図の状態となり、以後、同一操作を行
なうものである。
抽出ベスチブル５内に抽出され、該ベスチブル５
内が雰囲気ガス（N2ガス）の導入により所定の
ベスチブル圧（十数mmH2O）に維持されており、
真空装入ベスチブル４内に処理材Woが装入さ
れ、該ベスチブル４内が真空排気完了され、所定
の真空下（約10-1Torr）に維持されたものとす
る（第２イ図）と、前記主真空弁１５を閉、真空
弁１２，１３を開として各ベスチブル４，５間を
連通状態とし、真空抽出ベスチブル５内の雰囲気
を真空装入ベスチブル４内にその圧力差により雰
囲気導管１４により供給して初期復圧を行なう
（第２図ロ図）。その後、真空弁１２，１３を閉と
するとともに、雰囲気導入弁１０および大気導入
弁９を開とし、真空装入ベスチブル４内に雰囲気
ガスを供給して所定のベスチブル圧（十数mm
H2O）まで復圧するとともに、真空抽出ベスチ
ブル５内に大気を導入（吸引）した大気圧付近ま
で復圧させる（第２ハ図）。ついで、抽出扉６ｂ
と炉内装入扉２および抽出扉７を開として、真空
装入ベスチブル４内の処理材Woを炉本体１内
に、真空抽出ベスチブル５内の処理材Wnを炉外
に抽出する。その後、大気導入弁９を閉、主真空
弁１５および真空弁１３をそれぞれ開とし、真空
抽出ベスチブル５内を真空排気して、所定の真空
下とする（第２ニ図）。ついで、主真空弁１５を
閉、真空弁１２を開とし、前記同様、真空装入ベ
スチブル４内の雰囲気を真空抽出ベスチブル５内
に供給し初期復圧を行なう（第２ホ図）。その後、
真空弁１２，１３を閉、雰囲気導入弁１１、大気
導入弁８を開とし、真空装入ベスチブル４内を大
気の導入ににより復圧するとともに、真空抽出ベ
スチブル５内を雰囲気ガスの供給により復圧し
（第２ヘ図）、真空装入ベスチブル４内に新しい処
理材Ｗを、また、真空抽出ベスチブル５内に、熱
処理済の処理材Wn−１をそれぞれ装入する（第
２ト図）。そして、真空弁１２、主真空弁１５を
開として真空装入ベスチブル４内を真空下として
前記第２イ図の状態となり、以後、同一操作を行
なうものである。
なお、前記実施例では、１基の真空排気装置１
６を配設し、真空排気管を雰囲気導管１４と兼用
したが、各ベスチブル４，５にそれぞれ真空排気
装置を、また、雰囲気導管を別設してもよい。さ
らに、大気導入弁８は、各ベスチブル４，５の連
通時におけるベスチブル４，５の内圧力が大気圧
付近に復圧する場合は、必らずしも設ける必要は
ない。
６を配設し、真空排気管を雰囲気導管１４と兼用
したが、各ベスチブル４，５にそれぞれ真空排気
装置を、また、雰囲気導管を別設してもよい。さ
らに、大気導入弁８は、各ベスチブル４，５の連
通時におけるベスチブル４，５の内圧力が大気圧
付近に復圧する場合は、必らずしも設ける必要は
ない。
以上の説明で明らかなように、本発明にかかる
雰囲気熱処理炉によれば、真空装入ベスチブルと
真空抽出ベスチブルとは開閉弁を有する雰囲気導
管で連通してあるため、排気されるベスチブル内
の雰囲気、すなわち、炉内へ処理材を装入した後
の真空装入ベスチブル内の雰囲気あるいは炉外へ
処理材を抽出する前の真空抽出ベスチブル内の雰
囲気を、前記開閉弁を開くことにより、他方のベ
スチブルの真空排気後の復圧時の復圧時ガスとし
て使用するため、真空装入、抽出ベスチブルの復
圧用雰囲気ガスの使用量を軽減することができ
る。
雰囲気熱処理炉によれば、真空装入ベスチブルと
真空抽出ベスチブルとは開閉弁を有する雰囲気導
管で連通してあるため、排気されるベスチブル内
の雰囲気、すなわち、炉内へ処理材を装入した後
の真空装入ベスチブル内の雰囲気あるいは炉外へ
処理材を抽出する前の真空抽出ベスチブル内の雰
囲気を、前記開閉弁を開くことにより、他方のベ
スチブルの真空排気後の復圧時の復圧時ガスとし
て使用するため、真空装入、抽出ベスチブルの復
圧用雰囲気ガスの使用量を軽減することができ
る。
第１図は本発明にかかる真空ベスチブルを備え
た雰囲気熱処理炉の説明図で、第２イ図〜第２ト
図は真空ベスチブルの操業方法の説明図である。 １……炉本体、４……真空装入ベスチブル、５
……真空抽出ベスチブル、１２，１３……開閉弁
（真空弁）、１４……雰囲気導管。
た雰囲気熱処理炉の説明図で、第２イ図〜第２ト
図は真空ベスチブルの操業方法の説明図である。 １……炉本体、４……真空装入ベスチブル、５
……真空抽出ベスチブル、１２，１３……開閉弁
（真空弁）、１４……雰囲気導管。
Claims (1)
- １ 真空装入ベスチブルと真空抽出ベスチブルと
を備えた雰囲気熱処理炉において、前記各ベスチ
ブルを雰囲気導管で接続するとともに、前記雰囲
気導管に開閉弁を設けたことを特徴とする真空ベ
スチブルを備えた雰囲気熱処理炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24736683A JPS60141822A (ja) | 1983-12-28 | 1983-12-28 | 真空ベスチブルを備えた雰囲気熱処理炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24736683A JPS60141822A (ja) | 1983-12-28 | 1983-12-28 | 真空ベスチブルを備えた雰囲気熱処理炉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60141822A JPS60141822A (ja) | 1985-07-26 |
| JPS6348923B2 true JPS6348923B2 (ja) | 1988-10-03 |
Family
ID=17162351
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24736683A Granted JPS60141822A (ja) | 1983-12-28 | 1983-12-28 | 真空ベスチブルを備えた雰囲気熱処理炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60141822A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63262455A (ja) * | 1987-04-21 | 1988-10-28 | Michio Sugiyama | 真空浸炭炉とその操業方法 |
-
1983
- 1983-12-28 JP JP24736683A patent/JPS60141822A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60141822A (ja) | 1985-07-26 |
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