KR20020007373A

KR20020007373A - 자외선 경화성 은 조성물 및 관련 방법

Info

Publication number: KR20020007373A
Application number: KR1020017013178A
Authority: KR
Inventors: 로이 씨. 크론
Original assignee: 크론, 로이, 씨; 얼라이드 포토케미칼, 인코포레이티드
Priority date: 1999-04-14
Filing date: 2000-03-24
Publication date: 2002-01-26
Also published as: EP1181848A1; MXPA01010018A; DE60033801D1; CA2368372C; US6290881B1; ATE356533T1; JP2002542315A; US6713000B2; CA2368372A1; EP1181848B1; DE60033801T2; AU3923200A; US20010050357A1; WO2000062586A1

Abstract

자외선 광경화성 유기 혼합물, 광개시제, 은 분말, 및 은 박편(flake) 조성물을 포함하는 광경화성 은 조성물이 제공된다. 은 박편 조성물은 적어도 은 분말의 20중량%을 포함한다. 기술된 조성물은 다양한 서로 다른 기판상에 은-함유 코팅물을 제공하기 위해 사용될 수 있다. 관련 방법들이 제공된다.

Description

자외선 경화성 은 조성물 및 관련 방법{ULTRAVIOLET CURABLE SILVER COMPOSITION AND RELATED METHOD}

기판에 코팅물, 은 도금 또는 은 층 또는 은-함유 화합물 도포가 필요하거나 바람직한 경우들이 많이 있다. 그러한 도포의 예들은 전자렌지, 통상적인 오븐 등과 같은 가전제품에 사용되는 것처럼, 압력-민감성 스위치 또는 제어 판넬(control panel)에 사용되는 스위치용 전극 도금을 포함한다. 그러한 은 도금은 실리콘 또는 게르마늄 반도체 웨이퍼 상에 은 금속물을 도포하는 반도체 제조 기술에서도 일반적으로 사용된다. 그러한 기판들의 다른 예들은 폴리에스터, 폴리카보네이트, 비닐, 세라믹, 유리 등을 포함하지만 제한적이지 않는다.

기판 상에 은을 도포하는데 사용되는 주된 접근은 기판에 용매-계 은 용액을 사용하고 및 용매를 증발시키기 위해 용액을 화학적 또는 열 경화시키는 것을 포함한다. 이는 기판 상에 고체 은 도금을 남긴다.

이러한 통상적인 접근은 많은 부분에서 단점이 있다. 아마 가장 큰 문제는본 목적을 위해 현재 사용되는 용매들이 유독성이라는 사실이다. 그것들은 특별한 취급 및 처리장비 및 기술을 필요로 하고, 그에 상응하여 비효율성 및 비용을 증가시킨다. 이러한 특별한 취급 기술을 준수하더라도, 이러한 유독성 물질들을 사용하는 작업자들에게 그러한 물질들은 위험하다. 용매-계 조성물 및 방법들도 용매가 증발된 후에 결과적인 은 도금의 균일성 및 두께를 예측하기 어렵다는 단점이 있다. 이는 품질 및 성능의 변화를 야기한다.

발명의 요약

따라서, 본 발명의 목적은 유독성 용매의 필요 없이 은이 기판 상에 처리될 수 있는 은 조성물 및 방법을 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 선행기술의 용매계 기술보다 은 층의 처리가 빠르고 효율적으로 수행될 수 있는 은 조성물 및 방법을 제공하는 것이다.

본 발명의 또 다른 목적은 종래 기술의 용매-계 시스템에 비하여 보다 예측적이고 균일한 층 두께를 갖는 은 코팅물이 생성될 수 있는 은 조성물 및 제조하는 방법을 제공하는 것이다.

상기 목적들을 달성하기 위해, 그리고 본 명세서에서 예시화되고 광범위하게 기술된 것처럼 본 발명의 목적에 따라서, 기판 상에 코팅물, 도금, 막 또는 층으로 침착하기 위한 은 조성물이 제공된다. 본 명세서의 본문 중에 용어 코팅물, 도금, 막 및 층은 기판 표면 상의 커버물을 일반적으로 설명하는데 사용되고, 커버물은 적용 및 디자인 목적에 따라 다양한 두께가 될 수 있다.

본 발명은 은-함유 조성물, 보다 상세하게는 광경화성 은-함유 조성물 및 기판상의 코팅물로써 광경화성 은-함유 조성물을 제조하고 도포하기 위한 방법에 관한 것이다.

본 발명의 한 가지 양태에 따라서, 광경화성 은 조성물이 제공된다. 은 조성물은 광경화성 유기 혼합물, 광개시제, 은 분말, 및 은 박편(flake) 조성물을 포함한다. 은 박편 조성물은 조성물에 존재하는 은 분말의 적어도 20중량%의 양으로 존재한다.

광경화성 은 조성물은 바람직하게 지방족 아크릴화 올리고머를 포함하는데, 지방족 아크릴화 올리고머는 은 조성물의 약 3~8중량%의 양으로 존재한다. 본 명세서에서 표현되는 것처럼 은 조성물의 모든 퍼센테이지는 다른 특별한 언급이 없다면, 표준 온도 및 압력에서 그것의 유동성 비경화 상태의 은 조성물의 총 질량에 대한 정해진 조성물의 질량 퍼센테이지를 나타낸다.

또한 바람직하게, 은 조성물은 아크릴화 에폭시 올리고머를 포함하는데, 아크릴화 에폭시 올리고머는 은 조성물의 약 2~4중량 존재한다.

또한 바람직하게, 은 조성물은 은 조성물의 약 4~8중량의 이소보닐 아크릴레이트 모노머, 약 3~6중량%의 광개시제, 약 0.1~2중량%의 유동 촉진제, 약 50~60중량%의 은 분말, 및 약 25~35중량%의 은 박편 조성물을 포함한다.

본 발명의 이러한 양태에 따라, 지방족 아크릴화 올리고머는 바람직하게 우레탄 올리고머를 포함한다. 현재의 바람직한 은 조성물의 형태에서는, 지방족 아크릴화 올리고머는 은 조성물의 약 8중량%의 양으로 존재한다.

바람직하게, 아크릴화 에폭시 올리고머는은 조성물의 약 3중량%의 양으로 존재한다. 바람직하게, 이소보닐 아크릴레이트 모노머는 은 조성물의 약 5중량%의 양으로 존재한다. 바람직하게, 광개시제는 은 조성물의 약 5중량%의 양으로 존재한다. 바람직하게, 유동 촉진제는 은 조성물의 약 1중량%의 양으로 존재한다.

본 발명의 이러한 양태를 따른 바람직한 실시예에서, 은 분말은 바람직하지만 임의적으로 은 분말은 은 조성물의 약 52중량%의 양으로 존재한다. 이러한 바람직한 실시예에서, 은 분말은 약 5~15 미크론 범위의 입자 크기를 갖는다. 보다 바람직한 실시예에서, 은 분말은 입자의 약 5~20중량%가 약 4.7미크론 이하의 입자 크기를 갖고, 입자의 약 30~60중량%가 약 7.6미크론 이하의 입자 크기를 가지며, 입자의 약 70~95중량%가 약 14.9미크론 이하의 입자 크기로 되는 입자 분포를 가진다. 가장 바람직한 실시예에서, 은 분말은 입자의 약 10중량%가 약 4.7미크론 이하의 입자 크기를 갖고, 입자의 약 50중량%가 약 7.6미크론 이하의 입자 크기를 가지며, 입자의 약 90중량%가 약 14.9미크론 이하의 입자 크기로 되는 입자 분포를 가진다.

바람직한 실시예에 따라, 은 박편은 은 조성물의 약 30%의 양으로 존재한다. 바람직하게, 은 박편은 약 5~32미크론 범위의 입자 크기를 갖는다. 바람직하게, 은 박편은 입자의 약 10중량%가 약 5.5미크론 이하의 입자 크기를 갖고, 입자의 약 50중량%가 약 12.5미크론 이하의 입자 크기를 가지며, 입자의 약 90중량%가 약 32.0미크론 이하의 입자 크기로 되는 입자 분포를 가진다.

바람직한 실시예의 더 나은 개선에서, 점착 촉진제는 은 조성물의 약 1~4중량%의 양으로 존재한다. 이러한 더 나은 개선은 산화 인듐 주석(ITO)과 같은 투명 도체로 코팅된 기판에 점착성을 향상시킨다.

본 발명의 또 다른 양태에 따라, 전자기 방사를 차단(shielding)할 수 있는코팅물을 제조하기에 적합한 광경화성 은 조성물이 제공된다. 바람직하게, 이러한 실시예는 기판에 분사하여 도포된다. 은 조성물은 아크릴화 에폭시 올리고머를 포함하는데, 아크릴화 에폭시 올리고머는 은 조성물의 약 2~8중량%의 양으로 존재한다. 바람직하게, 은 조성물은 약 15~30중량%의 이소보닐 아크릴레이트 모노머, 약 3~7중량%의 광개시제, 약 0.1~2중량%의 유동 촉진제, 약 20~40중량%의 은 분말, 및 약 20~40중량%의 은 박편 조성물을 포함한다.

본 발명의 또 다른 양태에 따라, 회로 기판 상에 저항 링크를 형성 할 수 있는 코팅물을 제조하기에 적합한 광경화성 은 조성물이 제공된다. 바람직하게, 본 발명의 실시예는 어떠한 우레탄도 포함하지 않는다. 은 조성물은 아크릴화 에폭시 올리고머를 포함하는데, 아크릴화 에폭시 올리고머는 은 조성물의 약 16~20중량%의 양으로 존재한다. 또한, 은 조성물은 약 8~14중량%의 이소보닐 아크릴레이트 모노머, 약 4~8중량%의 광개시제, 약 0.1~2중량%의 유동 촉진제, 약 25~38중량%의 은 분말, 및 약 20~40중량%의 은 박편 조성물을 포함한다.

본 발명의 또 다른 양태에 따라, 회로 기판 상에 저항 링크를 형성 할 수 있는 코팅물을 제조하기에 적합한 광경화성 은 조성물이 제공된다. 이러한 실시예는 우레탄을 포함한다. 은 조성물은 지방족 아크릴화 올리고머(우레탄)를 포함하는데, 지방족 아크릴화 올리고머는 은 조성물의 약 7~11중량%의 양으로 존재한다. 은 조성물은 아크릴화 에폭시 올리고머를 포함하는데, 아크릴화 에폭시 올리고머는 은 조성물의 약 1~4중량%의 양으로 존재한다. 또한, 은 조성물은 약 12~25중량%의 이소보닐 아크릴레이트 모노머, 약 2~4중량%의 광개시제, 약 0.0~4중량%의 유동 촉진제, 약 7~9중량%의 산화 안티몬 주석 분말, 약 24~30중량%의 은 분말, 및 약 15~30중량%의 은 박편 조성물을 포함한다. 이러한 실시예의 더 나은 개선에서, 은 조성물은 약 5~10중량%의 폴리아크릴 올리고머/아크릴레이트 모노머 블렌드를 포함한다.

본 발명의 또 다른 양태에 따라, 회로 기판 상에 흑색의 저항 링크를 형성 할 수 있는 코팅물을 제조하기에 적합한 광경화성 은 조성물이 제공된다. 은 조성물은 지방족 아크릴화 올리고머를 포함하는데, 지방족 아크릴화 올리고머는 은 조성물의 약 7~11중량%의 양으로 존재한다. 또한, 은 조성물은 아크릴화 에폭시 올리고머를 포함하는데, 아크릴화 에폭시 올리고머는 은 조성물의 약 2~4중량%의 양으로 존재한다. 또한 은 조성물은 약 10~14중량%의 이소보닐 아크릴레이트 모노머, 약 13~15중량%의 광개시제, 약 0.1~2중량%의 유동 촉진제, 약 5~12중량%의 전도성 카본 블랙 분말, 약 30~40중량%의 은 분말, 및 약 15~25중량%의 은 박편 조성물을 포함한다.

본 발명의 또 다른 양태에 따라서, 광경화성 은 조성물을 제조하기 위한 방법이 제공된다. 방법은 제 1 혼합물을 제조하기 위해 이소보닐 아크릴레이트 모노머 및 광개시제를 배합하고 혼합시키는 제 1 단계를 포함한다. 이소보닐 아크릴레이트 모노머는 은 조성물의 약 4~8중량%의 양으로 존재하고, 광개시제는 약 3~6중량%의 양으로 존재한다.

본 방법은 제 2 혼합물을 제조하기 위해 지방족 아크릴화 올리고머 및 아크릴화 에폭시 올리고머를 조합 및 혼합시키는 제 2 단계를 포함한다. 지방족 아크릴화 올리고머는 은 조성물의 약 3~8중량%의 양으로 존재하고, 아크릴화 에폭시 올리고머는 약 2~4중량%의 양으로 존재한다.

본 방법은 제 3 혼합물을 제조하기 위해 은 분말 및 은 박편 조성물을 조합 및 혼합시키는 제 3 단계를 포함한다. 은 분말은 은 조성물의 약 50~60중량%의 양으로 존재하고, 은 박편 조성물은 약 25~35중량%의 양으로 존재한다.

또한, 본 방법은 유동 촉진제를 조성물의 0.1~2중량% 조합 및 혼합시키는 제 4 단계, 및 은 조성물을 제조하기 위해 제 1, 제 2, 제 3 및 제 4 혼합물을 배합하는 제 5 단계를 포함한다.

바람직하지만 임의적으로, 제 1 , 제 2, 제 3 및 제 4 단계들은 순차적으로 수행된다. 본 방법은, 예를 들어, 배치 공정에 적합한 혼합기 또는 유사한 처리 장치에서 배치식에 의거하여 다양한 형태로 수행될 수 있다. 그것은 예를 들어, 연속 유동 식(regime)과 같은 다른 형태로 수행될 수 있다.

본 발명의 또 다른 양태에 따라, 광경화성 은 조성물을 제조하기 위한 또 다른 방법이 제공된다. 이 방법은 제 1 조성물을 제조하기 위해 이소보닐 아크릴레이트 모노머 및 광개시제를 배합하고 혼합하는 제 1 단계를 포함하는데, 이소보닐 아크릴레이트 모노머는 은 조성물의 약 4~8중량%로 존재하고, 광개시제는 3~6중량%의 양으로 존재한다. 또한, 이 방법은 제 2 혼합물을 제조하기 위해 제 1 조성물과 조합하고 지방족 아크릴화 올리고머 및 아크릴화 에폭시 올리고머를 혼합하는 제 2 단계를 포함한다. 지방족 아크릴화 올리고머는 은 조성물의 약 3~8중량%의 양으로 존재하고 아크릴화 에폭시 올리고머는 약 2~4중량%의 양으로 존재한다.

또한, 본 방법은 제 3 조성물을 제조하기 위해 제 2 조성물과 조합하고, 은 분말 및 은 박편 조성물을 혼합하는 제 3 단계를 포함한다. 은 분말은 은 조성물의 약 50~60중량%의 양으로 존재하고 은 박편 조성물은 약 25~35중량%의 양으로 존재한다.

또한, 본 방법은 제 3 조성물로 조합하고 은 조성물의 약 0.1~2중량%의 양으로 유동 촉진제를 혼합하는 제 4 단계룰 포함한다.

또한, 본 방법은 예를 들어, 혼합 용기 또는 일련의 혼합 용기, 연속 유동식, 또는 어떤 조합과 같은 배치식에서 수행될 수 있다.

본 발명의 또 다른 양태에 따라서, 기판 상에 은 코팅물을 침착시키기 위한 방법이 제공된다. 본 방법은 은-함유 유체상 조성물("은 조성물")에 도포하는 제 1 단계를 포함한다. 은 조성물은 지방족 아크릴화 올리고머를 포함하는데, 지방족 아크릴화 올리고머는 은 조성물의 약 3~8중량%의 양으로 존재한다. 은 조성물은 아크릴화 에폭시 올리고머를 포함한다. 아크릴화 에폭시 올리고머는 은 조성물의 약 2~4중량%의 양으로 존재한다. 또한, 은 조성물은 은 조성물의 약 4~8중량%의 이소보닐 아크릴레이트 모노머, 약 3~6중량%의 광개시제, 및 약 0.1~2중량%의 유동 촉진제를 포함한다. 또한, 은 조성물은 은 조성물의 약 50~60중량%의 은 분말을 포함하고, 약 25~35중량%의 은 박편을 포함한다.

또한, 본 방법은 은 조성물을 은 코팅물로 경화시키기에 적합한 파장의 빛으로 기판 상에 은 조성물을 조사시키는 제 2 단계를 포함한다. 바람직하게, 빛은 전자기 스펙트럼의 자외선 영역의 파장을 갖는다.

본 방법에 따라, 은 조성물은 은 도금이 바람직한 특정 위치에서 기판상에 개별적으로 침착될 수 있다. 그것은 기판 전체에 도포될 필요가 없다. 따라서, 예를 들어, 반도체 웨이퍼, 인쇄 회로 기판, 압력 민감성 또는 압력 활성화 스위치 등에서 금속화(metallization)로 제조된 은 코팅물을 사용하는 것은 가능하다.

본 발명의 또 다른 양태에 따라, 기판 상에 은-함유 코팅물 또는 도금을 제공하는데 사용하기 위한 액상 은-함유 조성물을 제조하기 위한 방법이 제공된다. 본 방법의 바람직한 형태는 상기에 언급된 것처럼 조성물을 제조하는 것을 포함한다. 넓은 의미에서 본 방법은 혼합기에서 모노머 및 광개시제를 조합 및 혼합하는 제 1 단계, 혼합기에 첨가하고 우레탄 및 에폭시에서 블렌딩하는 제 2 단계, 혼합기에 첨가하고 은 분말 및 은 박편에서 블렌딩하는 제 3 단계, 및 혼합기에 첨가하고 유동제에서 블렌딩하는 제 4 단계를 포함한다.

은 조성물

본 발명의 최근의 바람직한 조성물 또는 실시예 및 방법들이 하기에서 상세히 설명되는데, 이것은 본 발명자에게 현재까지 알려진, 본 발명을 실시하는 최적의 형태를 구성한다.

본 발명의 한 가지 양태의 따라, 본 발명의 바람직한 광경화성 은 조성물("은 조성물")이 제공된다. 이러한 바람직한 실시예에서, 은 조성물은 지방족 아크릴화 올리고머를 포함한다. 지방족 아크릴화 올리고머는 은 조성물의 약 3~8중량% 바람직하게, 약 8중량%의 양으로 존재한다. 지방족 아크릴화 올리고머는 바람직하게우레탄 올리고머를 포함한다. 적합한 지방족 아크릴화 올리고머로는 조지아주 스미르나(Smyrna, Georgia)에 소재하는 라드큐어 UCB 코포레이션(Radcure UCB Corp.)으로부터 상업적으로 입수 가능한 Radcure Ebecryl 244, Ebecryl 264, Ebecryl 284; 펜실베니아주 엑스톤(Exton, Pensylvannia)에 소재하는 사르토머 코포레이션(Sartomer Corp.)으로부터 상업적으로 입수 가능한 Sartomer CN961, CN963, CN964, CN966, CN982 및 CN983; 일리노이주 시카고(Chicago, Illinois)에 소재하는 TAB 케미칼스(TAB Chemicals)로부터 상업적으로 입수 가능한 TAB FAIRAD 8010, 8179, 8205, 8210, 8216, 8264, M-E-15, UVU-316; 미주리주 베르사이(Versaille, Missouri)에 소재하는 에코 레진(Echo Resins)으로부터 상업적으로 입수 가능한 Echo Resin ALU-303; 및 일리노이주 오로라(Aurora, Illinois)에 소재하는 란 래디에이션 큐어링(Rahn Radiation Curing)으로부터 상업적으로 입수 가능한 Genomer 4652를 포함한다. 바람직한 지방족 아크릴화 올리고머로는 Ebecryl 264 및 Ebecryl 284를 포함한다. Ebecryl 264는 헥산디올 디아크릴레이트에서 85% 용액으로 공급되는 지방족 우레탄 트리아크릴레이트이다. Ebecryl 284는 1,6-헥산디올 디아크릴레이트로 희석된 1200 분자량의 지방족 우레탄 디아크릴레이트이다. 또한, 이러한 물질들의 조합이 여기에 사용될 수 있다는 것은 본 기술분야에서 숙련된 자들에게 명백하다.

또한, 이러한 바람직한 은 조성물은 아크릴화 에폭시 올리고머를 포함한다. 아크릴화 에폭시 올리고머는 은 조성물의 2~4중량%, 바람직하게 약 3중량%의 양으로 존재한다. 적합한 아크릴화 에폭시 올리고머로는 라드큐어 UCB로부터 상업적으로 입수 가능한 Radcure Ebecryl 3603; 사르토머 코포레이션으로부터 상업적으로 입수 가능한 Sartomer CN120 및 CN124; 및 에코 레진으로부터 상업적으로 입수 가능한 Echo Resin TME9310 및 9345를 포함한다. 바람직한 아크릴화 에폭시 올리고머는 삼-관능성 아크릴화 에폭시 노볼락(novolac)인, Ebecryl 3603이다. 이들 물질의 조합도 여기에 사용될 수 있다.

또한, 바람직한 은 조성물은 은 조성물의 약 4~8중량%, 바람직하게 약 5중량%의 이소보닐 아크릴레이트 모노머를 포함한다. 적합한 이소보닐 아크릴레이트 모노머는 Sartomer SR423 IBOMA 및 SR506 IBOA; 라드큐어 코포레이션으로부터 상업적으로 입수 가능한 Radcure IBOA, CPS 케미칼로부터 상업적으로 입수 가능한 IBOA 및 IBOMA; 및 란 래디에이션 큐어링으로부터 상업적으로 입수 가능한 Genomer 1121를 포함한다. 바람직한 이소보닐 아크릴레이트 모노머는 Sartomer SR423 IBOMA 및 SR506 IBOA; 라드큐어 코포레이션으로부터 상업적으로 입수 가능한 Radcure IBOA; CPS 케미칼(CPS Chemical)로부터 상업적으로 입수 가능한 IBOA 및 IBOMA; 및 란 래디에이션 큐어링으로부터 상업적으로 입수 가능한 Genomer 1121을 포함한다.

이러한 바람직한 은 조성물은 또한 은 조성물의 약 3~6중량%, 바람직하게 약 4중량% 광개시제를 포함한다. 적합한 광개시제로는 뉴욕주 테리타운(Tarrytown, New York)에 소재하는 시바-가이기 코포레이션으로부터 상업적으로 입수 가능한 Irgacure 184(1-하이드록시시클로헥시 페닐 케톤), 907 (2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노 프로판-1-온), 369 (2-벤질-2-N,N-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-1-부탄온), 500 (1-하이드록시 시클로헥실 페닐 케톤 및 벤조펜온의 배합),651 (2,2-디메톡시-2-페닐 아세토펜온), 1700 (비스-2,6-디메톡시벤조일-2,4-4-트리메틸 페닐 포스핀 옥사이드 및 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온의 조합), 시바-가이기 1700, 및 DAROCUR 1173(2-하이드록시-2-메틸-1페닐-1-프로판) 및 4265(2,4,6-트레메틸벤조일디페닐-포스핀 옥사이드 및 2-하이드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온의 조합); 코네티컷주 댄베리(Danbury, Conn)에 소재하는 유니온 카바이드 케미칼스 앤드 플라스틱 코포레이션 인코포레이티드((Union Carbide Chemicals and Plastics Co., Inc.)로부터 상업적으로 입수 가능한 CYRACURE UVI-6974(혼합된 트리아릴 술포늄 헥사플루오로안티모네이트 염 및 UVI-6990(혼합된 트리아릴 술포늄 헥사플루오로포스페이트 염); 및 란 래디에이션 큐어링으로부터 상업적으로 입수 가능한 Genocure CQ, Genocure BOK, 및 Genocure MBF를 포함한다. 바람직한 광개시제는 뉴욕주 테리타운에 소재하는 시바-가이기로부터 상업적으로 입수 가능한 Iracure 1700이다.

또한, 바람직한 은 조성물은 은 조성물의 약 0.1~2중량%, 바람직하게 약 1.0중량%의 양으로 유동 촉진제를 포함한다. 적합한 유동 촉진제는 란 래디에이션 큐어링으로부터 상업적으로 입수 가능한 Genorad 17; 및 미주리주 세인트 루이스(St. Louis, Missouri)에 소재하는 몬산토 케미칼 코포레이션(Monsanto Chemical Co.)으로부터 상업적으로 입수 가능한 Modaflow를 포함한다. 바람직한 유동 촉진제는 조성물의 유동을 개선하는 에틸 아크릴레이트 및 2-에틸헥실 아크릴레이트 코폴리머인 Modaflow이다. 이러한 물질들의 조합도 여기에 사용될 수 있다.

또한 바람직한 은 조성물은 은 조성물의 약 50~60중량%, 및 바람직하게 약52중량%의 은 분말을 포함한다. 은 분말은 다수의 입자들을 포함한다. 이러한 바람직한 은 조성물에서, 은 분말은 약 5~15미크론 범위의 입자 크기를 가진다. 어떤 실시예에서, 은 분말은 약 4.7~14.9미크론 범위의 입자 크기를 갖는다. 바람직하게, 은 분말은 입자의 약 10중량%가 약 4.7미크론 이하의 입자 크기를 갖고, 입자의 약 50중량%가 약 7.6미크론 이하의 입자 크기를 가지며, 입자의 약 90중량%가 약 14.9미크론 이하의 입자 크기인 입자 분포를 가진다. 바람직한 은 분말은 뉴저지주 사우스 플레인필드(South Plainfield, New Jersey)에 소재하는 데구사 코포레이션(Degussa Corp.)으로부터 상업적으로 입수 가능한 은 분말 EG-ED 및 은 분말 C-ED이다.

또한, 바람직한 은 조성물은 은 조성물의 약 25~35중량%, 바람직하게 약 30중량%의 은 박편 조성물을 포함한다. 은 박편 조성물은 바람직하게 은을 포함하고, 기본적으로 은으로 이루어진 다량의 은 박편을 포함한다. 본 실시예에 따른 은 박편 조성물은 약 5~32미크론 범위의 입자 크기를 가진다. 보다 바람직하게, 은 박편 조성물은 약 5.5~32.0미크론 범위의 입자 크기를 가진다. 바람직하게, 은 박편 입자 크기 분포는 약 10중량%가 약 5.5미크론 이하의 입자 크기를 갖고, 입자의 약 50중량%가 약 12.5미크론 이하의 입자 크기를 가지며, 입자의 약 90중량%가 약 32.0미크론 이하의 입자 크기이다. 바람직한 은 박편 조성물은 뉴 저지주 사우스 플레인필드의 데구사 코포레이션으로부터 입수 가능한 은 박편 #25, 은 박편 # 1, 및 은 박편 #7A 이다.

실시예 1

본 실시예는 예를 들어, 압력 민감성 스위치용 전기적 접촉부로 사용되도록 폴리머 멤브레인과 같은 기판의 표면 상에 침착을 위해 사용될 수 있는 본 발명에 따라 바람직한 은 조성물을 제공한다. 은 조성물은 하기의 성분으로 제조된다.

성분	대략적인 질량%
Ebecryl 264	7.2
Ebecryl 3603	2.4
IBOA	4.7
은 분말 EGED	53.4
은 박편 #25	27.6
Iragure 1700	3.9
Modaflow	0.8
총	100.00

이러한 예에서, IBOA 및 Iragure 1700를 프로펠러 블레이드 혼합기를 지닌 팬에서 500~1000rpm의 속도로 30초동안 혼합한다. 다음에, Ebecryl 264, Ebecryl 3603, 및 Modaflow를 팬에 유입시키고 1000rpm의 속도로 1~2분간 혼합한다. 다음 단계에서, EGED 은 분말, 및 은 박편 #25을 팬으로 유입시키고 1000rpm의 속도로 1~2분간 혼합한다. 마지막으로, 혼합 속도를 10,000rpm으로 증가시키고 5분간 더 혼합한다.

가장 우수한 결과를 위해, 은 분말을 혼합물에 첨가하기 전에 세정한다. 세정 방법은 밀폐된 용기에 분말을 넣는 제 1 단계를 포함한다. 17중량%의 메틸 에틸 및 83중량%의 은 조성물로 구성된 혼합물을 용기에 첨가하고 슬러리는 프로펠러 블레이드로 500rpm에서 5분간 혼합한다. 메틸 에틸 케톤을 따라 버리고 은 분말을 공기 중에 건조 시킨다. 건조 단계 중에 분말을 주기적으로 혼합한다.

최근의 바람직한 조성물에 따른 은 분말은 뉴 저지주 사우스 플레인필드의 데구사 코포레이션으로부터 상업적으로 입수 가능한 EGED를 포함한다. 또한 그러한은은 뉴 저지주 아이슬린(Iselin, New Jersey)의 잉글하드 케미칼 코포레이션(Englehard Chemical Co.)과 같은 다른 회사들로부터 입수될 수 있다. 최근의 바람직한 은 분말은 약 5~15미크론 범위로 그레인 크기 분포를 갖는다. 이러한 최근의 바람직한 은 분말은 하기와 같은 입자 크기 분포를 갖는다.

표 1. 은 분말 입자 크기 분포

크기 범위(미크론)	백분율
<4.7	10%
<7.6	50%
<14.9	90%

이 표에서 나타내는 것처럼, 은 분말 시료에서, 그레인의 10%는 4.7미크론 이하의 크기를 갖고, 그레인의 50%는 7.6미크론 이하의 크기를 갖고, 그레인의 90% 14.8미크론 이하의 입자 크기를 갖는다.

실시예 1의 최근의 바람직한 조성물에 따른 은 박편은 데구사로부터 상업적으로 입수 가능한 SF25를 포함한다. 바람직하게, 이러한 은 박편 조성물은 약 5~32미크론의 범위로 그레인 크기 분포를 갖는다. 이는 하기와 같은 입자 크기 분포를 갖는다.

표 2. 은 박편 조성물 입자 크기 분포

크기 범위(미크론)	백분율
<5.5	10%
<12.5	50%
<32.0	90%

표 2에서 나타내는 것처럼, 은 박편 시료에서, 그레인의 10%는 5.5미크론 이하의 크기를 갖고, 그레인의 50%는 12.5미크론 이하의 크기를 갖고, 그레인의 90% 32.0미크론 이하의 입자 크기를 갖는다.

실시예 2

본 실시예는 상기에 언급된 것과 같은 기판의 표면 상에 침착을 위해 사용될 수 있는 본 발명에 따른 다른 바람직한 은 조성물을 제공한다. 은 조성물은 하기의 성분들로 제조된다.

성분	대략적인 질량%
Ebecryl 264	4.2
Ebecryl 3603	2.7
IBOA	7.7
은 분말 EGED	53.4
은 박편 #25	27.6
Iragure 1700	3.8
Modaflow	0.6
총	100.00

본 실시예에서, IBOA 및 Iragure 1700를 프로펠러 블레이드 혼합기를 지닌 팬에서 500~1000rpm의 속도로 30초동안 혼합한다. 다음에, Ebecryl 264, Ebecryl 3603, 및 Modaflow를 팬에 유입시키고 1000rpm의 속도로 1~2분간 혼합한다. 다음 단계에서, EGED 은 분말, 및 은 박편 #25을 팬으로 유입시키고 1000rpm의 속도로 1~2분간 혼합한다. 마지막으로, 혼합 속도를 10,000rpm으로 증가시키고 5분간 더 혼합한다.

실시예 3

본 실시예를 산화 인듐 주석(ITO)로 코팅된 기판의 표면 상에 침착을 위해 사용될 수 있는 본 발명에 따른 다른 바람직한 은 조성물을 제공한다. 은 조성물은 하기의 성분들로부터 제조된다.

성분	대략적인 질량%
Ebecryl 264	7.0
Ebecryl 3603	2.3
IBOA	4.6
은 분말 EGED	52.3
은 박편 #25	27.0
Iragure 1700	3.8
Modaflow	0.8
Ebecryl 168	2.2
총	100.00

본 실시예에서, IBOA 및 Iragure 1700를 프로펠러 블레이드 혼합기를 지닌 팬에서 500~1000rpm의 속도로 30초동안 혼합한다. 다음에, Ebecryl 264, Ebecryl 3603, 및 Modaflow는 팬에 유입되어 1000rpm의 속도로 1~2분간 혼합된다. 다음 단계에서, EGED 은 분말, 및 은 박편 #25는 팬으로 유입시키고 1000rpm의 속도로 1~2분간 혼합한다. 다음 단계에서, Ebecryl 168을 팬에 첨가하고 1000rpm으로 1~2분간 혼합한다. 마지막으로, 혼합 속도를 10,000rpm으로 증가시키고 5분간 더 혼합한다.

본 실시예는 Ebecryl 168을 점착 촉진제로써 첨가한다. 이러한 물질은 조지아주 시미르나에 소재하는 라드큐어 UCB 코포레이션으로부터 상업적으로 입수 가능한 메타크릴레이트 에스테르 유도체이다.

전자기 방해(interference)를 차단하기 위한 코팅물 제조용 은 조성물

본 발명의 또 다른 양태에 따라, 최근의 바람직한 광경화성 은 조성물("은 조성물")이 제공된다. 광경화성에 따른 이러한 조성물은 전자기 방해를 차단하기 위한 코팅물을 제공한다. 그러한 코팅물은 방사 케이스의 내부로써 전자기 방해로부터 차단을 요구하는 기판에 도포될 수 있다. 이러한 바람직한 실시예에서, 은 조성물은 아크릴화 에폭시 올리고머를 포함한다. 아크릴화 에폭시 올리고머는 은 조성물의 약 2~8중량%, 바람직하게, 약 5중량%의 양으로 존재한다. 적합한 아크릴화에폭시 올리고머는 상기 열거된 것과 동일하다. 바람직한 아크릴화 에폭시 올리고머는 삼-관능성 아크릴화 에폭시 노볼락인 Ebecryl 3603이다. 또한 이러한 물질의 조합이 여기에 사용될 수 있다.

또한, 바람직한 은 조성물은 은 조성물의 15~30중량%, 바람직하게 21중량%의 이소보닐 아크릴레이트 모노머를 포함한다. 적합한 이소보닐 아크릴레이트 모노머는 상기에 열거한 것과 같다. 바람직한 이소보닐 아크릴레이트 모노머는 Sartomer SR423 IBOMA 및 SR506 IBOA; 라드큐어 코포레이션으로부터 상업적으로 입수 가능한 Radcure IBOA; CPS 케미칼로부터 상업적으로 입수 가능한 IBOA 및 IBOMA; 및 란 래디에이션 큐어링으로부터 상업적으로 입수 가능한 Genomer 1121를 포함한다. 이러한 물질들의 조합도 여기에 사용될 수 있다.

또한, 이러한 바람직한 은 조성물은 은 조성물의 약 3~7중량%, 바람직하게 약 5중량%의 양의 광개시제를 포함한다. 적합한 광개시제는 상기에 열거된 것과 동일하다. 바람직한 광개시제는 뉴욕주 테리타운에 소재하는 시바-가이기로부터 상업적으로 입수 가능한 Iragcure 1700이다. 이러한 물질들의 조합도 여기에 사용될 수 있다.

게다가, 바람직한 은 조성물은 은 조성물의 약 0.1~2중량%, 바람직하게 약 1.0중량%의 양의 유동 촉진제를 포함한다. 적합한 유동 촉진제는 상기에 열거된 것과 동일하다. 바람직한 유동 촉진제는 조성물의 유동을 향상시키는 에틸 아크릴레이트 및 2-에틸헥실 아크릴레이트 코폴리머인 Modaflow이다. 이러한 물질들의 조합도 여기에 사용될 수 있다.

또는, 바람직한 은 조성물은 은 조성물의 약 25~40중량, 바람직하게 약 36중량% 은 분말을 포함한다. 바람직한 은 분말은 뉴 저지주 사우스 플레인필드의 데구사 코포레이션으로부터 상업적으로 입수 가능한 은 분말 EG-ED 및 은 분말 C-ED이다.

게다가, 바람직한 은 조성물은 은 조성물의 약 20~40중량, 바람직하게 약 30중량% 은 박편 조성물을 포함한다. 바람직한 은 박편 조성물은 뉴 저지주 사우스 플레인필드의 데구사 코포레이션으로부터 상업적으로 입수 가능한 은 박편 #25, 은 박편 #1, 및 은 박편 #7A이다.

실시예 4

본 실시예는 표면에 도포되고 자외선에 의해 순차적으로 경화될 때 전자기 방해를 차단하기에 적합한 코팅물을 제조하는 본 발명에 따른 바람직한 은 조성물을 제공한다. 은 조성물은 하기의 성분들로 제조된다.

성분	대략적인 질량%
Ebecryl 3603	5.3
IBOA	21.0
은 분말 EGED	31.5
은 박편 #1	35.7
Iragure 1700	5.3
Modaflow	1.2
총	100.00

본 실시예에서, IBOA 및 Iragcure 1700을 프로펠러 블레이드 혼합기를 지닌 팬에 500~1000rpm의 속도로 30초동안 혼합한다. 다음에, Ebecryl 3603, 및 Modaflow를 팬에 넣고 5000rpm의 속도록 5분간 혼합한다. 다음 단계에서, EGED 은 분말 및 은 박편 #1을 팬에 넣고 1000rpm의 속도록 1~2분간 혼합한다. 마지막에, 혼합 속도를 10,000rpm으로 증가시키고 5~10분간 더 혼합한다.

저항 링크를 제조하기 위한 은 조성물 함유 비-우레탄

본 발명의 또 다른 양테에서, 최근의 바람직한 광경화성 은 조성물("은 조성물")이 제공된다. 광경화성에 따르는 이 조성물은 회로 기판에 저항 링크를 제조하기 위한 코팅물을 제조한다. 이러한 바람직한 실시예에서, 은 조성물은 아크릴화 에폭시 올리고머를 포함한다. 아크릴화 에폭시 올리고머는 은 조성물의 약 16~20중량%, 바람직하게 약 18중량%의 양으로 존재한다. 적합한 아크릴화 에폭시 올리고머는 상기에 열거된 것과 동일하다. 바람직한 아크릴화 에폭시 올리고머는 삼-관능성 아크릴화 에폭시 노볼락인, Ebecryl 3603이다. 이러한 물질들의 조합도 여기에 사용될 수 있다.

또한, 바람직한 은 조성물은 약 8~14중량%, 바람직하게 약 11중량% 이소보닐 아크릴레이트 모노머를 포함한다. 적합한 이소보닐 아크릴레이트 모노머는 상기에 열거된 것과 동일하다. 바람직한 이소보닐 아크릴레이트 모노머는 Sartomer SR423 IBOMA 및 SR506 IBOA; 라드큐어 코포레이션으로부터 상업적으로 입수 가능한 Radcure IBOA; CPS 케미칼로부터 상업적으로 입수 가능한 IBOA 및 IBOMA; 및 란 래디에이션 큐어링으로부터 상업적으로 입수 가능한 Genomer 1121을 포함한다. 이러한 물질들의 조합도 여기에 사용될 수 있다.

또한, 이러한 바람직한 은 조성물은 은 조성물의 약 4~8중량%, 바람직하게 약 6중량% 광개시제를 포함한다. 적합 광개시제는 상기에 열거된 것과 동일하다. 바람직한 광개시제는 뉴욕주 테리타운에 소재하는 시바-가이기로부터 상업적으로 입수 가능한 Iragcure 1700이다. 이러한 물질들의 조합도 여기에 사용될 수 있다.

게다가, 바람직한 은 조성물은 은 조성물의 약 0.1~2중량%, 바람직하게 약 1.0중량% 유동 촉진제를 포함한다. 적합한 유동 촉진제는 상기에 열거된 것과 동일하다. 바람직한 유동 촉진제는 조성물을 유동을 향상시키는 에틸 아크릴레이트 및 2-에틸헥실 아크릴레이트 코폴리머인 Modaflow이다. 이러한 물질들의 조합도 여기에 사용될 수 있다.

또한, 바람직한 은 조성물은 은 조성물의 약 25~35중량%, 바람직하게 약 30중량% 은 분말을 포함한다. 바람직한 은 분말은 뉴 저지주 사우스 플레인필드의 데구사 코포레이션으로부터 상업적으로 입수 가능한 은 분말 EG-ED 및 은 분말 C-ED이다.

게다가, 바람직한 은 조성물은 은 조성물의 약 25~38중량%, 바람직하게 약 34중량% 은 박편 조성물을 포함한다. 바람직한 은 박편 조성물은 뉴 저지주 사우스 플레인필드의 데구사 코포레이션으로부터 상업적으로 입수 가능한 은 박편 #25, 은 박편 #1 및 은 박편 #7A이다.

예시하기 위해서, 하기의 실시예들은 본 발명의 이러한 양태에 따른 최근의 바람직한 은 조성물을 설명한다.

실시예 5

본 실시예는 표면에 도포되고 자외선에 의해 순차적으로 경화될 때, 회로 기판에 저항 링크를 제조하기에 적절한 코팅물을 제조하는 본 발명에 따른 바람직한 은 조성물을 제공한다. 은 조성물은 하기의 성분들로부터 제조된다.

성분	대략적인 질량%
Ebecryl 3603	18.3
IBOA	11.1
은 분말 EGED	30.0
은 박편 #1	33.5
Iragure 1700	6.1
Modaflow	1.0
총	100.00

본 실시예에서, IBOA 및 Iragure 1700를 프로펠러 블레이드 혼합기를 지닌 팬에서 500~1000rpm의 속도로 30초동안 혼합한다. 다음에, Ebecryl 3603, 및 Modaflow를 팬에 유입시키고 5000rpm의 속도로 5분간 혼합한다. 다음 단계에서, EGED 은 분말, 및 은 박편 #1을 팬으로 유입시키고 1000rpm의 속도로 1~2분간 혼합한다. 마지막으로, 혼합 속도를 10,000rpm으로 증가시키고 5~10분간 더 혼합한다.

저항 링크를 제조하기 위한 은 조성물 함유 우레탄

본 발명의 한가지 양태에 따라, 최근의 바람직한 광경화성 은 조성물("은 조성물")이 제공된다. 광경화성에 따른 이러한 조성물은 회로 기판에 저항 링크를 제조하는 코팅물을 제공한다. 바람직한 실시예에서, 은 조성물은 지방족 아크릴화 올리고머를 포함한다. 지방족 아크릴화 올리고머는 은 조성물의 약 7~11중량%, 바람직하게 약 9중량%의 양으로 존재한다. 적합한 지방족 아크릴화 올리고머는 상기에 열거된 것과 동일한다. 바람직한 지방족 아크릴화 올리고머는 Ebecryl 264 및 Ebecryl 284를 포함한다. Ebecryl 264는 헥산디올 디아크릴레이트에 85중량%의 용액으로 공급된 지방족 우레탄 트리아크릴레이트이다. Ebecryl 284는 1,6-헥산디올 디아크릴레이트로 희석된 1200 분자량의 지방족 우레탄 디아크릴레이트이다. 이러한 물질들의 조합도 여기에 사용될 수 있다.

게다가, 바람직한 은 조성물은 아크릴화 에폭시 올리고머를 포함한다. 아크릴화 에폭시 올리고머는 약 1~4중량%, 바람직하게 약 3중량%의 양으로 존재한다. 적합한 아크릴화 에폭시 올리고머는 삼-관능성 아크릴화 에폭시 노볼락인, Ebecryl 3603이다. 이러한 물질들의 조합도 여기에 사용될 수 있다.

또한, 바람직한 은 조성물은 은 조성물의 약 12~25중량%, 바람직하게 약 22중량%이소보닐 아크릴레이트 모노머를 포함한다. 바람직한 이소보닐 아크릴레이트 모노머는 Sartomer SR423 IBOMA 및 SR506 IBOA; 라드큐어 코포레이션으로부터 상업적으로 입수 가능한 Radcure IBOA; CPS 케미칼로부터 상업적으로 입수 가능한 IBOA 및 IBOMA; 및 란 래디에이션 큐어링으로부터 상업적으로 입수 가능한 Genomer 1121을 포함한다. 이러한 물질들의 조합도 여기에 사용될 수 있다.

또한, 바람직한 은 조성물은 은 조성물의 약 2~4중량%, 바람직하게 약 3중량% 광개시제를 포함한다. 적합한 광개시제는 상기에 열거된 것과 동일하다. 바람직한 개시제는 뉴욕주 테리타운에 소재하는 시바-가이기로부터 상업적으로 입수 가능한 Iragure 1700이다.

게다가, 바람직한 은 조성물은 은 조성물의 약 7~9중량%, 바람직하게 약 17중량% 산화 안티몬 주석을 포함한다. 바람직한 산화 안티몬 주석 분말은 뉴욕주 호톤(Hawthorne, New York)의 EM 인더스트리(EM Industries)로부터 상업적으로 입수 가능한 Minatec 40이다.

바람직한 은 조성물은 은 조성물의 약 0.0~4중량%, 바람직하게 약 2.0중량% 유동 촉진제를 포함한다. 적합한 유동 촉진제는 상기에 열거된 것과 동일하다. 바람직한 유동 촉진제는 조성물을 유동을 향상시키는 에틸 아크릴레이트 및 2-에틸헥실 아크릴레이트 코폴리머인 Modaflow이다.

또한, 바람직한 은 조성물은 은 조성물은 은 조성물의 약 24~30중량%, 바람직하게 약 27중량% 은 분말을 포함한다. 바람직한 은 분말은 뉴 저지주 사우스 플레인필드의 데구사 코포레이션으로부터 상업적으로 입수 가능한 은 분말 EG-ED 및 은 분말 C-ED이다.

게다가, 바람직한 은 조성물은 은 조성물의 약 15~30중량%, 바람직하게 약 17중량% 은 박편 조성물을 포함한다. 바람직한 은 박편 조성물은 뉴 저지주 사우스 플레인필드의 데구사 코포레이션으로부터 상업적으로 입수 가능한 은 박편 #25, 은 박편 #1 및 은 박편 #7A이다.

실시예 6

본 실시예는 표면에 도포하고 자외선에 의해 순차적으로 경화될 때, 회로 기판에 저항 링크를 만들기에 적합한 코팅물을 제조하는 본 발명에 따르는 바람직한 은 조성물을 제공한다. 은 조성물은 하기의 조성물으로부터 제조된다.

성분	대략적인 질량%
Ebecryl 264	8.7
Ebecryl 3603	2.9
IBOA	22.4
은 박편 #7A	17.0
은 분말 CED	26.5
Minatec 40	17.2
Iragure 1700	3.3
Modaflow	2.0
총	100.00

본 실시예에서, IBOA 및 Iragure 1700를 프로펠러 블레이드 혼합기를 지닌 팬에서 500~1000rpm의 속도로 30초동안 혼합한다. 다음에, Ebecryl 264, Ebecryl 3603, 및 Modaflow를 팬에 유입시키고 1000rpm의 속도로 1~2분간 혼합한다. 다음단계에서, CED 은 분말, 및 Minatec 40, 및 은 박편 #7A를 팬으로 유입시키고 1000rpm의 속도로 1~2분간 혼합한다. 마지막으로, 혼합 속도를 10,000rpm으로 증가시키고 5분간 더 혼합한다.

실시예 7

성분	대략적인 질량%
Ebecryl 284	8.4
Ebecryl 3603	1.7
Ebecryl 754	8.4
IBOA	15.7
은 분말 CED	25.0
은 박편 #7A	28.5
Iragure 1700	2.5
Minatec 40	9.8
총	100.00

본 실시예에서, IBOA 및 Iragure 1700를 프로펠러 블레이드 혼합기를 지닌 팬에서 500~1000rpm의 속도로 30초동안 혼합한다. 다음에, Ebecryl 754, Ebecryl 284, Ebecryl 3603, 및 Modaflow를 팬에 유입시키고 1000rpm의 속도로 1~2분간 혼합한다. 다음 단계에서, CED 은 분말, 및 은 박편 #7A를 팬으로 유입시키고 1000rpm의 속도로 1~2분간 혼합한다. 마지막으로, 혼합 속도를 10,000rpm으로 증가시키고 5분간 더 혼합한다.

본 실시예는 활성제로 Ebecryl 754를 포함한다. Ebecryl 754는 조지아주 시미르나에 소재하는 라드큐어 UCB 코포레이션으로부터 상업적으로 입수 가능한 폴리아크릴 올리고머/아크릴레이트 모노머 블렌드이다.

저항 링크 제조용 흑색 은 조성물

본 발명의 한가지 양태에 따라, 최근의 바람직한 광경화성 은 조성물("은 조성물")이 제공된다. 광경화성에 따른 이러한 조성물은 회로 기판에 저항 링크를 제조하는 흑색 코팅물을 제공한다. 바람직한 실시예에서, 은 조성물은 지방족 아크릴화 올리고머를 포함한다. 지방족 아크릴화 올리고머는 은 조성물의 약 7~11중량%, 바람직하게 약 9중량%의 양으로 존재한다. 바람직하게, 지방족 아크릴화 올리고머는 우레탄 올리고머를 포함한다. 적합한 지방족 아크릴화 올리고머는 상기에 열거된 것과 동일한다. 바람직한 지방족 아크릴화 올리고머는 Ebecryl 264 및 Ebecryl 284를 포함한다. Ebecryl 264는 헥산디올 디아크릴레이트에 85중량%의 용액으로 공급된 지방족 우레탄 트리아크릴레이트이다. 에비크릴 284는 1,6-헥산디올 디아크릴레이트로 희석된 1200 분자량의 지방족 우레탄 디아크릴레이트이다. 이러한 물질들의 조합도 여기에 사용될 수 있다.

게다가, 바람직한 은 조성물은 아크릴화 에폭시 올리고머를 포함한다. 아크릴화 에폭시 올리고머는 은 조성물의 약 2~4중량%, 바람직하게 약 3중량%의 양으로 존재한다. 적합한 아크릴화 에폭시 올리고머는 삼-관능성 아크릴화 에폭시 노볼락인, Ebecryl 3603이다.

또한, 바람직한 은 조성물은 은 조성물의 약 10~14중량%, 바람직하게 약 12중량% 이소보닐 아크릴레이트 모노머를 포함한다. 바람직한 이소보닐 아크릴레이트 모노머는 Sartomer SR423 IBOMA 및 SR506 IBOA; 라드큐어 코포레이션으로부터 상업적으로 입수 가능한 Radcure IBOA; CPS 케미칼로부터 상업적으로 입수 가능한 IBOA및 IBOMA; 및 란 래디에이션 큐어링으로부터 상업적으로 입수 가능한 Genomer 1121을 포함한다.

또한, 바람직한 은 조성물은 은 조성물의 약 13~15중량%, 바람직하게 약 14중량% 광개시제를 포함한다. 바람직한 광개시제는 뉴욕주 테리타운에 소재하는 시바-가이기로부터 상업적으로 입수 가능한 Iragure 1700이다.

게다가, 바람직한 은 조성물은 은 조성물의 약 5~12중량%, 바람직하게 약 7중량% 카본 블랜 분말을 포함한다. 바람직한 카본 블랙 분말은 뉴욕주 호톤에 소재하는 EM 인더스트리로부터 상업적으로 입수 가능한 Printex L이다.

바람직한 은 조성물은 은 조성물의 약 0.5~3중량%, 바람직하게 약 1.5중량% 습윤제를 포함한다. 바람직한 습윤제는 코네티컷주 월링포드(Wallingford, Connecticut)의 Byk-Chemie로부터 상업적으로 입수 가능한 BYK 207 L이다.

게다가, 바람직한 은 조성물은 은 조성물의 약 0.1~2중량%, 바람직하게 약 1.0중량%의 유동 촉진제를 포함한다. 바람직한 유동 촉진제는 조성물의 유동을 향상시키는 에틸 아크릴레이트 및 2-에틸헥실 아크릴레이트 코폴리머인 Modaflow이다. 이러한 물질들의 조합이 여기에 사용될 수 있다는 것은 본 기술분야의 숙련된 기술자들에게 명백하다.

또한, 바람직한 은 조성물은 은 조성물은 은 조성물의 약 30~40중량%, 바람직하게 약 36중량%의 은 분말을 포함한다. 바람직한 은 분말은 뉴 저지주 사우스 플레인필드의 데구사 코포레이션으로부터 상업적으로 입수 가능한 은 분말 EG-ED 및 은 분말 C-ED이다.

게다가, 바람직한 은 조성물은 은 조성물의 약 15~25중량%, 바람직하게 약 18중량%의 은 박편 조성물을 포함한다. 바람직한 은 박편 조성물은 뉴 저지주 사우스 플레인필드의 데구사 코포레이션으로부터 상업적으로 입수 가능한 은 박편 #25, 은 박편 #1 및 은 박편 #7A이다.

실시예 8

성분	대략적인 질량%
Ebecryl 284	8.8
Ebecryl 3603	2.5
Printex L	7.3
Byk 207	1.5
IBOA	11.6
은 분말 EGED	35.7
은 박편 #25	18.4
Iragure 1700	13.5
Modaflow	0.7
총	100.00

본 실시예에서, IBOA 및 Iragure 1700를 프로펠러 블레이드 혼합기를 지닌 팬에서 500~1000rpm의 속도로 30초동안 혼합한다. 다음에, Ebecryl 264, Ebecryl 3603, 및 Modaflow를 팬에 유입시키고 1000rpm의 속도로 1~2분간 혼합한다. 다음 단계에서, EGED 은 분말, 및 은 박편 #25 및 Printex L을 팬으로 유입시키고 1000rpm의 속도로 1~2분간 혼합한다. 마지막으로, BYK 207을 넣고 혼합 속도를 10,000rpm으로 증가시켜 5분간 더 혼합한다.

이러한 실시예 및 설명의 각각의 성분들의 기술에서, 조성물은 상기 성분을 "포함하는 것"으로 기술된다. 바람직하게, 이러한 각각의 성분들은 필수적으로 상기 소스로부터 구성되고, 보다 바람직하게 그것들은 독점적으로 상기 성분들을 구성한다.

상기에 설명된 은-함유 조성물은 "유체 상태" 조성물이 되는 것으로 설명된다. 이는 조성물이 액체이기 때문에 유동성이지만 달리 제한되지는 않음을 나타내는 것으로 의미된다. 바람직하게, 은 조성물은 액체를 포함한다. 조성물은, 예를 들어, 일반적으로 슬러리가 되고, 은 금속 그레인(분말 및 박편)은 액체 상 또는 우레탄, 에폭시, 및 다른 액체 또는 필수적으로 액체 성분에 부유된 고체-상 입자이다.

은 조성물 제조 방법

본 발명의 또다른 양태에 따라, 광경화성 은 조성물을 제조하기 위한 방법이 제공된다. 바람직한 변형에 따라, 상기 방법은 제 1 혼합물을 제조하도록 이소보닐 아크릴레이트 모노머 및 광개시제를 조합 및 혼합의 제 1 단계를 포함한다. 이소보닐 아크릴레이트 모노머는 은 조성물의 약 4~8중량%의 양으로 존재하고, 광개시제는 약 4~6중량%의 양으로 존재한다.

이러한 바람직한 방법은 임의적으로 바람직하게 소정의 배치 크기에 다른 적절한 크기의 혼합기를 사용하여 수행된다. 상업적으로 입수 가능한 알려진 디자인의 유리 또는 강철로 라인된 배치 공정 용기면 충분하다.

바람직한 방법의 제 1 단계는 예를 들어, 적합한 임펠러(impeller)에 의한 교반중에 성분들을 용기에 넣어 수행된다.

본 방법은 제 2 혼합물을 제조하도록 지방족 아크릴레이트 올리고머 및 아크릴화 에폭시 올리고머를 조합 및 혼합의 제 2 단계를 포함한다. 지방족 아크릴화 올리고머는 은 조성물의 약 3~8중량%의 양으로 존재하고 아크릴화 에폭시 올리고머는 약 2~4중량%의 양으로 존재한다. 이러한 바람직한 방법에 따라, 제 2 단계는 제 1 단계후에 순차적으로 수행되고, 즉, 제 1 단계로부터의 제 1 혼합물에 이러한 성분들을 블렌딩하는데 관련한다.

본 방법은 제 3 혼합물을 제조하기 위해 은 분말 및 은 박편 조성물을 조합 및 혼합시키는 제 3 단계를 포함한다. 은 분말은 은 조성물의 약 50~60중량%의 양으로 존재하고, 은 박편 조성물은 약 25~35중량%의 양으로 존재한다. 바람직하게, 이 단계는 제 2 단계가 완전히 끝난 후에 순차적으로 용기에서 수행된다.

게다가, 본 방법은 은 조성물의 0.1~2중량%의 유동 촉진제를 조합 및 혼합시키는 제 4 단계, 및 은 조성물을 제조하기 위해 제 1, 제 2, 제 3 및 제 4 혼합물을 배합하는 제 5 단계를 포함한다.

바람직하게,이러한 단계들은 임펠러로 혼합하는 동안 상기 성분들을 순차적으로 용기내로 첨가하여 수행된다.

언급된 것처럼, 바람직하지만 선택적으로, 제 1, 제 2, 제 3 및 제 4 단계들은 순차적으로 수행된다. 그러나, 이는 제한적이지 않다. 다른 공정 순서들이 본 방법에 따라 사용된다.

그것의 다양한 형태에서 본 방법은 예를 들어, 배치 공정에 적합한 혼합기 또는 유사한 공정 장치에서 배치식에 의거하여수행될 수 있다. 그것은 다른 형태, 예를 들어, 바람직하지만 선택적으로 상기 언급된 순차적인 순서로 이러한 성분들을 혼합하기 위한 알려진 연속 유동 공정 장치 및 배열을 사용하는, 연속 유동 식과 같은 데서도 수행될 수 있다.

본 발명의 또 다른 양태에 따라, 자외선 경화성 은 조성물을 제조하기 위한 다른 방법이 제공된다. 본 방법은 제 1 조성물을 제공하도록 이소보닐 아크릴레이트 모노머 및 광개시제를 조합 및 혼합시키는 제 1 단계를 포함하며, 이소보닐 아크릴레이트 모노머는 은 조성물의 약 4~8중량%의 양으로 존재하고, 광개시제는 약 3~6중량%의 양으로 존재한다. 또한, 이 방법은 제 2 혼합물을 제조하기도록 제 1 조성물의 배합 및 지방족 아크릴화 올리고머 및 아크릴화 에폭시 올리고머를 혼합시키는 제 2 단계를 포함한다. 지방족 아크릴화 올리고머는 은 조성물의 약 3~8중량%의 양으로 존재하고 아크릴화 에폭시 올리고머는 약 2~4중량%의 양으로 존재한다.

게다가, 본 방법은 제 3 조성물을 제조하도록 제 2 조성물의 조합 및 은 분말 및 은 박편 조성물을 혼합하는 제 3 단계를 포함한다. 은 분말은 은 조성물의 약 50~60중량%의 양으로 존재하고 은 박편 조성물은 약 25~35중량%의 양으로 존재한다.

게다가, 본 방법은 제 3 조성물의 조합 및 은 조성물의 약 0.1~2중량%의 유동 촉진제를 혼합하는 제 4 단계를 포함한다.

본 발명의 또 다른 양태에 따라, 기판 상에 은-함유 코팅물, 도금, 막 또는 층을 제공하는데 사용하기 위한 액상 은-함유 조성물을 제조하기 위한 방법이 제공된다. 최근의 본 발명의 바람직한 형태는 상기 실시예에서 나타낸 것처럼 바람직한은 조성물의 어느 하나를 제조하는 것을 포함한다. 본 발명의 바람직한 형태는 혼합기에서 모노머 및 광개시제를 조합 및 혼합시키는 제 1 단계를 포함한다. 본 방법은 혼합 용기에 첨가 및 이미 첨가된 성분에 우레판 및 에폭시에서 블렌딩하는 제 2 단계를 포함한다. 또한 방법은 혼합 용기에 첨가 및 이미 첨가된 분말 및 은 박편을 상기 성분에 블렌드하는 제 3 단계를 포함한다. 또한, 바람직한 방법은 혼합 용기에 첨가 및 이미 첨가된 성분에 유동제에서 블렌딩하는 제 4 단계를 포함한다.

기판 상에 은 코팅물 침착 방법

본 발명의 또 다른 양태에 따라, 기판 상에 은 코팅물을 침착하기 위한 방법이 제공된다. 방법은 기판 상에 은-함유 유체상 조성물("은 조성물")을 도포하는 제 1 단계를 포함한다.

은 조성물은 은 조성물의 약 3~8중량%의 양으로 존재하는 지방족 아크릴화 올리고머, 약 2~4중량%의 양으로 존재하는 아크릴화 에폭시 올리고머, 약 4~8중량%의 양으로 존재하는 이소보닐 아크릴레이트 모노머, 약 3~6중량%의 광개시제, 약 0.1~2중량%의 유동 촉진제, 약 50~60중량%의 은 분말, 및 약 25~35중량%의 은 박편 조성물을 포함한다. 본 방법에 따른 바람직한 은 조성물은 예를 들어, 실시예에서 기술된 조성물들을 포함하여 여기에 기술된다.

은 조성물은 다수의 다른 기술들을 사용하여 기판 상에 도포될 수 있다. 은 조성물은 예를 들어, 직접적인 브러쉬 도포에 의해 도포될 수 있거나, 기판 표면상에 분사될 수 있다. 또한 스크린 인쇄 기술이 사용될 수도 있다. 그러한 스크린 인쇄 기술에서, 스크린 인쇄 산업에서 사용되는 용어로서 "스크린"은 기판 표면 상에 액체 조성물의 유동을 조절하는데 사용된다. 일반적으로 은 조성물은 기판의 후면(latter) 접촉부로써 스크린에 도포된다. 은 조성물은 실크 스크린을 통해 기판으로 흐르며, 그것은 소정의 막 두께를 기판에 점착시킨다. 본 목적에 적합한 스크린 인쇄 기술은 알려진 기술들을 포함하지만, 방법은 점성, 유동성, 및 액상 조성물의 다른 특성들, 기판 및 그것의 표면 특성 등을 수용하는 본 기술에서 숙련된 기술자들에게 알려진 기술로 조절될 수 있다. 예를 들어, 롤링 기판에 은 조성물을 접촉시키도록 핀치 롤러를 사용하는 플렉소인쇄(flexographic) 기술이 사용될 수도 있다.

본 방법은 은 코팅물로 경화하도록 은-함유 유체상 조성물을 야기하는 자외선으로 기판 상에 은-함유 유체상 조성물을 조사(illuminating)하는 제 2 단계를 포함한다. 이러한 조사는 다수의 방법으로 수행되고, 은 조성물이 코팅물, 층, 막 등 및 그들의 경화를 형성하는 중합을 일으키는 자외선 또는 방사 충돌을 제공한다.

바람직하게 경화는 자유 라디칼 중합에 의해 일어나고, 자외선 방사원에 의해 촉발된다. 바람직하게 광개시제는 상기에 기술된 것과 같은 광개시제를 포함한다.

다양한 자외선 원은 도포에 따라 사용될 수 있다. 다수의 도포를 위한 바람직한 자외선 방사 원은 예를 들어, 제곱 인치 당 125와트, 200와트, 및 300와트의 에너지 강도 설정을 지닌 알려진 자외선 발광 장치를 포함한다.

추가적인 이점 및 수정은 본 기술에 숙련된 사람들에게 쉽게 이해된다. 따라서, 보다 넓은 범위의 양태에서 본 발명은 여기에 나타내고 기술된 세부 사항, 대표적인 장치 및 실시예로 제한되지 않는다. 따라서, 새로운 발전은 일반적인 발명적 개념의 정신 및 범위로부터 유리됨 없이 그러한 세부사항들로부터 만들어 질 수 있다.

Claims

광경화성 유기 혼합물;

광개시제;

은 분말; 및

은 분말의 적어도 20중량%인 은 박편

을 포함하는 광경화성 은 조성물.
제 1 항에 있어서, 상기 광 경화성 유기 혼합물이,

지방족 아크릴화 우레탄 올리고머;

아크릴화 에폭시 올리고머; 및

이소보닐 아크릴레이트 모노머

를 포함하는 것을 특징으로 하는 광경화성 은 조성물.
제 2 항에 있어서, 유동 촉진제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 2 항에 있어서, 상기 지방족 아크릴화 우레탄 올리고머는 은 조성물의 약 3~8중량%의 양으로 존재하는 것을 특징으로 하는 은 조성물.
제 2 항에 있어서, 상기 아크릴화 에폭시 올리고머는 은 조성물의 약 2~4중량%의 양으로 존재하는 것을 특징으로 하는 은 조성물.
제 2 항에 있어서, 상기 이소보닐 아크릴레이트 모노머는 은 조성물의 약 4~8중량%의 양으로 존재하는 것을 특징으로 하는 은 조성물.
제 2 항에 있어서, 상기 은 분말은 은 조성물의 약 50~60중량%의 양으로 존재하는 것을 특징으로 하는 은 조성물.
제 2 항에 있어서, 상기 은 분말은 은 조성물의 약 25~35중량%의 양으로 존재하는 것을 특징으로 하는 은 조성물.
제 2 항에 있어서, 상기 지방족 아크릴화 우레탄 올리고머는 은 조성물의 약 8중량%의 양으로 존재하는 것을 특징으로 하는 은 조성물.
제 2 항에 있어서, 상기 광개시제는 은 조성물의 약 3~6중량%의 양으로 존재하는 것을 특징으로 하는 은 조성물.
제 2 항에 있어서, 상기 유동제는 은 조성물의 약 0.1~2중량%의 양으로 존재하는 것을 특징으로 하는 은 조성물.
제 2 항에 있어서, 상기 아크릴화 에폭시 올리고머는 은 조성물의 약 3중량%의 양으로 존재하는 것을 특징으로 하는 은 조성물.
제 2 항에 있어서, 상기 이소보닐 아크릴레이트 모노머는 은 조성물의 약 5중량%의 양으로 존재하는 것을 특징으로 하는 은 조성물.
제 1 항에 있어서, 상기 광개시제는 은 조성물의 약 5중량%의 양으로 존재하는 것을 특징으로 하는 은 조성물.
제 2 항에 있어서, 상기 유동제는 은조성물의 약 1중량%의 양으로 존재하는 것을 특징으로 하는 은 조성물.
제 2 항에 있어서, 상기 은 분말은 은 조성물의 약 52중량%의 양으로 존재하는 것을 특징으로 하는 은 조성물.
제 2 항에 있어서, 접착 촉진제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 은 조성물.
제 2 항에 있어서, 유동 촉진제;

습윤제; 및

전도성 카본 블랙 분말

을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 은 조성물.
제 2 항에 있어서, 산화 안티몬 주석 분말 및 유동 촉진제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 은 조성물.
제 19 항에 있어서, 폴리아크릴 올리고머 및 아크릴레이트 모노머의 블렌드를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 은 조성물.
제 1 항에 있어서, 광 경화성 유기 혼합물은,

아크릴화 에폭시 올리고머; 및

이소보닐 아크릴레이트 모노머

를 포함하는 것을 특징으로 하는 광경화성 은 조성물.
제 21 항에 있어서, 유동 촉진제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 광경화성 은 조성물.
제 1 항에 있어서, 은 분말은 약 5~15미크론 범위의 입자 크기를 갖는 것을 특징으로 하는 은 조성물.
제 1 항에 있어서, 은 분말은 다수의 입자를 포함하는데, 입자의 약 5~20중량%가 약 4.7미크론 이하의 입자를 가지고, 입자의 약 30~60중량%가 약 7.6미크론 이하의 입자 크기를 가지며, 입자의 약 95중량%가 약 14.9미크론 이하의 입자 크기인 입자 분포를 가지는 것을 특징으로 하는 은 조성물.
제 1 항에 있어서, 상기 은 분말은 다수의 입자를 포함하는데, 입자의 약 10중량%가 약 4.7미크론 이하의 입자 크기를 갖고, 입자의 약 50중량%가 약 7.6미크론 이하의 입자 크기를 가지며, 입자의 약 90중량%가 약 14.9미크론 이하의 입자 크기인 입자 분포를 가지는 것을 특징으로 하는 은 조성물.
제 1 항에 있어서, 상기 은 박편은 은 조성물의 약 30중량%의 양으로 존재하는 것을 특징으로 하는 은 조성물.
제 1 항에 있어서, 상기 은 박편은 약 5~32미크론 범위의 입자 크기를 갖는 것을 특징으로 하는 은 조성물.
제 1 항에 있어서, 상기 은 박편은 다수의 입자를 포함하는데, 입자의 약 10중량%가 약 5.5미크론 이하의 입자 크기를 갖고, 입자의 약 50중량%가 약 12.5미크론 이하의 입자 크기를 가지며, 입자의 약 90중량%가 약 32.0미크론 이하의 입자 크기인 입자 분포를 가지는 것을 특징으로 하는 은 조성물.
광경화성 은 조성물 제조 방법에 있어서,

a) 은 조성물의 약 4~8중량%의 양으로 존재하는 이소보닐 아크릴레이트 모노머 및 약 4~6중량%의 양으로 존재하는 광개시제를 조합하여 제 1 혼합물을 제조하는 단계;

b) 은 조성물의 약 3~8중량%의 양으로 존재하는 지방족 아크릴화 올리고머 및 약 2~4중량%의 양으로 존재하는 아크릴화 에폭시 올리고머를 혼합하여 제 2 혼합물을 제조하는 단계;

c) 은 조성물의 약 30~60중량%의 양으로 존재하는 은 분말 및 약 25~35중량%의 양으로 존재하는 은 박편을 혼합하는 단계;

d) 은 조성물의 약 0.1~2중량%의 양으로 존재하는 유동 촉진제를 선택하는 단계; 및 은 조성물을 제조하기 위해 a), b), 및 c)의 혼합물을 유동 촉진제 d)와 혼합하는 단계

를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
제 29 항에 있어서, 상기 단계 a, b, c 및 d는 순차적으로 수행되는 것을 특징으로 하는 방법.
광경화성 은 조성물 제조 방법에 있어서,

은 조성물의 약 4~8중량%의 양으로 존재하는 이소보닐 아크릴레이트 모노머,약 3~6중량%의 양으로 존재하는 광개시제를 혼합하여 제 1 조성물을 제조하는 제 1 단계;

은 조성물의 약 3~8중량%의 양으로 존재하는 지방족 아크릴화 올리고머 및 약 2~4중량%의 양으로 존재하는 아크릴화 에폭시 올리고머를 제 1 조성물과 조합하고 혼합하여 제 2 조성물을 제조하는 제 2 단계;

은 조성물의 약 50~60중량%의 양으로 존재하는 은 분말 및 은 조성물의 약 25~35중량%의 양으로 존재하는 은 박편을 제 2 조성물과 조합 및 혼합하여 제 3 조성물을 제조하는 제 3 단계; 및

은 조성물의 0.1~2중량%의 양으로 존재하는 유동 촉진제를 제 3 조성물과 조합 및 혼합시키는 제 4 단계

를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
기판 상에 은 코팅물을 침착하기 위한 방법에 있어서,

기판에 제 2 항의 조성물을 도포하는 제 1 단계; 및

상기 조성물을 경화시키기기에 효과적인 파장의 빛에 노출시켜 광경화시키는 제 2 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
제 32 항에 있어서, 제 1 단계는 기판 상에 은-함유 유체상 조성물을 분사하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
제 32 항에 있어서, 제 1 단계는 스크린 인쇄 기술을 사용하여 기판에 은-함유 유체상 조성물을 도포하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.
제 32 항에 있어서, 제 1 단계는 플렉소인쇄 기술을 사용하여 기판에 은-함유 유체상 조성물을 도포하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 방법.